JPH0330968B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0330968B2 JPH0330968B2 JP58169018A JP16901883A JPH0330968B2 JP H0330968 B2 JPH0330968 B2 JP H0330968B2 JP 58169018 A JP58169018 A JP 58169018A JP 16901883 A JP16901883 A JP 16901883A JP H0330968 B2 JPH0330968 B2 JP H0330968B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- pole
- main
- head support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の垂直磁気記録用ヘツド（以下、垂直ヘ
ツド）の製造方法に関するもので、その主磁極に
用いられる高透磁率薄膜の磁気異方性の向きを作
成時に制御することにより垂直ヘツドの信頼性を
高め、歩留まりを向上させることを目的とする。
ツド）の製造方法に関するもので、その主磁極に
用いられる高透磁率薄膜の磁気異方性の向きを作
成時に制御することにより垂直ヘツドの信頼性を
高め、歩留まりを向上させることを目的とする。
近年、磁気記録の高密度化の要求とともに、磁
気記録媒体の厚み方向に磁気記録する、いわゆる
垂直磁気記録方式が注目されている。
気記録媒体の厚み方向に磁気記録する、いわゆる
垂直磁気記録方式が注目されている。
この垂直磁気記録に使用される垂直ヘツドには
さまざまなタイプのものが提案されているが、基
本的には高透磁率薄膜からなる主磁極と、フエラ
イト等からなる比較的厚い補助磁極及び励磁コイ
ルによつて構成されている。
さまざまなタイプのものが提案されているが、基
本的には高透磁率薄膜からなる主磁極と、フエラ
イト等からなる比較的厚い補助磁極及び励磁コイ
ルによつて構成されている。
これらの垂直ヘツドのうち、代表的な補助磁極
励磁型垂直磁気ヘツドを第１図に示す。記録時に
はコイル２に記録電流を流して補助磁極の磁性体
３を励磁し、これによつて励磁された主磁極１の
高透磁率薄膜と垂直磁性媒体５との相互作用によ
つて記録される。また、再生時には記録時と逆の
過程を経てコイル２に再生電流が流れる。７はヘ
ツド支持台である。この時、高密度記録になる
程、主磁極を通る磁束の反転速度が速くなり、主
磁極の高透磁率薄膜の応答速度または実効透磁率
の低下が問題となつてくる。つまり、主磁極の高
透磁率薄膜の磁気特性は、磁化反転速度の遅い磁
化容易軸を用いるよりも、磁化反転速度の速い磁
化困難軸を用いれば良い。つまり、垂直磁性媒体
に対して磁化困難軸を向ければ良い。
励磁型垂直磁気ヘツドを第１図に示す。記録時に
はコイル２に記録電流を流して補助磁極の磁性体
３を励磁し、これによつて励磁された主磁極１の
高透磁率薄膜と垂直磁性媒体５との相互作用によ
つて記録される。また、再生時には記録時と逆の
過程を経てコイル２に再生電流が流れる。７はヘ
ツド支持台である。この時、高密度記録になる
程、主磁極を通る磁束の反転速度が速くなり、主
磁極の高透磁率薄膜の応答速度または実効透磁率
の低下が問題となつてくる。つまり、主磁極の高
透磁率薄膜の磁気特性は、磁化反転速度の遅い磁
化容易軸を用いるよりも、磁化反転速度の速い磁
化困難軸を用いれば良い。つまり、垂直磁性媒体
に対して磁化困難軸を向ければ良い。
一方、この主磁極の高透磁率薄膜はスパツタ、
蒸着、メツキ法等の方法で作成されるが、その生
成膜は膜作成時の環境、特に周囲に存在する微弱
な磁場によつて敏感に反応してその磁気異方性の
向きを決定するため、作成された高透磁率薄膜の
磁気異方性の方法がとかく一定しない。従つて従
来は高透磁率薄膜を形成した後、Ｂ−Ｈループト
レーサーにより薄膜の磁気異方性を測定し、磁化
困難軸の方向にパターンが向くようエツチング処
理をしていた。しかしこの方法では膜形成時の環
境の微妙な変化により高透磁率薄膜の磁気特性に
かなりのバラツキを生じていた。
蒸着、メツキ法等の方法で作成されるが、その生
成膜は膜作成時の環境、特に周囲に存在する微弱
な磁場によつて敏感に反応してその磁気異方性の
向きを決定するため、作成された高透磁率薄膜の
磁気異方性の方法がとかく一定しない。従つて従
来は高透磁率薄膜を形成した後、Ｂ−Ｈループト
レーサーにより薄膜の磁気異方性を測定し、磁化
困難軸の方向にパターンが向くようエツチング処
理をしていた。しかしこの方法では膜形成時の環
境の微妙な変化により高透磁率薄膜の磁気特性に
かなりのバラツキを生じていた。
本発明はこの問題を解決するために、成膜時に
高透磁率材料からなるヨーク板８，８′を第２図
ａの様にヘツド支持台となる基板７の両側に配置
することによつて、周囲に存在する浮遊磁場をこ
のヨーク板８，８′に導き、その方向を常にヨー
ク板の挾持の方向に一定にし、それによつて作成
される高透磁率薄膜の磁気異方性の向きを任意に
制御するようにしたものである。
高透磁率材料からなるヨーク板８，８′を第２図
ａの様にヘツド支持台となる基板７の両側に配置
することによつて、周囲に存在する浮遊磁場をこ
のヨーク板８，８′に導き、その方向を常にヨー
ク板の挾持の方向に一定にし、それによつて作成
される高透磁率薄膜の磁気異方性の向きを任意に
制御するようにしたものである。
以下、本発明をその実施例について更に詳細に
説明する。
説明する。
第２図は本発明の一実施例であり、６は高周波
スパツタ法用基板ホルダーである。基板ホルダー
６上に高透磁率材料のヨーク板（パーマロイ）
８，８′を第２図に示す様に平行に配置する。こ
のヨーク板８，８′の設置により、それらに導か
れてヘツド支持台となる基板７表面付近の浮遊磁
場の向きは、第２図ｃに示す様な形となり、例え
ば高周波スパツタにより高透磁率薄膜を基板７上
に付着するとき、その部分には特定方向即ちヨー
クが挾む方向の平行磁場がかかることになる。こ
の基板ホルダーを用いて高周波スパツタ法により
基板上にパーマロイ膜を形成させたものをＢ−Ｈ
ループトレーサーにかけて得られたＢ−Ｈループ
は第３図の様になり、磁化容易軸は平行磁場の方
向を向き、磁化困難軸はそれに直交する方向とな
つた。
スパツタ法用基板ホルダーである。基板ホルダー
６上に高透磁率材料のヨーク板（パーマロイ）
８，８′を第２図に示す様に平行に配置する。こ
のヨーク板８，８′の設置により、それらに導か
れてヘツド支持台となる基板７表面付近の浮遊磁
場の向きは、第２図ｃに示す様な形となり、例え
ば高周波スパツタにより高透磁率薄膜を基板７上
に付着するとき、その部分には特定方向即ちヨー
クが挾む方向の平行磁場がかかることになる。こ
の基板ホルダーを用いて高周波スパツタ法により
基板上にパーマロイ膜を形成させたものをＢ−Ｈ
ループトレーサーにかけて得られたＢ−Ｈループ
は第３図の様になり、磁化容易軸は平行磁場の方
向を向き、磁化困難軸はそれに直交する方向とな
つた。
以上述べた様に本発明によれば、あらかじめ決
定した方向に磁気異方性を持つ高透磁率薄膜を作
成でき、主磁極の信頼性を高め、歩留まりを大幅
に向上させることができた。
定した方向に磁気異方性を持つ高透磁率薄膜を作
成でき、主磁極の信頼性を高め、歩留まりを大幅
に向上させることができた。
ただし、本実施例では高透磁率材料のヨーク板
としてパーマロイを用いたが、ヨーク板は高透磁
率材料であれば良く、材料には制限されない。ま
た、ヨーク板の構造も非磁性体上に単に高透磁率
材料の膜を付着させただけのものでも良く、本実
施例に制限されるものではない。さらにヨーク板
の形状についても基板上で平行磁場を生じさせる
ものであれば良く、これも本実施例に制限されな
い。
としてパーマロイを用いたが、ヨーク板は高透磁
率材料であれば良く、材料には制限されない。ま
た、ヨーク板の構造も非磁性体上に単に高透磁率
材料の膜を付着させただけのものでも良く、本実
施例に制限されるものではない。さらにヨーク板
の形状についても基板上で平行磁場を生じさせる
ものであれば良く、これも本実施例に制限されな
い。
本実施例では高周波スパツタ法を用いたが、
DCマグネトロンスパツタ法、、蒸着法、イオンブ
レーテイング法、メツキ法等によつても同様な結
果が得られる。薄膜形成方法においても本発明は
本実施例に制限されない。
DCマグネトロンスパツタ法、、蒸着法、イオンブ
レーテイング法、メツキ法等によつても同様な結
果が得られる。薄膜形成方法においても本発明は
本実施例に制限されない。
簡単な方法によつて顕著な効果をあげる、本発
明の工業的価値は高い。
明の工業的価値は高い。
第１図は典型的な垂直ヘツドの例である。第２
図は本発明の一実施例であり、ａは正面図、ｂは
断面図、ｃはヨーク板を通る磁力線を示した図で
ある。第３図ａは、第２図ａの磁気的要部を示す
図。第３図ｂは本発明の一実施例において得られ
た高透磁率薄膜を第３図ａの１０，１１の各方向
についてＢ−Ｈループを測定して得られたグラフ
の一例である。 １……主磁極、２……コイル、３……補助磁極
の磁性体、４……ベースフイルム、５……垂直磁
性媒体、６……基板ホルダー、７……（基板即
ち）ヘツド支持台、８……ヨーク板、９……磁力
線、１０……基板上の磁力線方向、１１……基板
上の磁力線方向に垂直な方向。
図は本発明の一実施例であり、ａは正面図、ｂは
断面図、ｃはヨーク板を通る磁力線を示した図で
ある。第３図ａは、第２図ａの磁気的要部を示す
図。第３図ｂは本発明の一実施例において得られ
た高透磁率薄膜を第３図ａの１０，１１の各方向
についてＢ−Ｈループを測定して得られたグラフ
の一例である。 １……主磁極、２……コイル、３……補助磁極
の磁性体、４……ベースフイルム、５……垂直磁
性媒体、６……基板ホルダー、７……（基板即
ち）ヘツド支持台、８……ヨーク板、９……磁力
線、１０……基板上の磁力線方向、１１……基板
上の磁力線方向に垂直な方向。
Claims (1)
- １ スパツタ法、蒸着法、メツキ法を用いて垂直
磁気記録用ヘツドの主磁極をヘツド支持台表面に
パーマロイで薄膜状に作成するに際して、該ヘツ
ド支持台表面に一定方向に浮遊平行磁界をつくる
ように、該方向で該ヘツド支持台表面を挟持する
如き複数の高透磁率材料よりなるヨーク板を設
け、該主磁極の磁気異方性の向きを一定方向に制
御することを特徴とする垂直磁気記録ヘツド主磁
極の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16901883A JPS60136903A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16901883A JPS60136903A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60136903A JPS60136903A (ja) | 1985-07-20 |
| JPH0330968B2 true JPH0330968B2 (ja) | 1991-05-01 |
Family
ID=15878802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16901883A Granted JPS60136903A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60136903A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP16901883A patent/JPS60136903A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60136903A (ja) | 1985-07-20 |
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