JPH033487A - Photoelectric conversion device - Google Patents

Photoelectric conversion device

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JPH033487A
JPH033487A JP1136126A JP13612689A JPH033487A JP H033487 A JPH033487 A JP H033487A JP 1136126 A JP1136126 A JP 1136126A JP 13612689 A JP13612689 A JP 13612689A JP H033487 A JPH033487 A JP H033487A
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JP
Japan
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transistor
photoelectric conversion
conversion device
signal
main electrode
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JP1136126A
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Japanese (ja)
Inventor
Masato Shinohara
真人 篠原
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

PURPOSE:To increase the effective light receiving area by using a 1st transistor(TR) storing a photoelectric charge to a control electrode section and amplifying and outputting the optical charge and a 2nd TR for resetting the stored photoelectric charge so as to control the signal readout. CONSTITUTION:A 1st TR MS1 storing a photoelectric charge to a control electrode and amplifying and outputting a photoelectric charge and a 2nd TR MS2 to reset the stored photoelectric charge are used to control the signal readout operation. Thus, number of TRs and wiring are decreased to increase the effective photodetection area, and a high aperture rate is kept even in a high integrated circuit sensor and high sensitivity is attained. Moreover, simultaneous readout of signal and dark output and its subtraction processing are implemented with a circuit of simple constitution to realize high S/N.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

[産業上の利用分野] 本発明は光電変換装置に係り、特に制(財)電極部に光
電荷を蓄積し、この光電荷を主電極部から増幅して出力
する光電変換装置に関する。 [従来の技術] 従来、MOSトランジスタのゲートに光信号電荷を蓄積
することによって、増幅した信号を出力する方式の光電
変換装置としては、例えば、テレビジョン学会技術報告
、 D1005(1986年11月)、特開昭63−2
76377号公報等に開示されたものがある。 第7図及び第8図は、上記従来の光電変換装置のセンサ
の一画素を示す回路構成図である。 第7図及び第8図において、Ma 、M4はそれぞれフ
ォトダイオードD、、D、に蓄積された光電荷をゲート
に入力し、増幅して出力するMOSトランジスタ、M、
、M、は二次元に並んだ画素の行を選択するためのMO
S トランジスタ、M、。 M6はフォトダイオードの光電荷をリセットにするため
のMOSトランジスタであり、Ls、Lsは信号出力線
である。これらの画素は蓄積された光信号が増幅されて
出力されるため、S/N比が読み出し回路系のノイズに
支配されないという長所を有する。 [発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来例では、第7図及び第8図に示
すように、一画素が三つのトランジスタで構成されてい
るため、一つの画素に接続する配線数も多く、画素面積
の小さな高集積化されたセンサでは、画素における有効
受光面積が著しく損なわれ、感度が悪(なる問題点があ
った。 また、一つの画素が一つの増幅素子として動作するため
、各画素のオフセットのバラツキが固定パターンノイズ
として現わされ、これによって、S/N比が制限される
という問題点もあった。 [課題を解決するための手段] 本発明の光電変換装置は、制御電極部に光電荷を蓄積し
、この光電荷を増幅して出力する第1のトランジスタと
、蓄積された光電荷をリセットするための第2のトラン
ジスタとを有し、前記第2のトランジスタの一方の主電
極部を前記第1のトランジスタの出力側の主電極部と電
気的に接続し、前記第2のトランジスタの他方の主電極
部を前記第1のトランジスタの制御電極部と・電気的に
接続したことを特徴とする。 なお、本願において、「電気的に接続」とは複数の電極
部を同一領域で構成した場合の他、複数の電極部をそれ
ぞれ異なる領域に形成し、各領域を配線等で接続した場
合を含むものとする。
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a photoelectric conversion device, and more particularly to a photoelectric conversion device that accumulates photocharges in a control electrode portion, amplifies and outputs the photocharges from a main electrode portion. [Prior Art] Conventionally, a photoelectric conversion device that outputs an amplified signal by accumulating optical signal charges in the gate of a MOS transistor has been described, for example, in the Technical Report of the Television Society of Japan, D1005 (November 1986). , JP-A-63-2
Some of them are disclosed in Japanese Patent No. 76377 and the like. FIGS. 7 and 8 are circuit configuration diagrams showing one pixel of a sensor of the conventional photoelectric conversion device. In FIGS. 7 and 8, Ma and M4 are MOS transistors that input the photocharges accumulated in the photodiodes D, D, to their gates, amplify them, and output them, respectively.
, M is the MO for selecting a two-dimensional row of pixels.
S transistor, M. M6 is a MOS transistor for resetting the photocharge of the photodiode, and Ls and Ls are signal output lines. These pixels have the advantage that the accumulated optical signal is amplified and output, so that the S/N ratio is not dominated by noise in the readout circuit system. [Problems to be Solved by the Invention] However, in the above conventional example, as shown in FIGS. 7 and 8, one pixel is composed of three transistors, so the number of wires connected to one pixel is also small. In most highly integrated sensors with small pixel areas, the effective light-receiving area of the pixel is significantly reduced, resulting in poor sensitivity.Also, since each pixel operates as one amplification element, There is also a problem in that variations in the offset of each pixel appear as fixed pattern noise, which limits the S/N ratio. [Means for Solving the Problems] The photoelectric conversion device of the present invention has It has a first transistor that accumulates photocharges in a control electrode portion, amplifies and outputs the photocharges, and a second transistor that resets the accumulated photocharges, and the second transistor One main electrode section is electrically connected to the output side main electrode section of the first transistor, and the other main electrode section of the second transistor is electrically connected to the control electrode section of the first transistor. In this application, "electrically connected" refers to not only a case where a plurality of electrode parts are formed in the same area, but also a case where a plurality of electrode parts are formed in different areas, and each area is connected. This includes the case where they are connected by wiring etc.

【作用】[Effect]

本発明は、制御電極部に光電荷を蓄積し、この光電荷を
増幅して出力する第1のトランジスタと、蓄積された光
電荷をリセットするための第2のトランジスタとで、信
号読み出し動作を制御するものであり、トランジスタの
数及び配線を少なくして、有効受光面積を増大させるも
のである。また、信号と暗時出力との同時読み出し、減
算処理を容易化し、高S/N化を実現するものである。 [実施例] 以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。 第1図は、本発明の光電変換装置の第1実施例の信号読
み出し回路系の回路構成図である。 以下の実施例は本発明を固体撮像装置に用いた例である
が、必ずしもかρ)る実施例に限定されるものでな(、
例えばラインセンサ等にも用いることができる。 なお、説明の簡易化のため本実施例では、二行、二部分
のセンサ画素の信号読み出し回路を示している。 第1図に示すように、1つのセンサ画素S(図中破線図
示)は、増幅用MOS )ランジスタM□、リセット用
MOS トランジスタM0、及びフォトダイオードD□
から構成される。 なお、リセット用MO3トランジスタM3□のソースは
増幅用MO3トランジスタMslのゲートと電気的に接
続され、リセット用MOS トランジスタM0のドレイ
ンは増幅用MOS )ランジスタM31のドレインと電
気的に接続される。なお、半導体基板上に、かかるセン
サ画素を形成する場合、リセット用MO3トランジスタ
M□のソースと増幅用MO3hランジスタMs+のゲー
トを同一半導体領域で形成し、リセット用MOSトラン
ジスタM saのドレインと増幅用MOS )ランジス
タM□のドレインとを同一半導体領域で形成すれことが
できる。無論ソース領域、ゲート領域、ドレイン領域を
分離して形成し、配線で接続することも可能である。 他のセンサも同様な構成となっている。なお、増幅用M
O3トランジスタM1、リセット用MO3トランジスタ
Mst、及び負荷トランジスタMア、。 M7.はn型MOS トランジスタとして、またバイポ
ーラトランジスタTr、TxはNPN型バイポーラトラ
ンジスタとして説明するが、それぞれn型MOS )−
ランジスタ、PNP型バイポーラトランジスタとしても
よい。 第1図において、My+、 71/ItIlは画素にお
ける増幅用トランジスタM□とともに反転型アンプを構
成するための負荷トランジスタ、CI、caIC,、C
4はそれぞれ画素からの出力を蓄積するための容量、M
 Rl 、 M * * + M Fl s + M 
+114は画素出力を上記容量01〜C4へ転送するた
めのMOS トランジスタ、Jl、J*はそれぞれ上下
の転送MOSトランジスタM91〜M□のゲートに接続
する駆動線である0M□、 MHII MH8N MH
4はそれぞれ容量01〜C4に蓄積された信号を、水平
シフトレジスタ2かもの出力に従って水平信号線Hへ転
送するためのMOSトランジスタ、T+、Tsはエミッ
タが読み出し行のセンサ画素の増幅用MOS トランジ
スタのソースに接続され、ソースに一定の電圧を与える
バイポーラトランジスタである。 Mv 1. M v sはセンサ画素におけるリセット
用MOSトランジスタのゲートと接続され、垂直シフト
レジスタの出力に従ってリセットの行を選択するための
MOSトランジスタである@ Mvi+ MV4はそれ
ぞれバイポーラトランジスタT+、T寓のベースに接続
され、垂直シフトレジスタ1からの出力によって、読み
出す行を選択するためのMOSトランジスタである。R
1は読み出しのタイミングを与えるパルスを伝える駆動
線、R,はりセットのタイミングを与えるパルスを伝え
る駆動線である。 A+、Asはセンサ出力を取出すためのアンプである。 第2図は、上記信号読み出し回路系の一部回路構成図で
ある。 第2図に示した一部回路構成図は本発明の特徴部分を説
明するものであり、上述したようにバイポーラトランジ
スタT1のエミッタは、増幅用MOS )ランジスタM
□のソースに接続され、ソース電位VOOを供給する。 増幅用MOSトランジスタM□と、負荷となるMOSト
ランジスタM〒1とで反転アンプを構成している。 第3図は、第2図に示した反転アンプの入出力特性を示
す特性図である。 同図において、■、はV IN= V ouyとなると
ころの値である。反転アンプのゲイン(−g)は増幅用
MO3トランジスタM□及びMOS トランジスタMT
1の構造パラメータに依存する。また、ゲイン−gを保
つ入力電圧範囲は、MOS トランジスタからvo。−
■いまでの範囲となる。 以下、一つのセンサ画素からの読み出し方法について第
1図〜第3図を用いて説明する。 信号読み出し動作は、三つの基本動作、すなわち、読み
出し動作、リセット動作、蓄積動作からなる。 読み出されるセンサ画素の行を第1行目とすると、バイ
ポーラトランジスタTIのベース電位がハイレベルに上
がり、反転アンプのソース電位vmsが供給される。 この時、垂直出力線には、フォトダイオードに蓄積され
た光電荷に応じて変化した増幅用MOSトランジスタM
□のゲート電位に対応する出力電位があられれ読み出し
動作を行うことができる。 次に、リセット用MOSトランジスタM3□のゲート電
位をロウレベルとして、リセット用MOSトランジスタ
M□をON状態とする。この時増幅用MO3)ランジス
タM□のゲート電位は、第3図に示したようにV、とな
り、リセット動作を行うことができる。 次に、リセット用−OS )ランジスタM。のゲート電
位なハイレベルにもどして、リセット用MOSトランジ
スタM□をOFF状態とし、またバイポーラトランジス
タT、のベース電位なロウレベルとして、増幅用MOS
 トランジスタMllのソースを接地電位(GND)と
する。この状態で蓄積動作が開始され、光電荷の蓄積量
に応じて、増幅用MOSトランジスタM、lのゲートに
接続するフォトダイオードD□の電極電位はVいから上
昇していく。 この蓄積動作において、増幅用MOS l−ランジスタ
M□のゲート電位は71以上、リセット用MOSトラン
ジスタM0のゲート電圧はハイレベルにあるが、他の行
の画素の読み出しが行われているときでも、垂直出力線
の電位はV、を超えることがないので、増幅用MOSト
ランジスタM□、リセット用MOS トランジスタM。 とも必ずOFF状態にあり、他の画素の読み出しに影響
を及ぼすことはない。 次に第4図を用いて、第1図の動作を説明する。 第4図は、第1図に示す光電変換装置の駆動パルスのタ
イミングチャートである。 まず、駆動線R1にハイレベルの信号を印加し、駆動線
J1にハイレベルの信号を印加すると、垂直シフトレジ
スタ1によって選択される行の画素の出力信号が、容量
C,,C,に蓄積される。次に駆動線R2にロウレベル
の信号を印加すると画素のリセットが行われる。 駆動線R,にハイレベルの信号を印加し、駆動線J、に
ハイレベルの信号を印加すると、リセットされた画素の
出力、すなわち暗出力を容量C,,C,に蓄積する。駆
動線R2をロウレベルの信号として、読み出し動作を終
えた後、上下の水平シフトレジスタ2の出力に従い、容
量上の信号電圧及び暗電圧をアンプA、及びアンプA3
から順次出力させる。信号読み出し回路系の外部におい
て、アンプA1の信号出力からアンプA2の暗出力を引
くという減算処理を行うと、暗出力の画素毎のバラツキ
により生ずる暗時の固定パターンノイズのないセンサ信
号が得られる。 第5図は、本発明の光電変換装置の第2実施例の光電変
換部の回路構成図である。 なお、フォトトランジスタは説明の都合上省略している
。 1つのセンサ画素の構成部材は、第1図に示した1つの
センサ画素Sの構成部材と同じであるが、リセット用M
OSトランジスタMsmの一方の主電極は隣接するセン
サ画素の増幅用MOSトランジスタM□のドレインと接
続されている。 第6図は、本発明を適用した固体撮像装置の概略的構成
図である。 同図において、光センサがエリア状に配列された撮像素
子201は、垂直走査部202及び水平走査部203に
よってテレビジョン走査が行なわれる。 水平走査部203から出力された信号は、処理回路20
4を通して標準テレビジョン信号として出力される。 垂直および水平走査部202及び203の駆動パルスφ
■1 φM+、φHII φvs、φシl、φv2等は
ドライバ205によって供給される。またドライバ20
5はコントローラ206によって制限される。 [発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明の光電変換装置は、
制御電極部に光電荷を蓄積し、この光電荷を増幅して出
力する第1のトランジスタと、蓄積された光電荷をリセ
ットするための第2のトランジスタとで、信号読み出し
動作を制御することができ、トランジスタの数及び配線
を少な(して、有効受光面積を増大させ、高集積化され
たセンサでも高開口率を保ち、高感度化を達成すること
ができる。また信号と暗時出力との同時読み出し、減算
処理を集積化された簡易な構成の回路で行うことができ
、高S/N化を実現することができる。 なお、第1のトランジスタの出力側の主電極部に、第3
のトランジスタの一方の主電極部を接続し、前記第1の
トランジスタの増幅ゲインを負とすることで負のゲイン
を持つアンプを構成することができ、また、前記第1の
トランジスタの出力側でない側の主電極部に、コレクタ
が定電圧源に・接続されたバイポーラトランジスタのエ
ミッタを接続すれば、ソース電位を任意に変えることが
できるので、1つの画素の出力時に他の画素の影響を受
けることがなく、偽信号のないエリアセンサーを提供す
ることができる。
In the present invention, a signal readout operation is performed using a first transistor that accumulates photocharges in a control electrode portion, amplifies and outputs the photocharges, and a second transistor that resets the accumulated photocharges. The purpose is to increase the effective light receiving area by reducing the number of transistors and wiring. Furthermore, simultaneous reading of the signal and dark output and subtraction processing are facilitated, and a high S/N ratio is achieved. [Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail using the drawings. FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a signal readout circuit system of a first embodiment of a photoelectric conversion device of the present invention. The following embodiments are examples in which the present invention is applied to a solid-state imaging device, but the present invention is not necessarily limited to such embodiments.
For example, it can also be used as a line sensor. In order to simplify the explanation, this embodiment shows a signal readout circuit for two rows and two portions of sensor pixels. As shown in FIG. 1, one sensor pixel S (indicated by a broken line in the figure) includes an amplification MOS transistor M□, a reset MOS transistor M0, and a photodiode D□.
It consists of Note that the source of the reset MO3 transistor M3□ is electrically connected to the gate of the amplification MO3 transistor Msl, and the drain of the reset MOS transistor M0 is electrically connected to the drain of the amplification MOS transistor M31. Note that when forming such a sensor pixel on a semiconductor substrate, the source of the reset MO3 transistor M□ and the gate of the amplification MO3h transistor Ms+ are formed in the same semiconductor region, and the drain of the reset MOS transistor Msa and the amplification MO3h transistor Ms+ are formed in the same semiconductor region. The drain of transistor M□ (MOS) can be formed in the same semiconductor region. Of course, it is also possible to form the source region, gate region, and drain region separately and connect them with wiring. Other sensors have similar configurations. In addition, M for amplification
O3 transistor M1, reset MO3 transistor Mst, and load transistor Ma. M7. is an n-type MOS transistor, and bipolar transistors Tr and Tx are explained as NPN-type bipolar transistors, but each is an n-type MOS transistor)
A transistor or a PNP bipolar transistor may be used. In FIG. 1, My+, 71/ItIl are load transistors, CI, caIC, , C, for forming an inverting amplifier together with the amplification transistor M□ in the pixel.
4 is the capacitance for accumulating the output from each pixel, M
Rl, M * * + M Fl s + M
+114 is a MOS transistor for transferring the pixel output to the capacitors 01 to C4, and Jl and J* are drive lines connected to the gates of the upper and lower transfer MOS transistors M91 to M□, respectively.0M□, MHII MH8N MH
4 are MOS transistors for transferring the signals accumulated in the capacitors 01 to C4 to the horizontal signal line H according to the output of the horizontal shift register 2, and T+ and Ts are MOS transistors whose emitters are for amplification of the sensor pixels in the readout row. It is a bipolar transistor that is connected to the source of and applies a constant voltage to the source. Mv1. Mvs is connected to the gate of the reset MOS transistor in the sensor pixel, and is a MOS transistor for selecting the reset row according to the output of the vertical shift register. This is a MOS transistor for selecting a row to be read based on the output from the vertical shift register 1. R
Reference numeral 1 denotes a drive line that transmits a pulse that provides timing for reading, and R represents a drive line that transmits a pulse that provides timing for setting the beam. A+ and As are amplifiers for taking out the sensor output. FIG. 2 is a partial circuit configuration diagram of the signal readout circuit system. The partial circuit configuration diagram shown in FIG. 2 is for explaining the characteristic part of the present invention, and as mentioned above, the emitter of the bipolar transistor T1 is an amplifying MOS transistor M.
It is connected to the source of □ and supplies source potential VOO. The amplification MOS transistor M□ and the MOS transistor M〒1 serving as a load constitute an inverting amplifier. FIG. 3 is a characteristic diagram showing the input/output characteristics of the inverting amplifier shown in FIG. 2. In the figure, ■ is a value where V IN=V ouy. The gain (-g) of the inverting amplifier is determined by the amplification MO3 transistor M□ and the MOS transistor MT.
It depends on the structural parameters of 1. Also, the input voltage range that maintains the gain -g is from MOS transistor to vo. −
■This is the current range. Hereinafter, a reading method from one sensor pixel will be explained using FIGS. 1 to 3. The signal read operation consists of three basic operations: read operation, reset operation, and storage operation. When the row of sensor pixels to be read is the first row, the base potential of the bipolar transistor TI rises to a high level, and the source potential vms of the inverting amplifier is supplied. At this time, the vertical output line is connected to an amplification MOS transistor M that changes according to the photocharge accumulated in the photodiode.
If the output potential corresponding to the gate potential of □ is set, a read operation can be performed. Next, the gate potential of the reset MOS transistor M3□ is set to a low level, and the reset MOS transistor M□ is turned on. At this time, the gate potential of the amplifier MO3) transistor M□ becomes V as shown in FIG. 3, and a reset operation can be performed. Next, reset -OS) transistor M. The gate potential of the bipolar transistor T is returned to a high level to turn off the reset MOS transistor M□, and the base potential of the bipolar transistor T is set to a low level.
The source of transistor Mll is set to ground potential (GND). In this state, the accumulation operation is started, and the electrode potential of the photodiode D□ connected to the gates of the amplification MOS transistors M and I rises from V in accordance with the amount of photocharge accumulated. In this accumulation operation, the gate potential of the amplification MOS l-transistor M□ is 71 or more, and the gate voltage of the reset MOS transistor M0 is at a high level, but even when pixels in other rows are being read out, Since the potential of the vertical output line does not exceed V, the amplification MOS transistor M□ and the reset MOS transistor M are connected. Both are always in the OFF state and do not affect the readout of other pixels. Next, the operation shown in FIG. 1 will be explained using FIG. 4. FIG. 4 is a timing chart of drive pulses of the photoelectric conversion device shown in FIG. 1. First, when a high level signal is applied to the drive line R1 and a high level signal is applied to the drive line J1, the output signal of the pixel in the row selected by the vertical shift register 1 is accumulated in the capacitor C,,C, be done. Next, when a low level signal is applied to the drive line R2, the pixels are reset. When a high-level signal is applied to the drive line R, and a high-level signal is applied to the drive line J, the output of the reset pixel, that is, the dark output, is accumulated in the capacitors C,,C,. After completing the read operation by setting the drive line R2 as a low level signal, the signal voltage and dark voltage on the capacitors are transferred to the amplifiers A and A3 according to the outputs of the upper and lower horizontal shift registers 2.
Output sequentially from If a subtraction process is performed outside the signal readout circuit system to subtract the dark output of the amplifier A2 from the signal output of the amplifier A1, a sensor signal without fixed pattern noise in the dark caused by variations in the dark output from pixel to pixel can be obtained. . FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a photoelectric conversion section of a second embodiment of the photoelectric conversion device of the present invention. Note that the phototransistor is omitted for convenience of explanation. The constituent members of one sensor pixel are the same as the constituent members of one sensor pixel S shown in FIG.
One main electrode of the OS transistor Msm is connected to the drain of the amplification MOS transistor M□ of the adjacent sensor pixel. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a solid-state imaging device to which the present invention is applied. In the figure, an image sensor 201 in which optical sensors are arranged in an area is subjected to television scanning by a vertical scanning section 202 and a horizontal scanning section 203. The signal output from the horizontal scanning section 203 is sent to the processing circuit 20.
4 as a standard television signal. Drive pulse φ for vertical and horizontal scanning units 202 and 203
(1) φM+, φHII φvs, φsil, φv2, etc. are supplied by the driver 205. Also driver 20
5 is limited by controller 206. [Effects of the Invention] As explained in detail above, the photoelectric conversion device of the present invention has the following features:
The signal readout operation can be controlled by a first transistor that accumulates photocharges in the control electrode portion, amplifies and outputs the photocharges, and a second transistor that resets the accumulated photocharges. By reducing the number of transistors and wiring, it is possible to increase the effective light-receiving area, maintain a high aperture ratio even with highly integrated sensors, and achieve high sensitivity. The simultaneous readout and subtraction processing can be performed by an integrated circuit with a simple configuration, and a high S/N can be achieved. 3
An amplifier having a negative gain can be constructed by connecting one main electrode of the transistor and making the amplification gain of the first transistor negative. By connecting the emitter of a bipolar transistor whose collector is connected to a constant voltage source to the main electrode on the side, the source potential can be changed arbitrarily, so that when one pixel outputs, it is not affected by other pixels. It is possible to provide an area sensor without false signals.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の光電変換装置の第1実施例の信号読
み出し回路の回路構成図である。 第2図は、上記信号読み出し回路系の一部回路構成図で
ある。 第3図は、第2図に示した反転アンプの入出力特性を示
す特性図である。 第4図は、第1図に示す光電変換装置の駆動パルスのタ
イミングチャートである。 第5図は、本発明の光電変換装置の第2実施例の光電変
換部の回路構成図である。 第6図は、本発明を適用した固体撮像装置の概略的構成
図である。 第7図及び第8図は、上記従来の光電変換装置のセンサ
の一画素を示す回路構成図である。 Mal。 M T I 。 M y 3 。 Cs。 A2 : M□、 Ml8. Ml、: MOS トランジスタ、
M、、:MOSトランジスタ、M Vl+ Mvi。 Mv4:MOSトランジスタ、CI I Cz +C4
:容量、R,、Rイ :駆動線、A、。 アンプ。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a signal readout circuit of a first embodiment of a photoelectric conversion device of the present invention. FIG. 2 is a partial circuit configuration diagram of the signal readout circuit system. FIG. 3 is a characteristic diagram showing the input/output characteristics of the inverting amplifier shown in FIG. 2. FIG. 4 is a timing chart of drive pulses of the photoelectric conversion device shown in FIG. 1. FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a photoelectric conversion section of a second embodiment of the photoelectric conversion device of the present invention. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a solid-state imaging device to which the present invention is applied. FIGS. 7 and 8 are circuit configuration diagrams showing one pixel of a sensor of the conventional photoelectric conversion device. Mal. MTI. M y 3. Cs. A2: M□, Ml8. Ml: MOS transistor,
M, ,: MOS transistor, M Vl+ Mvi. Mv4: MOS transistor, CI I Cz +C4
:Capacitance, R,,Ri :Drive line, A,. Amplifier.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)制御電極部に光電荷を蓄積し、この光電荷を増幅
して出力する第1のトランジスタと、蓄積された光電荷
をリセットするための第2のトランジスタとを有し、 前記第2のトランジスタの一方の主電極部を前記第1の
トランジスタの出力側の主電極部と電気的に接続し、前
記第2のトランジスタの他方の主電極部を前記第1のト
ランジスタの制御電極部と電気的に接続した光電変換装
置。
(1) It has a first transistor that accumulates photocharges in the control electrode section, amplifies and outputs the photocharges, and a second transistor that resets the accumulated photocharges, and the second transistor one main electrode part of the transistor is electrically connected to the output side main electrode part of the first transistor, and the other main electrode part of the second transistor is connected to the control electrode part of the first transistor. Electrically connected photoelectric conversion device.
(2)前記第1のトランジスタの制御電極部と、この制
御電極部に電気的に接続した前記第2のトランジスタの
主電極部とを同一半導体領域で構成した請求項1記載の
光電変換装置。
(2) The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the control electrode portion of the first transistor and the main electrode portion of the second transistor electrically connected to the control electrode portion are formed in the same semiconductor region.
(3)前記第1のトランジスタの出力側の主電極部に、
第3のトランジスタの一方の主電極部を接続し、前記第
1のトランジスタの増幅ゲインを負とした請求項1記載
の光電変換装置。
(3) At the main electrode portion on the output side of the first transistor,
2. The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein one main electrode portion of the third transistor is connected, and the amplification gain of the first transistor is negative.
(4)前記第1のトランジスタの出力側でない側の主電
極部に、コレクタが定電圧源に接続されたバイポーラト
ランジスタのエミッタを接続した請求項1記載の光電変
換装置。
(4) The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the emitter of a bipolar transistor whose collector is connected to a constant voltage source is connected to the main electrode portion of the first transistor on the side other than the output side.
(5)前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジ
スタが、絶縁ゲート型トランジスタである請求項1記載
の光電変換装置。
(5) The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the first transistor and the second transistor are insulated gate transistors.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010045843A (en) * 1996-08-20 2010-02-25 Thomson Licensing High sensitivity image sensor arrays

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JP2010045843A (en) * 1996-08-20 2010-02-25 Thomson Licensing High sensitivity image sensor arrays

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