JPH0336028Y2 - - Google Patents
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- JPH0336028Y2 JPH0336028Y2 JP14981885U JP14981885U JPH0336028Y2 JP H0336028 Y2 JPH0336028 Y2 JP H0336028Y2 JP 14981885 U JP14981885 U JP 14981885U JP 14981885 U JP14981885 U JP 14981885U JP H0336028 Y2 JPH0336028 Y2 JP H0336028Y2
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- gap
- inductively coupled
- coupled plasma
- ions
- mass spectrometer
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- Expired
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Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、誘導結合プラズマをイオン源として
用いる誘導結合プラズマ・質量分析計に関する。
用いる誘導結合プラズマ・質量分析計に関する。
（従来の技術）
誘導結合プラズマ・質量分析計は、プラズマを
用いて試料を励起させ、生じたイオンをノズルと
スキマからなるインターフエイスを介して四重極
質量分析計に導いで電気的に検出し該イオン量を
精密に測定することにより、試料中の被測定元素
を分析するように構成されている。第２図は、こ
のような従来の誘導結合プラズマ・質量分析計の
全体的な構成説明図である。この図において、プ
ラズマトーチ１の外側管１ｂと最外側管１ｃには
ガス調整器２を介してガス供給源３からアルゴン
ガスが供給され、中心管１ａには槽４内の試料が
ネブライザ５で霧化されてのちアルゴンガスによ
つて搬入されるようになつている。また、誘導コ
イル６の中には高周波電源７によつて高周波電流
が流され、該コイル６の周囲に高周波磁界（図示
せず）が形成されている。この高周波磁界の近傍
でアルゴンガス中に電子かイオンが植え付けられ
ると、該高周波磁界によつて瞬時にプラズマが生
ずる。このプラズマは、ノズル８を経由してスキ
マ９に当たり、該プラズマ内のイオンがスキマ９
内に引き出されてのち四重極マスフイルタ１０で
検出される。この検出信号は二次電子増倍管１１
で増幅されてのち信号処理部１２に送出され、究
極的に前記試料の分析値が得られるようになつて
いる。尚、１３は例えば絶縁ゴムのような絶縁
体、１４は回転ポンプ、１５は拡散ポンプ、１６
はイオンポンプである。また、第３図は上記スキ
マ９の一部拡大断面図であり、略円錐形の外形を
有するスキマ本体９ａは例えば銅、モリブデン、
若しくはステンレススチール（SUS）のような
導電性の金属材料で構成され、該本体９ａの先端
部には中心孔９ｂが設けられてる。
用いて試料を励起させ、生じたイオンをノズルと
スキマからなるインターフエイスを介して四重極
質量分析計に導いで電気的に検出し該イオン量を
精密に測定することにより、試料中の被測定元素
を分析するように構成されている。第２図は、こ
のような従来の誘導結合プラズマ・質量分析計の
全体的な構成説明図である。この図において、プ
ラズマトーチ１の外側管１ｂと最外側管１ｃには
ガス調整器２を介してガス供給源３からアルゴン
ガスが供給され、中心管１ａには槽４内の試料が
ネブライザ５で霧化されてのちアルゴンガスによ
つて搬入されるようになつている。また、誘導コ
イル６の中には高周波電源７によつて高周波電流
が流され、該コイル６の周囲に高周波磁界（図示
せず）が形成されている。この高周波磁界の近傍
でアルゴンガス中に電子かイオンが植え付けられ
ると、該高周波磁界によつて瞬時にプラズマが生
ずる。このプラズマは、ノズル８を経由してスキ
マ９に当たり、該プラズマ内のイオンがスキマ９
内に引き出されてのち四重極マスフイルタ１０で
検出される。この検出信号は二次電子増倍管１１
で増幅されてのち信号処理部１２に送出され、究
極的に前記試料の分析値が得られるようになつて
いる。尚、１３は例えば絶縁ゴムのような絶縁
体、１４は回転ポンプ、１５は拡散ポンプ、１６
はイオンポンプである。また、第３図は上記スキ
マ９の一部拡大断面図であり、略円錐形の外形を
有するスキマ本体９ａは例えば銅、モリブデン、
若しくはステンレススチール（SUS）のような
導電性の金属材料で構成され、該本体９ａの先端
部には中心孔９ｂが設けられてる。
ところで、上記四重極マスフイルタ１０を検出
器として使用している場合、上記スキマ９内に引
き出され、四重極マスフイルタ１０に到達するイ
オンのエネルギーが高い程検出感度は向上するが
分解能は低下し、該イオンエネルギーが低い程検
出感度は低下するが分解能は向上することが知ら
れている。このため、上記イオンエネルギーの分
布幅が大きくなると、上記四重極マスフイルタ１
０の出力として分解能の優れた良好なスペクトル
を得ることは難しいが、上記エネルギーの分布幅
（即ち、半値幅）を狭めると検出感度が高く且つ
分解能の優れた良好なスペクトルが得られ、究極
的に高精度な誘導結合プラズマ・質量分析計が実
現する。
器として使用している場合、上記スキマ９内に引
き出され、四重極マスフイルタ１０に到達するイ
オンのエネルギーが高い程検出感度は向上するが
分解能は低下し、該イオンエネルギーが低い程検
出感度は低下するが分解能は向上することが知ら
れている。このため、上記イオンエネルギーの分
布幅が大きくなると、上記四重極マスフイルタ１
０の出力として分解能の優れた良好なスペクトル
を得ることは難しいが、上記エネルギーの分布幅
（即ち、半値幅）を狭めると検出感度が高く且つ
分解能の優れた良好なスペクトルが得られ、究極
的に高精度な誘導結合プラズマ・質量分析計が実
現する。
（考案が解決しようとする問題点）
本考案は、かかる状況に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、四重極マスフイルタを検出器
として使用する高精度の誘導結合プラズマ・質量
分析計を提供することにある。
あり、その目的は、四重極マスフイルタを検出器
として使用する高精度の誘導結合プラズマ・質量
分析計を提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
上述のような問題点を解決する本考案の特徴
は、誘導結合プラズマ・質量分析計において、ス
キマの先端部に該スキマ本体と一体的に絶縁物を
着設し、スキマの中心孔を通るイオンがスキマ内
に引出されてから加速されるように構成したこと
にある。
は、誘導結合プラズマ・質量分析計において、ス
キマの先端部に該スキマ本体と一体的に絶縁物を
着設し、スキマの中心孔を通るイオンがスキマ内
に引出されてから加速されるように構成したこと
にある。
（実施例）
以下、本考案について図を用いて詳しく説明す
る。第１図は本考案実施例の要部拡大断面図であ
り、図中、第３図と同一記号都は同一意味をもた
せて使用し、ここでの重複説明は詳略する。ま
た、９ｃは前記本体９ａの先端部を形成するよう
にして該本体９ａに一体的に着設された例えばセ
ラミツクやルビーのような材料でなる絶縁物であ
る。このような構成からなる本考案実施例の要部
（即ち、スキマ９）は第２図に組込まれ、第２図
を用いて詳述した前述の動作とほぼ同様の動作を
行なう。しかし、第１図と第３図と比較すれば明
らかなように、本考案実施例と前記従来例ではス
キマ９の先端部の構造が異なるため、スキマ９内
に引出されるイオンのエネルギー分布に次のよう
な大きな差異が生ずるようになる。即ち、スキマ
９が上記スキマ本体９ａだけで構成されている前
記従来例の場合は、該本体９ａの先端部周辺に形
成されるプラズマエネルギーの等ポテンシヤル線
はスキマ本体９ａを避けるようにして曲線を描く
ようになる。これはスキマ本体９ａが上述の如く
導電性金属材料で構成されているために生ずる現
象である。この結果、プラズマ内のイオンは上記
中心孔９ｂを通る際に加速されるようになり、こ
の時、スキマ本体９ａに衝突したり途中でイオン
化されたりするようになる。このため、スキマ９
内に引出され四重極マスフイルタ１０に到達する
イオンのエネルギー分布は大きな幅（半値幅）を
有している。これに対し、スキマ９が上記スキマ
本体９ａの先端部に該本体と一体的に着設された
絶縁物９ｃを有するように構成されている本考案
実施例の場合は、該絶縁物を透過するようにして
上記等ポテンシヤル線が描かれる。このため、プ
ラズマ内のイオンは上記中心孔９ｂを通る際に加
速されることなく、スキマ９内に引出され、真空
度が高く保たれている該スキマ内部で主として加
速される。このため、スキマ９内に引出され四重
極マスフイルタ１０に到達するイオンのエネルギ
ー分布は狭い幅（半値幅）となつている。従つ
て、本考案の実施例によれば、四重極マスフイル
タ１０の出力として最終的に検出感度が高く且つ
分解能の優れた良好なスペクトルが得られるよう
になる。
る。第１図は本考案実施例の要部拡大断面図であ
り、図中、第３図と同一記号都は同一意味をもた
せて使用し、ここでの重複説明は詳略する。ま
た、９ｃは前記本体９ａの先端部を形成するよう
にして該本体９ａに一体的に着設された例えばセ
ラミツクやルビーのような材料でなる絶縁物であ
る。このような構成からなる本考案実施例の要部
（即ち、スキマ９）は第２図に組込まれ、第２図
を用いて詳述した前述の動作とほぼ同様の動作を
行なう。しかし、第１図と第３図と比較すれば明
らかなように、本考案実施例と前記従来例ではス
キマ９の先端部の構造が異なるため、スキマ９内
に引出されるイオンのエネルギー分布に次のよう
な大きな差異が生ずるようになる。即ち、スキマ
９が上記スキマ本体９ａだけで構成されている前
記従来例の場合は、該本体９ａの先端部周辺に形
成されるプラズマエネルギーの等ポテンシヤル線
はスキマ本体９ａを避けるようにして曲線を描く
ようになる。これはスキマ本体９ａが上述の如く
導電性金属材料で構成されているために生ずる現
象である。この結果、プラズマ内のイオンは上記
中心孔９ｂを通る際に加速されるようになり、こ
の時、スキマ本体９ａに衝突したり途中でイオン
化されたりするようになる。このため、スキマ９
内に引出され四重極マスフイルタ１０に到達する
イオンのエネルギー分布は大きな幅（半値幅）を
有している。これに対し、スキマ９が上記スキマ
本体９ａの先端部に該本体と一体的に着設された
絶縁物９ｃを有するように構成されている本考案
実施例の場合は、該絶縁物を透過するようにして
上記等ポテンシヤル線が描かれる。このため、プ
ラズマ内のイオンは上記中心孔９ｂを通る際に加
速されることなく、スキマ９内に引出され、真空
度が高く保たれている該スキマ内部で主として加
速される。このため、スキマ９内に引出され四重
極マスフイルタ１０に到達するイオンのエネルギ
ー分布は狭い幅（半値幅）となつている。従つ
て、本考案の実施例によれば、四重極マスフイル
タ１０の出力として最終的に検出感度が高く且つ
分解能の優れた良好なスペクトルが得られるよう
になる。
（考案の効果）
以上詳しく説明したような本考案によれば、ス
キマの先端部に該スキマ本体と一体的に絶縁物を
着設しているため、該絶縁物を透過するようにし
てプラズマエネルギーの等ポテンシヤル線が形成
されるようになる。このため、プラズマ内のイオ
ンは真空度が高く保たれているスキマ内部に導び
かれてから主に加速され、エネルギー分布幅（半
値幅）の狭いイオン流となつて四重極マスフイル
タ１０に到達するようになる。この結果、該フイ
ルタの出力として検出感度が高く且つ分解能の優
れた良好なスペクトルを与えるような高精度の誘
導結合プラズマ・質量分析計が実現する。
キマの先端部に該スキマ本体と一体的に絶縁物を
着設しているため、該絶縁物を透過するようにし
てプラズマエネルギーの等ポテンシヤル線が形成
されるようになる。このため、プラズマ内のイオ
ンは真空度が高く保たれているスキマ内部に導び
かれてから主に加速され、エネルギー分布幅（半
値幅）の狭いイオン流となつて四重極マスフイル
タ１０に到達するようになる。この結果、該フイ
ルタの出力として検出感度が高く且つ分解能の優
れた良好なスペクトルを与えるような高精度の誘
導結合プラズマ・質量分析計が実現する。
第１図は本考案実施例の要部拡大断面図、第２
図は誘導結合プラズマ・質量分析計の全体的な構
成説明図、第３図は従来例の要部拡大断面図であ
る。 １……プラズマトーチ、５……ネブライザ、６
……誘導コイル、７……高周波電源、９……スキ
マ、９ａ……スキマ本体、９ｂ……中心孔、９ｃ
……絶縁物、１０……四重極マスフイルタ、１１
……光電子増倍管、１２……信号処理部。
図は誘導結合プラズマ・質量分析計の全体的な構
成説明図、第３図は従来例の要部拡大断面図であ
る。 １……プラズマトーチ、５……ネブライザ、６
……誘導コイル、７……高周波電源、９……スキ
マ、９ａ……スキマ本体、９ｂ……中心孔、９ｃ
……絶縁物、１０……四重極マスフイルタ、１１
……光電子増倍管、１２……信号処理部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 誘導結合プラズマをイオン源として用い該プ
ラズマ内のイオンをスキマの中心孔を通して四
重極マスフイルタで検出する誘導結合プラズ
マ・質量分析計において、前記スキマの先端部
に該スキマ本体と一体的に絶縁物を着設し、前
記中心孔を通るイオンが前記スキマ内に引出さ
れてから加速されるように構成したことを特徴
とする誘導結合プラズマ・質量分析計。 (2) 前記絶縁物はセラミツク若しくはルビーで構
成されてなる実用新案登録請求の範囲第(1)項記
載の誘導結合プラズマ・質量分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14981885U JPH0336028Y2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14981885U JPH0336028Y2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6258855U JPS6258855U (ja) | 1987-04-11 |
| JPH0336028Y2 true JPH0336028Y2 (ja) | 1991-07-31 |
Family
ID=31065383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14981885U Expired JPH0336028Y2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0336028Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3521218B2 (ja) * | 1997-07-04 | 2004-04-19 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 金属−絶縁性セラミック複合サンプラー及びスキマー |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP14981885U patent/JPH0336028Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6258855U (ja) | 1987-04-11 |
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