JPH0331375A - 修正液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化
チタンと、有機溶剤と、該有機溶剤に可溶な樹脂とを主
成分とする修正液に関する。

（従来の技術） 顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタンと、
有機溶剤と、該有機溶剤に可溶な樹脂とよりなる修正液
は、その塗膜自体が疎水性を呈している為、修正した箇
所に再筆記した場合、油性インキの場合には問題無いが
、水性インキ使用の万年筆、サインペン等の場合、イン
キが撥かれてしまい再筆記が困難となるという問題を有
していた。

本発明者らは、上記問題を解決する為、先にシリコーン
・ブロック・コポリマー、イミダシリン誘導体或はエチ
レンオキサイド付加フッ素系界面活性剤を添加してなる
修正液、及び、液状ポリブタジェン、液状ポリブテン、
液状ポリペンタジェン等の液状ゴムを添加してなる修正
液を提案した。

（発明が解決しようとする課題） 上記、先に提案した修正液は、何れも、水性インキを使
用した筆記具による再筆記性には優れるものの５例えば
、シリコーン・ブロック・コポリマー、イミダシリン誘
導体或はエチレンオキサイド付加フッ素系界面活性剤を
添加してなる修正液は、再筆記した筆跡の乾燥性には優
れている反面、筆跡の濃度が薄くなる「色沈み現象」が
発生し易く、逆に、液状ポリブタジェン、液状ポリブテ
ン、液状ポリペンタジェン等の液状ゴムを添加してなる
修正液は、「色沈み現象」は、はとんど発生しないが、
筆跡の乾燥時間が長くなり易くなるといった傾向があり
、再筆記した筆跡の乾燥性及び色沈み現象を、共に良好
になし、筆跡の乾燥時間が十分に短く、且つ、筆跡の濃
度が薄くならない塗膜を形成する修正液である為には、
やや不満足なものであった。

（課題を解決するための手段） 本発明は、顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化
チタンと、有機溶剤と、該有機溶剤に可溶な樹脂とを主
成分とする修正液にあって、高吸水性高分子を含むこと
を特徴とする修正液を要旨とするものである。

以下、本発明の組成について説明する。

顔料は、筆跡を隠蔽する為に使用するものであって、そ
の全部又は少なくとも主成分が酸化チタンであることが
必要であるが、酸化チタンとしては、ルチル型、アナタ
ーゼ型などの各種の酸化チタンが使用でき、市販のもの
としては、タイトーン５Ｒ−１、同Ｒ−６５０．同Ｒ−
３Ｌ、同Ａ−１１０、同Ａ−１５０、同Ｒ−５Ｎ（以上
、堺化学工業■製）、タイベークＲ−５８０，同Ｒ−５
５０、同Ｒ−９３０．同Ａ−１００．同人−２２０、同
ＣＲ−５８（以上、石原産業■製）、クロノスＫＲ−３
１０，同ＫＲ−３８０，同ＫＲ−４８０、同ＫＡ−１０
、同ＫＡ−２０、同ＫＡ−３０（以上、チタン工業■製
）、タイピュアＲ−９００、同Ｒ−９３１（以上、デュ
ポン・ジャパン・リミテッド社１）などが挙げられ、そ
の使用量は修正液全量に対して２０〜５０重量％が好ま
しい。

更に１紙などの筆記面と色調を合わせる為に着色顔料を
、隠蔽力を向上させる為にシリカ、炭酸カルシウムなど
の体質顔料を併用しても良い。

有機溶剤は、樹脂の溶解、粘度調整などに使用するもの
で、具体的には、トルエン、キシレン、ｎ−へブタン、
ｎ−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
等の炭化水素系、１．１゜１−トリクロルエタン、テト
ラクロルエチレン等のハロゲン炭化水素系、１．４−ジ
オキサン、ｎ−ブチルエーテル、トリオキサン等のエー
テル系、エチルメチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケ
トン等のケトン系、ギ酸プロピル、酢酸エチル等のエス
テル系溶剤等が単独もしくは混合して使用可能であり、
塗膜の乾燥時間を考慮すれば沸点が７０℃〜１５０℃の
ものが好ましく、その使用量は修正液全量に対して３０
〜６０重量％が好ましい。

尚、ｎ−へブタン、ｎ−オクタン等のパラフィン系炭化
水素や、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等のナ
フテン系炭化水素を有機溶剤として使用すれば、油性イ
ンキの筆跡をも修正することができるものである。

上記有機溶剤に可溶な樹脂としては、−例を挙げると、
アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ビニル樹脂、ポリエス
テル樹脂などがあり、その使用量は修正液全量に対して
５〜２０重量％が好ましい。

本発明の特徴点である高吸水性高分子の具体例としては
、スターチポリアクリレートからなるサンウェットＩＭ
−３００ＭＰＳ、同ＩＭ−１０００ＭＰＳ　（以上、三
洋化成工業■製）アクリル酸−ビニルアルコール共重合
体からなるスミカゲル５Ｐ−５２０、アクリル酸ソーダ
重合体からなるスミカゲルＮＰ−１０２０（以上、住人
化学工業■製）などが挙げられ、単独もしくは混合して
使用可能であり、その使用量は、修正液全量に対して０
．１〜５．０重量％が好ましく、より好ましくは０．５
〜２．０重量％である。

尚、上記した成分の他に、顔料の分散安定性のために分
散剤や沈降防止剤を、粘度調整のために増粘剤を、塗膜
の硬さを調整する為に可塑剤を、塗布性能を良好になら
しめる為にフロー向上剤やレベリング剤を適宜添加する
ことができる。

本発明の修正液は、上記各成分をボールミル。

アトライター、サンドグラインダー等の撹拌分散機を使
用して分散混合することによって得られる。

（作用） 本発明に係る修正液は、含有する高吸水性高分子が修正
塗膜表面及び表面近傍の内部に分散しているため、水性
インキを用いて再筆記した場合、インキ中の溶剤（特に
、水分）を塗膜表面及び／又は表面近傍の内部で補足し
、ゲル化してしまう。

従って、筆跡の乾燥が速やかであり、また、インキが塗
膜の内部にまで浸透していかないのでｒ色沈み現象」を
極力抑えるものと推察される。

（実施例） 以下、単に「部」とあるのは「重量部」を示す。

１１鍔上 クロノスＫＲ−３８０６５部 （チタン工業−製、ルチル型チタン） アクリロイドＢ−６６１２部 （米国、ローム＆バー入社製、アクリル樹脂）１．１，
１．−トリクロロエタン　　　１２０部ミズカシルＰ−
８０１２，部 （水沢化学工業＠製、微細シリカ） サンウェットエト３００ＭＰＳ　　　　　　　　１．２
部（三洋化成工業■製） ホモゲノールＬ−１８１，２部 （花王石鹸■製、分散剤） 上記各成分をボールミルにて２４時間分散処理して修正
液を得た。

夾胤且ｌ クロ／スＫＲ−ａａｏ　　　　　　　　　６０部アクリ
ロイドＢ−６７１３部 （米国、ローム＆ハース社製、アクリル樹脂）メチルシ
クロヘキサン　　　　　　　１００部サンすェットＩＮ
−ｌＮ−１Ｏ００１、８部（三洋化成工業■製） ミズカシルＰ−８０１２部 ＭＡ−１０００，０５部 （三菱化成工業＠製、カーボンブラック）ホモゲノール
Ｌ−１８１部 上記各成分を実施例１と同様になして修正液を得た。

叉直透主 クロノスＫＲ−３８０７０部 アクリロイドＢ−６６１０部 キシレン　　　　　　　　　　　　　１００部スミカゲ
ル５Ｐ−５２０２，７部 （住人化学工業■製） ＤＯＡ　　　　　　　　　　　　　　　３部（ｉｌｌｌ
ｌ大学工業所製、可塑剤） ＭＡ−１０００，０５部 ホモゲノールＬ−１８１，５部 以上の各成分を実施例１と同様の方法で修正液を得た。

大産五土 クロノスＫＲ−３８０７０部 アクリロイドＢ−６７１０部 メチルシクロヘキサン　　　　　　　　７０部エチルシ
クロヘキサン　　　　　　　　３０部スミカゲルＮＰ−
１０２０１、９部 （住人化学工業ｉｌり ミズカシルＰ−８０１２部 ＤＯＡ　　　　　　　　　　　　　２．５部ＭＡ−１０
００，０５部 ホモゲノールＬ−１８１，３部 以上の各成分を実施例１と同様の方法で修正液を得た。

失凰輿旦 クロノスＫＲ−３８０７０部 アクリロイドＢ−６６１０部 キシレン　　　　　　　　　　　　　１００部サンウェ
ットＩＭ−３００ＭＰＳ　　　　　　　８．３部（三洋
化成工業■製） ＤＯＡ　　　　　　　　　　　　　　　３部ＭＡ−１０
００，０５部 ホモゲノールＬ−１８１，５部 以上の各成分を実施例１と同様の方法で修正液を得た。

よ較舅工 実施例１におけるサンウェットＩＭ−３００ＭＰＳを除
いた他は、実施例１と同様にして修正液を得た。

星較叢又 実施例１におけるサンウェットＩＭ−３００ＭＰＳを除
き、シリコーン・ブロック・コポリマー（Ｌ−７５００
、日本ユニカー−製）を１部加えた他は、実施例１と同
様になして修正液を得た。

皮較爽且 実施例２におけるサンウェットＩＭ−１０００ＭＰＳを
除き、エチレンオキサイド付加フッ素系界面活性剤（サ
ーフロンＳ−３４１、旭硝子■製）を２部加えた他は、
実施例２と同様になして修正液を得た。

迄敗五土 実施例３におけるスミカゲル　５Ｐ−５２０を除き、液
状ブタジェン（Ｐｏｌｙ　　ｂｄ　　Ｒ−４５ＨＴ、出
光石油化学■製）を３部加えた他は、実施例３と同様に
なして修正液を得た。

（発明の効果） 以上、実施例１〜５、比較例１〜４で得られた修正液に
ついて、隠蔽率、再筆記性、指触乾燥時間、色沈み性の
試験を行なった。

結果を表１に示す。

表１ ×１隠蔽率：上記修正液を、隠蔽率測定用紙（ＪＩＳＫ
５４００）に２ミルのアプリケーターで塗布し、乾燥し
た後、４５°、０°被拡散射率を測定し算出した。

＊２再筆記性：修正箇所の塗膜上に、水性インキ使用の
筆記具（べんてる■製、ボールペんてるＢ−１００）で
筆記し、筆跡に撥きが有るものをｒ×」、無いものをｒ
ＱＪとした。

＊３指触乾燥時間：修正箇所の塗膜上に上記水性インキ
で筆記し、筆記後、筆記箇所を指で擦過し、インキが指
に付着しなくなるまでの時間を測定した。

＊４色沈み性：修正箇所の塗膜上に、水性インキ使用の
筆記具（ぺんてる■製、ボールペんてるＢ−１００）で
筆記し、乾燥後の筆跡と、塗布していない箇所の上記筆
記具による筆跡とを比較し。

略同等の濃度のものをｒＱＪ、僅かに薄いものを［０」
、やや薄さが感じられるものを「Δ」、明確に薄くなる
ものをｒＸＪとした。

尚、実施例１〜５の修正液について密着性試験を行なっ
た。結果を表２に示す。

表２ ＳＫ５４００）に２ミルのアプリケーターで塗布し、乾
燥した後、塗布部を内側にして二つ折りにし、直径５０
ｍｍ、重さ５０ｇのおもりをのせ３０秒間放置し、次に
同じ折目の部分を逆に折って再び同様に錘をのせた後、
塗膜の剥離状態を目視で観察し、剥離の無いものを「０
」、僅かに有るものを「Δ」、剥離の目立つものを「×
」とした。

以上、詳細に説明したように、本発明の修正液は、修正
液として十分な隠蔽性を有していると共に、修正箇所に
水性インキでもって再筆記ができ、その筆跡の乾燥性は
良好で、且つ、色沈みの少ない、優れた修正液である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 顔料の全部又は少なくとも主成分である酸化チタンと、
   有機溶剤と、該有機溶剤に可溶な樹脂とを主成分とする
   修正液にあって、高吸水性高分子を含むことを特徴とす
   る修正液。