JPH0333711B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0333711B2
JPH0333711B2 JP1190286A JP19028689A JPH0333711B2 JP H0333711 B2 JPH0333711 B2 JP H0333711B2 JP 1190286 A JP1190286 A JP 1190286A JP 19028689 A JP19028689 A JP 19028689A JP H0333711 B2 JPH0333711 B2 JP H0333711B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
groups
acid
general formula
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1190286A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02160770A (en
Inventor
Hiroshi Sadaki
Hirokazu Narita
Hiroyuki Imaizumi
Yoshinori Konishi
Takihiro Inaba
Tatsuo Hirakawa
Hideo Taki
Masaru Tai
Yasuo Watanabe
Isamu Saikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyama Chemical Co Ltd
Original Assignee
Toyama Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyama Chemical Co Ltd filed Critical Toyama Chemical Co Ltd
Priority to JP1190286A priority Critical patent/JPH02160770A/en
Publication of JPH02160770A publication Critical patent/JPH02160770A/en
Publication of JPH0333711B2 publication Critical patent/JPH0333711B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、新規なオキサゾール化合物およびそ
の塩並びにその誘導体、さらに詳しくは、次の一
般式 「式中、R1は、水素原子またはヒドロキシル
保護基を、R2は、保護もしくは置換されていて
もよいアミノ基を、R3は、水素原子またはハロ
ゲン原子を、は、シンまたはアンチ異性体でも
よいし、それらの混合物でもよいことを示す。」 で表わされる新規なオキサゾール化合物およびそ
の塩並びにその誘導体に関する。 [従来技術] 本発明者らは、既に、一般式 「式中、R1,R2,R3およびは、前記と同じ
意味を有し、R4は、水素原子またはアルコキシ
基を、R5は、水素原子またはカルボキシル保護
基を、R6は、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基または式−CH2R7(式中、R7
は、置換基を有するかもしくは有しない芳香族炭
化水素基、アシルアミノ基、複素環式基または酸
素もしくは硫黄原子を介して結合する有機基、ま
たは第四級アンモニウム基を示す。)で表わされ
る基を、Zは、SまたはS→Oを示し、セ
フエム環中の点線は、2〜3位間または3〜4位
間が二重結合であることを意味する。」 で表わされるセフアロスポリン類およびその塩が
抗菌剤として極めて有用な化合物であることを見
出し、特許出願した(特開昭58−8087号)。 [本発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、優れた抗菌スペククトルを有
する一般式[]のセフアロスポリン類またはそ
の塩の有用な中間体である一般式[]の新規な
化合物を提供することにある。 [課題を解決するための手段] 本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究
を重ねた結果、一般式[]の化合物またはその
塩もしくはその誘導体を、たとえば、一般式 「式中、R4,R5,R6,Zおよびセフエム環
中の点線は、前記と同じ意味を有する。」 の化合物と反応させることによつて、はじめて一
般式[]のセフアロスポリン類またはその塩が
高収率にかつ容易に得られることを見出し、本発
明を完成するに至つたものである。 以下、本発明を詳細に説明する。 一般式[]におけるR1のヒドロキシル保護
基としては、当該分野で知られた保護基が挙げら
れ、たとえば、置換基を有するかもしくは有しな
いアルキル基;ベンジルオキシカルボニル、4−
ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ブロモベ
ンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジル
オキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、4−(フエニルアゾ)ベンジ
ルオキシカルボニル、4−(4−メトキシフエニ
ルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、tert−ブト
キシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ジフエニ
ルメトキシカルボニル、2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニル、2,2,2−トリブロモエ
トキシカルボニル、2−フルフリルオキシカルボ
ニル、1−アダマンチルオキシカルボニル、1−
シクロプロピルエトキシカルボニル、3−キノリ
ルオキシカルボニル、アセチルまたはトリフルオ
ロアセチルなどの脱離しやすいアシル基およびベ
ンジル、トリチル、メトキシメチル、2−ニトロ
フエニルチオ、2,4−ジニトロフエニルチオ基
などが挙げられる。 置換基を有するかもしくは有しないアルキル基
において、そのアルキル基としては、メチル、エ
チル、プロピル、ブチルなどが挙げられる。さら
に、その置換基としては、たとえば、ハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、
アルコキシ基、カルボキシル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、スルフアモイル
基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルア
ミノ基などが挙げられる。これらのヒドロキシル
基、アミノ基またはカルボキシル基は、さらに、
前述のR1並びに後述のR2およびR5のところで説
明する保護基で保護されていてもよい。 また、一般式[]におけるR2の保護もしく
は置換されていてもよいアミノ基における保護基
としては、通常アミノ保護基として使用し得るす
べての基を含み、たとえば、トリクロロエトキシ
カルボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、p−トルエンスルホニ
ル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、o−
ブロモベンジルオキシカルボニル、o−ニトロフ
エニルスルフエニル、(モノ−、ジ−、トリ−)
クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミ
ル、tert−アミルオキシカルボニル、tert−ブト
キシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカ
ルボニル、4−(フエニルアゾ)ベンジルオキシ
カルボニル、4−(4−メトキシフエニルアゾ)
ベンジルオキシカルボニル、ピリジン−1−オキ
サイド−2−イル−メトキシカルボニル、2−フ
リルオキシカルボニル、ジフエニルメトキシカル
ボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、1−シクロプロ
ピルエトキシカルボニル、フタロイル、サクシニ
ル、1−アダマンチルオキシカルボニル、8−キ
ノリルオキシカルボニルなどの脱離しやすいアシ
ル基;トリチル、2−ニトロフエニルチオ、2,
4−ジニトロフエニルチオ、2−ヒドロキシベン
ジリデン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンジリ
デン、2−ヒドロキシ−1−ナフチルメチレン、
3−ヒドキシ−4−ピリジルメチレン、1−メト
キシカルボニル−2−プロピリデン、1−エトキ
シカルボニル−2−プロピリデン、3−エトキシ
カルボニル−2−ブチリデン、1−アセチル−2
−プロピリデン、1−ベンゾイル−2−プロピリ
デン、1−[N−(2−メトキシフエニル)カルバ
モイル]−2−プロピリデン、1−[N−(4−メ
トキシフエニル)カルバモイル]−2−プロピリ
デン、2−エトキシカルボニルシクロヘキシリデ
ン、2−エトキシカルボニルシクロペンチリデ
ン、2−アセチルシクロヘキシリデン、3,3−
ジメチル−5−オキソシクロヘキシリデンなどの
脱離しやすい基;ジ−もしくはトリ−アルキルシ
リルなどのシリル基などの基が挙げられ、アミノ
基の置換基としては、たとえば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、
イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペン
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシル
などの直鎖および分枝鎖アルキル基;アリルなど
のアルケニル基;シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチルなどのシクロアルキル基;フエニル、ナフ
チルなどのアリール基;ベンジル、フエネチル、
4−メチルベンジル、ナフチルメチルなどのアル
アルキル基;フリル、チエニル、ベンゾフリル、
ベンゾチエニル、クマリニル、トリアゾリル、テ
トラゾリル、ピリドン−2−イル、ピリドン−3
−イルなどの酸素、窒素および硫黄から選択され
た少なくとも1個のヘテロ原子を含む複素環式
基;チエニルメチル、フリルメチルなどの複素環
アルキル基などが挙げられ、アミノ基はこれらの
一種以上の置換基で置換されていてもよい。これ
らの保護基および置換基は、さらに、たとえば、
ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、オキソ基、チオキソ基、
アルキルチオ基、アシルアミノ基、アシル基、ア
シルオキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル
基、カルバモイル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、カルボキシアルキル基、ア
ルコキシカルボニル基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基、アミノアルキル基、N−アルキルアミノア
ルキル基、スルホアルキル基、スルホ基、スルフ
アモイル基、カルバモイルアルキル基、アリール
基またはフリル、チエニルなどの複素環式基など
の一種以上の置換基で置換されていてもよい。こ
こにおいて置換基として、ヒドロキシル基、アミ
ノ基およびカルボキシル基はさらに通常用いられ
る適当な保護基で保護されていてもよく、ヒドロ
キシル基またはアミノ基の保護基としては、上記
で説明したヒドロキシル基またはアミノ基の保護
基が挙げられ、カルボキシル基の保護基として
は、後述のR5のところで説明する従来ペニシリ
ンおよびセフアロスポリン系化合物の分野で通常
使用されているものが挙げられる。 また、一般式[]および[]の
The present invention provides novel oxazole compounds, salts thereof, and derivatives thereof, more specifically, the following general formula: "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group, R 2 is an optionally protected or substituted amino group, R 3 is a hydrogen atom or a halogen atom, and is a syn or anti isomer. The present invention relates to a novel oxazole compound, a salt thereof, and a derivative thereof. [Prior Art] The present inventors have already developed the general formula "In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and have the same meanings as above, R 4 is a hydrogen atom or an alkoxy group, R 5 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 6 is Hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkoxy group or the formula -CH 2 R 7 (wherein R 7
represents an aromatic hydrocarbon group with or without a substituent, an acylamino group, a heterocyclic group, an organic group bonded via an oxygen or sulfur atom, or a quaternary ammonium group. ), Z represents S or S→O, and the dotted line in the cefem ring means that a double bond exists between the 2nd and 3rd positions or between the 3rd and 4th positions. We discovered that cephalosporins and their salts represented by the following formula are extremely useful compounds as antibacterial agents, and filed a patent application (Japanese Unexamined Patent Publication No. 8087/1987). [Problems to be Solved by the Present Invention] An object of the present invention is to provide a novel compound of the general formula [] that has an excellent antibacterial spectrum and is a useful intermediate for cephalosporins of the general formula [] or a salt thereof. There is a particular thing. [Means for Solving the Problems] As a result of intensive research to achieve the above object, the present inventors have found that a compound of the general formula [ ] or a salt thereof or a derivative thereof, for example, a compound of the general formula Cephalosporins of the general formula [ ] or their The inventors discovered that the salt can be easily obtained in high yield, leading to the completion of the present invention. The present invention will be explained in detail below. The hydroxyl protecting group for R 1 in the general formula [ ] includes protecting groups known in the art, such as alkyl groups with or without substituents; benzyloxycarbonyl, 4-
Nitrobenzyloxycarbonyl, 4-bromobenzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-(phenylazo)benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxyphenylazo)benzyloxycarbonyl , tert-butoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2,2,2-tribromoethoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl , 1-adamantyloxycarbonyl, 1-
Easily eliminated acyl groups such as cyclopropylethoxycarbonyl, 3-quinolyloxycarbonyl, acetyl or trifluoroacetyl, and benzyl, trityl, methoxymethyl, 2-nitrophenylthio, 2,4-dinitrophenylthio groups, etc. Can be mentioned. Examples of the alkyl group with or without a substituent include methyl, ethyl, propyl, butyl, and the like. Furthermore, the substituents include, for example, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group,
Examples include an alkoxy group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfamoyl group, an amino group, an alkylamino group, and a dialkylamino group. These hydroxyl groups, amino groups or carboxyl groups further include
It may be protected with the protecting groups described in R 1 above and R 2 and R 5 below. In addition, the protecting group for the optionally substituted or protected amino group of R 2 in the general formula [ ] includes all groups that can be normally used as amino protecting groups, such as trichloroethoxycarbonyl, tribromoethoxycarbonyl , benzyloxycarbonyl, p-toluenesulfonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-
Bromobenzyloxycarbonyl, o-nitrophenylsulfenyl, (mono-, di-, tri-)
Chloroacetyl, trifluoroacetyl, formyl, tert-amyloxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-(phenylazo)benzyloxycarbonyl, 4-(4- methoxyphenylazo)
Benzyloxycarbonyl, pyridin-1-oxide-2-yl-methoxycarbonyl, 2-furyloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, phthaloyl, succinyl , 1-adamantyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl and other easily eliminated acyl groups; trityl, 2-nitrophenylthio, 2,
4-dinitrophenylthio, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5-chlorobenzylidene, 2-hydroxy-1-naphthylmethylene,
3-Hydoxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 3-ethoxycarbonyl-2-butylidene, 1-acetyl-2
-Propylidene, 1-benzoyl-2-propylidene, 1-[N-(2-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 1-[N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 2 -Ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclopentylidene, 2-acetylcyclohexylidene, 3,3-
Groups that are easily eliminated such as dimethyl-5-oxocyclohexylidene; silyl groups such as di- or tri-alkylsilyl; substituents for amino groups include, for example, methyl, ethyl, n-propyl, etc. , isopropyl, n-butyl,
Straight and branched alkyl groups such as isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, dodecyl; alkenyl groups such as allyl; cyclo such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl Alkyl group; Aryl group such as phenyl, naphthyl; benzyl, phenethyl,
Aralkyl groups such as 4-methylbenzyl and naphthylmethyl; furyl, thienyl, benzofuryl,
Benzothienyl, coumarinyl, triazolyl, tetrazolyl, pyridon-2-yl, pyridon-3
Examples include heterocyclic groups containing at least one heteroatom selected from oxygen, nitrogen and sulfur such as -yl; heterocyclic alkyl groups such as thienylmethyl and furylmethyl; It may be substituted with a substituent. These protecting groups and substituents may further include, for example:
Halogen atom, alkyl group, nitro group, hydroxyl group, alkoxy group, oxo group, thioxo group,
Alkylthio group, acylamino group, acyl group, acyloxy group, aryloxy group, carboxyl group, carbamoyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, carboxyalkyl group, alkoxycarbonyl group, amino group, alkylamino group, aminoalkyl group, N - It may be substituted with one or more substituents such as an alkylaminoalkyl group, a sulfoalkyl group, a sulfo group, a sulfamoyl group, a carbamoylalkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group such as furyl or thienyl. As substituents, the hydroxyl group, amino group and carboxyl group may be further protected with a commonly used suitable protecting group, and the protecting group for the hydroxyl group or amino group is the hydroxyl group or amino group explained above. Examples of the protecting group for carboxyl groups include those conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds, which will be explained in the section R5 below. Also, the general formulas [] and []

【式】で表わされるオキシム体には、シン 体およびアンチ体が考えられ、本発明は、その両
異性体およびその混合物を包含する。 一般式[〕および[]の
The oxime represented by the formula can include syn and anti isomers, and the present invention includes both isomers and mixtures thereof. General formulas [] and []

【式】 基においては、つぎの平衡式で示されるように互
変異性体が存在するが、本発明にはその互変異性
体も包含される。 「式中、R2およびR3は、前記と同様の意味を
有し、R2aはR2に対応するイミノ基を意味する。」 一般式[]および[]の化合物の塩類とし
ては、ペニシリンおよびセフアロスポリンの分野
で通常知られている塩基性基または酸性基におけ
る塩を挙げることができる。 塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸
または硫酸などの鉱酸との塩;シユウ酸、コハク
酸、ギ酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢
酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホン
酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ト
ルエン−2−スルホン酸、トルエン−4−スルホ
ン酸、メシチレンスルホン酸(2,4,6−トリ
メチルスルホン酸)、ナフタレン−1−スルホン
酸、ナフタレン−2−スルホン酸、フエニルメタ
ンスルホン酸、ベンゼン−1,3−ジ−ジスルホ
ン酸、トルエン−3,5−ジスルホン酸、ナフタ
レン−1,5−ジスルホン酸、ナフタレン−2,
6−ジスルホン酸、ナフタレン−2,7−ジスル
ホン酸、ベンゼン−1,3,5−トリスルホン
酸、ベンゼン−1,2,4−トリスルホン酸、ナ
フタレン−1,3,5−トリスルホン酸などのス
ルホン酸との塩を、また酸性基における塩として
は、たとえば、ナトリウムまたはカリウムなどの
アルカリ金属との塩;カルシウムまたはマグネシ
ウムなどのアルカリ土類金属との塩;アンモニウ
ム塩;プロカイン、ジベンジルアミン、N−ベン
ジル−β−フエネチルアミン、1−エフエナミ
ン、N,N−ジベンジルエチレンジアミンなどの
含窒素有機塩基との塩またはトリエチルアミン、
トリメチルアミン、トリブチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、
N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシク
ロヘキシルアミンなどの他の含窒素有機塩基との
基を挙げることができる。 また、本発明の一般式[]の化合物の誘導体
としては、後述するR5のところで説明するカル
ボキシル保護基でカルボキシル基が保護されたも
のおよびアシル化、エステル化などによく用いら
れる反応性誘導体が挙げられ、具体的には、酸ハ
ロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸ア
ミド、活性エステル並びに一般式[]の化合物
のビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙
げられる。 具体的には、混合酸無水物としては、たとえ
ば、炭酸モノエチルエステル、炭酸モノイソブチ
ルエステルなどの炭酸モノエステルとの混合酸無
水物やピバリン酸やトリクロロ酢酸などのハロゲ
ンで置換されていてもよい低級アルカン酸との混
合酸無水物などが挙げられる。また、活性酸アミ
ドとしては、たとえば、N−アシルサツカリン、
N−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾイル
アミド、N,N′−ジシクロヘキシル−N−アシ
ル尿素、N−アシルスルホンアミドなどが挙げら
れる。 また、活性エステルとしては、たとえば、シア
ノメチルエステル、置換フエニルエステル、置換
ベンジルエステル、置換チエニルエステルなどが
挙げられる。 さらに、一般式[]の化合物のビルスマイヤ
ー試薬との反応性誘導体としては、一般式[]
の化合物と、ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲ
ン、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、オ
キソ塩化リン、オキシ臭化リン、五塩化リン、ト
リクロロメチル=クロロホルマート、塩化オキサ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られるビ
ルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げら
れる。 つぎに、一般式[]の化合物の製造法につい
て説明する。この化合物は、下に示す製造法に従
つて製造することができる。 「式中、R1,R2,R3,R5およびは、前記と
同じ意味を有し、R1aは、R1と同様のヒドロキシ
ル保護基を、R11は、ハロゲン原子を示す。」 R5におけるカルボキシル保護基としては、従来
ペニシリンおよびセフアロスポリン系化合物の分
野で通常使用されているものが挙げられる。これ
らのカルボキシル保護基としては、接触還元、化
学的還元またはその他の緩和な条件下で処理すれ
ば脱離する性質を有するエステル形成基、または
生体内において容易に脱離するエステル形成基、
または水もしくはアルコールで処理すれば容易に
脱離する性質を有する有機シリル基、有機リン基
もしくは有機スズ基など、その他の種々の公知エ
ステル形成基が挙げられる。 この種の保護基のうち好適な保護基としては、
具体的に次のものが挙げられる。 (イ) アルキル基;特にメチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチルおよびペンチル
のような直鎖もしくは分枝鎖C1 - 14のアルキル
基。 (ロ) 置換基の少なくとも1つがクロロ、ブロモ、
フルオロ、ニトロ、カルボアルコキシ、アシ
ル、アルキル、アルコキシ、オキソ、シアノ、
アルキルメルカプト、アルキルスルフイニル、
アルキルスルホニル、アルコキシカルボニル、
1−インダニル、2−インダニル、フリル、ピ
リジル、4−イミダゾリル、サクシイミド、フ
タルイミド、アセチジノ、アジリジノ、ピロリ
ジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリ
ノ、N.低級アルキルピペラジノ、2,5−ジ
メチルピロリジノ、1,4,5,6−テトラヒ
ドロピリミジニル、4−メチルピペリジノ、
2,6−ジメチルピペリジノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、アシルオキシ、アシル
アミノ、ジアルキルアミノカルボニル、アルコ
キシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル
オキシまたはアルキルアニリノまたはクロロ、
ブロモ、低級アルキルもしくは低級アルコキシ
で置換されたアルキルアニリノである置換低級
アルキル基。 (ハ) 3乃至7炭素原子からなるシクロアルキルま
たは低級アルキル置換シクロアルキルまたは
[2,2−ジ低級アルキル−1,3−ジオキソ
ラン−4−イル]メチル基。 (ニ) 10炭素原子までを有するアルケニル基。 (ホ) 10炭素原子までを有するアルキニル基。 (ヘ) フエニル基または置換基が少なくとも1つの
前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置
換基である置換フエニル、または式 「式中、Xは、−CH=CH−O−,,−CH=CH
−S−,−CH2CH2S−,−CH=N−CH=N
−,−CH=CH−CH=CH−,−CO−CH=CH
−CO−もしくは−CO−CO−CH=CH−であ
る。」 で示される基もしくはその置換誘導体(置換
基は前記(ロ)で例示したものより任意に選ばれ
る)、または式 「式中、Yは、−(CH23−、−(CH24−のよう
な低級アルキレン基である。」 で示される基もしくはその置換誘導体(置換
基は前記(ロ)で例示したものより任意に選ばれ
る)のようなアリール基。 (ト) ベンジルまたは置換基が少なくとも1つの前
記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置換
基である置換ベンジルのようなアルアルキル
基。 (チ) フリル、キノリン、メチル置換キノリル、フ
エナジニル、1,3−ベンゾジオキソラニル、
3−(2−メチル−4−ピロリニル)、3−(4
ピロリニル)もしくはN−メチルピリジルのよ
うな複素環式基または置換基が少なくとも1つ
の前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた
置換基である置換された複素環式基。 (リ) 脂環インダニルまたはフタリジルおよび置換
基が、メチル、クロロ、ブロモもしくはフルオ
ロであるそれらの置換誘導体、脂環テトラヒド
ロナフチルおよび置換基がメチル、クロロ、ブ
ロモしくはフルオロであるその置換誘導体、ト
リチル、コレステリル、ビシクロ[4,4,
0]デシルなど。 上で例示したカルボキシル保護基は代表例であ
り、またつぎの文献に記載されている保護基を任
意に選択することができる。 米国特許第3499909号、3573296号および
3641018号;西独特許公開公報2301014号、
2253287号および2337105号。 また、とりわけ好ましいカルボキシル保護基と
しては、アシルオキシメチル基、アシルオキシ−
置換−メチル基または次式で表わされるような生
体内で容易に脱離されるカルボキシル保護基が挙
げられる。
[Formula] In the group, tautomers exist as shown in the following balanced formula, and the present invention also includes these tautomers. "In the formula, R 2 and R 3 have the same meanings as above, and R 2a means an imino group corresponding to R 2. " and salts with basic or acidic groups commonly known in the field of cephalosporins. Salts on basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid or sulfuric acid; salts with organic carboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, formic acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid. acid, benzenesulfonic acid, toluene-2-sulfonic acid, toluene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid (2,4,6-trimethylsulfonic acid), naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene-2-sulfonic acid, enylmethanesulfonic acid, benzene-1,3-di-disulfonic acid, toluene-3,5-disulfonic acid, naphthalene-1,5-disulfonic acid, naphthalene-2,
6-disulfonic acid, naphthalene-2,7-disulfonic acid, benzene-1,3,5-trisulfonic acid, benzene-1,2,4-trisulfonic acid, naphthalene-1,3,5-trisulfonic acid, etc. and salts with acidic groups such as salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; ammonium salts; procaine, dibenzylamine; , N-benzyl-β-phenethylamine, 1-ephenamine, salts with nitrogen-containing organic bases such as N,N-dibenzylethylenediamine, or triethylamine,
Trimethylamine, tributylamine, pyridine, dimethylaniline, N-methylpiperidine,
Mention may be made of groups with other nitrogen-containing organic bases such as N-methylmorpholine, diethylamine, dicyclohexylamine. In addition, as derivatives of the compound of the general formula [] of the present invention, there are those whose carboxyl group is protected with a carboxyl protecting group as explained in R 5 below, and reactive derivatives that are often used for acylation, esterification, etc. Specific examples thereof include acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, active acid amides, active esters, and reactive derivatives of compounds of the general formula [] with the Vilsmeier reagent. Specifically, the mixed acid anhydride may be, for example, a mixed acid anhydride with a carbonic acid monoester such as carbonic acid monoethyl ester or carbonic acid monoisobutyl ester, or may be substituted with a halogen such as pivalic acid or trichloroacetic acid. Examples include mixed acid anhydrides with lower alkanoic acids. In addition, examples of the active acid amide include N-acylsactucalin,
Examples include N-acylimidazole, N-acylbenzoylamide, N,N'-dicyclohexyl-N-acylurea, and N-acylsulfonamide. Examples of the active ester include cyanomethyl ester, substituted phenyl ester, substituted benzyl ester, and substituted thienyl ester. Furthermore, as the reactive derivative with the Vilsmeier reagent of the compound of the general formula [], the compound of the general formula []
and acid amides such as dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, phosgene, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxochloride, phosphorus oxybromide, phosphorus pentachloride, trichloromethyl chloro Examples include derivatives reactive with Vilsmeier's reagent obtained by the action of a halogenating agent such as formate and oxalyl chloride. Next, a method for producing the compound of general formula [] will be explained. This compound can be manufactured according to the manufacturing method shown below. "In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 5 and have the same meanings as above, R 1a represents the same hydroxyl protecting group as R 1 , and R 11 represents a halogen atom." Examples of the carboxyl protecting group for R 5 include those conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds. These carboxyl protecting groups include ester-forming groups that have the property of being eliminated by treatment under catalytic reduction, chemical reduction or other mild conditions, or ester-forming groups that are easily eliminated in vivo;
Alternatively, various other known ester-forming groups may be mentioned, such as an organic silyl group, an organic phosphorus group, or an organic tin group, which have the property of being easily eliminated by treatment with water or alcohol. Among these types of protecting groups, suitable protecting groups include:
Specifically, the following can be mentioned. (i) Alkyl groups; especially straight-chain or branched C1-14 alkyl groups such as methyl, ethyl, n - propyl, isopropyl, n - butyl, sec-butyl, isobutyl, tert-butyl and pentyl. (b) At least one of the substituents is chloro, bromo,
Fluoro, nitro, carbalkoxy, acyl, alkyl, alkoxy, oxo, cyano,
Alkyl mercapto, alkyl sulfinyl,
Alkylsulfonyl, alkoxycarbonyl,
1-indanyl, 2-indanyl, furyl, pyridyl, 4-imidazolyl, succiimide, phthalimide, acetidino, aziridino, pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino, N. lower alkylpiperazino, 2,5-dimethylpyrrolidino, 1 , 4,5,6-tetrahydropyrimidinyl, 4-methylpiperidino,
2,6-dimethylpiperidino, alkylamino, dialkylamino, acyloxy, acylamino, dialkylaminocarbonyl, alkoxycarbonylamino, alkoxycarbonyloxy or alkylanilino or chloro,
A substituted lower alkyl group that is alkylanilino substituted with bromo, lower alkyl or lower alkoxy. (c) Cycloalkyl or lower alkyl-substituted cycloalkyl or [2,2-dilower alkyl-1,3-dioxolan-4-yl]methyl group consisting of 3 to 7 carbon atoms. (d) Alkenyl groups having up to 10 carbon atoms. (e) Alkynyl groups having up to 10 carbon atoms. (f) A substituted phenyl group or a substituent in which the phenyl group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above, or a substituted phenyl group of the formula "In the formula, X is -CH=CH-O-,, -CH=CH
−S−, −CH 2 CH 2 S−, −CH=N−CH=N
−, −CH=CH−CH=CH−, −CO−CH=CH
-CO- or -CO-CO-CH=CH-. '' or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from those exemplified in (b) above), or a group represented by the formula A group represented by "In the formula, Y is a lower alkylene group such as -(CH 2 ) 3 - or -(CH 2 ) 4 -" or a substituted derivative thereof (the substituents are exemplified in (b) above) an aryl group such as (g) An aralkyl group such as benzyl or a substituted benzyl in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (H) Furyl, quinoline, methyl-substituted quinolyl, phenazinyl, 1,3-benzodioxolanyl,
3-(2-methyl-4-pyrrolinyl), 3-(4
pyrrolinyl) or N-methylpyridyl, or a substituted heterocyclic group in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (li) Alicyclic indanyl or phthalidyl and substituted derivatives thereof in which the substituent is methyl, chloro, bromo or fluoro, alicyclic tetrahydronaphthyl and substituted derivatives thereof in which the substituent is methyl, chloro, bromo or fluoro, trityl; , cholesteryl, bicyclo[4,4,
0] Decyl etc. The carboxyl protecting groups exemplified above are representative examples, and protecting groups described in the following documents can be arbitrarily selected. U.S. Patent Nos. 3,499,909, 3,573,296 and
No. 3641018; West German Patent Publication No. 2301014,
Nos. 2253287 and 2337105. Particularly preferred carboxyl protecting groups include acyloxymethyl group, acyloxy-
Examples include a substituted methyl group or a carboxyl protecting group that is easily eliminated in vivo as represented by the following formula.

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】 「式中、R8は、公知の置換基を有するかもし
くは有しない直鎖もしくは分枝鎖アルキル、アル
ケニル、アリール、アルアルキル、脂環式または
複素環式基を、R9は、水素原子またはアルキル
基を、R10は、水素原子、ハロゲン原子または公
知の置換基を有するかもしくは有しないアルキ
ル、シクロアルキル、アリールまたは複素環式基
または−(CH2oCOOR8(ただし、R8は、前記し
た意味を、nは、0,1または2を示す)を、m
は、0,1または2を意味する。」 たとえば、アセトキシメチル、ピバロイルオキ
シメチル基などのアシルオキシメチル基、1−ア
セトキシ−エチル、1−アセトキシ−n−プロピ
ル、1−ピバロイルオキシ−エチル、1−ピバロ
イルオキシ−n−プロピル基などのアシルオキシ
−置換アルキル基、メトキシメチル、エトキシメ
チル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル
基などのアルコキシメチル基、メトキシカルボニ
ルオキシメチル、エトキシカルボニルオキシメチ
ル基などのアルコキシカルボニルオキシメチル
基、1−メトキシカルボニルオキシ−エチル、1
−エトキシカルボニルオキシ−エチル基などのア
ルコキシカルボニルオキシ−置換−アルキル基、
メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニル
メチル基などのアルコキシカルボニルメチル基な
どが挙げられる。 (1) 一般式[]の化合物の製造 ジヤーナル.オブ.メデイシナル.ケミストリ
ー(Journal of Medicinal Chemistry)、第16
巻、第9号、第978〜984頁(1973年)記載の方法
によつて得られる一般式[]の化合物に通常の
アルキル化またはアシル化などを行うことによつ
て、一般式[]の化合物を得ることができる。
また、この化合物は、日本化学雑誌、第78巻、第
9号、第1254〜1256頁(1957年)など記載の方法
によつて得られる一般式[]の化合物を通常の
ハロゲン化を行うことによつて得ることができ
る。 (2) 一般式[]の化合物に製造 []の尿素類を反応させることによつて、一
般式[]の化合物を得ることができる。 この閉環反応は、通常、溶媒中、一般式[]
または[]の化合物に対し、1〜数当量の尿
素類が用いられる。 使用される溶媒としては、たとえば、水、メタ
ノール、エタノール、アセトン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピリドンなどの一種または二種以上の混合溶媒が
挙げられ、好ましくは、N,N−ジメチルホルム
アミドが挙げられる。また、反応時間は、1〜48
時間、好ましくは、1〜10時間である。 このようにして得られた一般式[]の化合物
は、この段階で常法にて保護基の導入あるいは脱
離を行うこともできる。ここにおいて保護基と
は、R1およびR2のところで説明したアミノ基の
保護基およびヒドロキシル保護基が挙げられる。 (3) 一般式[]の化合物の製造 一般式[]の化合物をハロゲン化することに
よつて、一般式[]の化合物を得ることができ
る。 (4) 一般式[]の化合物の製造 一般式[]の化合物を、通常の加水分解反応
に付すことによつて、一般式[]の化合物を得
ることができる。 また、常法によつて、一般式[]の化合物の
塩またはその誘導体に誘導することができる。 [実施例] つぎに、本発明を実施例および参考例を挙げて
説明するが、本発明は、これに限定されるもので
はない。 実施例 1 (1) 4−ブロモ−3−オキソ−2メトキシイミノ
酪酸メチル120gをN,N−ジメチルホルムア
ミド700mlに溶解させ、尿素151gを加えて室温
で48時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶
媒を留去し、残留物を水500ml、ジエチルエー
テル500mlの混合溶媒中に導入する。ついで、
水層を分取し、酢酸エチル700mlを加え、炭酸
水素ナトリウムでPH7.0に調整し、有機層を分
取する。水400mlで洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。
残留物をイソプロピルアルコールで洗浄し、
取すれば、融点148〜150℃(分解)を示す2−
(2−アミノオキサゾール−4−イル)−2−
(シン)−メトキシイミノ酢酸メチル35.2g(収
率35.1%)を得る。 IR(KBr)cm-1;νc=01735 NMR(d6−DMSO)ppm値; 3.82(3H;S;−COOCH3), 3.90(3H;S;=N−OCH3), 6.40(2H;bs;−NH2), 7.36(1H;S;
[Formula] "In the formula, R 8 is a straight chain or branched alkyl, alkenyl, aryl, aralkyl, alicyclic or heterocyclic group with or without a known substituent, and R 9 is A hydrogen atom or an alkyl group, R 10 is a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl, cycloalkyl, aryl, or heterocyclic group with or without a known substituent, or -(CH 2 ) o COOR 8 (however, R 8 has the above meaning, n indicates 0, 1 or 2), m
means 0, 1 or 2. For example, acyloxymethyl groups such as acetoxymethyl and pivaloyloxymethyl groups; Substituted alkyl groups, alkoxymethyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl and isopropoxymethyl groups, alkoxycarbonyloxymethyl groups such as methoxycarbonyloxymethyl and ethoxycarbonyloxymethyl groups, 1-methoxycarbonyloxy-ethyl, 1
-alkoxycarbonyloxy-substituted-alkyl groups, such as -ethoxycarbonyloxy-ethyl groups,
Examples include alkoxycarbonylmethyl groups such as methoxycarbonylmethyl and ethoxycarbonylmethyl groups. (1) Production of compound of general formula [] Journal. of. Medicinal. Journal of Medicinal Chemistry, No. 16
Volume, No. 9, pp. 978-984 (1973), the compound of the general formula [] is subjected to conventional alkylation or acylation to form a compound of the general formula []. compound can be obtained.
In addition, this compound can be obtained by subjecting a compound of the general formula [] obtained by the method described in Nippon Kagaku Zasshi, Vol. 78, No. 9, pp. 1254-1256 (1957), etc., to ordinary halogenation. It can be obtained by (2) The compound of the general formula [] can be obtained by reacting the compound of the general formula [] with the urea of the production []. This ring-closing reaction is usually carried out in a solvent using the general formula []
Or, one to several equivalents of ureas are used with respect to the compound [ ]. Examples of the solvent used include one or a mixture of two or more of water, methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methylpyridone. Preferably, N,N-dimethylformamide is used. In addition, the reaction time is 1 to 48
time, preferably 1 to 10 hours. At this stage, a protecting group can be introduced into or removed from the thus obtained compound of the general formula [] by a conventional method. Here, the protecting group includes the amino group protecting group and the hydroxyl protecting group explained in R 1 and R 2 . (3) Production of compound of general formula [] By halogenating the compound of general formula [], the compound of general formula [] can be obtained. (4) Production of compound of general formula [] A compound of general formula [] can be obtained by subjecting the compound of general formula [] to a usual hydrolysis reaction. Further, the compound of the general formula [] can be derived into a salt or a derivative thereof by a conventional method. [Examples] Next, the present invention will be described with reference to Examples and Reference Examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 (1) 120 g of methyl 4-bromo-3-oxo-2methoxyiminobutyrate is dissolved in 700 ml of N,N-dimethylformamide, 151 g of urea is added, and the mixture is reacted at room temperature for 48 hours. After the reaction is completed, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the residue is introduced into a mixed solvent of 500 ml of water and 500 ml of diethyl ether. Then,
Separate the aqueous layer, add 700 ml of ethyl acetate, adjust the pH to 7.0 with sodium hydrogen carbonate, and separate the organic layer. After washing with 400 ml of water, drying over anhydrous magnesium sulfate, and evaporating the solvent under reduced pressure.
Wash the residue with isopropyl alcohol and
If taken, 2- exhibiting a melting point of 148-150℃ (decomposition)
(2-aminoxazol-4-yl)-2-
35.2 g (yield 35.1%) of methyl (syn)-methoxyiminoacetate is obtained. IR (KBr) cm -1 ; ν c=0 1735 NMR (d 6 -DMSO) ppm value; 3.82 (3H; S; -COOCH 3 ), 3.90 (3H; S; = N - OCH 3 ), 6.40 (2H ;bs; −NH2 ), 7.36(1H;S;

【式】)【formula】)

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 「式中、R1は、水素原子またはヒドロキシル
保護基を、R2は、保護もしくは置換されていて
もよいアミノ基を、R3は、水素原子またはハロ
ゲン原子を、は、シンまたはアンチ異性体でも
よいし、それらの混合物でもよいことを示す。」 で表わされるオキサゾール化合物およびその塩並
びにその誘導体。
[Claims] 1. General formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group, R 2 is an optionally protected or substituted amino group, R 3 is a hydrogen atom or a halogen atom, and is a syn or anti isomer. or a mixture thereof.'' An oxazole compound, a salt thereof, and a derivative thereof.
JP1190286A 1989-07-21 1989-07-21 Novel oxazole compound, salt thereof and derivative thereof Granted JPH02160770A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1190286A JPH02160770A (en) 1989-07-21 1989-07-21 Novel oxazole compound, salt thereof and derivative thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1190286A JPH02160770A (en) 1989-07-21 1989-07-21 Novel oxazole compound, salt thereof and derivative thereof

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10415181A Division JPS588087A (en) 1981-07-03 1981-07-03 Novel cephalosporin compound and its intermediate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02160770A JPH02160770A (en) 1990-06-20
JPH0333711B2 true JPH0333711B2 (en) 1991-05-20

Family

ID=16255648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1190286A Granted JPH02160770A (en) 1989-07-21 1989-07-21 Novel oxazole compound, salt thereof and derivative thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02160770A (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02160770A (en) 1990-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4410458A (en) Process for providing an oxidized penam
US4500456A (en) Preparation of 4-fluoroazetidinones using FClO3
FR2511377A1 (en) NEW CEPHALOSPORINS, AND THEIR SALTS
JPH0320397B2 (en)
US3917587A (en) Cephalosporin ethers
JPH0466230B2 (en)
US4166817A (en) Penicillins
JPH0333711B2 (en)
JPH0515692B2 (en)
JPS6052755B2 (en) New cephalosporins
JPH0530836B2 (en)
US4267340A (en) Disulfide substituted oxazetidine derivatives
KR870001796B1 (en) Process for preparing cephalosporins
FI89925B (en) FRAMEWORK FOR FOUNDATION WITHOUT FUEL
GB2131800A (en) Cephalosporins
JPS5932473B2 (en) Method for producing 7-acylamino-2 (or 3)-cephem-4-carboxylic acids
JPS6053036B2 (en) New cephalosporins
JPH10130272A (en) Method for producing 2-carboxypenam derivative or salt thereof
JPH0460983B2 (en)
JP3914276B2 (en) Novel cephalosporin derivatives or salts thereof
JPH0323556B2 (en)
JPH0121152B2 (en)
JPH045036B2 (en)
JPH0357912B2 (en)
JPS606694A (en) Novel cephalosporins