JPH033579Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はめつき液への金属イオン補給装置に係
り、特に塩基性化合物粉末の堆積、閉そくを防止
できる装置に係り、電気めつきの分野で利用され
る。

〔従来の技術〕

不溶性陽極を有する電気めつきラインにおい
て、鋼帯にめつき金属をめつきするとめつき液中
のめつき金属のイオン濃度が低下し水素イオン濃
度が低下する。この変化に対してめつき液の組成
を調整するためめつきラインの系外からめつき金
属の塩基性化合物を粉末またはスラリー状の形で
めつき液に投入する。

特開昭60−138098号におて開示された従来の粉
末塩基性化合物を連続して循環するめつき液に溶
解する装置を第３図、第４図により説明する。鋼
帯２は不溶性陽極４を正電極としてめつきされる
が、めつき槽６内のめつき液１０は金属イオンが
消費され、それと等量の水素イオンが発生しめつ
き液のPHは低下する。このため系外よりめつき金
属イオンの塩基性化合物をめつき液１０に投入し
て金属イオン濃度とPHを調整する。このためめつ
き液１０をめつき液受入配管１２によつて溶解槽
１４に導入し、一方、粉末の塩基性化合物１６を
ホツパー１８から必要に応じてコンベヤ２０によ
り計量槽２２に移送しロードセル２４によつて計
量しつつ所定の供給速度のスクリユーフイーダ２
６で投入筒２８を経て溶解槽１４に切出させる。
投入筒２８の上部には送液ポンプ３０によつて送
られためつき液１０のめつき液溢流装置３２およ
び内部には邪魔板３４が設けられ、めつき液１０
を流下しながら粉末状の塩基性化合物１６を切出
し、撹拌機３６で撹拌しめつき液で溶解する。塩
基性化合物１６を溶解して金属イオンを補給され
PHを調整されためつき液１０はめつき液返送配管
３８、送液ポンプ４０によつてめつき槽６に送液
される。一方溶解槽１４の排気中には塩基性化合
物１６の粉末が浮遊しているので、めつき液散布
装置４２、濾過装置４４を具えた排気管４６を経
て湿式集塵機で除塵され放出されるように構成さ
れている。しかし、上記従来の金属イオンの補給
装置は次の如き欠点を有している。

(イ) 投入筒２８内の溢流めつき液と塩基性化合物
の比が適当でなく塩基性化合物の量が多いと投
入筒２８の内壁および邪魔板３４に粉末が付着
し閉塞する。

(ロ) 投入筒２８内で十分に混合されない粉末が溶
解槽１４内で浮遊し付着する。

〔考案が解決しようとする問題点〕

本考案の目的は上記従来技術の問題点を解決
し、粉末の付着、堆積を防止し、安定しためつき
作業ができるめつき液への金属イオン補給装置を
提供するにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案の要旨とするところは次の如くである。
すなわち、ホツパーからコンベヤー、計量槽、ス
クリユーフイーダーを介し更にめつき液溢流装置
を上部に具えた投入筒を経て粉末状の塩基性化合
物を溶解槽に切出し該溶解槽中のめつき液に溶解
させる不溶性陽極を有する電気めつき装置の循環
するめつき液への金属イオン補給装置において、
前記めつき液溢流装置の下方に前記投入筒を取り
囲んでもうけられためつき液静圧室と、前記めつ
き液静圧室の内壁に設けられた複数段のめつき液
噴射口と、を有して成ることを特徴とするめつき
液への金属イオン補給装置である。

本考案の詳細を第１図に図示の実施例により説
明する。めつき液溢流装置３２の下方に投入筒２
８を囲んでめつき液静圧室４８が設けられてい
る。めつき液静圧室４８はめつき液溢流装置３２
と同様に送液ポンプ３０によつてめつき液１０を
供給される。更にめつき液静圧室４８の内壁には
投入筒２８内にめつき液１０を噴射する複数段の
めつき液噴射口５０が設けられている。めつき液
噴射口５０の角度は第２図Ａに示す放射状噴射、
第２図Ｂに示す接線状噴射いずれでもよい。ま
た、上下の噴射角度も水平あるいは下向きいずれ
でもよい。各段のめつき液噴射口５０の噴射圧力
をほぼ等しくするためめつき液静圧室４８はある
程度の容量を必要とする。なお、スクリユーフー
イーダー２６の先端とめつき液溢流装置３２との
間はカバー５２で密閉され高温のめつき液１０の
フユームが外部に漏洩するのを防いでいる。ま
た、投入筒２８の下端は溶解槽１４のめつき液１
０中に浸漬している。

〔作用〕

次に上記の構成を有する本考案の金属イオン補
給装置の作用について説明する。スクリユーフイ
ーダー２６から粉末状の塩基性化合物１６が投入
筒２８に装入される。一方、めつき液１０は送液
ポンプ３０によつてめつき液溢流装置３２および
めつき液静圧室４８に供給される。めつき液溢流
装置３２からめつき液１０は溢流して投入筒２８
の内壁および邪魔板３４を流下する。更に本考案
においては、めつき液静圧室４８から複数段のめ
つき液噴射口５０を介して高圧のめつき液１０が
投入筒２８に噴射される。実施例では２Kg／cm²の
圧力であつた。従つて投入筒２８に装入された粉
末状の塩基性化合物１６は、高圧の噴射めつき液
１０で洗い落され投入筒２８の内壁や邪魔板３４
に付着することなくスラリー状で溶解槽１４内で
粉末が固着して肥大することはなく、また、めつ
き槽６に返送されるめつき液１０は粉末の浮遊が
なくめつき品質も良好となる。また、投入筒２８
内を上昇してくるフユームは、カバー５２で密閉
されているので、スクリユーフイーダー２６と投
入筒２８の間からフユームが外部に漏洩すること
はない。

〔考案の効果〕

本考案は、金属イオン補給装置の投入筒にめつ
き液静圧室とめつき液噴射口を設け、めつき液を
投入筒内に噴射することにより、塩基性化合物粉
末の装置に対する付着を防止し、めつき液への溶
解を促進し、安定した電気めつき作業を可能とす
る効果を挙げることができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案実施例の補給装置を示す断面
図、第２図Ａ，Ｂはいずれも本考案のめつき液噴
射口の噴射方向を示す模式平面図でＡは放射線
状、Ｂは接線状である。第３図は従来の電気めつ
き装置を示す断面図、第４図は第３図の一部拡大
断面図である。 ２……鋼体、４……不溶性陽極、６……めつき
槽、１０……めつき液、１４……溶解槽、１６…
…塩基性化合物、１８……ホツパー、２０……コ
ンベヤー、２２……計量槽、２６……スクリユー
フイーダー、２８……投入筒、３２……めつき液
溢流装置、４８……めつき液静圧室、５０……め
つき液噴射口。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ホツパーからコンベヤー、計量槽、スクリユー
   フイーダーを介し更にめつき液溢流装置を上部に
   具えた投入筒を経て粉末状の塩基性化合物を溶解
   槽に切出し該溶解槽中のめつき液に溶解させる不
   溶性陽極を有する電気めつき装置の循環するめつ
   き液への金属イオン補給装置において、前記めつ
   き液溢流装置の下方に前記投入筒を取り囲んでも
   うけられためつき液静圧室と、前記めつき液静圧
   室の内壁に設けられた複数段のめつき液噴射口
   と、を有して成ることを特徴とするめつき液への
   金属イオン補給装置。