JPH0334364B2 - - Google Patents
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- JPH0334364B2 JPH0334364B2 JP59057870A JP5787084A JPH0334364B2 JP H0334364 B2 JPH0334364 B2 JP H0334364B2 JP 59057870 A JP59057870 A JP 59057870A JP 5787084 A JP5787084 A JP 5787084A JP H0334364 B2 JPH0334364 B2 JP H0334364B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sio
- mist
- dust
- liquid
- blower
- Prior art date
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- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造工程、特にCVD工程で発
生したSiO2の粉塵を除去する処理装置に関する
ものである。
生したSiO2の粉塵を除去する処理装置に関する
ものである。
半導体製造技術の重要なプロセス技術の一つと
していわゆるCVD（Chemical Vapour
Deposition）がある。CVDは気相中の熱分解、
加水分解、または酸化などの化学反応を用いて基
板に単結晶半導体や絶縁膜（SiO2、Si3N4、
Al2O3など）を成長させる方法である。
していわゆるCVD（Chemical Vapour
Deposition）がある。CVDは気相中の熱分解、
加水分解、または酸化などの化学反応を用いて基
板に単結晶半導体や絶縁膜（SiO2、Si3N4、
Al2O3など）を成長させる方法である。
SiO2膜はシラン（SiH4）の熱分解によつて形
成される。シランガスを反応管中にキヤリアガス
と共に導びき、熱分解反応によつてSiO2を形成
し、これを基板上に成長させるものである。
成される。シランガスを反応管中にキヤリアガス
と共に導びき、熱分解反応によつてSiO2を形成
し、これを基板上に成長させるものである。
反応管内で生成されたSiO2の一部は基板上に
付着して成長するが、余剰のSiO2はキヤリアガ
スと共に大気中に拡散される。
付着して成長するが、余剰のSiO2はキヤリアガ
スと共に大気中に拡散される。
CVDにより生成され大気中に放出されるSiO2
は30μ以下の微粉塵であり、特に有害ではなく法
的規制もないため、従来はそのまま大気中に拡散
されていた。
は30μ以下の微粉塵であり、特に有害ではなく法
的規制もないため、従来はそのまま大気中に拡散
されていた。
しかしいうまでもなく、法的規制がないという
ことは粉塵を大気中に拡散してもよいということ
ではなく、本来粉塵を大気中に拡散することは望
ましいことではなく、そのままに放置されれば、
半導体装置の生産性の増大にともなつていずれ新
たな粉塵公害の問題をひきおこすことは明らかで
ある。
ことは粉塵を大気中に拡散してもよいということ
ではなく、本来粉塵を大気中に拡散することは望
ましいことではなく、そのままに放置されれば、
半導体装置の生産性の増大にともなつていずれ新
たな粉塵公害の問題をひきおこすことは明らかで
ある。
CVDの反応式は次のとおりである。
SiH4＋PH3＋O2Arベース
――――――――→
SiO2＋P2O5＋
H2O ここに、SiH4、PH3、O2はすべて気体であり、
SiH4は自然発火性であり、またPH3は生物に対
して有害である。したがつてこれらのプロセスガ
スのうち反応しきれなかつたものはそのまま大気
中に拡散されるため、排出物が必ずしも安全であ
るという保障はない。
H2O ここに、SiH4、PH3、O2はすべて気体であり、
SiH4は自然発火性であり、またPH3は生物に対
して有害である。したがつてこれらのプロセスガ
スのうち反応しきれなかつたものはそのまま大気
中に拡散されるため、排出物が必ずしも安全であ
るという保障はない。
また反応生成物SiO2、P2O5はいずれも白い粉
塵であり、P2O5は親水的で系内の水分を吸収し
て粘着性を帯びてくる。SiO2とP2O5との存在比
はおよそ９：１程度であり、圧倒的多量に放出さ
れるSiO2を有効に捕集することがいずれにして
も重要な問題である。
塵であり、P2O5は親水的で系内の水分を吸収し
て粘着性を帯びてくる。SiO2とP2O5との存在比
はおよそ９：１程度であり、圧倒的多量に放出さ
れるSiO2を有効に捕集することがいずれにして
も重要な問題である。
しかしながら、P2O5の粘着性のためフイルタ
ーやサイクロンセパレータなどは有効にSiO2を
除去できず、またSiO2は疎水性のために水洗な
どによつて処理することもできない。
ーやサイクロンセパレータなどは有効にSiO2を
除去できず、またSiO2は疎水性のために水洗な
どによつて処理することもできない。
ところで、一般にケイ素化合物はその個有の性
質としてきわめて希薄なアルカリによつてもケイ
酸イオンをつくつて容易に溶解することが知られ
ている。
質としてきわめて希薄なアルカリによつてもケイ
酸イオンをつくつて容易に溶解することが知られ
ている。
したがつて、原理的にはSiO2もアルカリを吸
収液として湿式法により処理することは可能であ
る。しかしながら、実際に漏れ棚塔（湿式バブリ
ング塔）を用い、CVD反応系より排出された
SiO2の微粉塵を含むガスを塔内に吹きこんで、
アルカリ液に接触させたところ、ほとんど効果が
ないばかりか、空気輸送を行う送風機の羽根やダ
ンパーに白い粉塵が付着し、送風機の運転自体が
不能となり、SiO2粉塵の処理は不可能かに思わ
れた。
収液として湿式法により処理することは可能であ
る。しかしながら、実際に漏れ棚塔（湿式バブリ
ング塔）を用い、CVD反応系より排出された
SiO2の微粉塵を含むガスを塔内に吹きこんで、
アルカリ液に接触させたところ、ほとんど効果が
ないばかりか、空気輸送を行う送風機の羽根やダ
ンパーに白い粉塵が付着し、送風機の運転自体が
不能となり、SiO2粉塵の処理は不可能かに思わ
れた。
そこで、本発明者はCVD工程で生成される
SiO2粉塵の性状を検討し、これが見かけ上疎水
性を有し、また粒径密度が小さいことからアルカ
リ液をごく微細なミストとし、このミストを
SiO2の粉塵に激しく衝突させて撹拌することに
より、SiO2の粉塵をアルカリ液に溶解されるこ
とを見い出し、SiO2の粉塵は好都合なことに送
風機の使用により空気輸送中に撹拌作用をうける
ため、この送風機の羽根に向けてアルカリ液を噴
出すれば、羽根の回転による衝撃力でアルカリ液
はミスト化され、このミストにSiO2を有効に接
触させることができ、同時に羽根を洗浄して
SiO2の粉末の付着を防止することができる。
SiO2粉塵の性状を検討し、これが見かけ上疎水
性を有し、また粒径密度が小さいことからアルカ
リ液をごく微細なミストとし、このミストを
SiO2の粉塵に激しく衝突させて撹拌することに
より、SiO2の粉塵をアルカリ液に溶解されるこ
とを見い出し、SiO2の粉塵は好都合なことに送
風機の使用により空気輸送中に撹拌作用をうける
ため、この送風機の羽根に向けてアルカリ液を噴
出すれば、羽根の回転による衝撃力でアルカリ液
はミスト化され、このミストにSiO2を有効に接
触させることができ、同時に羽根を洗浄して
SiO2の粉末の付着を防止することができる。
したがつて、上記送風機の後段にミストセパレ
ータを設置し、これを湿式洗浄塔に接続すれば、
各段で機能が分化され、アルカリ液とSiO2との
反応促進並びに反応ミストの洗浄が有効に行わ
れ、従来厄介とされていたSiO2粉塵の処理が実
現可能となる。
ータを設置し、これを湿式洗浄塔に接続すれば、
各段で機能が分化され、アルカリ液とSiO2との
反応促進並びに反応ミストの洗浄が有効に行わ
れ、従来厄介とされていたSiO2粉塵の処理が実
現可能となる。
すなわち本発明は排ガス中に含まれたSiO2の
粉塵を湿式処理により洗浄する装置において、排
出ガスを湿式洗浄塔内に圧送する送風機の羽根に
向けてアルカリ液の噴出ノズルを開口し、排出ガ
ス中に含まれたSiO2の粉塵を空気輸送の途中で、
アルカリ液のミストと充分に接触させ、ミストセ
パレータにて反応を促進し、さらに湿式洗浄塔内
に供給されるアルカリ液で充分に洗浄することに
よりSiO2粉塵の処理を容易に行なうことができ
るようにしたことを特徴とするSiO2粉塵の処理
装置である。
粉塵を湿式処理により洗浄する装置において、排
出ガスを湿式洗浄塔内に圧送する送風機の羽根に
向けてアルカリ液の噴出ノズルを開口し、排出ガ
ス中に含まれたSiO2の粉塵を空気輸送の途中で、
アルカリ液のミストと充分に接触させ、ミストセ
パレータにて反応を促進し、さらに湿式洗浄塔内
に供給されるアルカリ液で充分に洗浄することに
よりSiO2粉塵の処理を容易に行なうことができ
るようにしたことを特徴とするSiO2粉塵の処理
装置である。
以下に本発明の実施例を図によつて説明する。
第１図において、本発明装置はアルカリ液を充
填した循環水槽１、湿式洗浄塔２と、工程の排気
系よりガスを吸引して洗浄塔２内に圧送する送風
機３及びアルカリ液を満たしたミストセパレータ
４と、洗浄塔２の排気ダクト５に接続されたエリ
ミネータ６とからなつている。
填した循環水槽１、湿式洗浄塔２と、工程の排気
系よりガスを吸引して洗浄塔２内に圧送する送風
機３及びアルカリ液を満たしたミストセパレータ
４と、洗浄塔２の排気ダクト５に接続されたエリ
ミネータ６とからなつている。
第２図にフローシート図を示す。洗浄塔２、送
風機３及びミストセパレータ４は循環水槽１上に
設置され、洗浄塔２の底部は循環水槽１内に連通
させてある。
風機３及びミストセパレータ４は循環水槽１上に
設置され、洗浄塔２の底部は循環水槽１内に連通
させてある。
この循環水槽１から送風機３及び洗浄塔２にポ
ンプ９，１０から配管７，８を介してアルカリ液
を送液する。
ンプ９，１０から配管７，８を介してアルカリ液
を送液する。
第３図イ，ロに本発明装置に用いる送風機３の
構造を示す。すなわち、送風機３のケーシング３
ａ内に、送風機の羽根１１に向けてスプレーノズ
ル１２を設置したものである。スプレーノズル１
２はガスの吸引側より羽根１１の回転方向に向け
て液体を噴出する機構となつており、ケーシング
３ａ内にアルカリ液のミストとSiO2粉塵との反
応室を形成させる。なお、スプレーノズル１２に
は前記送液管７を接続する。
構造を示す。すなわち、送風機３のケーシング３
ａ内に、送風機の羽根１１に向けてスプレーノズ
ル１２を設置したものである。スプレーノズル１
２はガスの吸引側より羽根１１の回転方向に向け
て液体を噴出する機構となつており、ケーシング
３ａ内にアルカリ液のミストとSiO2粉塵との反
応室を形成させる。なお、スプレーノズル１２に
は前記送液管７を接続する。
本発明において送風機の形式は限定されるもの
ではないが、液体の微粒化を行う必要からターボ
型の遠心力送風機が好ましい。好適な送風機とし
て(株)中島製作所製・フアンスクラバーがある。
ではないが、液体の微粒化を行う必要からターボ
型の遠心力送風機が好ましい。好適な送風機とし
て(株)中島製作所製・フアンスクラバーがある。
第４図は洗浄塔２とミストセパレータ４との構
造を示すものである。
造を示すものである。
まず、送風機３からのミストに捕集された粉塵
は、一度ガス全体がミストセパレータ４により完
全にアルカリ液中を通過し、この際に前段の送風
機３内部とは、全く違つた形式で反応が促進され
る。洗浄塔２はミストセパレータ４の上に設置さ
れている。洗浄塔２内には一定間隔を置いて少く
とも一段の多孔板の漏れ棚１３が設置され、その
上方に液体散水管１４が配管されている。この液
体散水管１４を前記送液管８と接続する。
は、一度ガス全体がミストセパレータ４により完
全にアルカリ液中を通過し、この際に前段の送風
機３内部とは、全く違つた形式で反応が促進され
る。洗浄塔２はミストセパレータ４の上に設置さ
れている。洗浄塔２内には一定間隔を置いて少く
とも一段の多孔板の漏れ棚１３が設置され、その
上方に液体散水管１４が配管されている。この液
体散水管１４を前記送液管８と接続する。
本発明の場合、排出ガス中に含まれるSiO2の
粉塵はその大部分が前段の送風機３及びミストセ
パレータ４内でミストに捕集されるため、改めて
洗浄塔２内で粉塵を吸収させることを意図したも
のではない。要はSiO2と反応したミストを洗い
落すことができるものであればよい。しかしなが
ら、単なるミストセパレータのみでは不十分であ
る。前段で発生したミストの放出を抑え、またミ
ストに吸着されなかつたSiO2の粉塵を除くため
には、洗浄塔２に多量の液を供給し、ミストを含
む排出ガスの流路を横ぎつて液膜、液層を形成
し、その中を通過させることが必要である。
粉塵はその大部分が前段の送風機３及びミストセ
パレータ４内でミストに捕集されるため、改めて
洗浄塔２内で粉塵を吸収させることを意図したも
のではない。要はSiO2と反応したミストを洗い
落すことができるものであればよい。しかしなが
ら、単なるミストセパレータのみでは不十分であ
る。前段で発生したミストの放出を抑え、またミ
ストに吸着されなかつたSiO2の粉塵を除くため
には、洗浄塔２に多量の液を供給し、ミストを含
む排出ガスの流路を横ぎつて液膜、液層を形成
し、その中を通過させることが必要である。
この目的に適合する洗浄塔２としては、富士化
水工業(株)製・CMTシリーズ排ガス処理装置に用
いられているモレタナ塔がある。このモレタナ塔
は主として排ガス（HCl、H2SO4、HFetc）の処
理を目的として開発されたものであるが、SiO2
の粉塵をあらかじめアルカリ液のミストに吸着さ
せておくかぎり、そのミストの洗浄によりSiO2
とアルカリとの反応が効果的に促進され、本発明
装置に有効に利用できる。第１図、第２図におい
て洗浄塔２の頂点部分に接続された排気ダクト５
は、エリミネータ６に接続されていて、接続前の
垂直部分に循環水槽１への戻り配管１５を設けて
いる。
水工業(株)製・CMTシリーズ排ガス処理装置に用
いられているモレタナ塔がある。このモレタナ塔
は主として排ガス（HCl、H2SO4、HFetc）の処
理を目的として開発されたものであるが、SiO2
の粉塵をあらかじめアルカリ液のミストに吸着さ
せておくかぎり、そのミストの洗浄によりSiO2
とアルカリとの反応が効果的に促進され、本発明
装置に有効に利用できる。第１図、第２図におい
て洗浄塔２の頂点部分に接続された排気ダクト５
は、エリミネータ６に接続されていて、接続前の
垂直部分に循環水槽１への戻り配管１５を設けて
いる。
さらにエリミネータ６についても循環水槽１へ
の戻り配管１６及び２回／day（タイマー設定）
の割合で、工水を供給し、エリミネータ６の洗浄
を行う送液管１７を設けている。
の戻り配管１６及び２回／day（タイマー設定）
の割合で、工水を供給し、エリミネータ６の洗浄
を行う送液管１７を設けている。
実施例において、水槽１内にアルカリ液を充填
し、ポンプ９，１０によりアルカリ液を送風機３
内及び洗浄塔２内に供給し、送風機３の運転を開
始する。送風機３内のスプレーノズル１２より噴
出されたアルカリ液は、回転する羽根１１にたた
きつけられ、且つその風力によつて円周方向に加
速されつつ、微細なミストとなつて分散する。
し、ポンプ９，１０によりアルカリ液を送風機３
内及び洗浄塔２内に供給し、送風機３の運転を開
始する。送風機３内のスプレーノズル１２より噴
出されたアルカリ液は、回転する羽根１１にたた
きつけられ、且つその風力によつて円周方向に加
速されつつ、微細なミストとなつて分散する。
ここに、CVD装置の排気系よりSiO2の粉塵を
含む排気ガスを導入すると、ガス中に含まれた
SiO2の粉塵は羽根１１の回転による強力な撹拌
力によりケーシング３ａ内に発生したアルカリ液
のミストと均一に混合され、アルカリ液
（NaOH、NaCO3etc）のミストとSiO2の粉塵と
の接触によりSiO2は、 SiO2＋2NaOH→Na2SiO3＋H2O 又はSiO2＋Na2CO3→Na2SiO3＋CO2 の反応によつて容易に溶解する。この反応は、ア
ルカリ液のミストが細かい程容易に進行し、以後
ミストから分離することはない。
含む排気ガスを導入すると、ガス中に含まれた
SiO2の粉塵は羽根１１の回転による強力な撹拌
力によりケーシング３ａ内に発生したアルカリ液
のミストと均一に混合され、アルカリ液
（NaOH、NaCO3etc）のミストとSiO2の粉塵と
の接触によりSiO2は、 SiO2＋2NaOH→Na2SiO3＋H2O 又はSiO2＋Na2CO3→Na2SiO3＋CO2 の反応によつて容易に溶解する。この反応は、ア
ルカリ液のミストが細かい程容易に進行し、以後
ミストから分離することはない。
上記の反応によりアルカリ液のナトリウムイオ
ンは、可溶性ケイ酸塩（Na2SiO3）のミストに変
化し、ミストセパレータ４内に送り込まれる。ミ
ストセパレータ４内には、バランシングパイプ１
８により常時アルカリ液が満たされており、ここ
では、送風機３内または洗浄塔２内とは全く違つ
た形で反応が促進される。いわゆる粉塵を吸収し
たミストは完全に一度アルカリ液の中を通過する
ことになり、極端に大きいミストはここで捕集さ
れてしまうことになる。
ンは、可溶性ケイ酸塩（Na2SiO3）のミストに変
化し、ミストセパレータ４内に送り込まれる。ミ
ストセパレータ４内には、バランシングパイプ１
８により常時アルカリ液が満たされており、ここ
では、送風機３内または洗浄塔２内とは全く違つ
た形で反応が促進される。いわゆる粉塵を吸収し
たミストは完全に一度アルカリ液の中を通過する
ことになり、極端に大きいミストはここで捕集さ
れてしまうことになる。
ミストセパレータで捕集されなかつたミストは
洗浄塔２内に送り込まれる。洗浄塔２内には常時
アルカリ液が供給され、各段の漏れ棚１３上に液
膜又は液層が形成されているため、送風機３の風
力によつてミスト及び排出ガスは液層又は液層中
を通過することによりさらにアルカリ液と接触
し、ミストは液膜又は液層中に吸収される。アル
カリ液は自重によつて漏れ棚１３上に落下し、水
槽１内の液に吸収される。ミストが除かれた排出
ガスは洗浄塔２より流出し、エリミネータ６で気
液分離された後大気中に拡散される。
洗浄塔２内に送り込まれる。洗浄塔２内には常時
アルカリ液が供給され、各段の漏れ棚１３上に液
膜又は液層が形成されているため、送風機３の風
力によつてミスト及び排出ガスは液層又は液層中
を通過することによりさらにアルカリ液と接触
し、ミストは液膜又は液層中に吸収される。アル
カリ液は自重によつて漏れ棚１３上に落下し、水
槽１内の液に吸収される。ミストが除かれた排出
ガスは洗浄塔２より流出し、エリミネータ６で気
液分離された後大気中に拡散される。
以上のように本発明は、送風機のケーシング内
にSiO2とアルカリ液の微細ミストとの接触によ
る反応室を形成し、CVD装置より排出された
SiO2の粉塵を送風機内でアルカリ液のミストと
撹拌混合することによりアルカリ液とSiO2との
反応を容易に行わせるもので、撹拌、混合手段と
して特別な手段を要せずスプレーノズルを備えた
送風機及びミストセパレータを用いることにより
空気輸送中に反応を行わせながら、ただちに、洗
浄塔内に送り込むことができる。
にSiO2とアルカリ液の微細ミストとの接触によ
る反応室を形成し、CVD装置より排出された
SiO2の粉塵を送風機内でアルカリ液のミストと
撹拌混合することによりアルカリ液とSiO2との
反応を容易に行わせるもので、撹拌、混合手段と
して特別な手段を要せずスプレーノズルを備えた
送風機及びミストセパレータを用いることにより
空気輸送中に反応を行わせながら、ただちに、洗
浄塔内に送り込むことができる。
したがつて本発明によれば、従来知られた排煙
脱硫装置、除塵装置、脱硝装置などと同様な設備
を用い、湿式法によつて従来処理が困難とされて
いたSiO2粉塵を容易に処理することが可能とな
り、SiO2による粉塵公害を未然に防止すること
ができる。SiO2の粉塵捕集率についてみれば、
フアン単体、洗浄塔単体を用いてせいぜい20〜30
％であるのに対し、本発明装置では実に99.5％を
捕集することができる。
脱硫装置、除塵装置、脱硝装置などと同様な設備
を用い、湿式法によつて従来処理が困難とされて
いたSiO2粉塵を容易に処理することが可能とな
り、SiO2による粉塵公害を未然に防止すること
ができる。SiO2の粉塵捕集率についてみれば、
フアン単体、洗浄塔単体を用いてせいぜい20〜30
％であるのに対し、本発明装置では実に99.5％を
捕集することができる。
また本発明によれば、SiO2はNa2SiO3の形で回
収されるため、必要であればこれを再利用するこ
とも可能である。
収されるため、必要であればこれを再利用するこ
とも可能である。
さらに、CVD装置からの排出ガス中に含まれ
た有害成分も同時に除去でき、送風機内は常にア
ルカリ液で洗浄されるため、回転羽根に粉塵が付
着して送風機の運転が不能となることもない。
た有害成分も同時に除去でき、送風機内は常にア
ルカリ液で洗浄されるため、回転羽根に粉塵が付
着して送風機の運転が不能となることもない。
以上のように本発明によれば、既存の設備の組
み合せによつて、その単体の有する能力以上の効
果を発揮し、従来困難とされていたSiO2粉塵の
処理をきわめて容易に行うことができる効果を有
するものである。
み合せによつて、その単体の有する能力以上の効
果を発揮し、従来困難とされていたSiO2粉塵の
処理をきわめて容易に行うことができる効果を有
するものである。
第１図は本発明装置の一実施例を示す正面図、
第２図は本発明装置のフローシート図、第３図イ
は本発明に用いる送風機の断面図、ロは側面図、
第４図は洗浄塔及びミストセパレータの縦断面図
である。 １……循環水槽、２……湿式洗浄塔、３……送
風機、３ａ……ケーシング、４……ミストセパレ
ータ、１１……羽根、１２……スプレーノズル。
第２図は本発明装置のフローシート図、第３図イ
は本発明に用いる送風機の断面図、ロは側面図、
第４図は洗浄塔及びミストセパレータの縦断面図
である。 １……循環水槽、２……湿式洗浄塔、３……送
風機、３ａ……ケーシング、４……ミストセパレ
ータ、１１……羽根、１２……スプレーノズル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 排出ガス中に含まれたSiO2の粉塵を湿式処
理により捕集する装置において、 製造工程の排気系からSiO2粉塵を含むガスを
吸収するとともに内部にアルカリ液の細かいミス
トを発生しつつ主としてSiO2とアルカリ液との
接触反応機能を司どる送風機と、 前記送風機より送り込まれた排出ガスを通過さ
せるアルカリ液が充填され、主としてガス中の
SiO2とアルカリ液との反応を促進する機能を司
どるミストセパレータと、 常時供給されるアルカリ液によりガスの流路を
横切つて液膜又は液層が内部に形成され、主とし
て前記ミストセパレータを通して圧送された排出
ガス中のSiO2と反応したミストを洗浄除去する
機能を司どる湿式洗浄塔との組合せを有すること
を特徴とするSiO2粉塵の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5787084A JPS60202711A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | ＳｉＯ↓２粉塵の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5787084A JPS60202711A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | ＳｉＯ↓２粉塵の処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60202711A JPS60202711A (ja) | 1985-10-14 |
| JPH0334364B2 true JPH0334364B2 (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=13068014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5787084A Granted JPS60202711A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | ＳｉＯ↓２粉塵の処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60202711A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3595190B2 (ja) * | 1999-04-16 | 2004-12-02 | 株式会社日立製作所 | 半導体の製造方法及び半導体製造装置 |
| CN100391581C (zh) * | 2005-08-19 | 2008-06-04 | 力晶半导体股份有限公司 | 粉末去除装置与废气处理机 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5237633B2 (ja) * | 1972-11-21 | 1977-09-24 | ||
| JPS4978264A (ja) * | 1972-11-30 | 1974-07-27 |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5787084A patent/JPS60202711A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60202711A (ja) | 1985-10-14 |
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