JPH0331395Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

この考案は流動層による処理装置に関する。

【従来の技術】

従来の流動層による処理装置は、例えば、ガス
分散孔を備えたガス分散板上に粉粒状原料を投入
し、前記ガス分散孔から分散噴出されるガスによ
り、前記原料を流動化して所定の処理を施すよう
にしている。 このような流動層による処理装置に、例えば、
粉粒状鉄鉱石あるいは鉄粉等の粉粒状原材料を投
入すると共に、流動化ガスを還元ガスとすること
により、該原料は流動化されて混合撹拌され、こ
れにより、原料を非常に速い速度で還元すること
ができる。

【考案が解決しようとする問題点】

しかしながら、従来の流動層による処理装置
は、原料の投入量や性状が決定されると、これに
伴い必要とされる流動化速度が決定されるため、
流動層設計時のガス量を変化させようとしたり、
原料の種類を変化させようとすると、流動化速度
が変化し、該流動層の設計時の流動化条件の範囲
を外れる場合が生じる。 従つて、流動層による処理装置では、例えばコ
スト低減を図るため原料の装入量、性状、ガス量
等の操業条件を変えようとする場合には、現状の
ガス分散板の流動化条件の範囲内でしか操業条件
を変化させることができないという問題点を有す
る。 一方、ガス分散板を取換えることも考えられる
が、その交換は容易ではないため、簡単に操業条
件を変化させることは困難であるという問題点を
有する。

【考案の目的】 本考案は、前記従来の問題点を解消するべくな
されたもので、ガス分散板を交換することなく、
原料の投入量及び性状の変化、ガス量の変化に対
応して、所要の処理に最適な原料流動化条件とす
ることができる流動層による処理装置を提供する
ことを目的とする。

【問題点を解決するための手段】

本考案は、ガス分散孔を備えたガス分散板上に
粉粒状原料を投入し、前記ガス分散孔から分散噴
出されるガスにより、前記原料を流動化して所定
の処理を施す流動層による処理装置において、前
記ガス分散板のガス分散孔下方に、上下方向に径
が変化すると共に上下方向に昇降して、前記ガス
分散孔に挿入自在とされた挿入棒を含む孔開口面
積変更手段を設けることにより、前記目的を達成
したものである。

【作用】

本考案において、ガス分散板のガス分散孔に、
孔開口面積を変更する挿入棒を含む孔開口面積変
更手段を設けることにより、このガス分散孔にお
けるガス流速度を変化させることができる。これ
により、原料の量及び性状の変化、ガス量の変化
に対応して所要の処理に最適な原料の流動化状態
を得ることができる。

【実施例】

以下本考案の実施例を図面を参照して説明す
る。 本実施例は、第１図及び第２図に示されるよう
に、図示しない溶融還元炉の前段に配設され、ガ
ス分散孔１０を備えたガス分散板１２上に粉粒状
原料１４を投入し、前記ガス分散孔１０から分散
噴出される前記溶融還元炉からの排ガスにより、
前記原料１４を流動化し予備還元する流動層式予
備還元炉１６において、前記ガス分散板１０のガ
ス分散孔１２に、孔開口面積を変更する孔開口面
積変更手段３０を設けたものである。 前記予備還元炉１６は、全体円筒状に形成さ
れ、その上部に原料投入口１８、鉛直方向中央部
に水平に前記ガス分散板１０、このガス分散板１
０の上方近傍に、流動化された原料１４を排出す
る排出口２４、その下部に、投入された原料１４
を流動化して還元するための前記溶融還元炉から
の還元ガス導入口２６がそれぞれ設けられてい
る。 前記孔開口面積変更手段３０は、円錐体状先端
部３２Ａを備えた挿入棒３２を前記ガス分散板１
０の各ガス分散孔１２に合致する位置に配設した
孔挿入体３４と、前記挿入棒３２の挿入方向を前
記ガス分散孔１２の孔中心線に合致させてその先
端部３２Ａを該ガス分散孔１２内に挿入位置させ
る挿入機構３５とにより構成される。 前記挿入機構３５は、予備還元炉１６の底部に
形成される挿通孔３８を貫通し、前記孔挿入体３
４の下部に上端が固着される押動棒４０と、該押
動棒４０を上下動する油圧シリンダ４２と、前記
押動棒４０の挿通孔３８から予備還元炉１６内の
還元ガスが漏れるのを防止するガスシール装置４
４と、前記押動棒４０の上下動を案内するガイド
部材４６とで構成される。 次に、本実施例の作用を説明する。 まず、溶融還元炉からの還元ガスは還元ガス導
入口２６から予備還元炉１６内に導入され、ガス
分散板１０のガス分散孔１２から必要なガス流速
度とされ分散噴出される。一方、原料１４は原料
投入口１８から投入され、ガス分散板１０上で必
要な時間だけ分散滞留され、つまり、流動化さ
れ、この流動化に伴い還元されて、排出口２４か
ら排出されて、前記溶融還元炉１０内に投入され
る。 この予備還元において、還元ガス量を一定とし
原料１４の投入量を増加する場合には、ガス分散
板１０のガス分散孔１２におけるガス流速度を増
加させる必要がある。このときには、挿入機構３
５を作動して、孔挿入体３４を上方に移動させ、
この孔挿入体３４の上部に取付けられた挿入棒３
２の先端部３２Ａを前記ガス分散孔１２内に位置
させる。これにより、挿入棒３２の円錐体状先端
部３２Ａがガス分散孔１２内に位置されること
で、ガス分散孔１２の開口面積を減少することが
できる。従つて、ガス分散孔１２の開口面積が小
さくなり、これに伴い還元ガスのガス流速度を上
昇することができる。これにより、還元ガス量を
一定とし原料１４の投入量を増加しても、従来の
如くガス分散板を交換する必要がなく、原料１４
の投入量増加に対応して最適な原料１４の流動化
状態を得ることができる。 又、原料１４の投入量を一定とし、還元ガスの
ガス量を増加する場合には、挿入機構３５を作動
して、孔挿入体３４を下方に移動し、ガス分散板
２０のガス分散孔内に位置される挿入棒３２の円
錐体状先端部３２Ａを下方に移動させて、ガス分
散孔１２の開口面積を増大することにより、還元
ガスのガス流速度を一定に保つことができる。こ
れにより、原料１４の投入量を一定とし、還元ガ
スのガス量を増加しても、従来の如くガス分散板
を交換する必要がなく、還元ガスのガス量増加に
対応して最適な原料１４の流動化状態を得ること
ができる。 この実施例によれば、操業中であつても原料１
４の性状及び投入量の変化、ガス量の変化に対応
して、ガス分散孔１２における還元ガスのガス流
速度を一定に保つことができ、これにより、原料
１４の流動化状態を還元に最適なものとすること
ができる。従つて、予備還元炉１６における原料
１４の還元を効率良く且つ安定的に行うことがで
きる。又、原料１４の性状及び投入量の変更、ガ
ス量の変更に対して容易に対応でき、操業の柔軟
性を確保することができる。 又、予備還元炉１６を何らかの理由で一時的に
停止する場合には、挿入機構３５を作動させて孔
挿入体３４を最上部まで位置させることで、ガス
分散板１０のガス分散孔１２を挿入棒３２の円錐
体状先端部３２Ａの基端部により閉塞することが
でき、これにより、ガス分散板１０上の原料１４
がガス分散板１０の下方へ落下することを防止す
ることができる。 更に、ガス分散孔１２に粉粒物が詰まつて閉塞
を生じたり、通気に悪影響をもたらす場合でも、
挿入棒３２をガス分散孔１２に挿入して、詰まつ
た粉粒物を容易に除去できる。 なお、前記実施例は、溶融還元炉１０の前段に
配設される予備還元炉１６に本考案を適用したも
のであるが、本考案はこの還元炉のみに適用され
るものでなく、粉粒状の原料を流動化して所要の
処置を施す他の処理装置に適用するものとしても
よい。 又、挿入棒３２の先端部は円錐体状に限定され
るものでなく上下方向に径が変化するものであれ
ばよい。

【考案の効果】

本考案は、上記のように構成したので、原料の
性状及び投入量の変化、ガス量の変化に対応して
最適な流動化条件を得ることができ、これによ
り、工業炉としての流動層の応用範囲を広げるこ
とができ、且つ、操業をより一層安定的に行うこ
とができるという優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る流動層による処理装置の
実施例の要部を示す断面図、第２図は第１図にお
ける−線に沿う拡大断面図である。 １０……ガス分散孔、１２……ガス分散板、１
４……原料、１６……予備還元炉、２６……ガス
導入口、３０……孔開口面積変更手段、３２……
挿入棒、３５……挿入機構。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 ガス分散孔を備えたガス分散板上に粉粒状原料
   を投入し、前記ガス分散孔から分散噴出されるガ
   スにより、前記原料を流動化して所定の処理を施
   す流動層による処理装置において、 前記ガス分散板のガス分散孔下方に、上下方向
   に径が変化すると共に上下方向に昇降して、前記
   ガス分散孔に挿入自在とされた挿入棒を含む孔開
   口面積変更手段を設けたことを特徴とする流動層
   による処理装置。