JPH0334864A - サーマルヘツドの製造方法 - Google Patents
サーマルヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0334864A JPH0334864A JP17097089A JP17097089A JPH0334864A JP H0334864 A JPH0334864 A JP H0334864A JP 17097089 A JP17097089 A JP 17097089A JP 17097089 A JP17097089 A JP 17097089A JP H0334864 A JPH0334864 A JP H0334864A
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- Japan
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- thermal head
- laser beam
- heating resistor
- substrate
- individual electrodes
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はファクシミリ等で用いられているり″−マルヘ
ッドに関するものである。
ッドに関するものである。
（従来の技術）
本発明に関する従来技術として、特開昭６゜（１）
１９２６６６５３公叩に記載されたものがある。
以−Ｆ、この従来技術について説明する。ファクシミリ
等に用いられているサーマルパ・ノドには製造工程の違
いに基づいて厚膜型と薄膜型に分別されている。従来用
いられている発熱抵抗体では、通常の使用状況以上の電
圧が印加されても絶縁破壊が生しないという電圧範囲が
知られていた。厚膜型のサーマルヘッドでは発熱抵抗体
の抵抗値のばらつきが大きく、作画された印字画質に見
劣りが」二してしまうという問題点があった。この問題
点を解決するために電圧の印加によって発熱抵抗体の抵
抗値を制御する方法が知られていた。前記従来技術では
、特に厚膜型のサーマルヘッドの発熱抵抗体の抵抗値を
所定値内に制御するためにパルス電圧を印力］１する方
法がとられていた。
等に用いられているサーマルパ・ノドには製造工程の違
いに基づいて厚膜型と薄膜型に分別されている。従来用
いられている発熱抵抗体では、通常の使用状況以上の電
圧が印加されても絶縁破壊が生しないという電圧範囲が
知られていた。厚膜型のサーマルヘッドでは発熱抵抗体
の抵抗値のばらつきが大きく、作画された印字画質に見
劣りが」二してしまうという問題点があった。この問題
点を解決するために電圧の印加によって発熱抵抗体の抵
抗値を制御する方法が知られていた。前記従来技術では
、特に厚膜型のサーマルヘッドの発熱抵抗体の抵抗値を
所定値内に制御するためにパルス電圧を印力］１する方
法がとられていた。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、この従来技術では発熱抵抗体の抵抗値は
抵抗値の下降する方向−・の制御ができるだけで、抵抗
値の」二昇する方向への制御をするとができなかった。
抵抗値の下降する方向−・の制御ができるだけで、抵抗
値の」二昇する方向への制御をするとができなかった。
また、発熱抵抗体にの抵抗値を（Ｌ））
パルス電圧の印加によって制御するには、発熱抵抗体に
接続された電極にパルス電圧を印加しなければならない
ため、抵抗値個々のばらつきが多い製品に対しては製造
工程において非常に多大な時間を要していた。
接続された電極にパルス電圧を印加しなければならない
ため、抵抗値個々のばらつきが多い製品に対しては製造
工程において非常に多大な時間を要していた。
本発明は、発熱抵抗体の抵抗値を上下両方向に制御可能
とすることを技術的課題とする。
とすることを技術的課題とする。
（課題を解決するための手段）
Ｊ二記技術的課題を解決するために講じた技術的手段は
、絶縁材料から成る基板面上にガラス薄膜層を形成し、
該ガラス薄膜層の表面に酸化ルテニウムを主体とする発
熱抵抗体バクーンを形成してなるサーマルヘッドにおい
で、前記発熱抵抗体パターンにレーザー光を照射した、
ことである。
、絶縁材料から成る基板面上にガラス薄膜層を形成し、
該ガラス薄膜層の表面に酸化ルテニウムを主体とする発
熱抵抗体バクーンを形成してなるサーマルヘッドにおい
で、前記発熱抵抗体パターンにレーザー光を照射した、
ことである。
（作用）
このような技術的手段を講したことによって、発熱抵抗
体の抵抗値を上下両方向双方に精度良く制御することが
できるようになった。
体の抵抗値を上下両方向双方に精度良く制御することが
できるようになった。
（実施例）
以下、本発明の技術的手段を講した一実施例に（３）
ついて説明する。
第■図は、本発明の一実施例を表すザーマルー・ラドＳ
の一部正面図である。第１図中、１は例えばアルミナ等
から成る絶縁性の基板、２は基板１上に形成されている
共通電極である。この共通電極２はフォトエツチング法
によって基板２面一にに形成されている。共通電極２は
複数の突条の電極部２ａ有している。共通電極２の電極
部２ａの間隙に入り込むようにして個別電極３．へ−３
，が基板１面上に形成されている。このようにして基板
１面」二には共通電極２、および複数の個別電極２ａが
加工形成されている。４は絶縁性の基板１に共通電極２
の突条の電極部２ａ間の部分がそれぞれ１ビツトの発熱
抵抗体４ａで形成される発熱抵抗体群である。このよう
に形成された各発熱抵抗体４ａの抵抗値はパルスレーザ
−光の印加によ−って所定の抵抗値に制御されている。
の一部正面図である。第１図中、１は例えばアルミナ等
から成る絶縁性の基板、２は基板１上に形成されている
共通電極である。この共通電極２はフォトエツチング法
によって基板２面一にに形成されている。共通電極２は
複数の突条の電極部２ａ有している。共通電極２の電極
部２ａの間隙に入り込むようにして個別電極３．へ−３
，が基板１面上に形成されている。このようにして基板
１面」二には共通電極２、および複数の個別電極２ａが
加工形成されている。４は絶縁性の基板１に共通電極２
の突条の電極部２ａ間の部分がそれぞれ１ビツトの発熱
抵抗体４ａで形成される発熱抵抗体群である。このよう
に形成された各発熱抵抗体４ａの抵抗値はパルスレーザ
−光の印加によ−って所定の抵抗値に制御されている。
次にサーマルヘッドの製造方法について説明する。
先ずはしめにアルミナを主体とする基板１面上（４）
にガラス材から成るガラス薄膜層（ブレース層）を形成
させる。次に、基板１面上にフォトエツチング法によっ
て共通電極２、および個別電極３〜３．、を形成する。
させる。次に、基板１面上にフォトエツチング法によっ
て共通電極２、および個別電極３〜３．、を形成する。
同様にして、基板１面上に発熱抵抗体群４を共通電極２
、および個別電極３゜〜３ｏと電気的に接続して形成す
る。発熱抵抗体群４の線幅はおよそ２００μｍに設定さ
れている。
、および個別電極３゜〜３ｏと電気的に接続して形成す
る。発熱抵抗体群４の線幅はおよそ２００μｍに設定さ
れている。
発熱抵抗体４は二酸化ルテニウム（ＲｕＯ２）を主体と
する材料を用いている。
する材料を用いている。
第２図は本発明に用いた装置のブロック図を示す。サー
マルヘッドＳば、ステッピングモータで制御されるｘ−
ｙテーブル５上に設置して、２次元の仮想座標平面上を
自在に移動できるようになっている。Ｘ−Ｙテーブル５
はマイクロコンピュータ６によって制御されて、例えば
数値入力によってサーマルヘッドＳを任意の位置に設定
することができる。マイクロコンピュータ６には抵抗測
定装置７が接続されている。抵抗測定装置７のプローブ
８の一方がサーマルヘッドＳの共通電極２に接続され、
他方のプローブ８°が個別電極３゜（５） 〜３１に接続されている。９はレーザー光の発振’Ａ’
ｆｌＺであり、この発振装置９はマイクロコンピュータ
６によって制御されている。マイクロコンピュータ６は
、発振装置９から出力されるパルスレザー光の出力タイ
ごング、あるいば発振時間等の諸条件を制御している。
マルヘッドＳば、ステッピングモータで制御されるｘ−
ｙテーブル５上に設置して、２次元の仮想座標平面上を
自在に移動できるようになっている。Ｘ−Ｙテーブル５
はマイクロコンピュータ６によって制御されて、例えば
数値入力によってサーマルヘッドＳを任意の位置に設定
することができる。マイクロコンピュータ６には抵抗測
定装置７が接続されている。抵抗測定装置７のプローブ
８の一方がサーマルヘッドＳの共通電極２に接続され、
他方のプローブ８°が個別電極３゜（５） 〜３１に接続されている。９はレーザー光の発振’Ａ’
ｆｌＺであり、この発振装置９はマイクロコンピュータ
６によって制御されている。マイクロコンピュータ６は
、発振装置９から出力されるパルスレザー光の出力タイ
ごング、あるいば発振時間等の諸条件を制御している。
発振装置９から出力されたレーザー光はレンズ１０で所
定の光束に収束されている。レンズ１０によって例えば
、直径１００μｍ以下のスポット光に収束される。尚、
レーザー光は発振装置９とサーマルヘッドＳの間で公知
の手段によってエネルギー密度１００ｍＷ／ａｎｔ以下
に減衰されている。
定の光束に収束されている。レンズ１０によって例えば
、直径１００μｍ以下のスポット光に収束される。尚、
レーザー光は発振装置９とサーマルヘッドＳの間で公知
の手段によってエネルギー密度１００ｍＷ／ａｎｔ以下
に減衰されている。
第３図はパルスレーザ−の出力と、発熱抵抗体の抵抗値
変化の関係を示した特性図である。
変化の関係を示した特性図である。
前述した個別電極３１〜３゜にパルスレーザ−光を照射
したとき、抵抗値を増加さ・已る方向（＋）、および減
少させる方向（−）双方に抵抗値を変化させることがで
きる。抵抗値の変化は図示した上限Ｒｆｆｌｌｌｌｌ、
′下限をＲ１，７の範囲を変動する。レーザー光の出力
強度はＰ。を上限とする。この上限（６） 埴を越えてしまうと発熱抵抗体４Ａ料に絶縁破壊が発生
して抵抗値の制御ができなくなってしまうため、レーザ
ー光の出力はこの範囲を越えないようにすることが肝要
である。
したとき、抵抗値を増加さ・已る方向（＋）、および減
少させる方向（−）双方に抵抗値を変化させることがで
きる。抵抗値の変化は図示した上限Ｒｆｆｌｌｌｌｌ、
′下限をＲ１，７の範囲を変動する。レーザー光の出力
強度はＰ。を上限とする。この上限（６） 埴を越えてしまうと発熱抵抗体４Ａ料に絶縁破壊が発生
して抵抗値の制御ができなくなってしまうため、レーザ
ー光の出力はこの範囲を越えないようにすることが肝要
である。
以上説明したように、本発明においＣはパルスレーザ−
光を発熱抵抗体に照射してその抵抗値を増加させる方向
、あるいは減少させる方向双方にｉｂｌ ｆａｃ＋でき
所１すｊの抵抗値に設定できるため、高品質なナーマル
ヘッドを提供することができる。また、抵抗値を計測し
ながら抵抗値の制御を行うため高精度な抵抗値の設定が
できる。
光を発熱抵抗体に照射してその抵抗値を増加させる方向
、あるいは減少させる方向双方にｉｂｌ ｆａｃ＋でき
所１すｊの抵抗値に設定できるため、高品質なナーマル
ヘッドを提供することができる。また、抵抗値を計測し
ながら抵抗値の制御を行うため高精度な抵抗値の設定が
できる。
Ｉ詞ｒｆＪｉｌｉの簡単ｚ〈ａ兄明
第１図は本発明の一実施例を表すサーマルヘッドの一部
正面図、第２図は本発明に用いた装置のブロック図、第
３図はパルスレーザ−の出力と発熱抵抗体の抵抗値変化
の関係を示した特性図である。
正面図、第２図は本発明に用いた装置のブロック図、第
３図はパルスレーザ−の出力と発熱抵抗体の抵抗値変化
の関係を示した特性図である。
基板・・・１、
（７〉
発熱抵抗体・
４、
サーマルヘッド・
０
Claims (2)
- （１）絶縁材料から成る基板面上にガラス薄膜層を形成
し、該ガラス薄膜層の表面に酸化ルテニウムを主体とす
る発熱抵抗体パターンを形成してなるサーマルヘッドに
おいて、前記発熱抵抗体パターンにレーザー光を照射し
たことを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。 - （２）前記レーザー光を照射中は前記発熱抵抗体パータ
ンの抵抗値を常時計測する請求項１記載のサーマルヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17097089A JPH0334864A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | サーマルヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17097089A JPH0334864A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | サーマルヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0334864A true JPH0334864A (ja) | 1991-02-14 |
Family
ID=15914742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17097089A Pending JPH0334864A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | サーマルヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0334864A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569574A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-03-23 | Fuji Xerox Co Ltd | サーマルヘツドの抵抗値調整方法および装置 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP17097089A patent/JPH0334864A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569574A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-03-23 | Fuji Xerox Co Ltd | サーマルヘツドの抵抗値調整方法および装置 |
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