JPH0331450A - リードフレーム用Fe―Ni―Co合金 - Google Patents
リードフレーム用Fe―Ni―Co合金Info
- Publication number
- JPH0331450A JPH0331450A JP16458389A JP16458389A JPH0331450A JP H0331450 A JPH0331450 A JP H0331450A JP 16458389 A JP16458389 A JP 16458389A JP 16458389 A JP16458389 A JP 16458389A JP H0331450 A JPH0331450 A JP H0331450A
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- JP
- Japan
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- alloy
- lead frame
- less
- thermal expansion
- expansion coefficient
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- Pending
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Heat Treatment Of Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本願発明は、IC用リードフレーム材料として好適なF
e−N i−G o合金に関し、FeとNiとGoと
MnとSiとCuを特定量含有する合金にBeを特定量
添加することによって低熱膨張率と優れた樹脂密着性を
有するようにしたものである。
e−N i−G o合金に関し、FeとNiとGoと
MnとSiとCuを特定量含有する合金にBeを特定量
添加することによって低熱膨張率と優れた樹脂密着性を
有するようにしたものである。
「従来の技術」
近年、集積度の高い大規模集積回路(LSI)や超大規
模集積回路(超LS I)などの開発が盛んとなってき
ているが、このようなLSIや超LSIにおいては、シ
リコン素子が大型化し、発熱量も多くなってきている。
模集積回路(超LS I)などの開発が盛んとなってき
ているが、このようなLSIや超LSIにおいては、シ
リコン素子が大型化し、発熱量も多くなってきている。
従ってシリコン素子とリードフレームとの間の熱膨張率
の差異が大きい場合は、通電発熱によるリードフレーム
の膨張と収縮によりシリコン素子が熱ストレスを受けて
割れたり、亀裂を生じたりするおそれがある。そこでL
SIや超LSI用などのリードフレーム材料にあっては
、特にその熱膨張率をシリコン素子の熱膨張率に近付け
る必要がある。
の差異が大きい場合は、通電発熱によるリードフレーム
の膨張と収縮によりシリコン素子が熱ストレスを受けて
割れたり、亀裂を生じたりするおそれがある。そこでL
SIや超LSI用などのリードフレーム材料にあっては
、特にその熱膨張率をシリコン素子の熱膨張率に近付け
る必要がある。
このため従来から、リードフレーム用の材料においては
、シリコン素子などに作用する熱応力を緩和することを
目的とした低熱膨張率のFe−Ni合金として、42
A 1loy(42%N i−F e)(特開昭55−
119156号など)、コパール(29%Ni−17%
Go−Fe)、および、低膨張コバール(29%Ni−
13%Co−Fe)(特開昭59−198741号)な
どが知られている。
、シリコン素子などに作用する熱応力を緩和することを
目的とした低熱膨張率のFe−Ni合金として、42
A 1loy(42%N i−F e)(特開昭55−
119156号など)、コパール(29%Ni−17%
Go−Fe)、および、低膨張コバール(29%Ni−
13%Co−Fe)(特開昭59−198741号)な
どが知られている。
「発明が解決しようとする課題」
ところが、最近、IC5LSIなどの大型化とともに、
実装の小型化に伴い、面実装タイプのリードフレームや
チップサイズの大きなリードフレームなどにおいて、ア
ッセンブリー工程中の熱履歴等によって、封止樹脂とリ
ードフレームとの間に亀裂が発生し、この亀裂がICや
LSIの作動不良の原因となるといった問題が発生して
きている。
実装の小型化に伴い、面実装タイプのリードフレームや
チップサイズの大きなリードフレームなどにおいて、ア
ッセンブリー工程中の熱履歴等によって、封止樹脂とリ
ードフレームとの間に亀裂が発生し、この亀裂がICや
LSIの作動不良の原因となるといった問題が発生して
きている。
本願発明は前記課題を解決するためになされたもので、
シリコン素子に近い低熱膨張率を示すとともに、封止樹
脂との密着性も良好なリードフレーム用F e−N i
−Co合金を提供することを目的とする。
シリコン素子に近い低熱膨張率を示すとともに、封止樹
脂との密着性も良好なリードフレーム用F e−N i
−Co合金を提供することを目的とする。
「課題を解決するための手段」
本願発明は前記課題を解決するために、Ni 26〜
34% Co 8〜20% Mn1.0%以下 Si 0.5%以下 Be 0.01〜0.05 % Cu 5.0%以下 残部 Fe 及び不可避不純物 の組成を有するものである。
34% Co 8〜20% Mn1.0%以下 Si 0.5%以下 Be 0.01〜0.05 % Cu 5.0%以下 残部 Fe 及び不可避不純物 の組成を有するものである。
「作用」
reとNiとGoとMnとSiとCuを所定量含有する
低膨張率の合金に、Beを少量添加することで素材表面
にBe0層が生成され、このBe0層が封止樹脂との密
着性を向上させる。また、Fe−NiCo系の合金に添
加するBeの添加量が少量で済むので、合金の主成分は
低膨張率の合金であり、このため、リードフレーム用の
材料として好適な熱膨張率が確保される。
低膨張率の合金に、Beを少量添加することで素材表面
にBe0層が生成され、このBe0層が封止樹脂との密
着性を向上させる。また、Fe−NiCo系の合金に添
加するBeの添加量が少量で済むので、合金の主成分は
低膨張率の合金であり、このため、リードフレーム用の
材料として好適な熱膨張率が確保される。
以下に本願発明を更に詳細に説明する。
本願発明の合金においては、Niにッケル)を26〜3
4%、Co(コバルト)を8〜20%、Be(ベリリウ
ム)を0.O1〜0,05%、Si(ケイ素)を0.5
%以下、Mn(vンガン)を1.0%以下、Cu(銅)
を5.0%以下含有している。これらの組成において、
NiとCoとMnとSiの含有量は、本発明者らが先に
特願昭63−315647号明細書において特許出願し
ている高強度低膨張F e−N 1−Co合金およびそ
の製法において記載されている合金の組成に準じるもの
である。なお、本願発明の合金においては、不可避不純
物として、C(炭素)0.1%以下、S(イオウ)0.
1%以下、Al(アルミニウム)0.1%以下、Mg(
マグネシウム)0.1%以下、Ca(カルシウム)0.
1%以下を含んでいても差し支えない。
4%、Co(コバルト)を8〜20%、Be(ベリリウ
ム)を0.O1〜0,05%、Si(ケイ素)を0.5
%以下、Mn(vンガン)を1.0%以下、Cu(銅)
を5.0%以下含有している。これらの組成において、
NiとCoとMnとSiの含有量は、本発明者らが先に
特願昭63−315647号明細書において特許出願し
ている高強度低膨張F e−N 1−Co合金およびそ
の製法において記載されている合金の組成に準じるもの
である。なお、本願発明の合金においては、不可避不純
物として、C(炭素)0.1%以下、S(イオウ)0.
1%以下、Al(アルミニウム)0.1%以下、Mg(
マグネシウム)0.1%以下、Ca(カルシウム)0.
1%以下を含んでいても差し支えない。
前記組成において、Niの含有量を26〜34%以外に
、あるいは、Coの含有量を8〜20%以外にすると、
リードフレーム材料が適用されるシリコン素子等の熱膨
張率に適応した熱膨張率が得られなくなるために好まし
くない。また、Beの含有量を0.01%未満とすると
BeOの酸化膜が形成されず、封止樹脂との密着性が不
十分になるので好ましくない。なお、Be含有量が0.
05%を越えてもこれ以上の密着性の向上効果を生じな
い上に、高価なりeの添加により不必要にコストを上げ
るのでBe添加量は0.05%以下が好ましい。更に、
Siは脱酸剤として用いるが、含有mが0.5%を越え
ると合金を脆化させるので不都合であり、また、Mnは
鍛造性を向上させるとともに脱酸剤として用いるが、含
有量が1.0%を越えると曲げ性を悪化させるので好ま
しくない。
、あるいは、Coの含有量を8〜20%以外にすると、
リードフレーム材料が適用されるシリコン素子等の熱膨
張率に適応した熱膨張率が得られなくなるために好まし
くない。また、Beの含有量を0.01%未満とすると
BeOの酸化膜が形成されず、封止樹脂との密着性が不
十分になるので好ましくない。なお、Be含有量が0.
05%を越えてもこれ以上の密着性の向上効果を生じな
い上に、高価なりeの添加により不必要にコストを上げ
るのでBe添加量は0.05%以下が好ましい。更に、
Siは脱酸剤として用いるが、含有mが0.5%を越え
ると合金を脆化させるので不都合であり、また、Mnは
鍛造性を向上させるとともに脱酸剤として用いるが、含
有量が1.0%を越えると曲げ性を悪化させるので好ま
しくない。
また、Cu含有量が5.0%を越えると熱膨張が大きく
なりすぎるので不適当である。
なりすぎるので不適当である。
以下に前記組成の合金を製造する方法の一例について説
明する。
明する。
前記合金を製造するには、まず、前記の組成になるよう
に原材料を配合した後に、不純物の混入を避ける目的で
Arガスなどの雰囲気中で真空溶解を行って前記組成の
インゴットを得る。
に原材料を配合した後に、不純物の混入を避ける目的で
Arガスなどの雰囲気中で真空溶解を行って前記組成の
インゴットを得る。
次いでこのインゴットを1200〜1400℃で鍛造加
工し、目的の形状、例えば目的の板厚になるまで、好ま
しくは加工率70%以下で行う圧延加工と、5oo−t
too℃で行う焼鈍処理を繰り返し施す。そして、最終
圧延加工時に加工率を好ましくは50%以下程度に設定
し、最終圧延後に歪取焼鈍を目的として、300〜70
0℃の温度域において、好ましくは5時間以内時間で熱
処理を行い、所望の厚さの板材を得る。
工し、目的の形状、例えば目的の板厚になるまで、好ま
しくは加工率70%以下で行う圧延加工と、5oo−t
too℃で行う焼鈍処理を繰り返し施す。そして、最終
圧延加工時に加工率を好ましくは50%以下程度に設定
し、最終圧延後に歪取焼鈍を目的として、300〜70
0℃の温度域において、好ましくは5時間以内時間で熱
処理を行い、所望の厚さの板材を得る。
以上のように製造された合金は、Fe−N1−Co系の
低熱膨張率合金を主体として更にBeを少量添加してい
るので、シリコン素子の熱膨張率に近い熱膨張率を有し
、リードフレーム用材料として好適である。また、添加
されたBeの効果により素材表面にBe0層が生じ、こ
のBe0層が樹脂材との密着性を向上させるので、リー
ドフレームを構成して樹脂封止した場合、封止樹脂とリ
ードフレームの密着性が向上し、ICやLSIの作動不
良を防止できる効果がある。
低熱膨張率合金を主体として更にBeを少量添加してい
るので、シリコン素子の熱膨張率に近い熱膨張率を有し
、リードフレーム用材料として好適である。また、添加
されたBeの効果により素材表面にBe0層が生じ、こ
のBe0層が樹脂材との密着性を向上させるので、リー
ドフレームを構成して樹脂封止した場合、封止樹脂とリ
ードフレームの密着性が向上し、ICやLSIの作動不
良を防止できる効果がある。
「実施例」
以下に示す第1表の組成になるように各々原材料を配合
し、各配合物をArガスを含む80Torrの真空雰囲
気において溶解してインゴットを作成し、次いでこのイ
ンゴットに1200〜1400℃で熱間鍛造加工を施し
、次いで、加工率70%以下で行う圧延加工と800〜
1100℃に加熱後に徐冷する焼鈍処理とを繰り返し行
い、最終圧延加工を加工率50%以下で行って圧延加工
を終了し、次いで、600℃に1分間加熱する時効処理
を行って試料No1〜6のリードフレーム状の試験片を
得た。
し、各配合物をArガスを含む80Torrの真空雰囲
気において溶解してインゴットを作成し、次いでこのイ
ンゴットに1200〜1400℃で熱間鍛造加工を施し
、次いで、加工率70%以下で行う圧延加工と800〜
1100℃に加熱後に徐冷する焼鈍処理とを繰り返し行
い、最終圧延加工を加工率50%以下で行って圧延加工
を終了し、次いで、600℃に1分間加熱する時効処理
を行って試料No1〜6のリードフレーム状の試験片を
得た。
各試験片の平均熱膨張係数(30〜300℃、μ/μ。
・℃)を測定し、その結果を第2表に示す。
第1表
第2表
第2表に示すように、本願発明の合金試料N。
2〜No6は、低膨張合金として知られる従来合金の試
料Notと比較して同等の低熱膨張率を有している。
料Notと比較して同等の低熱膨張率を有している。
また、前記のように得られた合金試料No1〜No6に
ついて、樹脂密着性評価試験を行った。
ついて、樹脂密着性評価試験を行った。
樹脂密着性評価試験は、本発明品および比較品を100
本のピンが放射状に配列された構成のQF P (Q
uad F lat P ackage)のリードフレ
ームとして用い、素子の取り付けと配線を行って加工後
、低応力樹脂でパッケージし、封止した。次に、パッケ
ージに吸湿処理(85℃で湿度80%の環境に0〜32
時間放置する処理)を施し、続いてはんだ浸漬処理(2
40℃のはんだ浴に10秒間、3回ドブ付けする処理)
を行い、この後に超音波探傷装置による内部クラック観
察を行った。
本のピンが放射状に配列された構成のQF P (Q
uad F lat P ackage)のリードフレ
ームとして用い、素子の取り付けと配線を行って加工後
、低応力樹脂でパッケージし、封止した。次に、パッケ
ージに吸湿処理(85℃で湿度80%の環境に0〜32
時間放置する処理)を施し、続いてはんだ浸漬処理(2
40℃のはんだ浴に10秒間、3回ドブ付けする処理)
を行い、この後に超音波探傷装置による内部クラック観
察を行った。
第1図は、試験に用いたリードフレームの断面の概略構
造を示すもので、lはリードフレーム、2はICチップ
、3はICチップ2を設置したリードフレームのパッド
部、4はリード線、5はリードフレームlを囲む樹脂部
分に生じたクラックを示している。前記内部クラックと
は、樹脂とリードフレームlとの密着性不良により水分
が浸透し、ICチップ2を載せるリードフレームのパッ
ド部3の角からその周囲の封止樹脂にクラック5が入る
ことであり、このクラック5が封止樹脂に入ると封止樹
脂とともに封止したリード線4が断線してしまうことが
ある。
造を示すもので、lはリードフレーム、2はICチップ
、3はICチップ2を設置したリードフレームのパッド
部、4はリード線、5はリードフレームlを囲む樹脂部
分に生じたクラックを示している。前記内部クラックと
は、樹脂とリードフレームlとの密着性不良により水分
が浸透し、ICチップ2を載せるリードフレームのパッ
ド部3の角からその周囲の封止樹脂にクラック5が入る
ことであり、このクラック5が封止樹脂に入ると封止樹
脂とともに封止したリード線4が断線してしまうことが
ある。
前記超音波探傷装置によって内部クラックの観察を行っ
た皆果を以下の第3表に示す。第3表において、O印は
内部クラックが発生していないことを示し、X印は内部
クラックが発生したことを示している。
た皆果を以下の第3表に示す。第3表において、O印は
内部クラックが発生していないことを示し、X印は内部
クラックが発生したことを示している。
第3表
第3表において明らかなように、本願発明品の試料No
3〜No6は、いずれも4時間以下の吸湿処理の場合、
クラックの発生が見られないことが判明した。また、B
eの添加量を増加した本願発明品の試料No4,5.6
では、Be添加量の増加ととしにクラックの発生をより
良く抑制することができた。なおまた、Beの添加mを
o、oos%に設定した比較品の試料No2にあっては
、従来品の試料Nolと同様に4時間の吸湿処理でクラ
ック発生が見られ、Beの添加量が少ないことを示して
いる。また、Beの添加量を0.01%とした試料No
3は吸湿処理4時間でもクラックの発生が見られていな
い。このためBeの添加量は00O1%以上必要である
ことが明らかとなった。
3〜No6は、いずれも4時間以下の吸湿処理の場合、
クラックの発生が見られないことが判明した。また、B
eの添加量を増加した本願発明品の試料No4,5.6
では、Be添加量の増加ととしにクラックの発生をより
良く抑制することができた。なおまた、Beの添加mを
o、oos%に設定した比較品の試料No2にあっては
、従来品の試料Nolと同様に4時間の吸湿処理でクラ
ック発生が見られ、Beの添加量が少ないことを示して
いる。また、Beの添加量を0.01%とした試料No
3は吸湿処理4時間でもクラックの発生が見られていな
い。このためBeの添加量は00O1%以上必要である
ことが明らかとなった。
「発明の効果」
以上説明したように本願発明によれば、FeとNiとC
oとMnとSiとCuを所定量含有する低膨張率の合金
に、Beを少量添加したので、シリコン素子などに近い
熱膨張率を維持した上に、従来合金よりも樹脂密着性の
良好な合金を提供することができる。
oとMnとSiとCuを所定量含有する低膨張率の合金
に、Beを少量添加したので、シリコン素子などに近い
熱膨張率を維持した上に、従来合金よりも樹脂密着性の
良好な合金を提供することができる。
従って本願発明によれば、従来よりし優れたリードフレ
ーム用材料を提供することができる。また、本願発明の
合金は高価なりeの添加量が少量で済むので、低コスト
で得ることができる。
ーム用材料を提供することができる。また、本願発明の
合金は高価なりeの添加量が少量で済むので、低コスト
で得ることができる。
第1図はICチップとリードフレームの取付状態を示す
構成図である。 !・・・リードフレーム、2・・・ICチップ、ド部、
4・・・リード線、5・・・クラック。 3・・・パラ
構成図である。 !・・・リードフレーム、2・・・ICチップ、ド部、
4・・・リード線、5・・・クラック。 3・・・パラ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ni26〜34%(重量%、以下同じ) Co8〜20% Mn1.0%以下 Si0.5%以下 Be0.01〜0.05% Cu5.0%以下 残部Fe及び不可避不純物 の組成を有するリードフレーム用Fe−Ni−Co合金
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16458389A JPH0331450A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | リードフレーム用Fe―Ni―Co合金 |
| US07/450,038 US5084111A (en) | 1988-12-14 | 1989-12-13 | Fe-Ni alloy and method for treating ingot the same |
| US07/778,256 US5264052A (en) | 1988-12-14 | 1991-10-17 | Fe-Ni alloy and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16458389A JPH0331450A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | リードフレーム用Fe―Ni―Co合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0331450A true JPH0331450A (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=15795930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16458389A Pending JPH0331450A (ja) | 1988-12-14 | 1989-06-27 | リードフレーム用Fe―Ni―Co合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0331450A (ja) |
-
1989
- 1989-06-27 JP JP16458389A patent/JPH0331450A/ja active Pending
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