JPH0333816B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、織機の開口装置として用いられるド
ビーに於て、与えられたプログラムに従つて、偏
心盤と往復巡回移動要素とを連結する爪を制御す
る装置に関するものであり、該要素に於てドビー
の受渡しレバーの制御が偏心盤で制御される連結
杆によつて達成されるものである。

従来技術 既に知られたドビーに於て、受渡しレバーの制
御は偏心盤で制御される連結杆によつて達成され
ており、そして偏心盤と移動させる要素の連結機
構は機械の可動部分に複雑に据付けられていた。

発明の目的 本発明の目的は、既知のドビーに於て、偏心盤
を、往復運動と巡回運動をする乗せて運ぶ部材、
即ち移動部材と連結する爪のエレクトロニクス制
御装置を構成することであり、そして該装置は円
盤と偏心盤の区域外に配置される。

そして本発明の課題は下記ａ〜ｃの事項で達成
される。

ａ 各綜絖は対をなす解放レバーによつて制御さ
れ、そして該レバーは運搬部材の先端の中立点
に於て適合させられ、それらの二又に分かれた
腕で爪を制御し、該爪は偏心盤と接続したり離
れたりし、又各解放レバーは電磁石で制御され
る支持体と接触するように構成された支持面を
その外側部分に有している。

ｂ 支持体を制御する電磁石はエレクトロニクス
制御システムに接続されている。そして特に非
接触スイツチがこの制御システムに接続され、
非接触スイツチは要求される緯糸柄のためにセ
ンサーで解放レバーの位置を検知し、同時にそ
れを照合する。

ｃ ローラを備えたレバーと堅固に連結されてい
る解放基準体（releasing rules）に対抗し、ス
プリング張力に抗して支えられている解放レバ
ーの交互の解放は、カムによつて達成され、各
カムは２つの凹部と１つの突出部を備えてお
り、そして該凹部と突出部はドビーのエレクト
ロニクスパルス装置の同期作用をさせるように
されている。

発明の構成及び作用効果 本発明のより以上の特徴と利点は添付図面に描
かれた典型的な実施例に基づいて下記に詳述す
る。

ドビーの動力装置は円盤１を含み、円盤に対し
て運搬部材８が添加されており、該円盤１は偏心
盤２に離脱しないように連結され、偏心盤２上に
は連結ロツド３が回転可能に取付けられており、
そして該連結ロツド３はピン４によつて受渡しレ
バー５に連結されている。

ドビーの動力装置はピン６上に回転可能に据付
けられ、与えられたプログラムに従つて、図示さ
れていない機構で綜絖の上昇又は下降を達成す
る。

ドビー動力装置の制御は、制御される爪７で達
成出来るように形成されており、そして制御され
る爪は、与えられたプログラムに従つて、運搬部
材８の終端不作用中心で、偏心盤２の円盤１の周
囲に形成された溝９，９′と係合するか又は解放
レバー１０，１０′によつて該溝から解放される。

爪７は移動部材８本体中に弾性的に装着されて
おり、移動部材は２つの腕１１中に固定され、２
つの腕は図示されていない装置によつてピン６の
軸のまわりに往復運動するように揺動され、そし
て移動部材８の両端不作用中心点は受渡しレバー
５の上昇点が下降点かのどちらかに一致してい
る。移動部材８を用いて偏心盤の円盤１と連結し
ている爪７の制御装置は、各円盤１の為に解放レ
バー１０，１０′の対が備えられ、各レバーはそ
の二又に分けられたアーム１９，１９′によつて
爪７を制御し、その外側部分で支持面１８，１
８′を備え、支持面１８，１８′は支持体１３，１
３′と接触するように形成してあり、そして支持
体１３，１３′は電磁石１２，１２′に吸着され、
電磁石によつて与えられたプログラムに従つて制
御される。

実際上支持体１３，１３′は、ピボツト２０，
２０′のまわりに揺動可能に取付けられ、そして
電磁石１２，１２′によつてその基点から固定さ
れた停止基準体２２，２２′の方にスプリング２
１，２１′の張力に抗して揺動される。

必要な正確位置で溝９，９′と爪７の解放・係
合を達成せんがために、円盤１は、受渡しレバー
５の上昇位置か下降位置かどちらか一方で解放ロ
ーラ３５によつて係合される２つの円形の片側に
だけ開いた溝３６，３６′をその表面上に備えて
いる。

該解放ローラ３５はプボツト３７上に揺動可能
に取付けられ、そしてピボツト３７はレバー３８
に固着され、スプリング３９の張力に抗してロツ
ド４０のまわりを揺動する。

解放レバー１０，１０′の制御はプログラムに
よつて与えられ、そしてプログラムは図示されて
いないエレクトロニクス貯蔵に備えられ、それか
ら各別々の緯糸の為に連続的に続みとられる。

各緯糸の走査に於て、その受渡しレバー５の与
えられた位置との比較が達成され、そしてその出
発点で支持体１３，１３′は解放レバー１０，１
０′の作用を達成せんがために電磁石１２，１
２′によつて制御される。

支持体１３，１３′の電磁石１２，１２′による
制御は次の如く達成される。即ち、ピン２０，２
０′のまわりに回動自由に取付けられた該支持体
１３，１３′を制御する電磁石１２，１２′はエレ
クトロニクス制御システムに接続され、エレクト
ロニクス制御システムに於て非接触スイツチ４２
は、連結ロツド３か受渡しレバー５か或いはまた
連結ロツドと運動学的に接続された他の要素上に
取付けられた少くとも１つのセンサー４１によつ
てエレクトロニクス制御システムに接続され、移
動部材８の各不作用中心点上で受渡しレバーの位
置を走査し、同時に受渡しレバーの位置に関して
即ち綜絖の位置に関して従属している走査緯糸柄
を照合する。

与えられたプログラムからみて、受渡しレバー
５の間違つた作用が機構部分の欠陥によつて発生
した場合は、織機はエレクトロニクスシステムの
適正な出力によつて停止される。

ドビーの本実施例で、エレクトロニクスシステ
ムは機械の同期作用を可能にする。即ち織りきず
解除の為の逆転進行に於て、織込み緯糸がそれ以
上のどのような取りなしも必要なく、継続的な解
除開口によつて取除くことが出来る。

ドビーの同期作用は、スプリング１５，１５′
の張力に抗し、レバー３０，３０′に固定結合さ
れた解放基準体１６，１６′に抗して支えている
各解放レバー１０，１０′を解除することによつ
て達成され、そしてレバー３０，３０′が挿入ピ
ン２９，２９′上でローラ２８，２８′を２個の凹
部２６，２６′と１個の突部２７，２７′を有する
カム２５，２５′によつて導くことで達成される。

そのことはカム２５，２５′の凹部２６，２
６′中にローラ２８，２８′が係合することで解放
レバー１０，１０′はその度毎に解放され、その
支持面１８，１８′について支持体１３，１３′の
基端から自由端の方へ片寄せられる。そして支持
体１３，１３′はその時既にエレクトロニクスシ
ステムによつて割当てられた位置に従つて、受渡
しレバー５と選択された緯糸柄との同時に起つた
位置の依存状態に適合されている。

カム２５，２５′の最初の凹部２６，２６′（回
転方向で）は解放レバー１０，１０′を支持体１
３，１３′に逆らつて解放し、支持体１３，１
３′は受渡しレバー５と前の緯糸柄の同時期の位
置の評価選定によつて与えられた位置に置かれて
いる。

カム２５，２５′の角度変位によつて、ローラ
２８，２８′はカム２５，２５′の第１凹部２６，
２６′から短時間外され、再び突起２７，２７′上
に載置される。従て解放レバー１０，１０′はそ
の基点に戻される。その時支持体１３，１３′は
再び新しい位置を占め、そして新位置は受渡しレ
バー５と新緯糸柄の現在位置に一致して割当てら
れている位置である。

次のローラ２８，２８′とカム２５，２５′の第
２凹部との係合によつて、解放レバー１０，１
０′は再び解放され、そして既に割当てられた支
持体１３，１３′の位置に従つて、爪７は解かれ
又は円盤１の溝９，９′内部を出される。

爪７が解放される時、移動部材８が溝９，９′
の位置を去る間は解放レバー１０，１０′が保持
する。

その時、カム２５，２５′の第２凹部２６，２
６′からのローラ２８，２８′の解放によつて、解
放レバー１０，１０′は円盤１の表面上に爪７を
下げ始め、そしておよそその端位置まですべる。

支持体１３，１３′の位置選定は選択された緯
糸柄と受渡しレバー５の同時に存在する位置に依
存し、そして移動部材８の各端部不作動中心で達
成される。

その上、若し受渡しレバー５の位置がプログラ
ムに従つて、移動部材の次の不作用中心で変更さ
れなければ、解除された解放レバー１０，１０′
はその二又に分かれたアーム１９，１９′で爪７
を円盤１の溝９，９′から最大限度まで外さなけ
ればならない。

爪７のこのような係合解除は支持体１３，１
３′が電磁石１２，１２′で吸着され解放レバー１
０，１０′の支持表面１８，１８′の自由通過によ
つて与えられる。

しかしながら、若し受渡しレバー５の位置がプ
ログラムに従つて移動部材８の次の不作用中心に
変えられれば、解除された解放レバー１０，１
０′はその二又になつたアーム１９，１９′によつ
て爪７を解放することなく、爪７は解放レバー１
０，１０′が支持体１３，１３′に対抗するその支
持面１８，１８′で待ちこたえている時は、解除
に向つて外されることはない。

若し、移動部材８の次の不作用中心で受渡しレ
バー５がプログラムに従つて持上げられ、そして
該レバーが又当分持上げられていれば、解放レバ
ー１０，１０′は次の支持体１３，１３′を自由に
通過せねばならず、そしてまた従つて爪７を溝
９，９′から外さねばならない。

若し、移動部材８の次の不作用中心にある間
に、受渡しレバー５が降下させられ、そして該レ
バーが又その時下方にあれば、解放レバー１０，
１０′は解除されるために次の支持体１３，１
３′を自由に通過させねばならず、そしてまたそ
れにより爪７も溝９，９′から係合を解除させね
ばならない。

解放レバー１０，１０′は、受渡しレバー５の
位置が移動部材８の不作用中心の為に選択された
位置と一致しない場合のみ支持体１３，１３′に
抗して支える。そのような場合に爪７は溝９，
９′から係合を外されることはなく、そしてその
結果円盤１の偏心盤と一緒の角度変化はその別の
位置を占める。

【図面の簡単な説明】

第１図は、１つのドビー単位の機構要素の配置
の正面図である。第２図は、電磁石が支持体を吸
着し解放レバーが移動部材を解除した状態を示す
図である。 １：円盤、２：偏心盤、３：連結ロツド、５：
受渡しレバー、７：爪、８：移動部材、９，
９′：溝、１０，１０′：解放レバー、１２，１
２′：電磁石、１３，１３′：支持体、２５，２
５′カム、２６，２６′：凹部、２７，２７′突起、
２８，２８′：ローラ、３０，３０′：レバー。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 夫々偏心盤２に関して１対の解放レバー１
   ０，１０′を含み、各解放レバー１０，１０′はそ
   の二又に分かれたアーム１９，１９′で爪７を制
   御すると共に、その外側部分に、ピン２０，２
   ０′のまわりに回転可能に取付けられて、与えら
   れたプログラムに従つて制御するために電磁石１
   ２，１２′に添付された支持体１３，１３′と接触
   するようにされた、支持表面１８，１８′を備え
   ており、該電磁石１２，１２′はエレクトロニク
   ス制御回路に接続され、そして該制御回路に非接
   触スイツチ４２が接続してあり、該スイツチは、
   少なくとも１つのセンサー４１によつて連結ロツ
   ド３と運動学的に接続されると共に、移動要素８
   の各不作用中心で受渡しレバー５の位置を走査
   し、同時に受渡しレバー５の位置との関係で従属
   している走査された緯糸柄を照合して、そして挿
   入ピン２９，２９′上のローラ２８，２８′を支持
   しているレバー３０，３０′に固定的に連結され
   た解放基準体１６，１６′に対抗するスプリング
   １５，１５′の張力に抗して生ずる該解放レバー
   １０，１０′の解除が、ドビーのエレクトロニク
   スパルス装置の同期作用を可能にする２つの凹部
   ２６，２６′の１つの突起２７，２７′を備えたカ
   ム２５，２５′によつて達成されることを特徴と
   する往復巡回移動要素とドビーの偏心盤とを連結
   する爪の制御装置。