JPS61120349A - 二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS61120349A JPS61120349A JP59241162A JP24116284A JPS61120349A JP S61120349 A JPS61120349 A JP S61120349A JP 59241162 A JP59241162 A JP 59241162A JP 24116284 A JP24116284 A JP 24116284A JP S61120349 A JPS61120349 A JP S61120349A
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- magnetic
- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度記録特性に優れた二層膜垂直磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。
体の製造方法に関するものである。
従来の技術
短波長記録特性に優れた磁気記録方式として、垂直磁気
記録方式がある。この方式においては、媒体の膜面に略
垂直方向が磁化容易軸である垂直磁気記録媒体が必要と
なる。このような媒体に信号を記録すると残留磁化は媒
体の膜面に略垂直方向を向き、従って信号が短波長にな
る程媒体内の反磁界は減少し、優れた再生出力が得られ
る。単層膜媒体と呼ばれる垂直磁気記録媒体は、非磁性
材料より成る基板上に、垂直異方性膜をスパッタリング
法や真空蒸着法（イオンブレーティング法のように蒸発
原子の一部をイオノ化して蒸着する方法も含む）で形成
したものである。このような構造の単層膜媒体に対し、
非磁性材料より成る基板と垂直異方性膜との間に、軟磁
性裏打ち層を設けた、いわゆる二層膜垂直磁気記録媒体
（以後単九二層膜媒体と称す）と呼ばれる構造にするこ
とＫより、記録効率及び再生出力が向上することが知ら
れている。特に公知の補助磁極励磁型垂直ヘッドを用い
て記録再生を行う際には、記録効率が約２０ ｄＢ改善
され、再生出力が約２ｏｄＢ向上する。
記録方式がある。この方式においては、媒体の膜面に略
垂直方向が磁化容易軸である垂直磁気記録媒体が必要と
なる。このような媒体に信号を記録すると残留磁化は媒
体の膜面に略垂直方向を向き、従って信号が短波長にな
る程媒体内の反磁界は減少し、優れた再生出力が得られ
る。単層膜媒体と呼ばれる垂直磁気記録媒体は、非磁性
材料より成る基板上に、垂直異方性膜をスパッタリング
法や真空蒸着法（イオンブレーティング法のように蒸発
原子の一部をイオノ化して蒸着する方法も含む）で形成
したものである。このような構造の単層膜媒体に対し、
非磁性材料より成る基板と垂直異方性膜との間に、軟磁
性裏打ち層を設けた、いわゆる二層膜垂直磁気記録媒体
（以後単九二層膜媒体と称す）と呼ばれる構造にするこ
とＫより、記録効率及び再生出力が向上することが知ら
れている。特に公知の補助磁極励磁型垂直ヘッドを用い
て記録再生を行う際には、記録効率が約２０ ｄＢ改善
され、再生出力が約２ｏｄＢ向上する。
上記二層膜媒体においてはその記録再生効率は軟磁性裏
打ち層の磁気特性が大きく影響を及ぼし、軟磁性裏打ち
層の保磁力が小さい程、記録再生効率が高いことが知ら
れている。しかし、第６図の如く、長尺の非磁性基板１
上に連続してスパッタリング法や蒸着法（イオンブレー
ティング法のように蒸発原子の一部をイオン化して蒸着
する方法も含む）で保磁力の小さい高速ａ率の軟磁性裏
打ち層を形成すると、自己陰影効果により第７図の様に
基板１の幅方向（ＴＤ）を磁化容易軸、長手方向（ＭＤ
）を磁化困難軸とする膜面内−軸異方性がついてし塘う
。即ち、形成された軟磁性裏打ち層の初透磁率μ、はＭ
Ｄ力方向は犬きぐ、ＴＤ方向くに小さい。更にこの上に
垂直異方性膜を形成した二層膜媒体から円板を打ち抜い
てディスク状媒体とすると、軟磁性裏打ち層の異方性忙
より１周の間で出力変動を生じる。この様子を第８図及
び第９図を用いて説明する。第８図中、７は長尺の非磁
性基板１に軟磁性裏打ち層、垂直異方性膜の二層が形成
された長尺の二層膜媒体である。
打ち層の磁気特性が大きく影響を及ぼし、軟磁性裏打ち
層の保磁力が小さい程、記録再生効率が高いことが知ら
れている。しかし、第６図の如く、長尺の非磁性基板１
上に連続してスパッタリング法や蒸着法（イオンブレー
ティング法のように蒸発原子の一部をイオン化して蒸着
する方法も含む）で保磁力の小さい高速ａ率の軟磁性裏
打ち層を形成すると、自己陰影効果により第７図の様に
基板１の幅方向（ＴＤ）を磁化容易軸、長手方向（ＭＤ
）を磁化困難軸とする膜面内−軸異方性がついてし塘う
。即ち、形成された軟磁性裏打ち層の初透磁率μ、はＭ
Ｄ力方向は犬きぐ、ＴＤ方向くに小さい。更にこの上に
垂直異方性膜を形成した二層膜媒体から円板を打ち抜い
てディスク状媒体とすると、軟磁性裏打ち層の異方性忙
より１周の間で出力変動を生じる。この様子を第８図及
び第９図を用いて説明する。第８図中、７は長尺の非磁
性基板１に軟磁性裏打ち層、垂直異方性膜の二層が形成
された長尺の二層膜媒体である。
８はその２層膜媒体から打ち抜いたディスク状媒体であ
る。ヘッドがディスク状媒体８上の同心円上の点である
Ａ点、Ｂ点、０点、Ｄ点を順次通過し記録再生した時の
再生出力の変化の様子を第９図に示している。横軸は時
間経過を示し、縦軸は出力であり、出力エンベロープと
呼ばれるものである。図中Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄはディスク状
媒体８上のＡ点、Ｂ点、０点、Ｄ点にそれぞれ対応して
いる。ヘッドはＡ点、０点では軟磁性裏打ち層の初透磁
率μｌの低い方向と平行に、Ｂ点、Ｄ点では逆にμｉ
の高い方向と平行に走行する。その結果、第９図に示さ
れるように、Ａ点、０点では出力が低く、Ｂ点、Ｌ１点
では出力が高くなる。このような出力変動はディスク状
媒体では不都合であり、その改善は必要であった。
る。ヘッドがディスク状媒体８上の同心円上の点である
Ａ点、Ｂ点、０点、Ｄ点を順次通過し記録再生した時の
再生出力の変化の様子を第９図に示している。横軸は時
間経過を示し、縦軸は出力であり、出力エンベロープと
呼ばれるものである。図中Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄはディスク状
媒体８上のＡ点、Ｂ点、０点、Ｄ点にそれぞれ対応して
いる。ヘッドはＡ点、０点では軟磁性裏打ち層の初透磁
率μｌの低い方向と平行に、Ｂ点、Ｄ点では逆にμｉ
の高い方向と平行に走行する。その結果、第９図に示さ
れるように、Ａ点、０点では出力が低く、Ｂ点、Ｌ１点
では出力が高くなる。このような出力変動はディスク状
媒体では不都合であり、その改善は必要であった。
出力変動をなくすＫは軟磁性裏打ち層の等方化が必要で
ある。磁界中蒸着がその一手段として挙げられる。これ
は軟磁性裏打ち層の蒸着、又はスパッタリング時に軟磁
性裏打ち層形成部で、磁界がない場合磁化困難軸となる
方向Ｋ、異なる極を対向させた磁石を配置するととくよ
り等方化しようとするものである。磁界は、軟磁性裏打
ち層の形成される非磁性基板１上で２００ｅ以上あれば
十分である。
ある。磁界中蒸着がその一手段として挙げられる。これ
は軟磁性裏打ち層の蒸着、又はスパッタリング時に軟磁
性裏打ち層形成部で、磁界がない場合磁化困難軸となる
方向Ｋ、異なる極を対向させた磁石を配置するととくよ
り等方化しようとするものである。磁界は、軟磁性裏打
ち層の形成される非磁性基板１上で２００ｅ以上あれば
十分である。
発明が解決しようとする問題点
磁界中蒸着で磁界に影響され易い軟磁性体を二層膜媒体
の良打ち層として用いた場合は、上記の方法によると通
常軟磁性裏打ち層の磁化困難軸と磁化容易軸が入れ換わ
ってしまい、入れ換わる手前の等方膜を得るのは困難で
あった。
の良打ち層として用いた場合は、上記の方法によると通
常軟磁性裏打ち層の磁化困難軸と磁化容易軸が入れ換わ
ってしまい、入れ換わる手前の等方膜を得るのは困難で
あった。
本発明は、記録再生効率に優れ、かつ再生出力変動の少
ない二層膜垂直磁気記録媒体を得ることのできる軟磁性
裏打ち層の製造方法を提供することを目的とする。
ない二層膜垂直磁気記録媒体を得ることのできる軟磁性
裏打ち層の製造方法を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
長尺基板上に軟磁性裏打ち層を蒸着法もしくはスパッタ
法によって連続的に形成する工程において、前記軟磁性
裏打ち層形成部近傍に、前記長尺基板の略長手方向に同
極を対向させた一対以上の磁石を配置すること分特徴と
する。
法によって連続的に形成する工程において、前記軟磁性
裏打ち層形成部近傍に、前記長尺基板の略長手方向に同
極を対向させた一対以上の磁石を配置すること分特徴と
する。
作 用
磁界が基板に対して垂直になシ、面内成分の磁界により
軟磁性層が異方化されることがなくなる。
軟磁性層が異方化されることがなくなる。
実施例
第１図は本発明の一実施例を説明するための軟磁性裏打
ち層蒸着又はスパッタリング時の遮蔽板６上での磁石配
置である。
ち層蒸着又はスパッタリング時の遮蔽板６上での磁石配
置である。
第１図において、基板１は円筒状キャン２の周面に沿っ
て走行しつつ６ｐその途中で泰板１茂面上に、遮蔽板６
のすき間を通して蒸発源５から飛んで来る軟磁性体の蒸
着膜が形成される。スパッタリングの時は５には軟磁性
体ターゲットが置かれ、Ａｒ＋等のイオンでスパッタさ
れる。９はａ画板６上に置かれた磁石であり、矢印はそ
の磁化方向を示しており、第１図では基板の長手方向（
ＭＤ方向）即ち基板の走行方向に平行に同極の対向した
磁石が軟磁性裏打ち層蒸着、又はスパッタリング時に配
置されている。尚、磁石の磁化の方向は逆でも差支えな
い。又、磁界を発生するものとして永久磁石以外にもコ
イルに電流を流す等の方法を用いても同じである。
て走行しつつ６ｐその途中で泰板１茂面上に、遮蔽板６
のすき間を通して蒸発源５から飛んで来る軟磁性体の蒸
着膜が形成される。スパッタリングの時は５には軟磁性
体ターゲットが置かれ、Ａｒ＋等のイオンでスパッタさ
れる。９はａ画板６上に置かれた磁石であり、矢印はそ
の磁化方向を示しており、第１図では基板の長手方向（
ＭＤ方向）即ち基板の走行方向に平行に同極の対向した
磁石が軟磁性裏打ち層蒸着、又はスパッタリング時に配
置されている。尚、磁石の磁化の方向は逆でも差支えな
い。又、磁界を発生するものとして永久磁石以外にもコ
イルに電流を流す等の方法を用いても同じである。
第Ｓ図のような真空蒸着装置を用いて軟磁性裏打ち層を
蒸着すると自己陰影効果によって第７図のような異方性
がつくため第１図の本発明の説明では磁界がＭＤ方向に
かかっている。
蒸着すると自己陰影効果によって第７図のような異方性
がつくため第１図の本発明の説明では磁界がＭＤ方向に
かかっている。
次に軟磁性裏打ち層としてミが中蒸着で磁界に影響され
易い軟磁性体を用いた時、本発明が有効である理由を説
明をする。第２図は従来例の異極を対向させた磁石配置
での磁束の流れであり、第３図が本発明の同極を対向さ
せた磁石配置での磁束の流れである。磁界中蒸着、又は
スパッタリングで影響を与える磁界は、軟磁性裏打ち層
が形成される所での軟磁性裏打ち層面内方向の成分であ
る。従来例の第２図では多くの磁束が軟磁性裏打ち層の
面内方向に入るため、前記のように磁界中蒸着で磁界に
影響され易い材料を軟磁性体として使用すると簡単に磁
束の流れる方向が磁化容易軸となり等方膜とはなり得な
い。本発明の第３図では殆んどの磁束が軟磁性裏打ち層
の法線方向に入り、軟磁性裏打ち層の面内方向に入る磁
束は磁石の磁極近傍に少しあるだけである。従って前記
のように磁界中蒸着で磁界に影響され易い材料を軟磁性
体として便用しても、磁界のかかった方向が磁化容易軸
とまではならず第４図の等方膜を得るのが可能となる。
易い軟磁性体を用いた時、本発明が有効である理由を説
明をする。第２図は従来例の異極を対向させた磁石配置
での磁束の流れであり、第３図が本発明の同極を対向さ
せた磁石配置での磁束の流れである。磁界中蒸着、又は
スパッタリングで影響を与える磁界は、軟磁性裏打ち層
が形成される所での軟磁性裏打ち層面内方向の成分であ
る。従来例の第２図では多くの磁束が軟磁性裏打ち層の
面内方向に入るため、前記のように磁界中蒸着で磁界に
影響され易い材料を軟磁性体として使用すると簡単に磁
束の流れる方向が磁化容易軸となり等方膜とはなり得な
い。本発明の第３図では殆んどの磁束が軟磁性裏打ち層
の法線方向に入り、軟磁性裏打ち層の面内方向に入る磁
束は磁石の磁極近傍に少しあるだけである。従って前記
のように磁界中蒸着で磁界に影響され易い材料を軟磁性
体として便用しても、磁界のかかった方向が磁化容易軸
とまではならず第４図の等方膜を得るのが可能となる。
尚、磁界中蒸着で磁界に影響され易い軟磁性体としては
、具体的にばＣｏ、Ｆｅ及びＮｉ を主成分とするもの
が挙げられる。又、磁界中蒸着で磁界に影響され易いと
は具体的には、基板温度２５０℃での磁界中蒸着で誘導
される一軸異方性定数Ｋｕが３ Ｘ １０ ｅｒｑ／ｃ
ｒｄ以上であることを言う。
、具体的にばＣｏ、Ｆｅ及びＮｉ を主成分とするもの
が挙げられる。又、磁界中蒸着で磁界に影響され易いと
は具体的には、基板温度２５０℃での磁界中蒸着で誘導
される一軸異方性定数Ｋｕが３ Ｘ １０ ｅｒｑ／ｃ
ｒｄ以上であることを言う。
かくして本発明によシ等方化された軟磁性裏打ち層の上
にＣｏ−Ｃｒ垂直異方性膜を形成した二層膜媒体７を第
８図の如くディスク状に打ち抜く。
にＣｏ−Ｃｒ垂直異方性膜を形成した二層膜媒体７を第
８図の如くディスク状に打ち抜く。
ヘッドがディスク状媒体８上の同心円上の点であるＡ点
、Ｂ点、０点、Ｄ点を順次通過し記録再生した時の再生
出力の変化を第５図に示す。横軸は時間経過を示し、縦
軸は出力を示し、出力エンペロープと呼ばれるものであ
る。図中Ａ、Ｂ、Ｃ。
、Ｂ点、０点、Ｄ点を順次通過し記録再生した時の再生
出力の変化を第５図に示す。横軸は時間経過を示し、縦
軸は出力を示し、出力エンペロープと呼ばれるものであ
る。図中Ａ、Ｂ、Ｃ。
Ｄはディスク状媒体８上のＡ点、Ｂ点、０点、Ｄ点にそ
れぞれ対応している。第５図を見ると出力変動は殆んど
見られず、軟磁性裏打ち層の等力比の効果が認められる
。
れぞれ対応している。第５図を見ると出力変動は殆んど
見られず、軟磁性裏打ち層の等力比の効果が認められる
。
次に具体的な一実施例を述べる。軟磁性裏打ち層として
ＣＯ１ｓＦ ＠ １ｅ Ｎ ｌ ｓ ９を用い第１図の
ような磁界とかけた中で蒸着を行い８０００人の軟磁性
裏打ちノごを形成した。その上に連続してＣｏ−Ｃｒ垂
直異方性膜を２０ｏＯ人 の膜厚で形成した。その結果
、軟磁性裏打ち層のＢ−とループとしては第４図のもの
が得られ保磁力としては６６ｅとなり、出力エンペロー
プとしては第５図が得られ、きわめて出力変動の小さい
良好な垂直心気記録用二層膜媒体が得られた。
ＣＯ１ｓＦ ＠ １ｅ Ｎ ｌ ｓ ９を用い第１図の
ような磁界とかけた中で蒸着を行い８０００人の軟磁性
裏打ちノごを形成した。その上に連続してＣｏ−Ｃｒ垂
直異方性膜を２０ｏＯ人 の膜厚で形成した。その結果
、軟磁性裏打ち層のＢ−とループとしては第４図のもの
が得られ保磁力としては６６ｅとなり、出力エンペロー
プとしては第５図が得られ、きわめて出力変動の小さい
良好な垂直心気記録用二層膜媒体が得られた。
発明の効果
本発明の方法によれば、垂直磁気記録用二層膜媒体の再
生出力変動を、従来大きかったものが小さく抑えられる
ようになる。
生出力変動を、従来大きかったものが小さく抑えられる
ようになる。
第１図は本発明を説明するための蒸着装置内部の部分図
、第２図は従来の磁界中蒸着又はスパッタリング部での
磁束の流れを示す図、第３図は本発明の磁界中蒸着又は
スパッタリング部での磁束の流れを示す図、第４図は本
発明により得られた軟磁性裏打ち層の磁気特性を示すグ
ラフ、第５図は本発明により得られた二層膜媒体の出力
変動を示すグラフ、第６図は軟磁性裏打ち層を作製する
だめの従来の真空蒸着装置内部の正面図、第７図は従来
の軟磁性裏打ち層のみの磁気特性を示すグラフ、第８図
は従来の二層膜媒体の問題点と説明するだめの図、第９
図は従来の二層１莫媒体の出力変動を示すグラフである
。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・円筒状キャ
ン、３・・・・・基板入側ローラ、４・・・・・・基板
出側ローラ、５・・・・・蒸発源、６・・・・・・遮藪
板、７・・・・・・長尺の垂直磁気記録用二層膜媒体、
８・・・・・ディスク状媒体、９・・・・・・磁石。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名宕
工 図 第２図 第４図 （す 軟至し主膜の長手方向（百〇）つＢ−Ｈルーズ（ｂ） 軟磁性膜り福方向（ＴＯ）のｆ３−Ｈルフ０第５図 第６図 第 ７ 図 （ａ−） 軟ヨ１生膜の長子方向（ｒ’ｔＤ）つＢ−Ｆｌ／Ｔｉ−
７’（ｂ） δ 軟五程膜の↑晶方向（丁Ｄ）のＢ−Ｈｌレーデ第８図 第９図
、第２図は従来の磁界中蒸着又はスパッタリング部での
磁束の流れを示す図、第３図は本発明の磁界中蒸着又は
スパッタリング部での磁束の流れを示す図、第４図は本
発明により得られた軟磁性裏打ち層の磁気特性を示すグ
ラフ、第５図は本発明により得られた二層膜媒体の出力
変動を示すグラフ、第６図は軟磁性裏打ち層を作製する
だめの従来の真空蒸着装置内部の正面図、第７図は従来
の軟磁性裏打ち層のみの磁気特性を示すグラフ、第８図
は従来の二層膜媒体の問題点と説明するだめの図、第９
図は従来の二層１莫媒体の出力変動を示すグラフである
。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・円筒状キャ
ン、３・・・・・基板入側ローラ、４・・・・・・基板
出側ローラ、５・・・・・蒸発源、６・・・・・・遮藪
板、７・・・・・・長尺の垂直磁気記録用二層膜媒体、
８・・・・・ディスク状媒体、９・・・・・・磁石。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名宕
工 図 第２図 第４図 （す 軟至し主膜の長手方向（百〇）つＢ−Ｈルーズ（ｂ） 軟磁性膜り福方向（ＴＯ）のｆ３−Ｈルフ０第５図 第６図 第 ７ 図 （ａ−） 軟ヨ１生膜の長子方向（ｒ’ｔＤ）つＢ−Ｆｌ／Ｔｉ−
７’（ｂ） δ 軟五程膜の↑晶方向（丁Ｄ）のＢ−Ｈｌレーデ第８図 第９図
Claims (5)
- （１）長尺基板上に軟磁性裏打ち層を蒸着法もしくはス
パッタ法によって連続的に形成する工程において、前記
軟磁性裏打ち層形成部近傍に、前記長尺基板の略長手方
向に同極を対向させた一対以上の磁石を配置することを
特徴とする二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法。 - （２）前記軟磁性裏打ち層がＣｏ、Ｆｅ及びＮｉを主成
分とする軟磁性体であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法。 - （３）前記軟磁性体が５〜３２重量％のＣｏを含有する
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の二層膜垂
直磁気記録媒体の製造方法。 - （４）前記軟磁性体が１０〜２５重量％のＣｏを含有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の二層膜
垂直磁気記録媒体の製造方法。 - （５）前記軟磁性裏打ち層が、前記基板温度を２５０℃
とした時の磁界中蒸着で誘導される一軸異方性定数Ｋｕ
として３×１０＾３ｅｒｇ／ｃｍ＾３以上を持つ軟磁性
体であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59241162A JPS61120349A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59241162A JPS61120349A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120349A true JPS61120349A (ja) | 1986-06-07 |
Family
ID=17070180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59241162A Pending JPS61120349A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 二層膜垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61120349A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02286473A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-26 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 産業車両の給油口蔽匿装置 |
-
1984
- 1984-11-15 JP JP59241162A patent/JPS61120349A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02286473A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-26 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 産業車両の給油口蔽匿装置 |
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