JPH0334864A - Preparation of thermal head - Google Patents
Preparation of thermal headInfo
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- JPH0334864A JPH0334864A JP17097089A JP17097089A JPH0334864A JP H0334864 A JPH0334864 A JP H0334864A JP 17097089 A JP17097089 A JP 17097089A JP 17097089 A JP17097089 A JP 17097089A JP H0334864 A JPH0334864 A JP H0334864A
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- thermal head
- laser beam
- heating resistor
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はファクシミリ等で用いられているり″−マルヘ
ッドに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a multi-head used in facsimiles and the like.
(従来の技術) 本発明に関する従来技術として、特開昭6゜(1) 19266653公叩に記載されたものがある。(Conventional technology) As a prior art related to the present invention, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 6(1998) (1) There is something described in 19266653 Kokaku.
以−F、この従来技術について説明する。ファクシミリ
等に用いられているサーマルパ・ノドには製造工程の違
いに基づいて厚膜型と薄膜型に分別されている。従来用
いられている発熱抵抗体では、通常の使用状況以上の電
圧が印加されても絶縁破壊が生しないという電圧範囲が
知られていた。厚膜型のサーマルヘッドでは発熱抵抗体
の抵抗値のばらつきが大きく、作画された印字画質に見
劣りが」二してしまうという問題点があった。この問題
点を解決するために電圧の印加によって発熱抵抗体の抵
抗値を制御する方法が知られていた。前記従来技術では
、特に厚膜型のサーマルヘッドの発熱抵抗体の抵抗値を
所定値内に制御するためにパルス電圧を印力]1する方
法がとられていた。This conventional technique will now be explained. Thermal pads used in facsimiles and the like are classified into thick-film types and thin-film types based on differences in manufacturing processes. Conventionally used heating resistors are known to have a voltage range within which dielectric breakdown does not occur even if a voltage higher than that under normal usage conditions is applied. Thick-film thermal heads have a problem in that the resistance value of the heating resistor varies widely, resulting in poor print quality. In order to solve this problem, a method has been known in which the resistance value of the heating resistor is controlled by applying a voltage. In the prior art described above, a method was adopted in which a pulse voltage was applied in order to control the resistance value of the heating resistor of a thick film type thermal head within a predetermined value.
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、この従来技術では発熱抵抗体の抵抗値は
抵抗値の下降する方向−・の制御ができるだけで、抵抗
値の」二昇する方向への制御をするとができなかった。(Problem to be Solved by the Invention) However, with this prior art, the resistance value of the heating resistor can only be controlled in the direction in which the resistance value decreases, but cannot be controlled in the direction in which the resistance value increases. could not.
また、発熱抵抗体にの抵抗値を(L))
パルス電圧の印加によって制御するには、発熱抵抗体に
接続された電極にパルス電圧を印加しなければならない
ため、抵抗値個々のばらつきが多い製品に対しては製造
工程において非常に多大な時間を要していた。In addition, in order to control the resistance value of the heating resistor by applying a pulse voltage (L), it is necessary to apply the pulse voltage to the electrode connected to the heating resistor, so there are many variations in the individual resistance values. The manufacturing process for the product required an extremely large amount of time.
本発明は、発熱抵抗体の抵抗値を上下両方向に制御可能
とすることを技術的課題とする。A technical problem of the present invention is to enable control of the resistance value of a heat generating resistor in both upward and downward directions.
(課題を解決するための手段)
J二記技術的課題を解決するために講じた技術的手段は
、絶縁材料から成る基板面上にガラス薄膜層を形成し、
該ガラス薄膜層の表面に酸化ルテニウムを主体とする発
熱抵抗体バクーンを形成してなるサーマルヘッドにおい
で、前記発熱抵抗体パターンにレーザー光を照射した、
ことである。(Means for solving the problem) The technical means taken to solve the technical problem described in J.2 is to form a glass thin film layer on the surface of a substrate made of an insulating material,
irradiating the heating resistor pattern with a laser beam in a thermal head having a heating resistor Bakun mainly composed of ruthenium oxide formed on the surface of the glass thin film layer;
That's true.
(作用)
このような技術的手段を講したことによって、発熱抵抗
体の抵抗値を上下両方向双方に精度良く制御することが
できるようになった。(Function) By taking such technical measures, it has become possible to accurately control the resistance value of the heating resistor both in the upper and lower directions.
(実施例) 以下、本発明の技術的手段を講した一実施例に(3) ついて説明する。(Example) Below is an example (3) in which the technical means of the present invention are implemented. explain about.
第■図は、本発明の一実施例を表すザーマルー・ラドS
の一部正面図である。第1図中、1は例えばアルミナ等
から成る絶縁性の基板、2は基板1上に形成されている
共通電極である。この共通電極2はフォトエツチング法
によって基板2面一にに形成されている。共通電極2は
複数の突条の電極部2a有している。共通電極2の電極
部2aの間隙に入り込むようにして個別電極3.へ−3
,が基板1面上に形成されている。このようにして基板
1面」二には共通電極2、および複数の個別電極2aが
加工形成されている。4は絶縁性の基板1に共通電極2
の突条の電極部2a間の部分がそれぞれ1ビツトの発熱
抵抗体4aで形成される発熱抵抗体群である。このよう
に形成された各発熱抵抗体4aの抵抗値はパルスレーザ
−光の印加によ−って所定の抵抗値に制御されている。FIG.
FIG. In FIG. 1, 1 is an insulating substrate made of, for example, alumina, and 2 is a common electrode formed on the substrate 1. In FIG. This common electrode 2 is formed over the entire surface of the substrate by photoetching. The common electrode 2 has a plurality of protruding electrode portions 2a. The individual electrodes 3. are inserted into the gaps between the electrode parts 2a of the common electrode 2. To-3
, are formed on one surface of the substrate. In this way, a common electrode 2 and a plurality of individual electrodes 2a are formed on one surface of the substrate. 4 is a common electrode 2 on an insulating substrate 1
The portion between the electrode portions 2a of the protrusions is a heating resistor group each formed of a 1-bit heating resistor 4a. The resistance value of each heating resistor 4a thus formed is controlled to a predetermined resistance value by application of pulsed laser light.
次にサーマルヘッドの製造方法について説明する。Next, a method for manufacturing the thermal head will be explained.
先ずはしめにアルミナを主体とする基板1面上(4)
にガラス材から成るガラス薄膜層(ブレース層)を形成
させる。次に、基板1面上にフォトエツチング法によっ
て共通電極2、および個別電極3〜3.、を形成する。First, a glass thin film layer (brace layer) made of a glass material is formed on one surface (4) of a substrate mainly made of alumina. Next, a common electrode 2 and individual electrodes 3 to 3 . are formed on the surface of the substrate 1 by photoetching. , form.
同様にして、基板1面上に発熱抵抗体群4を共通電極2
、および個別電極3゜〜3oと電気的に接続して形成す
る。発熱抵抗体群4の線幅はおよそ200μmに設定さ
れている。Similarly, a heat generating resistor group 4 is placed on the common electrode 2 on the substrate 1.
, and are electrically connected to the individual electrodes 3° to 3o. The line width of the heating resistor group 4 is set to approximately 200 μm.
発熱抵抗体4は二酸化ルテニウム(RuO2)を主体と
する材料を用いている。The heating resistor 4 is made of a material mainly composed of ruthenium dioxide (RuO2).
第2図は本発明に用いた装置のブロック図を示す。サー
マルヘッドSば、ステッピングモータで制御されるx−
yテーブル5上に設置して、2次元の仮想座標平面上を
自在に移動できるようになっている。X−Yテーブル5
はマイクロコンピュータ6によって制御されて、例えば
数値入力によってサーマルヘッドSを任意の位置に設定
することができる。マイクロコンピュータ6には抵抗測
定装置7が接続されている。抵抗測定装置7のプローブ
8の一方がサーマルヘッドSの共通電極2に接続され、
他方のプローブ8°が個別電極3゜(5)
〜31に接続されている。9はレーザー光の発振’A’
flZであり、この発振装置9はマイクロコンピュータ
6によって制御されている。マイクロコンピュータ6は
、発振装置9から出力されるパルスレザー光の出力タイ
ごング、あるいば発振時間等の諸条件を制御している。FIG. 2 shows a block diagram of the apparatus used in the present invention. The thermal head S is controlled by a stepping motor.
It is installed on the y-table 5 and can be freely moved on a two-dimensional virtual coordinate plane. X-Y table 5
is controlled by a microcomputer 6, and the thermal head S can be set at any position by inputting numerical values, for example. A resistance measuring device 7 is connected to the microcomputer 6. One of the probes 8 of the resistance measuring device 7 is connected to the common electrode 2 of the thermal head S,
The other probe 8° is connected to individual electrodes 3° (5) to 31. 9 is laser light oscillation 'A'
flZ, and this oscillation device 9 is controlled by a microcomputer 6. The microcomputer 6 controls various conditions such as the output timing of the pulsed laser light outputted from the oscillation device 9, or the oscillation time.
発振装置9から出力されたレーザー光はレンズ10で所
定の光束に収束されている。レンズ10によって例えば
、直径100μm以下のスポット光に収束される。尚、
レーザー光は発振装置9とサーマルヘッドSの間で公知
の手段によってエネルギー密度100mW/ant以下
に減衰されている。The laser beam output from the oscillation device 9 is converged into a predetermined beam by a lens 10. The lens 10 converges the light into a spot light having a diameter of 100 μm or less, for example. still,
The laser beam is attenuated between the oscillation device 9 and the thermal head S by known means to an energy density of 100 mW/ant or less.
第3図はパルスレーザ−の出力と、発熱抵抗体の抵抗値
変化の関係を示した特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between the output of the pulsed laser and the change in resistance value of the heating resistor.
前述した個別電極31〜3゜にパルスレーザ−光を照射
したとき、抵抗値を増加さ・已る方向(+)、および減
少させる方向(−)双方に抵抗値を変化させることがで
きる。抵抗値の変化は図示した上限Rfflllll、
′下限をR1,7の範囲を変動する。レーザー光の出力
強度はP。を上限とする。この上限(6)
埴を越えてしまうと発熱抵抗体4A料に絶縁破壊が発生
して抵抗値の制御ができなくなってしまうため、レーザ
ー光の出力はこの範囲を越えないようにすることが肝要
である。When the aforementioned individual electrodes 31 to 3° are irradiated with pulsed laser light, the resistance value can be changed both in the direction of increasing/crossing the resistance value (+) and in the direction of decreasing it (-). The change in resistance value is determined by the upper limit Rffllllll shown in the diagram.
'The lower limit is varied within the range of R1,7. The output intensity of the laser beam is P. is the upper limit. If this upper limit (6) is exceeded, dielectric breakdown will occur in the heating resistor 4A material, making it impossible to control the resistance value, so it is important that the output of the laser beam does not exceed this range. It is.
以上説明したように、本発明においCはパルスレーザ−
光を発熱抵抗体に照射してその抵抗値を増加させる方向
、あるいは減少させる方向双方にibl fac+でき
所1すjの抵抗値に設定できるため、高品質なナーマル
ヘッドを提供することができる。また、抵抗値を計測し
ながら抵抗値の制御を行うため高精度な抵抗値の設定が
できる。As explained above, in the present invention, C is a pulsed laser beam.
By irradiating the heating resistor with light, the resistance value can be set to ibl fac+yield 1sj both in the direction of increasing or decreasing the resistance value, so that a high quality natural head can be provided. Furthermore, since the resistance value is controlled while measuring the resistance value, the resistance value can be set with high precision.
I詞rfJiliの簡単z〈a兄明
第1図は本発明の一実施例を表すサーマルヘッドの一部
正面図、第2図は本発明に用いた装置のブロック図、第
3図はパルスレーザ−の出力と発熱抵抗体の抵抗値変化
の関係を示した特性図である。Figure 1 is a partial front view of a thermal head representing an embodiment of the present invention, Figure 2 is a block diagram of the device used in the present invention, and Figure 3 is a pulse laser It is a characteristic diagram showing the relationship between the output of - and the resistance value change of the heating resistor.
基板・・・1、 (7〉 発熱抵抗体・ 4、 サーマルヘッド・ 0Substrate...1, (7) Heat generating resistor/ 4, Thermal head 0
Claims (2)
し、該ガラス薄膜層の表面に酸化ルテニウムを主体とす
る発熱抵抗体パターンを形成してなるサーマルヘッドに
おいて、前記発熱抵抗体パターンにレーザー光を照射し
たことを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。(1) A thermal head in which a glass thin film layer is formed on the surface of a substrate made of an insulating material, and a heat generating resistor pattern mainly made of ruthenium oxide is formed on the surface of the glass thin film layer. A method for manufacturing a thermal head characterized by irradiating it with laser light.
ンの抵抗値を常時計測する請求項1記載のサーマルヘッ
ドの製造方法。(2) The method of manufacturing a thermal head according to claim 1, wherein the resistance value of the heating resistor pattern is constantly measured during irradiation with the laser beam.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17097089A JPH0334864A (en) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Preparation of thermal head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17097089A JPH0334864A (en) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Preparation of thermal head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0334864A true JPH0334864A (en) | 1991-02-14 |
Family
ID=15914742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17097089A Pending JPH0334864A (en) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Preparation of thermal head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0334864A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569574A (en) * | 1991-09-13 | 1993-03-23 | Fuji Xerox Co Ltd | Method and device for regulating resistance value of thermal head |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP17097089A patent/JPH0334864A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569574A (en) * | 1991-09-13 | 1993-03-23 | Fuji Xerox Co Ltd | Method and device for regulating resistance value of thermal head |
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