JPH0463875A - 修正液 - Google Patents
修正液Info
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- JPH0463875A JPH0463875A JP17415790A JP17415790A JPH0463875A JP H0463875 A JPH0463875 A JP H0463875A JP 17415790 A JP17415790 A JP 17415790A JP 17415790 A JP17415790 A JP 17415790A JP H0463875 A JPH0463875 A JP H0463875A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、隠蔽材と溶剤と結合材とを主成分とする修正
液に関する。
液に関する。
(従来の技術)
修正液は、隠蔽材と、水又は有機溶剤と、使用する水又
は有機溶剤に溶解する樹脂などの結合材とを主成分とし
ている。
は有機溶剤に溶解する樹脂などの結合材とを主成分とし
ている。
隠蔽材としては、酸化チタンのような高い隠蔽性を示す
顔料を用いる。
顔料を用いる。
溶剤は、万年筆、水性サインペン等の水性インキの筆跡
に対してはトルエン、キシレン、1,1.1−トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン等を主溶剤として用い、
油性ボールペン、油性マーカー等の油性インキによる筆
跡や、タイプライタ−による印字、乾式複写機による複
写像などに対しては水を主溶剤として用いていた。更に
近年、筆跡の種類によって溶剤を使いわけるといった煩
雑さを解消するためシクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、エチルシクロヘキサン等のシクロヘキサン系の溶
剤を用いている。
に対してはトルエン、キシレン、1,1.1−トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン等を主溶剤として用い、
油性ボールペン、油性マーカー等の油性インキによる筆
跡や、タイプライタ−による印字、乾式複写機による複
写像などに対しては水を主溶剤として用いていた。更に
近年、筆跡の種類によって溶剤を使いわけるといった煩
雑さを解消するためシクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、エチルシクロヘキサン等のシクロヘキサン系の溶
剤を用いている。
結合材は、トルエン、キシレン、1,1.1−)−リク
ロ口エタン、トリクロロエチレンやシクロヘキサン系の
溶剤等を用いた場合、アクリル樹脂、ビニルアルキルエ
ーテル樹脂、環化ゴム、スチレン−ブタジェン共重合体
系エラストマー等が用いられ、水を主溶剤として用いた
場合、(メタ)アクリル酸エステル系樹脂エマルジョン
、スチレン−ブタジェン共重合体系樹脂エマルジョン、
エチレン酢酸ビニル樹脂エマルジョンが用いられている
。
ロ口エタン、トリクロロエチレンやシクロヘキサン系の
溶剤等を用いた場合、アクリル樹脂、ビニルアルキルエ
ーテル樹脂、環化ゴム、スチレン−ブタジェン共重合体
系エラストマー等が用いられ、水を主溶剤として用いた
場合、(メタ)アクリル酸エステル系樹脂エマルジョン
、スチレン−ブタジェン共重合体系樹脂エマルジョン、
エチレン酢酸ビニル樹脂エマルジョンが用いられている
。
修正液の塗膜の隠蔽性を向上するには、酸化チタン等の
隠蔽材が良好に分散していることが必要であるが、液中
に分散された隠蔽材は共凝集を発生し易く、そのため隠
蔽性が低下することがあった。そこで、隠蔽材の共凝集
を防止し本来の隠蔽材の隠蔽力を得るために、メラミン
−ホルムアルデヒド微小球などどいつた球状粒子を添加
する(特開平1−170671)ことが知られている。
隠蔽材が良好に分散していることが必要であるが、液中
に分散された隠蔽材は共凝集を発生し易く、そのため隠
蔽性が低下することがあった。そこで、隠蔽材の共凝集
を防止し本来の隠蔽材の隠蔽力を得るために、メラミン
−ホルムアルデヒド微小球などどいつた球状粒子を添加
する(特開平1−170671)ことが知られている。
(発明が解決しようとする課題)
修正液は文字、図柄などの隠蔽・修正を行なうだけでな
く、塗膜上に再筆記を行なう場合が多いので。
く、塗膜上に再筆記を行なう場合が多いので。
塗膜の乾燥が速いことが必要である。塗膜の乾燥性は使
用する溶剤の種類などの材質の外、膜厚にも影響される
。従って、薄い塗膜でも高い隠蔽力を持つことが必要と
なるわけであるが、上記の球状粒子を用い酸化チタンの
共凝集を防止しただけでは満足する隠蔽力は得られない
。
用する溶剤の種類などの材質の外、膜厚にも影響される
。従って、薄い塗膜でも高い隠蔽力を持つことが必要と
なるわけであるが、上記の球状粒子を用い酸化チタンの
共凝集を防止しただけでは満足する隠蔽力は得られない
。
本発明は、隠蔽力の高い修正液を得ることを目的とする
。
。
(課題を解決するための手段)
本発明は、隠蔽材と溶剤と結合材と中空粒子とより少な
くともなる修正液を要旨とするものである。
くともなる修正液を要旨とするものである。
以下、詳細に説明する。
隠蔽材は、酸化チタンや酸化亜鉛などの隠蔽性の高い腫
料を用いるが、特に、酸化チタンが良好である。酸化チ
タンとしては、ルチル型、アナターゼ型などの各種の酸
化チタンが使用できる。市販のものとしでは、タイトー
ン5R−1、同R−650、同R−3L、同A−110
、同A−150.同R−5N(以上、堺化学工業′@製
)、タイベークR−580、同R−550、同R−93
0、同A−100゜同A−220,同CR−58(以上
、石屋産業■II)、クロノスKR−310、同KR−
380、同KR〜480、同KA−10、同KA−20
、同K A−30(以上、チタン工業■製)、タイピュ
アR−900、同R−931(以上、デュポン・ジャパ
ン・リミテッド社味製)などが挙げられる。その使用量
は修正液全量に対して20〜50重量%が好ましい。
料を用いるが、特に、酸化チタンが良好である。酸化チ
タンとしては、ルチル型、アナターゼ型などの各種の酸
化チタンが使用できる。市販のものとしでは、タイトー
ン5R−1、同R−650、同R−3L、同A−110
、同A−150.同R−5N(以上、堺化学工業′@製
)、タイベークR−580、同R−550、同R−93
0、同A−100゜同A−220,同CR−58(以上
、石屋産業■II)、クロノスKR−310、同KR−
380、同KR〜480、同KA−10、同KA−20
、同K A−30(以上、チタン工業■製)、タイピュ
アR−900、同R−931(以上、デュポン・ジャパ
ン・リミテッド社味製)などが挙げられる。その使用量
は修正液全量に対して20〜50重量%が好ましい。
溶剤は、結合材の溶解、粘度調整などに使用するもので
、具体的には、トルエン、キシレン、n−へブタン、n
−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
シクロペンタン、メチルシクロペンタン等の炭化水素系
、1,1.1−トリクロルエタン、テトラクロルエチレ
ン等のハロゲン炭化水素系。
、具体的には、トルエン、キシレン、n−へブタン、n
−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
シクロペンタン、メチルシクロペンタン等の炭化水素系
、1,1.1−トリクロルエタン、テトラクロルエチレ
ン等のハロゲン炭化水素系。
1.4−ジオキサン、n−ブチルエーテル、トリオキサ
ン等のエーテル系、エチルメチルケトン、メチル−n−
プロピルケトン等のケトン系、ギ酸プロピル、酢酸エチ
ル等のエステル系溶剤等が単独もしくは混合して使用可
能であり、塗膜の乾燥時間を考慮すれば沸点が40℃〜
150℃のものが好ましく、その使用量は修正液全量に
対して30〜60重量%が好ましい。尚、n−へブタン
、n−オクタン等のパラフィン系炭化水素や、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタン、メチ
ルシクロペンタン等のナフテン系炭化水素を使用すれば
、筆跡が水性であっても5油性であっても使用できる。
ン等のエーテル系、エチルメチルケトン、メチル−n−
プロピルケトン等のケトン系、ギ酸プロピル、酢酸エチ
ル等のエステル系溶剤等が単独もしくは混合して使用可
能であり、塗膜の乾燥時間を考慮すれば沸点が40℃〜
150℃のものが好ましく、その使用量は修正液全量に
対して30〜60重量%が好ましい。尚、n−へブタン
、n−オクタン等のパラフィン系炭化水素や、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタン、メチ
ルシクロペンタン等のナフテン系炭化水素を使用すれば
、筆跡が水性であっても5油性であっても使用できる。
結合材は、塗膜を形成するために使用するもので。
具体的には、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ビニルアルキルエーテル樹脂、
環化ゴム、スチレン−ブタジェン系エラストマーなどが
あり、その使用量は修正液全量に対し′て5〜20重量
%が好ましい。
脂、ポリエステル樹脂、ビニルアルキルエーテル樹脂、
環化ゴム、スチレン−ブタジェン系エラストマーなどが
あり、その使用量は修正液全量に対し′て5〜20重量
%が好ましい。
中空粒子は、隠蔽材の共凝集を防止すると共に。
塗膜の隠蔽性を向上する為に使用するものであり。
粒子1個当り1個の中空を有する単一中空型粒子であっ
ても、粒子1個当り複数の中空を有する多中空型粒子で
あっても使用可能である。具体例としては、ホウ珪酸ガ
ラスからなるガラスマイクロバルーンエGIOI (平
均粒子径80μm、中空径77μm)、同lG25 (
平均粒子径75μm、中空径72 p m )、同R(
平均粒子径8C)μm、中空径76μm)、シリカより
なるガラスマイクロバルーンS工 (平均粒子径8oμ
m、中空径77μm)、不溶性ガラスよりなるガラスマ
イクロバルーンFT102 (平均粒子径80 tt
m 、中空径77μm)−同FTD202(平均粒子径
65μm、中空径62.5μm)(以上、米国エマーソ
ン・アンド・カミング社製)、多孔質中空シリカからな
るゴツトボールB−6C(平均粒子径2.2μm、中空
径1.5μm)、同A−11C(平均粒子径3.5μm
、中空径2,3μm)、同B−16C(平均粒子径6.
5μm、中空径4.3μm)、同B−25C(平均粒子
径14μm、中空径9.3μm)(以上、鈴木油脂工業
■製)、中空ポリマーからなるローペイク○P−84J
(平均粒子径0.55μm、中空径0.3μm)、同0
P−62J (平均粒子径0.4μm、中空径0゜2μ
m)(以上、米国ローム・アンド・ハース社製)、中空
ラテックスからなる5X863 (A)(平均粒子径0
.37μm、中空径0.25pm)、5X864 (A
)(平均粒子径0.4μm、中空径0゜25μm)、S
X、865 (A)(平均粒子径0.43μm、中空径
0.25μm)(以上、日本合成ゴム■製)中空ポリマ
ーからなるGrandollシリーズ(以上、大日本イ
ンキ■製)などが挙げられ。
ても、粒子1個当り複数の中空を有する多中空型粒子で
あっても使用可能である。具体例としては、ホウ珪酸ガ
ラスからなるガラスマイクロバルーンエGIOI (平
均粒子径80μm、中空径77μm)、同lG25 (
平均粒子径75μm、中空径72 p m )、同R(
平均粒子径8C)μm、中空径76μm)、シリカより
なるガラスマイクロバルーンS工 (平均粒子径8oμ
m、中空径77μm)、不溶性ガラスよりなるガラスマ
イクロバルーンFT102 (平均粒子径80 tt
m 、中空径77μm)−同FTD202(平均粒子径
65μm、中空径62.5μm)(以上、米国エマーソ
ン・アンド・カミング社製)、多孔質中空シリカからな
るゴツトボールB−6C(平均粒子径2.2μm、中空
径1.5μm)、同A−11C(平均粒子径3.5μm
、中空径2,3μm)、同B−16C(平均粒子径6.
5μm、中空径4.3μm)、同B−25C(平均粒子
径14μm、中空径9.3μm)(以上、鈴木油脂工業
■製)、中空ポリマーからなるローペイク○P−84J
(平均粒子径0.55μm、中空径0.3μm)、同0
P−62J (平均粒子径0.4μm、中空径0゜2μ
m)(以上、米国ローム・アンド・ハース社製)、中空
ラテックスからなる5X863 (A)(平均粒子径0
.37μm、中空径0.25pm)、5X864 (A
)(平均粒子径0.4μm、中空径0゜25μm)、S
X、865 (A)(平均粒子径0.43μm、中空径
0.25μm)(以上、日本合成ゴム■製)中空ポリマ
ーからなるGrandollシリーズ(以上、大日本イ
ンキ■製)などが挙げられ。
単独もしくは混合して使用可能である。その粒子径は隠
蔽剤の共凝集防止のためには0.3μm以上が好ましく
、塗膜の平滑性を考慮すれば1100AL以下が好まし
い。更に、中空径が可視光線の半波以上である場合、そ
の粒子は白色顔料としても機能するため、中空径は0.
2μm以上が好ましい。使用量は修正液全量に対して0
.1〜3o重量%が好ましく、より好ましくは1.0〜
20重量%である。中空ポリマー、中空ラテックスが水
分散系である場合は中空中に水を含有するため、有機溶
剤系に使用する場合は、水と該有機溶剤を置換すること
が必要である。
蔽剤の共凝集防止のためには0.3μm以上が好ましく
、塗膜の平滑性を考慮すれば1100AL以下が好まし
い。更に、中空径が可視光線の半波以上である場合、そ
の粒子は白色顔料としても機能するため、中空径は0.
2μm以上が好ましい。使用量は修正液全量に対して0
.1〜3o重量%が好ましく、より好ましくは1.0〜
20重量%である。中空ポリマー、中空ラテックスが水
分散系である場合は中空中に水を含有するため、有機溶
剤系に使用する場合は、水と該有機溶剤を置換すること
が必要である。
尚、上記した成分の他に、従来知られている着色顔料を
併用したり、顔料の分散安定性のために分散剤や沈降防
止剤を、粘度調整のために増結剤を、塗膜の硬さを調整
するために可塑剤を、塗布性能を良好にならしめる為に
フロー向上剤やレベリング剤を適宜添加することができ
る。
併用したり、顔料の分散安定性のために分散剤や沈降防
止剤を、粘度調整のために増結剤を、塗膜の硬さを調整
するために可塑剤を、塗布性能を良好にならしめる為に
フロー向上剤やレベリング剤を適宜添加することができ
る。
本発明の修正液は、上記各成分をボールミル、アトライ
ター、サンドグラインダー等の撹拌分散機を使用して分
散混合することによって得られる・(作用) 本発明に係る修正液に含まれる中空粒子は、使用してい
る隠蔽材−次粒子の共凝集を抑制するスペーサーの効果
を持っているので本来の隠蔽材の隠蔽力が得られると共
に1粒子中に含まれる空気が結合材の平均屈折率を下げ
るので塗膜の隠蔽力が高くなる。
ター、サンドグラインダー等の撹拌分散機を使用して分
散混合することによって得られる・(作用) 本発明に係る修正液に含まれる中空粒子は、使用してい
る隠蔽材−次粒子の共凝集を抑制するスペーサーの効果
を持っているので本来の隠蔽材の隠蔽力が得られると共
に1粒子中に含まれる空気が結合材の平均屈折率を下げ
るので塗膜の隠蔽力が高くなる。
と推察される。
尚、塗膜の隠蔽力(HP)は下式(1)より求められ、
下式(り中の反射率(F)はFreSne1式(If)
より求められる。従って、結合材の平均屈折率が低いほ
ど隠蔽力は高くなる。
下式(り中の反射率(F)はFreSne1式(If)
より求められる。従って、結合材の平均屈折率が低いほ
ど隠蔽力は高くなる。
n琶隠蔽材の平均屈折率。
n2:結合材の平均屈折率
更に、中空径が可視光線の半波以上の中空粒子を用いた
場合、中空粒子による可視光性の反射及び粒子外壁と空
気との屈折率の差により、中空粒子は白色顔料としても
機能するため隠蔽力が向上する。
場合、中空粒子による可視光性の反射及び粒子外壁と空
気との屈折率の差により、中空粒子は白色顔料としても
機能するため隠蔽力が向上する。
(実施例)
以下、単に「部」とあるのは「重量部」を示す。
失胤叢よ
りロノスKR−38065部
アクリロイドB−6612部
(米国ローム&ハース社■製、アクリル樹脂)1.1.
1−トリクロロエタン 120部ミズカシルp−
8012部 (水沢化学工業■製、微細シリカ) ガラスマイクロバルーンIGIO118部ホモゲノール
L−181,2部 (花王■製、分散剤) 上記各成分をボールミルにて24時間分散処理して修正
液を得た。
1−トリクロロエタン 120部ミズカシルp−
8012部 (水沢化学工業■製、微細シリカ) ガラスマイクロバルーンIGIO118部ホモゲノール
L−181,2部 (花王■製、分散剤) 上記各成分をボールミルにて24時間分散処理して修正
液を得た。
叉胤叢ス
クロノスKR−38060部
アクリロイドB−6713部
(米国ローム&ハース社製、アクリル樹脂)メチルシク
ロヘキサン 80部ゴツトボールB−
6C15部 ミズカシルP−8’0 2部M
A−1000,05部 (三菱化成工業■製、カーボンブラック)ホモゲノール
L−181部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
ロヘキサン 80部ゴツトボールB−
6C15部 ミズカシルP−8’0 2部M
A−1000,05部 (三菱化成工業■製、カーボンブラック)ホモゲノール
L−181部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
清11」y
クロノスKR−38070部
アクリロイドB−6610部
キシレン 80部5X8
63 (A) 1部ジオクチルア
ジペート 73部(大人化学工業
所■製、可塑剤) MA−1000,05部 ホモゲノールL−181,5部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
63 (A) 1部ジオクチルア
ジペート 73部(大人化学工業
所■製、可塑剤) MA−1000,05部 ホモゲノールL−181,5部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
比較例1
実施例1におけるガラスマイクロバルーンIGI01を
除いた他は実施例1と同様になして修正液を得た。
除いた他は実施例1と同様になして修正液を得た。
囮裟貫主
実施例1におけるガラスマイクロバルーンIGI01を
除き、エポスターS(日本触媒化学工業■製、メラミン
−ホルムアミド微小球)を18部加えた他は実施例1と
同様になして修正液を得た。
除き、エポスターS(日本触媒化学工業■製、メラミン
−ホルムアミド微小球)を18部加えた他は実施例1と
同様になして修正液を得た。
(発明の効果)
実施例1〜3、比較例1〜2で得られた修正液について
隠蔽率試験を行った。
隠蔽率試験を行った。
結果を表1に示す。
表1
SK5400)に2ミルのアプリケーターで塗布し。
乾燥した後、45°、0°拡散反射率を算出した。
以上、詳細に説明したように、本発明に係る修正液は、
隠蔽力が高く良好なものである。
隠蔽力が高く良好なものである。
Claims (1)
- 隠蔽材と溶剤と結合材と中空粒子とより少なくともなる
修正液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17415790A JP2871008B2 (ja) | 1990-06-30 | 1990-06-30 | 修正液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17415790A JP2871008B2 (ja) | 1990-06-30 | 1990-06-30 | 修正液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0463875A true JPH0463875A (ja) | 1992-02-28 |
| JP2871008B2 JP2871008B2 (ja) | 1999-03-17 |
Family
ID=15973690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17415790A Expired - Lifetime JP2871008B2 (ja) | 1990-06-30 | 1990-06-30 | 修正液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2871008B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0672734A1 (en) * | 1994-03-03 | 1995-09-20 | Rohm And Haas Company | An erasable marking composition |
| JP2022040508A (ja) * | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 株式会社パイロットコーポレーション | 筆記具用インキ組成物およびそれを収容した筆記具 |
-
1990
- 1990-06-30 JP JP17415790A patent/JP2871008B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0672734A1 (en) * | 1994-03-03 | 1995-09-20 | Rohm And Haas Company | An erasable marking composition |
| JP2022040508A (ja) * | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 株式会社パイロットコーポレーション | 筆記具用インキ組成物およびそれを収容した筆記具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2871008B2 (ja) | 1999-03-17 |
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