JPH0723491B2 - 循環流動層予備還元装置 - Google Patents
循環流動層予備還元装置Info
- Publication number
- JPH0723491B2 JPH0723491B2 JP26928387A JP26928387A JPH0723491B2 JP H0723491 B2 JPH0723491 B2 JP H0723491B2 JP 26928387 A JP26928387 A JP 26928387A JP 26928387 A JP26928387 A JP 26928387A JP H0723491 B2 JPH0723491 B2 JP H0723491B2
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- JP
- Japan
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- fluidized bed
- furnace
- reduction
- gas injection
- injection nozzle
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- Manufacture Of Iron (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、溶融還元法に使用する鉄鉱石の流動層予備還
元炉に関する。
元炉に関する。
〔従来の技術） 鉄鉱石を還元して溶銑を製造するために、高炉を使用す
る方法、シャフト炉で還元した鉄鉱石を電気炉で溶解す
る方法等が従来から採用されている。
る方法、シャフト炉で還元した鉄鉱石を電気炉で溶解す
る方法等が従来から採用されている。
高炉を使用する方法において、熱源及び還元剤として多
量のコークスを使用し、鉄源である鉄鉱石は、炉内にお
ける通気性、還元性を向上させるために通常焼結され、
焼結鉱として高炉に装入されている。
量のコークスを使用し、鉄源である鉄鉱石は、炉内にお
ける通気性、還元性を向上させるために通常焼結され、
焼結鉱として高炉に装入されている。
したがって、高炉法には、多大な設備費は勿論のこと、
多くのエネルギー及び労働が必要となる。
多くのエネルギー及び労働が必要となる。
一方、シャフト炉による鉄鉱石の還元法では、鉄鉱石を
ペレット化する前処理を行うことが必要となり、また還
元剤、熱源として高価な天然ガス等を多量に消費すると
いう欠点がある。
ペレット化する前処理を行うことが必要となり、また還
元剤、熱源として高価な天然ガス等を多量に消費すると
いう欠点がある。
このような従来の溶銑製造技術に代わるものとして、溶
融還元法が注目を浴びている。この方法で使用する溶融
還元炉は、使用する原料に制約を受けることなく、より
小規模な設備により鉄系合金の溶湯を製造することを目
的として開発されたものである。
融還元法が注目を浴びている。この方法で使用する溶融
還元炉は、使用する原料に制約を受けることなく、より
小規模な設備により鉄系合金の溶湯を製造することを目
的として開発されたものである。
本発明者等は、先に特開昭61−64807号公報にこのよう
な溶融還元法の一つを提案した。
な溶融還元法の一つを提案した。
更に本発明者らは特願昭61−286599号において、第３図
図示の予備還元装置を提案した。
図示の予備還元装置を提案した。
即ち流動層還元炉に外部粒子循環装置に付設するが、こ
の外部粒子循環装置の構成は、流動層還元炉６の上部に
設けられている出口にサイクロン31を接続し、還元ガス
11と同伴し飛散してきた細粒子を捕捉している。
の外部粒子循環装置の構成は、流動層還元炉６の上部に
設けられている出口にサイクロン31を接続し、還元ガス
11と同伴し飛散してきた細粒子を捕捉している。
サイクロン31の下部には捕捉した粒子を一時溜めるホッ
パ32が接続され、このホッパ32で一時貯え、所定量を循
環切出装置33で流動層還元炉６に戻すものである。
パ32が接続され、このホッパ32で一時貯え、所定量を循
環切出装置33で流動層還元炉６に戻すものである。
一方流動層還元炉６の炉内には複数のガス吹出し口34、
35が形成されている。このガス吹出し口34、35の中間部
にバブリング流動層36を形成し、このバブリング流動層
36内に前記外部粒子循環装置の循環出口が設けられてい
る。
35が形成されている。このガス吹出し口34、35の中間部
にバブリング流動層36を形成し、このバブリング流動層
36内に前記外部粒子循環装置の循環出口が設けられてい
る。
また流動層還元炉６の炉底部に充填層37が形成され、充
填層37内に炉底吹き込みノズル38が設けられている。
填層37内に炉底吹き込みノズル38が設けられている。
図中39は粉鉱石、石灰石等の原料25を流動層還元炉６に
装入する為の切出弁、40、41、42は還元ガスの吹き出し
量を調整するための流量調節弁、43は細粒状の還元鉱の
切出弁、44は祖粒状の還元鉱の切出弁である。
装入する為の切出弁、40、41、42は還元ガスの吹き出し
量を調整するための流量調節弁、43は細粒状の還元鉱の
切出弁、44は祖粒状の還元鉱の切出弁である。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明は微粉状鉄粉の流動層予備還元装置における循環
量制御が容易な装置を提供するものである。
量制御が容易な装置を提供するものである。
（問題点を解決するための手段） 本発明は還元鉱石を製造する設備において流動層還元炉
に外部粒子循環装置を付設し、該外部粒子循環装置に沈
降塔を設けて、沈降塔下部に水平域を設けて流動層還元
炉に連結し、還元炉の炉底に還元ガス吹込みノズルを立
設するとともに、前記沈降塔水平域に、該水平域とのラ
ップ長ｌを与えられた制御ガス吹込ノズル又は吹込ノズ
ル群を摺動自在に横設した循環流動層予備還元装置であ
る。
に外部粒子循環装置を付設し、該外部粒子循環装置に沈
降塔を設けて、沈降塔下部に水平域を設けて流動層還元
炉に連結し、還元炉の炉底に還元ガス吹込みノズルを立
設するとともに、前記沈降塔水平域に、該水平域とのラ
ップ長ｌを与えられた制御ガス吹込ノズル又は吹込ノズ
ル群を摺動自在に横設した循環流動層予備還元装置であ
る。
以下本発明を図面について説明する。
第１図は本発明の全体図、第２図は本発明の要部説明図
である。図において、６は流動層還元炉、10は沈降塔
で、外部粒子循環装置を構成する。沈降塔６は上部はサ
イクロン31と連通してガスと還元鉄粉との選別系統が設
けられている。
である。図において、６は流動層還元炉、10は沈降塔
で、外部粒子循環装置を構成する。沈降塔６は上部はサ
イクロン31と連通してガスと還元鉄粉との選別系統が設
けられている。
沈降塔10の下部は水平域13を形成して流動層還元炉６の
下部と一体である。
下部と一体である。
還元炉６の炉底に還元ガス吹込みノズル38が立設され、
又制御ガス吹込ノズル12が沈降塔10の下部に横設され
る。
又制御ガス吹込ノズル12が沈降塔10の下部に横設され
る。
制御ガス吹込ノズル12は、第２図に示すように沈降塔10
の水平域13とラップ長ｌを与えて設けられ、水平駆動装
置16により沈降塔10内を摺動自在である。15はフレホー
ス、44は還元鉄粉排出口である。
の水平域13とラップ長ｌを与えて設けられ、水平駆動装
置16により沈降塔10内を摺動自在である。15はフレホー
ス、44は還元鉄粉排出口である。
従って本発明によるときは流動層還元炉６においては還
元ガス吹込みノズル38から還元ガスの吹き込みを得て流
動層を形成し、還元作用をうけて沈降塔に充てん層45を
形成する。
元ガス吹込みノズル38から還元ガスの吹き込みを得て流
動層を形成し、還元作用をうけて沈降塔に充てん層45を
形成する。
又沈降塔の水平域においては還元鉄粉の充てん層が形成
されているが、制御ガス吹込みノズルから前記水平域に
制御ガスが吹き込まれて、循環流が与えられる。
されているが、制御ガス吹込みノズルから前記水平域に
制御ガスが吹き込まれて、循環流が与えられる。
第１図及び第２図には制御ガス吹込ノズルは１本のみ図
示されているが、複数本となった場合も同様である。
示されているが、複数本となった場合も同様である。
実験によると前記循環流は水平域におけるノズル長との
ラップ長ｌを可変にすることによって任意に制御するこ
とが可能である。
ラップ長ｌを可変にすることによって任意に制御するこ
とが可能である。
（発明の効果） 本発明は循環流動層の下部（沈降塔と還元反応塔間）に
水平部を設け、沈降塔より還元反応塔間の内容物の流動
を水平部で規制する形となり、この水平部に水平方向に
噴出するノズルを設け循環力を与え、この噴出ノズルは
水平部への挿入長さ（ｌ）を可変可能とするので、噴出
ノズル位置、噴出ガス量により循環量の制御を行うこと
が容易である。
水平部を設け、沈降塔より還元反応塔間の内容物の流動
を水平部で規制する形となり、この水平部に水平方向に
噴出するノズルを設け循環力を与え、この噴出ノズルは
水平部への挿入長さ（ｌ）を可変可能とするので、噴出
ノズル位置、噴出ガス量により循環量の制御を行うこと
が容易である。
第１図は本発明の全体説明図、第２図は第１図の要部説
明図、第３図は従来例の説明図である。 6:流動層還元炉、10:沈降塔、13:水平域、12:制御ガス
吹込ノズル。
明図、第３図は従来例の説明図である。 6:流動層還元炉、10:沈降塔、13:水平域、12:制御ガス
吹込ノズル。
Claims (1)
- 【請求項１】還元鉱石を製造する設備において、流動層
還元炉に外部粒子循環装置を付設し、該外部粒子循環装
置に沈降塔を設けて、沈降塔下部に水平域を設けて流動
層還元炉に連結し、還元炉の炉底に還元ガス吹込みノズ
ルを立設するとともに、前記沈降塔水平域に、該水平域
とのラップ長ｌを与えられた制御ガス吹込ノズルを摺動
自在に横設した循環流動層予備還元装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26928387A JPH0723491B2 (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 循環流動層予備還元装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26928387A JPH0723491B2 (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 循環流動層予備還元装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01111807A JPH01111807A (ja) | 1989-04-28 |
| JPH0723491B2 true JPH0723491B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=17470199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26928387A Expired - Lifetime JPH0723491B2 (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 循環流動層予備還元装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0723491B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101004778B1 (ko) * | 2008-05-21 | 2011-01-04 | 순천대학교 산학협력단 | 산화철 분말의 환원방법 및 이를 적용한 순환 유동층환원장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0788523B2 (ja) * | 1991-03-29 | 1995-09-27 | 新日本製鐵株式会社 | 循環流動層還元装置の操業方法 |
-
1987
- 1987-10-27 JP JP26928387A patent/JPH0723491B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101004778B1 (ko) * | 2008-05-21 | 2011-01-04 | 순천대학교 산학협력단 | 산화철 분말의 환원방법 및 이를 적용한 순환 유동층환원장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01111807A (ja) | 1989-04-28 |
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