JPH0334479B2 - - Google Patents
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Description
本発明は改良された塩化ビニル系樹脂製転写フ
イルムに関するものである。 プラスチツク成形品に対する印刷手段としては
種々の方法が知られているが、それらのうちでも
熱転写印刷法は、フイルム・シート形状以外の成
形品に対しても印刷が容易である、シルクスクリ
ーン印刷に比べ同時に多色の印刷が可能である、
印刷操作プロセスが簡便であるという長所を有し
ており、すぐれた方法である。 上記熱転写印刷法には、通常コーテイングを施
こした特殊な紙やポリエチレンフイルム、ポリプ
ロピレンフイルム、セロフアンなどにあらかじめ
グラビア印刷して得たコーテイング転写紙あるい
は転写フイルムが用いられるが、これらの転写
紙、転写フイルムは高価であるため印刷コストに
占める割合が大きいという問題がある。 本発明者らはかかる従来の高価なコーテイング
転写紙、転写フイルムに代り、安価にして印刷適
正のすぐれた塩化ビニル系樹脂フイルムを転写用
フイルムとして使用する可能性を検討した結果、
この樹脂フイルムの表面を無機ガスの低温プラズ
マで処理すると、その処理表面にポリマー分子が
三次元に架橋したいわゆる架橋層が0.01〜1μm程
度の厚さで形成され、これによる表面特性の改質
(親水性、耐熱性、耐溶剤性、耐油性の向上)が
転写フイルムとしての応用にきわめて有利に作用
することを確認し、本発明に到達した。 すなわち、本発明は無機ガスの低温プラズマで
表面処理した塩化ビニル系樹脂フイルムに、転写
インク印刷を施こしてなる塩化ビニル系樹脂製転
写フイルムに関するものであり、このものは次の
諸利点ないし特徴を有する。 無機ガスの低温プラズマで表面処理された塩
化ビニル系樹脂フイルムは、転写インクとして
塩ビ用印刷インクを使用した場合、このインク
が該フイルム面に強固に密着結合してしまうこ
とがなく易剥離性であるので、加熱加圧によつ
て被印刷体(被転写体)である塩化ビニル系樹
脂成形品の面に容易にかつ完全強固に転写され
る。 低温プラズマ処理面は、前記したように架橋
層が形成されており、したがつて耐熱性にすぐ
れているので、加熱加圧の操作を受けても軟化
は起こらない。 低温プラズマ処理により架橋層が形成されて
いても、フイルムの柔軟性は何ら失われていな
いので、転写操作時の作業性にすぐれ、被印刷
体の形状に対して十分追随可能である。 低温プラズマ処理面は、親水性であるためエ
マルジヨン系の転写インクも使用可能である。 加熱加圧による転写操作に当り、塩化ビニル
樹脂用ラミネーター機あるいは押出ラミネータ
ー等がそのまま使用できる。 転写操作の際にエンボスロールにて加圧する
ことにより、被印刷体に対し転写印刷とエンボ
ス加工を同時に行うことができる。 プラスチツクはその種類によつて印刷インクの
適性が異なるので、転写印刷に使用されるインク
としては被印刷体の材質・種類に応じそれぞれ適
した印刷インクが選択使用されており、たとえば
被印刷体が軟質塩化ビニル系樹脂成形品(フイル
ム等)である場合には、この軟質塩化ビニル系樹
脂の化学的構造の特異性、可塑剤、安定剤等の添
加剤の影響を考慮し、多のポリエチレン、ポリプ
ロピレン用印刷インクとはかなり異質な特殊なイ
ンク(塩ビ用印刷インクVS、VCH、VSP)が使
用されている。しかして、この塩ビ用印刷インク
が無機ガスの低温プラズマにより処理された塩化
ビニル系樹脂フイルムに対しては強固に密着結合
せず、易剥離性であるということは本発明者らに
より始めて見出されたことである。 本発明に使用される塩化ビニル系樹脂として
は、ポリ塩化ビニルおよび塩化ビニルを主体とす
る共重合体のいずれでもよく、この場合の塩化ビ
ニルと共重合されるコモノマーとしてはビニルエ
ステル、ビニルエーテル、アクリル酸またはメタ
クリル酸およびそのエステル、マレイン酸または
フマル酸あるいはそれらのエステル、ならびに無
水マレイン酸、芳香族ビニル化合物、ハロゲン化
ビニリデン、アクリロニトリルまたはメタクリロ
ニトリル、さらにはエチレン、プロピレンなどの
オレフインが例示される。 これらの塩化ビニル系樹脂には、作られるべき
転写フイルム基体の硬さ、柔軟性を調節するため
に、一般に可塑剤が添加配合される。この可塑剤
としてはジオクチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸エ
ステル、アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジブ
チル等の脂肪族二塩基酸エステル、ペンタエリス
リトールエステル、ジエチレングリコールベンゾ
エート等のグリコールエステル、アセチルリシノ
ール酸メチル等の脂肪酸エステル、トリクレジー
ルホスフエート、トリフエニルホスフエート等の
りん酸エステル、エポキシ化大豆油、エポキシ化
アマニ油等のエポキシ化油、アセチルトリブチル
シトレート、アセチルトリオクチルシトレート等
のクエン酸エステル、トリアルキルトリメリテー
ト、テトラ−n−オクチルピロメリテート、ポリ
プロピレンアジペート、その他ポリエステル系の
可塑剤などが例示される。 なお、後述する低温プラズマ処理によるフイル
ム表面架橋層形成の効果を一段と顕現せしめるた
めには、可塑剤として特に芳香族系の可塑剤を選
択使用することが望ましい。この芳香族系可塑剤
は配合されるべき可塑剤の全所要量のうち少なく
とも25重量%使用されればよく、全量芳香族系の
ものである必要は必ずしもない。フイルム基体の
硬さ、柔軟性を調節すべく配合する可塑剤量は通
常5〜100PHR、好ましくは15〜50PHRとすれ
ばよい。 また塩化ビニル系樹脂には、滑性、安定性等の
性質を向上させるために使用される添加剤とし
て、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸鉛、ステアリン酸バリウム、ス
テアリン酸カドミウム等のカルボン酸の金属塩、
三塩基性硫酸鉛、二塩基性亜りん酸鉛、ジブチル
すずジラウレート、ジ−n−オクチルすずマレー
ト、ジ−n−オクチルすずメルカプタイトのよう
な有機すず化合物、ブチルステアレートのような
有機酸エステル、エチレンビスステアロアマイド
のような脂肪族アミド、高級脂肪酸およびエステ
ルあるいはポリエチレンワツクス等が例示され
る。その他塩化ビニル系樹脂の成形に使用される
各種添加剤たとえば充てん剤、耐熱性向上剤、抗
酸化剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無滴剤、顔
料、染料、架橋助剤等が例示される。 さらには各種の高分子ゴム弾性体が配合されて
もよく、この高分子ゴム弾性体としてはエチレン
−酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共
重合体、メチルメタクリレート−スチレン−ブタ
ジエン共重合体、アクリロニトリル−スチレン−
ブタジエン共重合体、ウレタンエラストマー、ポ
リアミド樹脂、エチレン−プロピレン−ジエンタ
ーポリマー、エポキシ変性ポリブタジエン樹脂等
が例示される。 塩化ビニル系樹脂に、可塑剤がその他必要とさ
れる添加剤を加えてなる樹脂コンパウンドからフ
イルム(転写フイルム基体)を成形する方法とし
ては、溶融押出成形法(Tダイ法、インフレーシ
ヨン法)、カレンダー成形法等従来塩化ビニル系
樹脂の成形で用いられているフイルム成形手段に
よればよく、特に制限はない。 本発明においては、上記のようにして得たフイ
ルムを無機ガスの低温プラズマで表面処理するこ
とが必要とされ、この低温プラズマ処理を行う具
体的方法としては、たとえば減圧可能な装置内に
放電電極を有する内部電極型低温プラズマ発生装
置を使用し、その装置内にフイルムを装入し、減
圧下に無機ガスを流通させながら電極間に放電電
極を与えてグロー放電を行わせることにより無機
ガスの低温プラズマを発生させてフイルム表面を
処理するという方法により行われる。 ここに使用される無機ガスとしては、ヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、窒素、酸素、空気、亜酸
化窒素、一酸化窒素、二酸化窒素、一酸化炭素、
二酸化炭素、シアン化臭素、亜硫酸ガス、硫化水
素などが例示され、これらは1種のみであるいは
2種以上が混合して使用される。本発明において
はこの無機ガスとして、一酸化炭素、アルゴンが
好ましく、特には一酸化炭素が5%以上含有して
いることが好ましい。 低温プラズマ発生装置内におけるガス雰囲気の
圧力は0.001〜10トル(好ましくは0.05〜5トル)
の範囲が望ましく、このようなガス圧力下で電極
間に周波数が数kHz〜100MHz、数W〜数百KW
の高周波電力を与えることにより安定なグロー放
電を行わせることができる。なお、放電周波数帯
としては上記高周波のほかに低周波、マイクロ
波、直流などを用いることができる。 低温プラズマ発生装置としては前記した内部電
極型のもののほか、場合によつて外部電極型であ
つてもよいし、またコイル型などの容量結合、誘
導結合のいずれであつてもよい。電極の形状につ
いては特に制限はなく、入力側電極とアース側電
極が同一形状でもあるいは異なつた形状のいずれ
でもよく、それらは平板状、リング状、棒状、シ
リンダー状等種々可能であり、さらには装置の金
属内壁を一方の電極としてアースした形式のもの
であつてもよい。 しかし、どのような方法をとつても放電熱によ
りフイルム表面が変質しないようにしなければな
らない、なお、低温プラズマ処理時間は装置の形
式、印加電圧等によつても相違するが、通常の場
合は数秒から数十分とすることで十分である。 本発明はこのように低温プラズマ処理したフイ
ルム面に、適当な転写インクを用いて所望する模
様の印刷を施こす。この印刷方法としてはグラビ
ヤ印刷、オフセツト印刷、スクリーン印刷等が使
われる。 なお、転写後の表面特性が必要な場合には、該
転写インク印刷面にあらかじめ各種の表面処理剤
を要求性能に合せてコーテイングしておくことが
よく、この場合の表面処理剤としては、アクリル
系、アクリル系/ポリ塩化ビニル系、ウレタン
系、シリコーン系等のもので低温プラズマ処理面
に密着せず、ぬれ性のよいものであればいずれの
ものも使用できる。 また、被転写物の材質に応じ適当とされる転写
インクが選択使用されるのであるが、加熱により
接着性の得られる接着剤を転写インク印刷面にコ
ーテイングしておくことよつて転写インクとして
それぞれ専用のものに限定されずいろいろのもの
を使用することが可能となる。たとえば被転写物
が塩化ビニル系樹脂の場合、転写インクとして塩
ビ用印刷インクのほか、アクリル系、アクリル/
塩ビ系、エチレン−酢酸ビニル系、エチレン−酢
酸ビニル系/塩ビ系用の印刷インクを用いること
によつてもすぐれた転写が可能となる。また被転
写物がオレフイン系の場合、転写インクとして塩
ビ用印刷インクを使用し、この転写インク印刷面
にオレフイン系樹脂に密着しかつ塩ビ用印刷イン
クにも密着するポリエステル系、ウレタン系等の
接着剤をコーテイングする構成とすることも可能
である。 いずれにしても転写インクの選択、接着剤のコ
ーテイング等により各種の被転写物例えば塩化ビ
ニル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リエステルなどのプラスチツク、鉄、銅、アルミ
ニウムなどの金属、木質材、繊維材などへの良好
な転写が可能となる。 なお、本発明の転写フイルムを用いて例えばプ
ラスチツク成形品に転写を行う方法としては、押
出成形機から出てくる高温の樹脂成形品に対して
転写する押出ラミネート方式、カレンダートツピ
ング方式、フイルムシートを加熱して転写する熱
ラミネート方式、ホツトスタンピング方式などが
使われる。 つぎに具体的実施例をあげる。 実施例 1 塩化ビニル樹脂100部(部は重量部を示す、以
下同様)、可塑剤35部(DOP25部、DBP10部)、
バリウムステアレート0.5部、すずラウレート2
部よりなる配合物をTダイ法によりフイルムに成
形加工した。このフイルムをプラズマ発生装置内
にセツトし、装置内を10-4まで減圧にした後CO
−Arの等容量混合ガスを導入し、この混合ガス
流通下装置内を0.1トルに調整保持後13.56MHz
1kWの高周波電力を印加し、低温プラズマを発
生させ、フイルムを3分間低温プラズマ処理し
た。 つぎに、この処理フイルムに対して塩ビ用グラ
ビヤインク(大日精化VSインク)を用いて、グ
ラビア印刷法にて木目模様を印刷し、60℃乾燥炉
を通して溶剤を乾燥させて印刷フイルムを巻取つ
た。 このようにして得た転写フイルムを用いて転写
テストを行つた。すなわち、90mm押出機にて可塑
剤含有量50PHRの塩化ビニル樹脂の一般的配合
物をTダイ法により2mm厚に成形しながら上記転
写フイルムを加熱ロールを用いて転写温度120〜
130℃にて転写させた。結果は第1表に示すとお
りであつた。なお、同表には比較のために低温プ
ラズマ処理を行わなかつた転写フイルムについて
のテスト結果も併記した。 転写後のインク密着性:JIS D 0202の試験方
法に準拠
イルムに関するものである。 プラスチツク成形品に対する印刷手段としては
種々の方法が知られているが、それらのうちでも
熱転写印刷法は、フイルム・シート形状以外の成
形品に対しても印刷が容易である、シルクスクリ
ーン印刷に比べ同時に多色の印刷が可能である、
印刷操作プロセスが簡便であるという長所を有し
ており、すぐれた方法である。 上記熱転写印刷法には、通常コーテイングを施
こした特殊な紙やポリエチレンフイルム、ポリプ
ロピレンフイルム、セロフアンなどにあらかじめ
グラビア印刷して得たコーテイング転写紙あるい
は転写フイルムが用いられるが、これらの転写
紙、転写フイルムは高価であるため印刷コストに
占める割合が大きいという問題がある。 本発明者らはかかる従来の高価なコーテイング
転写紙、転写フイルムに代り、安価にして印刷適
正のすぐれた塩化ビニル系樹脂フイルムを転写用
フイルムとして使用する可能性を検討した結果、
この樹脂フイルムの表面を無機ガスの低温プラズ
マで処理すると、その処理表面にポリマー分子が
三次元に架橋したいわゆる架橋層が0.01〜1μm程
度の厚さで形成され、これによる表面特性の改質
(親水性、耐熱性、耐溶剤性、耐油性の向上)が
転写フイルムとしての応用にきわめて有利に作用
することを確認し、本発明に到達した。 すなわち、本発明は無機ガスの低温プラズマで
表面処理した塩化ビニル系樹脂フイルムに、転写
インク印刷を施こしてなる塩化ビニル系樹脂製転
写フイルムに関するものであり、このものは次の
諸利点ないし特徴を有する。 無機ガスの低温プラズマで表面処理された塩
化ビニル系樹脂フイルムは、転写インクとして
塩ビ用印刷インクを使用した場合、このインク
が該フイルム面に強固に密着結合してしまうこ
とがなく易剥離性であるので、加熱加圧によつ
て被印刷体(被転写体)である塩化ビニル系樹
脂成形品の面に容易にかつ完全強固に転写され
る。 低温プラズマ処理面は、前記したように架橋
層が形成されており、したがつて耐熱性にすぐ
れているので、加熱加圧の操作を受けても軟化
は起こらない。 低温プラズマ処理により架橋層が形成されて
いても、フイルムの柔軟性は何ら失われていな
いので、転写操作時の作業性にすぐれ、被印刷
体の形状に対して十分追随可能である。 低温プラズマ処理面は、親水性であるためエ
マルジヨン系の転写インクも使用可能である。 加熱加圧による転写操作に当り、塩化ビニル
樹脂用ラミネーター機あるいは押出ラミネータ
ー等がそのまま使用できる。 転写操作の際にエンボスロールにて加圧する
ことにより、被印刷体に対し転写印刷とエンボ
ス加工を同時に行うことができる。 プラスチツクはその種類によつて印刷インクの
適性が異なるので、転写印刷に使用されるインク
としては被印刷体の材質・種類に応じそれぞれ適
した印刷インクが選択使用されており、たとえば
被印刷体が軟質塩化ビニル系樹脂成形品(フイル
ム等)である場合には、この軟質塩化ビニル系樹
脂の化学的構造の特異性、可塑剤、安定剤等の添
加剤の影響を考慮し、多のポリエチレン、ポリプ
ロピレン用印刷インクとはかなり異質な特殊なイ
ンク(塩ビ用印刷インクVS、VCH、VSP)が使
用されている。しかして、この塩ビ用印刷インク
が無機ガスの低温プラズマにより処理された塩化
ビニル系樹脂フイルムに対しては強固に密着結合
せず、易剥離性であるということは本発明者らに
より始めて見出されたことである。 本発明に使用される塩化ビニル系樹脂として
は、ポリ塩化ビニルおよび塩化ビニルを主体とす
る共重合体のいずれでもよく、この場合の塩化ビ
ニルと共重合されるコモノマーとしてはビニルエ
ステル、ビニルエーテル、アクリル酸またはメタ
クリル酸およびそのエステル、マレイン酸または
フマル酸あるいはそれらのエステル、ならびに無
水マレイン酸、芳香族ビニル化合物、ハロゲン化
ビニリデン、アクリロニトリルまたはメタクリロ
ニトリル、さらにはエチレン、プロピレンなどの
オレフインが例示される。 これらの塩化ビニル系樹脂には、作られるべき
転写フイルム基体の硬さ、柔軟性を調節するため
に、一般に可塑剤が添加配合される。この可塑剤
としてはジオクチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸エ
ステル、アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジブ
チル等の脂肪族二塩基酸エステル、ペンタエリス
リトールエステル、ジエチレングリコールベンゾ
エート等のグリコールエステル、アセチルリシノ
ール酸メチル等の脂肪酸エステル、トリクレジー
ルホスフエート、トリフエニルホスフエート等の
りん酸エステル、エポキシ化大豆油、エポキシ化
アマニ油等のエポキシ化油、アセチルトリブチル
シトレート、アセチルトリオクチルシトレート等
のクエン酸エステル、トリアルキルトリメリテー
ト、テトラ−n−オクチルピロメリテート、ポリ
プロピレンアジペート、その他ポリエステル系の
可塑剤などが例示される。 なお、後述する低温プラズマ処理によるフイル
ム表面架橋層形成の効果を一段と顕現せしめるた
めには、可塑剤として特に芳香族系の可塑剤を選
択使用することが望ましい。この芳香族系可塑剤
は配合されるべき可塑剤の全所要量のうち少なく
とも25重量%使用されればよく、全量芳香族系の
ものである必要は必ずしもない。フイルム基体の
硬さ、柔軟性を調節すべく配合する可塑剤量は通
常5〜100PHR、好ましくは15〜50PHRとすれ
ばよい。 また塩化ビニル系樹脂には、滑性、安定性等の
性質を向上させるために使用される添加剤とし
て、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸鉛、ステアリン酸バリウム、ス
テアリン酸カドミウム等のカルボン酸の金属塩、
三塩基性硫酸鉛、二塩基性亜りん酸鉛、ジブチル
すずジラウレート、ジ−n−オクチルすずマレー
ト、ジ−n−オクチルすずメルカプタイトのよう
な有機すず化合物、ブチルステアレートのような
有機酸エステル、エチレンビスステアロアマイド
のような脂肪族アミド、高級脂肪酸およびエステ
ルあるいはポリエチレンワツクス等が例示され
る。その他塩化ビニル系樹脂の成形に使用される
各種添加剤たとえば充てん剤、耐熱性向上剤、抗
酸化剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無滴剤、顔
料、染料、架橋助剤等が例示される。 さらには各種の高分子ゴム弾性体が配合されて
もよく、この高分子ゴム弾性体としてはエチレン
−酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共
重合体、メチルメタクリレート−スチレン−ブタ
ジエン共重合体、アクリロニトリル−スチレン−
ブタジエン共重合体、ウレタンエラストマー、ポ
リアミド樹脂、エチレン−プロピレン−ジエンタ
ーポリマー、エポキシ変性ポリブタジエン樹脂等
が例示される。 塩化ビニル系樹脂に、可塑剤がその他必要とさ
れる添加剤を加えてなる樹脂コンパウンドからフ
イルム(転写フイルム基体)を成形する方法とし
ては、溶融押出成形法(Tダイ法、インフレーシ
ヨン法)、カレンダー成形法等従来塩化ビニル系
樹脂の成形で用いられているフイルム成形手段に
よればよく、特に制限はない。 本発明においては、上記のようにして得たフイ
ルムを無機ガスの低温プラズマで表面処理するこ
とが必要とされ、この低温プラズマ処理を行う具
体的方法としては、たとえば減圧可能な装置内に
放電電極を有する内部電極型低温プラズマ発生装
置を使用し、その装置内にフイルムを装入し、減
圧下に無機ガスを流通させながら電極間に放電電
極を与えてグロー放電を行わせることにより無機
ガスの低温プラズマを発生させてフイルム表面を
処理するという方法により行われる。 ここに使用される無機ガスとしては、ヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、窒素、酸素、空気、亜酸
化窒素、一酸化窒素、二酸化窒素、一酸化炭素、
二酸化炭素、シアン化臭素、亜硫酸ガス、硫化水
素などが例示され、これらは1種のみであるいは
2種以上が混合して使用される。本発明において
はこの無機ガスとして、一酸化炭素、アルゴンが
好ましく、特には一酸化炭素が5%以上含有して
いることが好ましい。 低温プラズマ発生装置内におけるガス雰囲気の
圧力は0.001〜10トル(好ましくは0.05〜5トル)
の範囲が望ましく、このようなガス圧力下で電極
間に周波数が数kHz〜100MHz、数W〜数百KW
の高周波電力を与えることにより安定なグロー放
電を行わせることができる。なお、放電周波数帯
としては上記高周波のほかに低周波、マイクロ
波、直流などを用いることができる。 低温プラズマ発生装置としては前記した内部電
極型のもののほか、場合によつて外部電極型であ
つてもよいし、またコイル型などの容量結合、誘
導結合のいずれであつてもよい。電極の形状につ
いては特に制限はなく、入力側電極とアース側電
極が同一形状でもあるいは異なつた形状のいずれ
でもよく、それらは平板状、リング状、棒状、シ
リンダー状等種々可能であり、さらには装置の金
属内壁を一方の電極としてアースした形式のもの
であつてもよい。 しかし、どのような方法をとつても放電熱によ
りフイルム表面が変質しないようにしなければな
らない、なお、低温プラズマ処理時間は装置の形
式、印加電圧等によつても相違するが、通常の場
合は数秒から数十分とすることで十分である。 本発明はこのように低温プラズマ処理したフイ
ルム面に、適当な転写インクを用いて所望する模
様の印刷を施こす。この印刷方法としてはグラビ
ヤ印刷、オフセツト印刷、スクリーン印刷等が使
われる。 なお、転写後の表面特性が必要な場合には、該
転写インク印刷面にあらかじめ各種の表面処理剤
を要求性能に合せてコーテイングしておくことが
よく、この場合の表面処理剤としては、アクリル
系、アクリル系/ポリ塩化ビニル系、ウレタン
系、シリコーン系等のもので低温プラズマ処理面
に密着せず、ぬれ性のよいものであればいずれの
ものも使用できる。 また、被転写物の材質に応じ適当とされる転写
インクが選択使用されるのであるが、加熱により
接着性の得られる接着剤を転写インク印刷面にコ
ーテイングしておくことよつて転写インクとして
それぞれ専用のものに限定されずいろいろのもの
を使用することが可能となる。たとえば被転写物
が塩化ビニル系樹脂の場合、転写インクとして塩
ビ用印刷インクのほか、アクリル系、アクリル/
塩ビ系、エチレン−酢酸ビニル系、エチレン−酢
酸ビニル系/塩ビ系用の印刷インクを用いること
によつてもすぐれた転写が可能となる。また被転
写物がオレフイン系の場合、転写インクとして塩
ビ用印刷インクを使用し、この転写インク印刷面
にオレフイン系樹脂に密着しかつ塩ビ用印刷イン
クにも密着するポリエステル系、ウレタン系等の
接着剤をコーテイングする構成とすることも可能
である。 いずれにしても転写インクの選択、接着剤のコ
ーテイング等により各種の被転写物例えば塩化ビ
ニル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リエステルなどのプラスチツク、鉄、銅、アルミ
ニウムなどの金属、木質材、繊維材などへの良好
な転写が可能となる。 なお、本発明の転写フイルムを用いて例えばプ
ラスチツク成形品に転写を行う方法としては、押
出成形機から出てくる高温の樹脂成形品に対して
転写する押出ラミネート方式、カレンダートツピ
ング方式、フイルムシートを加熱して転写する熱
ラミネート方式、ホツトスタンピング方式などが
使われる。 つぎに具体的実施例をあげる。 実施例 1 塩化ビニル樹脂100部(部は重量部を示す、以
下同様)、可塑剤35部(DOP25部、DBP10部)、
バリウムステアレート0.5部、すずラウレート2
部よりなる配合物をTダイ法によりフイルムに成
形加工した。このフイルムをプラズマ発生装置内
にセツトし、装置内を10-4まで減圧にした後CO
−Arの等容量混合ガスを導入し、この混合ガス
流通下装置内を0.1トルに調整保持後13.56MHz
1kWの高周波電力を印加し、低温プラズマを発
生させ、フイルムを3分間低温プラズマ処理し
た。 つぎに、この処理フイルムに対して塩ビ用グラ
ビヤインク(大日精化VSインク)を用いて、グ
ラビア印刷法にて木目模様を印刷し、60℃乾燥炉
を通して溶剤を乾燥させて印刷フイルムを巻取つ
た。 このようにして得た転写フイルムを用いて転写
テストを行つた。すなわち、90mm押出機にて可塑
剤含有量50PHRの塩化ビニル樹脂の一般的配合
物をTダイ法により2mm厚に成形しながら上記転
写フイルムを加熱ロールを用いて転写温度120〜
130℃にて転写させた。結果は第1表に示すとお
りであつた。なお、同表には比較のために低温プ
ラズマ処理を行わなかつた転写フイルムについて
のテスト結果も併記した。 転写後のインク密着性:JIS D 0202の試験方
法に準拠
【表】
実施例 2
塩化ビニル樹脂100部、可塑剤(DOP)20部、
エポキシ化大豆油5部、Ba−Zn系安定剤3部よ
りなる配合物をカレンダー法によりフイルムに成
形加工した。このフイルムをプラズマ発生装置内
にセツトし、装置内を10-4トルまで減圧にした後
大気を導入し、次いでCOガスを導入して装置内
を大気分圧0.1トルCOガス分圧0.4トルに調整保持
後110kHz5kWの高周波電力を印加して低温プラ
ズマを発生させ、フイルムを1分間処理した。 つぎに、この処理フイルムに対して塩ビ用オフ
セツトインキ(大日精化V9インキ)用いて、一
般的なオフセツト印刷機にて4色刷の花柄模様を
印刷し、50℃で乾燥して印刷フイルムを巻取つ
た。 このようにして得た転写フイルムを用いて転写
テストを行つた。すなわち、上記と同様の配合物
から作られたフイルムを加熱されたロール上を通
しながらこれに上記転写フイルムをラミネートし
転写温度150〜160℃にて転写させた。またこのラ
ミネートさせた状態でエンボスロール上に押圧す
ることによりエンボス加工し、エンボス適性をテ
ストした。 結果は第2表に示すとおりであつた。なお、同
表には比較のために低温プラズマ処理を行わなか
つた転写フイルムについてのテスト結果も併記し
た。
エポキシ化大豆油5部、Ba−Zn系安定剤3部よ
りなる配合物をカレンダー法によりフイルムに成
形加工した。このフイルムをプラズマ発生装置内
にセツトし、装置内を10-4トルまで減圧にした後
大気を導入し、次いでCOガスを導入して装置内
を大気分圧0.1トルCOガス分圧0.4トルに調整保持
後110kHz5kWの高周波電力を印加して低温プラ
ズマを発生させ、フイルムを1分間処理した。 つぎに、この処理フイルムに対して塩ビ用オフ
セツトインキ(大日精化V9インキ)用いて、一
般的なオフセツト印刷機にて4色刷の花柄模様を
印刷し、50℃で乾燥して印刷フイルムを巻取つ
た。 このようにして得た転写フイルムを用いて転写
テストを行つた。すなわち、上記と同様の配合物
から作られたフイルムを加熱されたロール上を通
しながらこれに上記転写フイルムをラミネートし
転写温度150〜160℃にて転写させた。またこのラ
ミネートさせた状態でエンボスロール上に押圧す
ることによりエンボス加工し、エンボス適性をテ
ストした。 結果は第2表に示すとおりであつた。なお、同
表には比較のために低温プラズマ処理を行わなか
つた転写フイルムについてのテスト結果も併記し
た。
【表】
実施例 3
実施例2と同様にして低温プラズマ処理した塩
化ビニル樹脂フイルムに、グラビヤコーターにて
ウレタン系塗料(大日精化PTC V−1マツトメ
デウム)を乾燥被膜で5μ塗布後、グラビヤ印刷
機にて塩ビ系インク(大日精化 VSインク)で
木目模様を印刷した。さらにこの印刷面にABS
と熱融着するアクリル系接着剤(コニシ(株)KV−
631)を乾燥被膜で6μ塗布した。押出機にてABS
樹脂(日本合成化学 JSR42)を使用し、T字形
のエツジ材を異型押出成形しながら前記処理され
たフイルム(幅20mmにスリツト)を押出された樹
脂の熱を利用して転写した。 得られた異型押出成形品は、印刷層とABSは
アクリル系接着剤を介して完全に密着し、剥離し
なかつた。さらにプラズマ処理フイルム(転写フ
イルム)を剥離した後の表面は、ウレタン系塗料
にて被覆されているため、耐溶剤性、耐水性、耐
摩耗性に著しくすぐれていた。またウレタン系塗
料と印刷層もセロテープテストでは剥離しなかつ
た。
化ビニル樹脂フイルムに、グラビヤコーターにて
ウレタン系塗料(大日精化PTC V−1マツトメ
デウム)を乾燥被膜で5μ塗布後、グラビヤ印刷
機にて塩ビ系インク(大日精化 VSインク)で
木目模様を印刷した。さらにこの印刷面にABS
と熱融着するアクリル系接着剤(コニシ(株)KV−
631)を乾燥被膜で6μ塗布した。押出機にてABS
樹脂(日本合成化学 JSR42)を使用し、T字形
のエツジ材を異型押出成形しながら前記処理され
たフイルム(幅20mmにスリツト)を押出された樹
脂の熱を利用して転写した。 得られた異型押出成形品は、印刷層とABSは
アクリル系接着剤を介して完全に密着し、剥離し
なかつた。さらにプラズマ処理フイルム(転写フ
イルム)を剥離した後の表面は、ウレタン系塗料
にて被覆されているため、耐溶剤性、耐水性、耐
摩耗性に著しくすぐれていた。またウレタン系塗
料と印刷層もセロテープテストでは剥離しなかつ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 無機ガスの低温プラズマで表面処理した塩化
ビニル系樹脂フイルムに、転写インク印刷を施こ
してなる塩化ビニル系樹脂製転写フイルム。 2 前記塩化ビニル系樹脂フイルムが芳香族系可
塑剤の配合された軟質フイルムである特許請求の
範囲第1項記載の転写フイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58185520A JPS6076400A (ja) | 1983-10-04 | 1983-10-04 | 塩化ビニル系樹脂製転写フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58185520A JPS6076400A (ja) | 1983-10-04 | 1983-10-04 | 塩化ビニル系樹脂製転写フイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6076400A JPS6076400A (ja) | 1985-04-30 |
| JPH0334479B2 true JPH0334479B2 (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=16172223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58185520A Granted JPS6076400A (ja) | 1983-10-04 | 1983-10-04 | 塩化ビニル系樹脂製転写フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6076400A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0729518B2 (ja) * | 1987-03-12 | 1995-04-05 | 凸版印刷株式会社 | 転写フイルム |
| JP4693317B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2011-06-01 | 日本写真印刷株式会社 | 凹凸転写シート、透明窓部を有する凹凸シートとその製造方法および凹凸面を有する加飾成形品の製造方法 |
-
1983
- 1983-10-04 JP JP58185520A patent/JPS6076400A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6076400A (ja) | 1985-04-30 |
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