JPH0335731B2 - - Google Patents
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- JPH0335731B2 JPH0335731B2 JP233783A JP233783A JPH0335731B2 JP H0335731 B2 JPH0335731 B2 JP H0335731B2 JP 233783 A JP233783 A JP 233783A JP 233783 A JP233783 A JP 233783A JP H0335731 B2 JPH0335731 B2 JP H0335731B2
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- Japan
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- film
- substrate
- magnetic
- target
- magnetic recording
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、基体に磁性膜が形成された磁気記録
媒体の製造方法及び該製造方法に使用する磁気記
録媒体の製造装置に関するものである。
媒体の製造方法及び該製造方法に使用する磁気記
録媒体の製造装置に関するものである。
近年、高密度磁気記録媒体として垂直磁気記録
媒体の研究開発が活発に行われている。このよう
な磁気記録媒体は、一般に、ポリエステルフイル
ム等を基体とし、その上に磁気記録媒体として適
する金属や合金等の薄膜（磁性膜）を付着させる
ことにより、形成される。そして、基体上に磁性
膜を形成するために、生産性の点から、高速で膜
形成を行うことができる直流（DC）マグネトロ
ンスパツタ法や真空蒸着法を用いている。
媒体の研究開発が活発に行われている。このよう
な磁気記録媒体は、一般に、ポリエステルフイル
ム等を基体とし、その上に磁気記録媒体として適
する金属や合金等の薄膜（磁性膜）を付着させる
ことにより、形成される。そして、基体上に磁性
膜を形成するために、生産性の点から、高速で膜
形成を行うことができる直流（DC）マグネトロ
ンスパツタ法や真空蒸着法を用いている。
DCマグネトロンスパツタ法とは、陰極ターゲ
ツトと陽極との間に直流電源を接続し、この直流
電源による陰極ターゲツトと陽極との間の直流電
界に直交する磁界を発生する手段を備え、上記電
界と上記磁界とが直交した場におけるマグネトロ
ン放電を利用したスパツタ法である。このDCマ
グネトロンスパツタ法によれば、直交電磁界の影
響で電子が陽極に衝突する割合が少なくなり、陽
極の温度上昇をおさえることができる。このた
め、陰極ターゲツトと陽極と間に、大電力を与え
てスパツタを行うことができ、従つて高速で膜形
成を行うことができる。
ツトと陽極との間に直流電源を接続し、この直流
電源による陰極ターゲツトと陽極との間の直流電
界に直交する磁界を発生する手段を備え、上記電
界と上記磁界とが直交した場におけるマグネトロ
ン放電を利用したスパツタ法である。このDCマ
グネトロンスパツタ法によれば、直交電磁界の影
響で電子が陽極に衝突する割合が少なくなり、陽
極の温度上昇をおさえることができる。このた
め、陰極ターゲツトと陽極と間に、大電力を与え
てスパツタを行うことができ、従つて高速で膜形
成を行うことができる。
しかしながら、生産性向上のために、このよう
なDCマグネトロンスパツタ法や上述の真空蒸着
法を用いて基体に磁性膜を形成すると、基体と磁
性膜との間に充分な付着強度が得られず、磁気記
録媒体として充分な耐久性が得られない。
なDCマグネトロンスパツタ法や上述の真空蒸着
法を用いて基体に磁性膜を形成すると、基体と磁
性膜との間に充分な付着強度が得られず、磁気記
録媒体として充分な耐久性が得られない。
本発明の目的は、耐久性に優れた磁気記録媒体
を、生産性をおとすことなく製造できる磁気記録
媒体の製造方法及び該製造方法に使用する磁気記
録媒体の製造装置を提提供することにある。
を、生産性をおとすことなく製造できる磁気記録
媒体の製造方法及び該製造方法に使用する磁気記
録媒体の製造装置を提提供することにある。
本発明によれば、基体に磁性膜が形成された磁
気記録媒体を製造する方法において、前記基体に
前記磁性膜と同種又は異種の膜を交流スパツタ法
により付着させる工程と、該交流スパツタ法によ
り前記基体に付着させた膜上に、前記磁性膜を直
流マグネトロンスパツタ法又は真空蒸着法により
付着させる工程とを含む磁気記録媒体の製造方法
が得られる。
気記録媒体を製造する方法において、前記基体に
前記磁性膜と同種又は異種の膜を交流スパツタ法
により付着させる工程と、該交流スパツタ法によ
り前記基体に付着させた膜上に、前記磁性膜を直
流マグネトロンスパツタ法又は真空蒸着法により
付着させる工程とを含む磁気記録媒体の製造方法
が得られる。
更に、本発明によれば、基体に磁性膜が形成さ
れた磁気記録媒体を製造するための装置におい
て、前記基体に前記磁性膜と同種又は異種の膜を
交流スパツタ法により付着させる第１の膜形成部
と、該第１の膜形成部により前記基体に付着され
た膜上に、前記磁性膜を直流マグネトロンスパツ
タ又は真空蒸着により付着させる第２の膜形成部
とを有する磁気記録媒体の製造装置が得られる。
れた磁気記録媒体を製造するための装置におい
て、前記基体に前記磁性膜と同種又は異種の膜を
交流スパツタ法により付着させる第１の膜形成部
と、該第１の膜形成部により前記基体に付着され
た膜上に、前記磁性膜を直流マグネトロンスパツ
タ又は真空蒸着により付着させる第２の膜形成部
とを有する磁気記録媒体の製造装置が得られる。
次に図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第１図を参照すると、従来の磁気記録媒体の製
造装置が示されている。この装置は、DCマグネ
トロンスパツタ装置である。第１図において、１
は真空容器、２はバルブ、３は真空ポンプであ
る。真空容器１はバルブ２を介して真空ポンプ３
により10-7Torr台に排気される。このように充
分に排気された後に真空容器１にはアルゴンガス
圧力調整用可変バルブ４を介してアルゴンガスボ
ンベ５よりアルゴンガスが導入され、以後真空容
器１内の圧力は５×10-4〜１×10-2Torr程度に
維持される。６は基体（例えばポリエステルフイ
ルム）１１を巻いた送り出しロール、７及び７′
はガイドロール、８は磁性薄膜を付着させた基体
１１を巻き取るための巻き取りロールである。こ
れら、６，７，７′及び８は、真空容器１内の所
定方向に基体１１を移動させるための基体送り機
構を構成している。基体１１は送り出しロール６
から送り出されガイドロール７及び７′を通過し、
巻き取りロール８で巻き取られている。また、ガ
イドロール７と７′との間には、基体１１に形成
される磁性薄膜と同種の材料のターゲツト（陰
極）９と、基体支持電極（陽極）１０とが配置さ
れている。ターゲツト９に直流電源１２より負電
位が与えられる。ターゲツト９の裏側には、ター
ゲツト９と基体支持電極１０との間の直流電界に
直交する磁界を発生するマグネツト（図示せず）
が配置されている。上述の如く、真空容器１内を
５×10-4Torr〜１×10-2Torr程度の圧力に維持
して、ターゲツト９と真空容器１との間にグロー
放電（この場合、直交電磁場におけるマグネトロ
ン放電）を生ぜしめて、ターゲツト９の原子を基
体１１に付着せしめ、基体１１に磁性薄膜を形成
する。なお、第１図において、２０は絶縁物であ
る。
造装置が示されている。この装置は、DCマグネ
トロンスパツタ装置である。第１図において、１
は真空容器、２はバルブ、３は真空ポンプであ
る。真空容器１はバルブ２を介して真空ポンプ３
により10-7Torr台に排気される。このように充
分に排気された後に真空容器１にはアルゴンガス
圧力調整用可変バルブ４を介してアルゴンガスボ
ンベ５よりアルゴンガスが導入され、以後真空容
器１内の圧力は５×10-4〜１×10-2Torr程度に
維持される。６は基体（例えばポリエステルフイ
ルム）１１を巻いた送り出しロール、７及び７′
はガイドロール、８は磁性薄膜を付着させた基体
１１を巻き取るための巻き取りロールである。こ
れら、６，７，７′及び８は、真空容器１内の所
定方向に基体１１を移動させるための基体送り機
構を構成している。基体１１は送り出しロール６
から送り出されガイドロール７及び７′を通過し、
巻き取りロール８で巻き取られている。また、ガ
イドロール７と７′との間には、基体１１に形成
される磁性薄膜と同種の材料のターゲツト（陰
極）９と、基体支持電極（陽極）１０とが配置さ
れている。ターゲツト９に直流電源１２より負電
位が与えられる。ターゲツト９の裏側には、ター
ゲツト９と基体支持電極１０との間の直流電界に
直交する磁界を発生するマグネツト（図示せず）
が配置されている。上述の如く、真空容器１内を
５×10-4Torr〜１×10-2Torr程度の圧力に維持
して、ターゲツト９と真空容器１との間にグロー
放電（この場合、直交電磁場におけるマグネトロ
ン放電）を生ぜしめて、ターゲツト９の原子を基
体１１に付着せしめ、基体１１に磁性薄膜を形成
する。なお、第１図において、２０は絶縁物であ
る。
このように、従来、磁気記録媒体の生産性の向
上のために、高速で膜形成を行うこことができる
DCマグネトロンスパツタ装置や真空蒸着装置を
用いて、磁気記録媒体を製造するのが、一般的で
ある。しかしながら、DCマグネトロンスパツタ
装置や真空蒸着装置を用いて磁気記録媒体を製造
すると、基体と磁性薄膜との間の付着強度が弱
く、磁気記録媒体の耐久性が悪いという欠点があ
つた。
上のために、高速で膜形成を行うこことができる
DCマグネトロンスパツタ装置や真空蒸着装置を
用いて、磁気記録媒体を製造するのが、一般的で
ある。しかしながら、DCマグネトロンスパツタ
装置や真空蒸着装置を用いて磁気記録媒体を製造
すると、基体と磁性薄膜との間の付着強度が弱
く、磁気記録媒体の耐久性が悪いという欠点があ
つた。
第２図を参照すると、本発明の一実施例に係る
磁気記録媒体の製造装置は、目的とする磁性膜と
同種又は異種の膜を基体１１に、交流（AC）ス
パツタ（具体的には高周波（RF）スパツタ）に
より付着させる第１の膜形成部Ａと、該第１の膜
形成部Ａにより基体１１に付着された膜上に、目
的とする磁性膜をDCマグネトロンスパツタによ
り付着させる第２の膜形成部Ｂとを有している。
第１の膜形成部Ａは、ACスパツタ用ターゲツト
１３や基体支持電極１４等を有している。また、
第２の膜形成部Ｂは、第１図の場合と同様のDC
マグネトロンスパツタ用のターゲツト９や基体支
持電極１０等を有している。第２図において、第
１図と同じ番号を付したものは第１図で説明した
のと同一の機能を有している。即ち、第２の膜形
成部Ｂは、第１図のDCマグネトロンスパツタ装
置と同様の構成を有している。従つて、ここでは
第１の膜形成部Ａについて詳細に説明する。
磁気記録媒体の製造装置は、目的とする磁性膜と
同種又は異種の膜を基体１１に、交流（AC）ス
パツタ（具体的には高周波（RF）スパツタ）に
より付着させる第１の膜形成部Ａと、該第１の膜
形成部Ａにより基体１１に付着された膜上に、目
的とする磁性膜をDCマグネトロンスパツタによ
り付着させる第２の膜形成部Ｂとを有している。
第１の膜形成部Ａは、ACスパツタ用ターゲツト
１３や基体支持電極１４等を有している。また、
第２の膜形成部Ｂは、第１図の場合と同様のDC
マグネトロンスパツタ用のターゲツト９や基体支
持電極１０等を有している。第２図において、第
１図と同じ番号を付したものは第１図で説明した
のと同一の機能を有している。即ち、第２の膜形
成部Ｂは、第１図のDCマグネトロンスパツタ装
置と同様の構成を有している。従つて、ここでは
第１の膜形成部Ａについて詳細に説明する。
ACスパツタ用ターゲツト１３は、磁性薄膜形
成用のターゲツト９と同一材料、もしくは基体
（例えばポリエステルフイルム）１１に対する付
着力の強い材料から成つている。ACスパツタ用
ターゲツト１３は、ターゲツト９よりも基体の移
動始端側に配置されている。基体支持電極１４は
ACスパツタ用ターゲツト１３に対向して配置さ
れている。ターゲツト１３にはAC電源（具体的
にはRF電源）１５が蓄電器１６を介して接続さ
れている。アルゴンガスを含む真空容器１内の圧
力が５×10-4〜１×10-2Torrにおいて、AC電源
１５よりAC電圧を蓄電器１６を介して印加する
と、ターゲツト１３と真空容器１との間でグロー
放電が生じ、ターゲツト１３の成分原子は基体１
１に付着する。この場合、ターゲツト１３と基体
支持電極１４との間隙を通過している部分の基体
１１にはターゲツト１３の成分原子の他に荷電粒
子が衝突し、基体表面の洗浄作用と、温度上昇を
生ぜしめるため、飛来したターゲツト１３の成分
原子は基体１１に強力に付着する。これらの現象
は、DCマグネトロンスパツタにおいてもみられ
るが、ACスパツタの場合に比して極めて微小な
量の荷電粒子しか基体に衝突しない。このことが
DCマグネトロンスパツタの時、基体と磁性薄膜
の付着力が弱い原因と考えられる。
成用のターゲツト９と同一材料、もしくは基体
（例えばポリエステルフイルム）１１に対する付
着力の強い材料から成つている。ACスパツタ用
ターゲツト１３は、ターゲツト９よりも基体の移
動始端側に配置されている。基体支持電極１４は
ACスパツタ用ターゲツト１３に対向して配置さ
れている。ターゲツト１３にはAC電源（具体的
にはRF電源）１５が蓄電器１６を介して接続さ
れている。アルゴンガスを含む真空容器１内の圧
力が５×10-4〜１×10-2Torrにおいて、AC電源
１５よりAC電圧を蓄電器１６を介して印加する
と、ターゲツト１３と真空容器１との間でグロー
放電が生じ、ターゲツト１３の成分原子は基体１
１に付着する。この場合、ターゲツト１３と基体
支持電極１４との間隙を通過している部分の基体
１１にはターゲツト１３の成分原子の他に荷電粒
子が衝突し、基体表面の洗浄作用と、温度上昇を
生ぜしめるため、飛来したターゲツト１３の成分
原子は基体１１に強力に付着する。これらの現象
は、DCマグネトロンスパツタにおいてもみられ
るが、ACスパツタの場合に比して極めて微小な
量の荷電粒子しか基体に衝突しない。このことが
DCマグネトロンスパツタの時、基体と磁性薄膜
の付着力が弱い原因と考えられる。
以上のような第１の膜形成部Ａにおけるターゲ
ツト１３によるACスパツタによる成膜に引き続
いて、第２の膜形成部Ｂにおけるターゲツト９に
よるDCマグネトロンスパツタを行い、基体１１
上に必要な膜厚を有する磁性薄膜を高速で形成す
る。
ツト１３によるACスパツタによる成膜に引き続
いて、第２の膜形成部Ｂにおけるターゲツト９に
よるDCマグネトロンスパツタを行い、基体１１
上に必要な膜厚を有する磁性薄膜を高速で形成す
る。
このようにして、製造された磁気記録媒体は極
めて強力な付着力を有し、耐久性の良い磁気記録
媒体を製造することができた。
めて強力な付着力を有し、耐久性の良い磁気記録
媒体を製造することができた。
また、ターゲツト１３によるACスパツタで付
着させる薄膜の膜厚は極めて薄くても著しい効果
があることが実験結果より判明した。第３図は
ACスパツタによる付着する膜厚と付着強度を示
す実験結果であり、付着強度は相対値で示したも
のである。こ結果よりACスパツタにより膜厚を
100Å以上付着させれば極めて強い付着力を示す
ことがわかる。
着させる薄膜の膜厚は極めて薄くても著しい効果
があることが実験結果より判明した。第３図は
ACスパツタによる付着する膜厚と付着強度を示
す実験結果であり、付着強度は相対値で示したも
のである。こ結果よりACスパツタにより膜厚を
100Å以上付着させれば極めて強い付着力を示す
ことがわかる。
以上に本発明の一実施例の説明を行つたが、本
発明の思想はこれに限定されるものではないこと
は明らかである。例えば、上記実施例では第２の
膜形成部ＢとしてDCマグネトロンスパツタ装置
を用いたが、第２の膜形成部Ｂとして、該DCマ
グネトロンスパツタ装置と同様に高速で膜形成を
行うことができる真空蒸着装置を用いることもで
きる。
発明の思想はこれに限定されるものではないこと
は明らかである。例えば、上記実施例では第２の
膜形成部ＢとしてDCマグネトロンスパツタ装置
を用いたが、第２の膜形成部Ｂとして、該DCマ
グネトロンスパツタ装置と同様に高速で膜形成を
行うことができる真空蒸着装置を用いることもで
きる。
以上説明したように、本発明によれば、耐久性
に優れた磁気記録媒体を、生産性をおとすことな
く製造できる磁気記録媒体の製造方法及び該製造
方法に使用する磁気記録媒体の製造装置が得られ
る。
に優れた磁気記録媒体を、生産性をおとすことな
く製造できる磁気記録媒体の製造方法及び該製造
方法に使用する磁気記録媒体の製造装置が得られ
る。
第１図は従来の磁気記録媒体製造装置を示す概
略図、第２図は本発明の一実施例に係る磁気記録
媒体製造装置を示す概略図、第３図はACスパツ
タにより基体上に形成された膜の膜厚と該膜の基
体に対する相対付着強度を示した図である。 １……真空容器、２……バルブ、３……真空ポ
ンプ、４……アルゴンガス圧力調整用可変バル
ブ、５……アルゴンボンベ、６……送り出しロー
ル、７及び７′……ガイドロール、８……巻き取
りロール、９……ターゲツト、１０……基体支持
電極、１１……基体、１２……直流電源、１３…
…ACスパツタ用ターゲツト、１４……基体支持
電極、１５……AC電源、１６……蓄電器、２０
……絶縁物、Ａ……第１の膜形成部、Ｂ……第２
の膜形成部。
略図、第２図は本発明の一実施例に係る磁気記録
媒体製造装置を示す概略図、第３図はACスパツ
タにより基体上に形成された膜の膜厚と該膜の基
体に対する相対付着強度を示した図である。 １……真空容器、２……バルブ、３……真空ポ
ンプ、４……アルゴンガス圧力調整用可変バル
ブ、５……アルゴンボンベ、６……送り出しロー
ル、７及び７′……ガイドロール、８……巻き取
りロール、９……ターゲツト、１０……基体支持
電極、１１……基体、１２……直流電源、１３…
…ACスパツタ用ターゲツト、１４……基体支持
電極、１５……AC電源、１６……蓄電器、２０
……絶縁物、Ａ……第１の膜形成部、Ｂ……第２
の膜形成部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基体に磁性膜が形成された磁気記録媒体を製
造する方法において、前記基体に前記磁性膜と同
種又は異種の膜を交流スパツタ法により付着させ
る工程と、該交流スパツタ法により前記基体に付
着させた膜上に、前記磁性膜を直流マグネトロン
スパツタ法又は真空蒸着法により付着させる工程
とを含む磁気記録媒体の製造方法。 ２ 基体に磁性膜が形成された磁気記録媒体を製
造するための装置において、前記基体に前記磁性
膜と同種又は異種の膜を交流スパツタ法により付
着させる第１の膜形成部と、該第１の膜形成部に
より前記基体に付着された膜上に、前記磁性膜を
直流マグネトロンスパツタ又は真空蒸着により付
着させる第２の膜形成部とを有する磁気記録媒体
の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP233783A JPS59129944A (ja) | 1983-01-12 | 1983-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP233783A JPS59129944A (ja) | 1983-01-12 | 1983-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59129944A JPS59129944A (ja) | 1984-07-26 |
| JPH0335731B2 true JPH0335731B2 (ja) | 1991-05-29 |
Family
ID=11526485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP233783A Granted JPS59129944A (ja) | 1983-01-12 | 1983-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59129944A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6187223A (ja) * | 1984-10-04 | 1986-05-02 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6267729A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-01-12 JP JP233783A patent/JPS59129944A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59129944A (ja) | 1984-07-26 |
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