JPH0331262A - 2,3,4,6―テトラクロロピリジンの製造法 - Google Patents
2,3,4,6―テトラクロロピリジンの製造法Info
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- JPH0331262A JPH0331262A JP15979389A JP15979389A JPH0331262A JP H0331262 A JPH0331262 A JP H0331262A JP 15979389 A JP15979389 A JP 15979389A JP 15979389 A JP15979389 A JP 15979389A JP H0331262 A JPH0331262 A JP H0331262A
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Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
四基素化ピリジンの製造は公知であり、そのような化合
物は殺虫剤としてまたは種々の殺虫剤の製造用の中間体
として有効であることは公知である。例えば、2.3,
4.6−テトラクロロピリジンは、ある種の殺虫剤の製
造用の出発物質として有効である。四基素化ピリジンの
製造にはを効であるが、主要な問題は実質的に純粋な特
定の化合物を選択的に製造することである。廃棄を避け
および所望の生成物の単離を促進するため実質的に純粋
な2.3,4.6−テI・ジクロロピリジンを製造する
方法を存することが望ましい。
物は殺虫剤としてまたは種々の殺虫剤の製造用の中間体
として有効であることは公知である。例えば、2.3,
4.6−テトラクロロピリジンは、ある種の殺虫剤の製
造用の出発物質として有効である。四基素化ピリジンの
製造にはを効であるが、主要な問題は実質的に純粋な特
定の化合物を選択的に製造することである。廃棄を避け
および所望の生成物の単離を促進するため実質的に純粋
な2.3,4.6−テI・ジクロロピリジンを製造する
方法を存することが望ましい。
多くの公知の四基素化ピリジンの製造方法は複雑な生成
物の混合物および低収量の特定の化合物を与えるので特
定の化合物の製造用の合成方法としては適当でない方法
である。しかし、ある公知の液相法は特定の四基素化ピ
リジン化合物に対する良好な選択性および収率を有する
ことを主張している。例えば、米国特許筒3.186.
944号は、触媒の非存在下、少なくとも160℃の温
度において、好ましくは紫外線照射下、液体状態の適当
なポリクロロ(トリクロロメチル)とリジン反応体の塩
素化による2、3,5.6−テトラクロロピリジンおよ
び2.3.4.5−テトラクロロピリジンの製造を教示
している。米国特許筒3,732,230号は、2.3
,4.5−テトラクロロピリジンおよび他のポリクロロ
ピリジンを含む生成物組成物を得るため適当なピリジン
塩酸塩の液相塩素化を教示している。米国特許筒4,2
56,894号は、触媒の存在下2,3.5.6−テト
ラクロロピリジンおよびペンタクロロピリジンの製造を
教示している。
物の混合物および低収量の特定の化合物を与えるので特
定の化合物の製造用の合成方法としては適当でない方法
である。しかし、ある公知の液相法は特定の四基素化ピ
リジン化合物に対する良好な選択性および収率を有する
ことを主張している。例えば、米国特許筒3.186.
944号は、触媒の非存在下、少なくとも160℃の温
度において、好ましくは紫外線照射下、液体状態の適当
なポリクロロ(トリクロロメチル)とリジン反応体の塩
素化による2、3,5.6−テトラクロロピリジンおよ
び2.3.4.5−テトラクロロピリジンの製造を教示
している。米国特許筒3,732,230号は、2.3
,4.5−テトラクロロピリジンおよび他のポリクロロ
ピリジンを含む生成物組成物を得るため適当なピリジン
塩酸塩の液相塩素化を教示している。米国特許筒4,2
56,894号は、触媒の存在下2,3.5.6−テト
ラクロロピリジンおよびペンタクロロピリジンの製造を
教示している。
上記の文献はどれも2,3,4.6−テトラクロロピリ
ジンの製造方法を教示していない。特に2.3,4.6
−テトラクロロピリジンの製造を教示している従来技術
の方法は、複雑な混合物の1成分である2゜3.4.6
−テトラクロロピリジン(米国特許筒3.420.83
3号参照)または例えば3−アミノ−2,4,6−1リ
クロロピリジンのジアゾ化のような産業上あまり望まし
くない方法(J、 Den HertogらのRec、
Tray、 Chin、 69673゜1950参照
)を記載している。
ジンの製造方法を教示していない。特に2.3,4.6
−テトラクロロピリジンの製造を教示している従来技術
の方法は、複雑な混合物の1成分である2゜3.4.6
−テトラクロロピリジン(米国特許筒3.420.83
3号参照)または例えば3−アミノ−2,4,6−1リ
クロロピリジンのジアゾ化のような産業上あまり望まし
くない方法(J、 Den HertogらのRec、
Tray、 Chin、 69673゜1950参照
)を記載している。
本発明は、液体状態および触媒の非存在下、180℃〜
250 ’Cの温度において、2.3,4.6−テトラ
クロロピリジン以外の生成物に転化する2 、 3 、
6−1−リクロロー4−トリクロロメチルピリジンが1
0%未満である条件下で2.3.6トリクロロー4−ト
リクロロメチルピリジンの液体組成物を少なくとも約1
.5倍当量の塩素ガスと接触させることを含んでなる2
、3,4.6−テトラクロロピリジンの製造方法に関す
る。
250 ’Cの温度において、2.3,4.6−テトラ
クロロピリジン以外の生成物に転化する2 、 3 、
6−1−リクロロー4−トリクロロメチルピリジンが1
0%未満である条件下で2.3.6トリクロロー4−ト
リクロロメチルピリジンの液体組成物を少なくとも約1
.5倍当量の塩素ガスと接触させることを含んでなる2
、3,4.6−テトラクロロピリジンの製造方法に関す
る。
この反応は好ましくは無水条件下で200″C〜220
″Cの温度において行なわれる。
″Cの温度において行なわれる。
本明細書において、2,6−ジクロロ−4−トリクロロ
メチルピリジンを「2.6−ペンタガンマ」とし、2.
3.6−トリクロロ−4−トリクロロメチルピリジンを
r2 、3 、6−へキサガンマ」トシ、2,3,4.
6−テトラクロロピリジンを’2,3,4.6−Tet
Jとし、ペンタクロロピリジンをrPCP Jとする。
メチルピリジンを「2.6−ペンタガンマ」とし、2.
3.6−トリクロロ−4−トリクロロメチルピリジンを
r2 、3 、6−へキサガンマ」トシ、2,3,4.
6−テトラクロロピリジンを’2,3,4.6−Tet
Jとし、ペンタクロロピリジンをrPCP Jとする。
本発明の方法は実質的に純粋な2,3,4.6Tetを
生ずる。つまり、2.3.6−ヘキサガンマ出発物質以
外には適当な反応時間後反応混合物は主に2.3.4.
6−Tetを含む。「実質的に純粋」とは、生成物が未
反応出発物質以外、他の反応生成物が10%以上存在せ
ず所望の2,3゜4.6−Tetから本質的になること
を意味する。
生ずる。つまり、2.3.6−ヘキサガンマ出発物質以
外には適当な反応時間後反応混合物は主に2.3.4.
6−Tetを含む。「実質的に純粋」とは、生成物が未
反応出発物質以外、他の反応生成物が10%以上存在せ
ず所望の2,3゜4.6−Tetから本質的になること
を意味する。
この方法は、未反応出発物質以外の生成物が、5パーセ
ント以上、好ましくは2パーセント以上他の反応生成物
を含まず本質的に所望の2 、3 、4゜6−Tetか
らなるような方法で行なうことが好ましい。他の反応生
成物は、存在する場合典型的には、他の塩素化ピリジン
、例えばPCPを含む。
ント以上、好ましくは2パーセント以上他の反応生成物
を含まず本質的に所望の2 、3 、4゜6−Tetか
らなるような方法で行なうことが好ましい。他の反応生
成物は、存在する場合典型的には、他の塩素化ピリジン
、例えばPCPを含む。
この方法は典型的には、生成物が45パーセント以上、
好ましくは60パーセント以上、最も好ましくは70パ
ーセント以上の2.3,4.6−Tetからなるような
方法で行なわれる。
好ましくは60パーセント以上、最も好ましくは70パ
ーセント以上の2.3,4.6−Tetからなるような
方法で行なわれる。
少なくとも等量の塩素ガス反応体を用い、望ましくは出
発物質のモルあたり0.5〜lO過剰モル比の塩素を用
いる。反応混合物へ過剰の塩素ガスを連続的に通すこと
により多量の反応体を供給するだけでなく、あらゆる四
塩化炭素または塩化水素副生成物を排除する。塩素ガス
を供給する最も適当な速度は、反応温度、圧力、反応混
合物体積等により異なる。適当な出発物質のモルあたり
過剰量の0.3〜5.0モルの塩素が通常用いられる。
発物質のモルあたり0.5〜lO過剰モル比の塩素を用
いる。反応混合物へ過剰の塩素ガスを連続的に通すこと
により多量の反応体を供給するだけでなく、あらゆる四
塩化炭素または塩化水素副生成物を排除する。塩素ガス
を供給する最も適当な速度は、反応温度、圧力、反応混
合物体積等により異なる。適当な出発物質のモルあたり
過剰量の0.3〜5.0モルの塩素が通常用いられる。
反応は過圧において十分に進行するが、そのような過圧
で行なう必要はない。従って、反応が大気圧において十
分進行することが本発明の他の利点である0本発明のす
べての実施態様において、用いる圧力の唯一の制限は経
済的であることであり、大気圧以上の圧力を用いてもよ
い。
で行なう必要はない。従って、反応が大気圧において十
分進行することが本発明の他の利点である0本発明のす
べての実施態様において、用いる圧力の唯一の制限は経
済的であることであり、大気圧以上の圧力を用いてもよ
い。
この反応は通常下式で説明される。
この方法の実施において、通常液体形の2,3゜6−へ
キサガンマが反応器に加えられ、次いでこの反応器を約
220’Cに加熱する。塩素ガス流を開始し、十分な量
の2.3,4.6−Tetが得られるまで反応を行なう
。反応器からの液体サンプルおよび排出ガスを定時的に
取り出し、公知の方法により反応の進行を監視するため
分析する。塩素ガス流を止めおよび混合物を冷却するこ
とにより反応は終了する。公知の標準法、例えば蒸留お
よび丙結晶により所望の2.3,4.6−Tetを単離
し精製する。
キサガンマが反応器に加えられ、次いでこの反応器を約
220’Cに加熱する。塩素ガス流を開始し、十分な量
の2.3,4.6−Tetが得られるまで反応を行なう
。反応器からの液体サンプルおよび排出ガスを定時的に
取り出し、公知の方法により反応の進行を監視するため
分析する。塩素ガス流を止めおよび混合物を冷却するこ
とにより反応は終了する。公知の標準法、例えば蒸留お
よび丙結晶により所望の2.3,4.6−Tetを単離
し精製する。
本発明において用いられる2、3.6−ヘキサガンマは
、180〜250℃の温度において、好ましくは適当な
触媒の存在下気体塩素を液体2,6ペンタガンマ出発物
質に通すことにより製造される。好ましい温度範囲は1
90”C〜210″Cである。
、180〜250℃の温度において、好ましくは適当な
触媒の存在下気体塩素を液体2,6ペンタガンマ出発物
質に通すことにより製造される。好ましい温度範囲は1
90”C〜210″Cである。
2.6−ペンタガンマは公知の方法により製造される。
2.3.6−ヘキサガンマ製造用の適当な触媒の例は、
ルイス酸タイプ触媒、例えば本発明の塩素化反応の条件
下で共有金属塩化物に転化されうる金属、金属オキシバ
リド、もしくは金属ノλリド、並びに非金属触媒、例え
ば四塩化テルルである。テルルは非金属元素ではあるが
、当業者はそれが多くの金属の特性を有することを知っ
ている。金属自身、例えば鉄、亜鉛、アルミニウムおよ
びタンタルも好ましくは粉末形で用いてよい。
ルイス酸タイプ触媒、例えば本発明の塩素化反応の条件
下で共有金属塩化物に転化されうる金属、金属オキシバ
リド、もしくは金属ノλリド、並びに非金属触媒、例え
ば四塩化テルルである。テルルは非金属元素ではあるが
、当業者はそれが多くの金属の特性を有することを知っ
ている。金属自身、例えば鉄、亜鉛、アルミニウムおよ
びタンタルも好ましくは粉末形で用いてよい。
塩化物形状へ転化される典型的共有金属塩化物および/
または金属オキシクロリドおよび/またはハリドは、例
えば塩化第二鉄、臭化第二鉄、塩化アルミニウム、臭化
アルミニウム、五塩化アンチモン、三もしくは五塩化も
しくはオキシ四塩化モリブデン、六塩化タングステン、
三弗化硼素、塩化チタン、塩化ニッケル、塩化亜鉛、五
塩化タンタル、三塩化ルテニウム、五塩化ニオビウム、
塩化銅、三塩化クロム、三塩化バナジウム、塩化コバル
ト等を含む。
または金属オキシクロリドおよび/またはハリドは、例
えば塩化第二鉄、臭化第二鉄、塩化アルミニウム、臭化
アルミニウム、五塩化アンチモン、三もしくは五塩化も
しくはオキシ四塩化モリブデン、六塩化タングステン、
三弗化硼素、塩化チタン、塩化ニッケル、塩化亜鉛、五
塩化タンタル、三塩化ルテニウム、五塩化ニオビウム、
塩化銅、三塩化クロム、三塩化バナジウム、塩化コバル
ト等を含む。
当業者には周知のように、触媒物質の活性または可能性
は推論できない。ある種の触媒は、例えば大気圧におい
て短い反応時間で良好な結果を与えることがわかったが
、実施可能な他のものは同様の結果を得るため経済的に
適さない長い反応時間が必要である。さらに、ある種の
触媒は高温で用いた場合すぐれている。触媒活性の程度
は、製造する特定の生成物、出発物質との触媒゛の溶解
度または混和性、スラリー触媒に対する固定層の使用等
により異なる。当業者は、慣例の実験により、製造され
る特定の生成物または所望の圧力、温度もしくは時間条
件に対し最適の触媒および必要な量を容易に決定する。
は推論できない。ある種の触媒は、例えば大気圧におい
て短い反応時間で良好な結果を与えることがわかったが
、実施可能な他のものは同様の結果を得るため経済的に
適さない長い反応時間が必要である。さらに、ある種の
触媒は高温で用いた場合すぐれている。触媒活性の程度
は、製造する特定の生成物、出発物質との触媒゛の溶解
度または混和性、スラリー触媒に対する固定層の使用等
により異なる。当業者は、慣例の実験により、製造され
る特定の生成物または所望の圧力、温度もしくは時間条
件に対し最適の触媒および必要な量を容易に決定する。
不活性支持体に結合した触媒または補助触媒の使用も本
発明において考えられている。2,36−へキサガンマ
の製造における使用に好ましい触媒は、ルイス酸触媒で
ある。特に好ましい触媒は、ルテニウム、タンタル、タ
ングステン、モリブテン、ニオビウム、アルミニウム、
亜鉛および鉄金属またはそれらのハロゲン化物を含む。
発明において考えられている。2,36−へキサガンマ
の製造における使用に好ましい触媒は、ルイス酸触媒で
ある。特に好ましい触媒は、ルテニウム、タンタル、タ
ングステン、モリブテン、ニオビウム、アルミニウム、
亜鉛および鉄金属またはそれらのハロゲン化物を含む。
本発明におけ、る使用にかなり好ましい触媒は、ハロゲ
ン化第二鉄およびアルミニウム、並びに鉄およびアルミ
ニウム金属を含む。好ましい触媒は塩化第二鉄である。
ン化第二鉄およびアルミニウム、並びに鉄およびアルミ
ニウム金属を含む。好ましい触媒は塩化第二鉄である。
好ましい種類の触媒は、溶融出発物質に可溶なまたは容
易に分散可能なものを含む。
易に分散可能なものを含む。
触媒は反応を触媒するに有効な量、すなわち触媒量で用
いられ、通常2.6−ペンタガンマ出発物質に対し0.
5〜20モルパーセントの量で用いられる。好ましくは
、2〜3モルパーセントの触媒濃度が用いられる。
いられ、通常2.6−ペンタガンマ出発物質に対し0.
5〜20モルパーセントの量で用いられる。好ましくは
、2〜3モルパーセントの触媒濃度が用いられる。
2.36−へキサガンマを製造するだめの反応工程は通
常下式で説明される。
常下式で説明される。
この工程の実施において、通常液体形の2,6−ペンタ
ガンマが反応器に加えられ、所望により触媒量の触媒が
加えられる。次いで反応器を約150℃に加熱し、塩素
ガス流を開始する。反応器の温度をゆっくり約200℃
に上げ、十分な量の2゜3.6−へキサガンマが得られ
るまで反応を保つ。
ガンマが反応器に加えられ、所望により触媒量の触媒が
加えられる。次いで反応器を約150℃に加熱し、塩素
ガス流を開始する。反応器の温度をゆっくり約200℃
に上げ、十分な量の2゜3.6−へキサガンマが得られ
るまで反応を保つ。
所望により反応の間、塩素ガス速度および温度を増す。
反応からの液体サンプルおよび排出ガスを定時的に取り
、公知の方法により反応を監視するため分析する0反応
器の加熱および塩素流を止め、必要により反応器の圧力
を大気圧に下げることにより反応は停止する。所望の2
.3.6−ヘキサガンマを得るため反応生成物の蒸留を
行なう。次いで2.3.6−へキサガンマを再結晶し、
2゜3.4.6−テトラクロロピリジン製造用の出発物
質として用いる。
、公知の方法により反応を監視するため分析する0反応
器の加熱および塩素流を止め、必要により反応器の圧力
を大気圧に下げることにより反応は停止する。所望の2
.3.6−ヘキサガンマを得るため反応生成物の蒸留を
行なう。次いで2.3.6−へキサガンマを再結晶し、
2゜3.4.6−テトラクロロピリジン製造用の出発物
質として用いる。
反応を長時間行った場合、望ましくない副生成物、例え
ばPCPが形成し、従って所望の生成物の収率が低下す
る。所望の生成物の収率を最大にする時間それぞれの反
応を行なうことは当業者に容易に理解される。最適のそ
れぞれの反応時間は種々の因子、例えば圧力、温度、用
いた反応体の量、塩素流の速度等により異なる。本発明
の各操作は特定の操作に対し最適の反応時間を決定する
ため上記のようにして監視される。
ばPCPが形成し、従って所望の生成物の収率が低下す
る。所望の生成物の収率を最大にする時間それぞれの反
応を行なうことは当業者に容易に理解される。最適のそ
れぞれの反応時間は種々の因子、例えば圧力、温度、用
いた反応体の量、塩素流の速度等により異なる。本発明
の各操作は特定の操作に対し最適の反応時間を決定する
ため上記のようにして監視される。
本発明をさらに以下の例により説明する。
l−2,3,6−へキサガンマの製造
ロトメーター(rotomeLer)およびニードル弁
を介して塩素源に接続したテフロン散布チューブ、苛性
アルカリスクラバーに接続したベントチューブ、および
温度計を備えた500成の三ロフラスコを含んでなる反
応器を用いる。撹拌棒をフラスコ内に入れ、Therm
−0−讐a Lchコントローラーを温度計に接続する
。反応器に2,6−ペンタガンマの溶融体(純度99.
97パーセント)および5重量パーセントのタングステ
ン触媒を加える。反応混合物を撹拌しながら大気圧にお
いて175“C−190℃に加熱し、約60d/分の速
度でこの溶液に塩素を散布する。27時間後、サンプル
を取り出す。このサンプルは2,3.6−へキサガンマ
を84パーセント、PCPを5.3パーセン1−、ヘプ
タクロロガンマピコリンを3.4パーセント、および2
.6ペンタガンマを5.5パーセント含んでいた。
を介して塩素源に接続したテフロン散布チューブ、苛性
アルカリスクラバーに接続したベントチューブ、および
温度計を備えた500成の三ロフラスコを含んでなる反
応器を用いる。撹拌棒をフラスコ内に入れ、Therm
−0−讐a Lchコントローラーを温度計に接続する
。反応器に2,6−ペンタガンマの溶融体(純度99.
97パーセント)および5重量パーセントのタングステ
ン触媒を加える。反応混合物を撹拌しながら大気圧にお
いて175“C−190℃に加熱し、約60d/分の速
度でこの溶液に塩素を散布する。27時間後、サンプル
を取り出す。このサンプルは2,3.6−へキサガンマ
を84パーセント、PCPを5.3パーセン1−、ヘプ
タクロロガンマピコリンを3.4パーセント、および2
.6ペンタガンマを5.5パーセント含んでいた。
班I−2、3、4、6,−Te tの製造ロトメーター
およびニードル弁を介して塩素源に接続したテフロン散
布チューブ、苛性アルカリスクラバーに接続した、ベン
トチューブ、および温度計を備えた500mfの三ロフ
ラスコを含んでなる反応器を用いた。撹拌棒をフラスコ
に入れ、Them−0−Wa tchコントローラーを
温度計に接続する。
およびニードル弁を介して塩素源に接続したテフロン散
布チューブ、苛性アルカリスクラバーに接続した、ベン
トチューブ、および温度計を備えた500mfの三ロフ
ラスコを含んでなる反応器を用いた。撹拌棒をフラスコ
に入れ、Them−0−Wa tchコントローラーを
温度計に接続する。
2.3.6−へキサガンマ(例1の生成物のフラッシュ
蒸留より得られる、純度98.85パーセント)を表面
の下約1インチにテフロン散布チューブにより反応器に
加える。反応器および内容物を撹拌しながらTheIl
l−0−Watchコントローラーにより調節した赤外
ランプを用いて大気圧下で加熱する。反応器の混合物が
約175℃に達したら、約60戚/分の速度で塩素を液
体に散布する。次いでこの反応混合物を200℃〜22
0℃に加熱する。58および66時間においてサンプル
を取り出す。58時間のサンプルは2,3,4.6−T
etを30.9パーセントおよびPCPを2.35パー
セント含んでいた。66時間のサンプルは2,3.4.
6−TeLを23.7バーセントおよびPCPを24.
2パーセント含んでいた。両サンプルの残りは実質的に
2.3.6−へキサガンマ出発物質であった。
蒸留より得られる、純度98.85パーセント)を表面
の下約1インチにテフロン散布チューブにより反応器に
加える。反応器および内容物を撹拌しながらTheIl
l−0−Watchコントローラーにより調節した赤外
ランプを用いて大気圧下で加熱する。反応器の混合物が
約175℃に達したら、約60戚/分の速度で塩素を液
体に散布する。次いでこの反応混合物を200℃〜22
0℃に加熱する。58および66時間においてサンプル
を取り出す。58時間のサンプルは2,3,4.6−T
etを30.9パーセントおよびPCPを2.35パー
セント含んでいた。66時間のサンプルは2,3.4.
6−TeLを23.7バーセントおよびPCPを24.
2パーセント含んでいた。両サンプルの残りは実質的に
2.3.6−へキサガンマ出発物質であった。
1−塩化第二鉄触媒化および非触媒化反応による2、3
.6−ヘキサガンマの製造 2個の10〇−丸底フラスコにガス流入口、温度計、ベ
ントライン、および磁気撹拌器を取り付けた。フラスコ
Aには2,6−ペンタガンマを1216g(4,58モ
ル)加えた。フラスコBには2.6ペンタガンマを12
13g (4,57モル)および塩化第二鉄触媒60.
5 gを(0,37モル)加えた。フラスコAからのベ
ントラインを間においたトラップによりフラスコBに接
続した。赤外ランプおよびT b etm−0−Wat
chコントローラーを用いて各フラスコを150″Cに
加熱した。60m!/分で塩素ガスをフラスコAに入れ
、温度を徐々に200℃に上げた。
.6−ヘキサガンマの製造 2個の10〇−丸底フラスコにガス流入口、温度計、ベ
ントライン、および磁気撹拌器を取り付けた。フラスコ
Aには2,6−ペンタガンマを1216g(4,58モ
ル)加えた。フラスコBには2.6ペンタガンマを12
13g (4,57モル)および塩化第二鉄触媒60.
5 gを(0,37モル)加えた。フラスコAからのベ
ントラインを間においたトラップによりフラスコBに接
続した。赤外ランプおよびT b etm−0−Wat
chコントローラーを用いて各フラスコを150″Cに
加熱した。60m!/分で塩素ガスをフラスコAに入れ
、温度を徐々に200℃に上げた。
40時間後、塩素流を81d/分に上げ、64時間後温
度を210℃に上げた。
度を210℃に上げた。
71時間においてフラスコBを閉じ、78時間において
フラスコAを閉じた。
フラスコAを閉じた。
40時間におけるフラスコB内の遅い反応速度はフラス
コA内の反応が塩素ガスを使い果たしたことを示してい
る。流れを増すとより速い速度で反応が進行するように
なる。
コA内の反応が塩素ガスを使い果たしたことを示してい
る。流れを増すとより速い速度で反応が進行するように
なる。
フラスコAは42時間でサンプルを取ると、2゜3.6
−へキサガンマを15.2パーセント含んでおり、78
時間では2,3.6−ヘキサガンマを31.3パーセン
ト含んでいた。フラスコBは64および71時間でサン
プルを取った。64時間のサンプルはPCPを9.3パ
ーセントおよび2,3.6−へキサガンマを68.2パ
ーセント含んでいた。71時間のサンプルはPCPを1
2.3パーセントおよび2.3゜6−へキサガンマを6
8.3パーセント含んでいた。
−へキサガンマを15.2パーセント含んでおり、78
時間では2,3.6−ヘキサガンマを31.3パーセン
ト含んでいた。フラスコBは64および71時間でサン
プルを取った。64時間のサンプルはPCPを9.3パ
ーセントおよび2,3.6−へキサガンマを68.2パ
ーセント含んでいた。71時間のサンプルはPCPを1
2.3パーセントおよび2.3゜6−へキサガンマを6
8.3パーセント含んでいた。
蒸留によりフラスコAから2.3.6−ヘキサガンマを
312g回収した。この262gを例4の出発物¥t(
純度98.9パーセント)として用いた。
312g回収した。この262gを例4の出発物¥t(
純度98.9パーセント)として用いた。
例4−2 、3 、4 、6−Tetの製造磁気撹拌器
、ガス流入チューブ、温度計、および苛性スクラバーへ
のベントラインを備えた500−の丸底フラスコに2.
3.6−へキサガンマを262g (0,87モル)加
えた。赤外ランプおよびThem−0−Wa Lchコ
ントローラーを用いてこのフラスコを220’Cに加熱
した。16d/分で塩素ガスを加えた。反応を83時間
続けた。以下のように反応の間サンプルを取り出し分析
した。
、ガス流入チューブ、温度計、および苛性スクラバーへ
のベントラインを備えた500−の丸底フラスコに2.
3.6−へキサガンマを262g (0,87モル)加
えた。赤外ランプおよびThem−0−Wa Lchコ
ントローラーを用いてこのフラスコを220’Cに加熱
した。16d/分で塩素ガスを加えた。反応を83時間
続けた。以下のように反応の間サンプルを取り出し分析
した。
09B、9
18 80.8
23 81.5
42 67.8
46 64.7
49 64.5
66 64.2 0.67
4 50.4 1.5
16.8 18.5 31.65 34.6 34.9 35.2 48.2 反応終了後、蒸留および無水エタノールを用いる再結晶
により2.3,4.6−Tetを分離した。2,3.4
.6−TeL 59.45g (純度99.4パーセン
ト)を回収した。
4 50.4 1.5
16.8 18.5 31.65 34.6 34.9 35.2 48.2 反応終了後、蒸留および無水エタノールを用いる再結晶
により2.3,4.6−Tetを分離した。2,3.4
.6−TeL 59.45g (純度99.4パーセン
ト)を回収した。
■12,3,4.6−Tetの製造
ガス流入口、温度計、および苛性アルカリスクラバーへ
のベントラインを備えた10(1++j!の三ロフラス
コに2.3.6−へキサガンマ50gを入れた。
のベントラインを備えた10(1++j!の三ロフラス
コに2.3.6−へキサガンマ50gを入れた。
フラスコを220″Cに加熱し、反応の間この温度に保
った。塩素を加え、反応の間10Id/分〜16mQ/
分の間の流速を保った0反応を134.5時間続けた。
った。塩素を加え、反応の間10Id/分〜16mQ/
分の間の流速を保った0反応を134.5時間続けた。
以下のように反応の間サンプルを取り分析した。
0.0
68.0
74.0
83.0
86.0
92.5
99.5
107.0
114.5
122.0
129.5
134.5
97.6
52.7
49.2
45.3
44.3
40.7
36.4
32.0
26.9
23.9
21.7
20.1
44.9
48.3
52.1
53.3
56.7
60.9
64.7
70.1
72.8
74.8
76.2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、2,3,4,6−テトラクロロピリジンの製造方法
であって、液体状態および触媒の非存在下、180℃〜
250℃の温度において、2,3,4,6−テトラクロ
ロピリジン以外の生成物に転化する2,3,6−トリク
ロロ−4−トリクロロメチルピリジンが10パーセント
未満であるような条件下で、2,3,6−トリクロロ−
4−トリクロロメチルピリジンの液体組成物を少なくと
も約1.5倍当量の塩素ガスと接触させることを含んで
なる方法。 2、大気圧において行なう、請求項1記載の方法。 3、反応温度が200℃〜220℃である、請求項1ま
たは2記載の方法。 4、2,3,4,6−テトラクロロピリジン以外の生成
物に転化する2,3,6−トリクロロ−4−トリクロロ
メチルピリジンが5パーセント未満である、請求項1〜
3のいずれかに記載の方法。 5、2,3,4,6−テトラクロロピリジン以外の生成
物に転化する2,3,6−トリクロロ−4−トリクロロ
メチルピリジンが2パーセント未満である、請求項4記
載の方法。 6、2,3,4,6−テトラクロロピリジンが得られる
総混合物の少なくとも45パーセントを含んでなる、請
求項1〜5のいずれか記載の方法。 7、2,3,4,6−テトラクロロピリジンが得られる
総混合物の少なくとも60パーセント含んでなる、請求
項6記載の方法。 8、用いられる2,3,6−トリクロロ−4−トリクロ
ロメチルピリジンが液体状態において約180℃〜約2
50℃の温度で2,6−ジクロロ−4−トリクロロメチ
ルピリジンの液体組成物(所望によりルイス酸触媒を含
む)を塩素ガスと接触させることにより得られる、請求
項1〜7のいずれか記載の方法。 9、ルイス酸触媒が塩化第二鉄である、請求項8記載の
方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US81766086A | 1986-01-10 | 1986-01-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0331262A true JPH0331262A (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=25223585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15979389A Pending JPH0331262A (ja) | 1986-01-10 | 1989-06-23 | 2,3,4,6―テトラクロロピリジンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0331262A (ja) |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP15979389A patent/JPH0331262A/ja active Pending
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