JPH033615B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH033615B2 JPH033615B2 JP2753086A JP2753086A JPH033615B2 JP H033615 B2 JPH033615 B2 JP H033615B2 JP 2753086 A JP2753086 A JP 2753086A JP 2753086 A JP2753086 A JP 2753086A JP H033615 B2 JPH033615 B2 JP H033615B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- reaction vessel
- gas pressure
- manufacturing apparatus
- glass manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 101
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 75
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 12
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 SiCl 4 Chemical class 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
『産業上の利用分野』
本発明は通信用、光学用の合成ガラスを製造す
るための装置に関する。
るための装置に関する。
『従来の技術』
高品位の合成石英からなる通信用、光学用のガ
ラスロツド、ガラスパイプ等を製造する手段の一
つにOVD方がある。
ラスロツド、ガラスパイプ等を製造する手段の一
つにOVD方がある。
既知の通り、OVD法では火炎加水分解反応お
よび／または熱酸化反応により生成したスート状
のガラス微粒子（SiO2、GeO2、P2O5、B2O3な
ど）を、出発母材と称するガラス堆積基材の外周
に堆積させて多孔質ガラス層を形成し、その後、
多孔質ガラス層を加熱、脱泡して透明ガラス化す
る。
よび／または熱酸化反応により生成したスート状
のガラス微粒子（SiO2、GeO2、P2O5、B2O3な
ど）を、出発母材と称するガラス堆積基材の外周
に堆積させて多孔質ガラス層を形成し、その後、
多孔質ガラス層を加熱、脱泡して透明ガラス化す
る。
より具体的には、上記多孔質ガラス層の堆積形
成時、ガス導入系、ガス排出系を有する反応容器
内に、ガラス微粒子生成用のバーナと、回転しな
がら軸方向に往復動するガラス堆積基材とを相互
に対応させて内装しておき、バーナを介して反応
生成されたガラス微粒子をガラス堆積基材の外周
に堆積させる。
成時、ガス導入系、ガス排出系を有する反応容器
内に、ガラス微粒子生成用のバーナと、回転しな
がら軸方向に往復動するガラス堆積基材とを相互
に対応させて内装しておき、バーナを介して反応
生成されたガラス微粒子をガラス堆積基材の外周
に堆積させる。
かかるOVD法の場合、多孔質ガラス層を軸方
向（縦長の棒状）に成長させるVAD法と比べ、
自重による多孔質ガラス層の破壊が起こりがたい
とされている。
向（縦長の棒状）に成長させるVAD法と比べ、
自重による多孔質ガラス層の破壊が起こりがたい
とされている。
『発明が解決しようとする問題点』
上述したOVD法の場合、原料ガスとして主に
SiCl4、GeCl4、POCl3、BCl3などの塩化物を使用
するため、これらの反応ガスにはCl2、HClなど
の腐蝕性ガスが多く含まれる。
SiCl4、GeCl4、POCl3、BCl3などの塩化物を使用
するため、これらの反応ガスにはCl2、HClなど
の腐蝕性ガスが多く含まれる。
反応容器内の反応ガスは、廃ガスとしてガス排
出系からその容器外へ排出され、有害成分を除去
するための処理を受けるが、ガス排出系に不測の
異常事態が発生し、排気能力が低下した場合、反
応容器内には廃ガスが充満する。
出系からその容器外へ排出され、有害成分を除去
するための処理を受けるが、ガス排出系に不測の
異常事態が発生し、排気能力が低下した場合、反
応容器内には廃ガスが充満する。
ガス排出系に特に異常がない場合でも、反応容
器内外の圧力変動により、廃ガスがガス排出系か
ら反応容器内へ逆拡散することがある。
器内外の圧力変動により、廃ガスがガス排出系か
ら反応容器内へ逆拡散することがある。
そのため、反応容器の内部が廃ガスにより汚染
され、殊に反応容器の気密正が不充分な場合には
反応容器から漏洩した廃ガスにより周囲の環境が
悪化する。
され、殊に反応容器の気密正が不充分な場合には
反応容器から漏洩した廃ガスにより周囲の環境が
悪化する。
もちろん、廃ガスは上述した腐蝕成分を含むの
で、設備装置の金属部分を錆化させたり、人体に
も悪影響を及ぼす。
で、設備装置の金属部分を錆化させたり、人体に
も悪影響を及ぼす。
一方、反応容器内は高品質の合成石英を得るた
め高クリーン度が要求されるが、上記ガス排出系
を介して吸引されている当該反応容器内は定常的
に負圧傾向となり、したがつて、反応容器の気密
性が不充分な場合、外部の塵埃等が不純物として
混入し、反応容器内のクリーン度低下させるので
上記品質維持が困難となる。
め高クリーン度が要求されるが、上記ガス排出系
を介して吸引されている当該反応容器内は定常的
に負圧傾向となり、したがつて、反応容器の気密
性が不充分な場合、外部の塵埃等が不純物として
混入し、反応容器内のクリーン度低下させるので
上記品質維持が困難となる。
本発明は上記の問題点に鑑み、反応容器からそ
の外部へのガス漏れ、および外部から反応容器内
への不純物混入等が防止できる。しかも、高品質
の合成ガラス製造できる装置を提供しようとする
ものである。
の外部へのガス漏れ、および外部から反応容器内
への不純物混入等が防止できる。しかも、高品質
の合成ガラス製造できる装置を提供しようとする
ものである。
『問題点を解決するための手段』
本発明は上記の目的を達成するため、ガス導入
系、ガス排出系を有する反応容器内に、ガラス微
粒子生成用のバーナと、ガラス堆積基材とが相互
に対応して内装された合成ガラス製造装置におい
て、上記反応容器の一部または全部が内部空間を
有する二重壁体により構成され、当該反応容器に
は、反応容器外部のガス圧に対して反応容器内部
のガス圧、二重壁体の内部空間のガス圧が相対的
に調整可能なガス調整機構が設けられていること
を特徴とする。
系、ガス排出系を有する反応容器内に、ガラス微
粒子生成用のバーナと、ガラス堆積基材とが相互
に対応して内装された合成ガラス製造装置におい
て、上記反応容器の一部または全部が内部空間を
有する二重壁体により構成され、当該反応容器に
は、反応容器外部のガス圧に対して反応容器内部
のガス圧、二重壁体の内部空間のガス圧が相対的
に調整可能なガス調整機構が設けられていること
を特徴とする。
『作用』
本発明装置の場合、反応容器内で回転しながら
所定方向へ往復動するガラス堆積基材の外周に、
バーナを介して反応生成したガラス微粒子を堆積
させ、これにより多孔質ガラス層を形成する。
所定方向へ往復動するガラス堆積基材の外周に、
バーナを介して反応生成したガラス微粒子を堆積
させ、これにより多孔質ガラス層を形成する。
この際、ガス排出系を介して反応容器内を排気
し、これとともにガス導入系からクリーンな気体
を反応容器内に導入する。
し、これとともにガス導入系からクリーンな気体
を反応容器内に導入する。
かかる多孔質ガラス層の形成、ガス排出、ガス
導入等は従来例と同じである。
導入等は従来例と同じである。
本発明装置では、上記のようにして多孔質ガラ
ス層を形成する際の反応容器（一部または全部）
が、内部空間を有する二重壁体により構成され、
しかも反応容器には、反応容器外部のガス圧P1
に対して反応容器内部のガス圧P3、二重壁体の
内部空間のガス圧P2が相対的に調整可能なガス
調整機構が設けられている。
ス層を形成する際の反応容器（一部または全部）
が、内部空間を有する二重壁体により構成され、
しかも反応容器には、反応容器外部のガス圧P1
に対して反応容器内部のガス圧P3、二重壁体の
内部空間のガス圧P2が相対的に調整可能なガス
調整機構が設けられている。
したがつて、仮に反応容器の気密性が不充分で
あるとしても、ガス調整機構を介してP1＜P3＜
P2を満足させ、あるいはP2＜P1とP2＜P3とを満
足させることにより、反応容器内からその外部へ
のガス漏れ、外部から反応容器内への不純物混
入、ガス排出系から反応容器内への廃ガスの逆拡
散等が防止でき、高品質の多孔質ガラス層が安定
して製造できる。
あるとしても、ガス調整機構を介してP1＜P3＜
P2を満足させ、あるいはP2＜P1とP2＜P3とを満
足させることにより、反応容器内からその外部へ
のガス漏れ、外部から反応容器内への不純物混
入、ガス排出系から反応容器内への廃ガスの逆拡
散等が防止でき、高品質の多孔質ガラス層が安定
して製造できる。
『実施例』
以下本発明装置の実施例につき、図面を参照し
て説明する。
て説明する。
図において、石英ガラスまたはセラミツクスか
らなる反応容器１はガス導入系２ａ，２ｂとガス
排出系３とを有する。
らなる反応容器１はガス導入系２ａ，２ｂとガス
排出系３とを有する。
場合により、反応容器１を構成する材料は、樹
脂コーテイングされた石英ガラス、セラミツクス
等からなり、その樹脂コーテイング材としてフツ
素樹脂またはシリコーン樹脂等が採用される。
脂コーテイングされた石英ガラス、セラミツクス
等からなり、その樹脂コーテイング材としてフツ
素樹脂またはシリコーン樹脂等が採用される。
ガス導入系２ａ，２ｂはフイルタ４ａ，４ｂを
備え、かかるフイルタ４ａ，４ｂは外気をクリー
ン度０〜100クラス程度に濾過する機能を有する。
備え、かかるフイルタ４ａ，４ｂは外気をクリー
ン度０〜100クラス程度に濾過する機能を有する。
ガス導入系２ａ，２ｂには、反応容器１内への
ガス導入用として図示しない不活性ガスボンベ、
あるいはクリーンエア（クリーン度０〜100クラ
ス）のボンベが配管接続されることがあるが、こ
の場合、上記フイルタ４ａ，４ｂは省略されても
よい。
ガス導入用として図示しない不活性ガスボンベ、
あるいはクリーンエア（クリーン度０〜100クラ
ス）のボンベが配管接続されることがあるが、こ
の場合、上記フイルタ４ａ，４ｂは省略されても
よい。
ガス排出系３は廃ガスの有害成分除去槽５、吸
引型の排気フアン６を備え、有害成分除去槽５は
水、アルカリ液等の洗浄液を廃ガスに対して向流
させる機能を有する。
引型の排気フアン６を備え、有害成分除去槽５は
水、アルカリ液等の洗浄液を廃ガスに対して向流
させる機能を有する。
反応容器１内には縦型下向のガラス微粒子生成
用バーナ７と、横型（水平）のガラス堆積基材８
とが相互に対応して内装されている。
用バーナ７と、横型（水平）のガラス堆積基材８
とが相互に対応して内装されている。
バーナ７は、例えば同心状に並んだ複数のガス
流路を有する多重管構造からなり、これらガス流
路には所定のガス管がそれぞれ接続されている。
流路を有する多重管構造からなり、これらガス流
路には所定のガス管がそれぞれ接続されている。
図示しない回転手段、往復動手段を介して回転
かつ軸方向に往復動自在なガラス堆積基材８は石
英棒または石英管からなり、当該堆積基材８の両
端は反応容器１外へ突出され、チヤツク９ａ，９
ｂを介して支持されている。
かつ軸方向に往復動自在なガラス堆積基材８は石
英棒または石英管からなり、当該堆積基材８の両
端は反応容器１外へ突出され、チヤツク９ａ，９
ｂを介して支持されている。
なお、ガラス堆積基材８については、チヤツク
９ａ，９ｂ、その回転手段、往復動手段等を含め
た全体が反応容器１内へ内装されることがある。
９ａ，９ｂ、その回転手段、往復動手段等を含め
た全体が反応容器１内へ内装されることがある。
また、図示のごとくガス排出系３の基端、バー
ナ７へのガス供給管、ガラス堆積基材８の両端等
が反応容器１の壁面を貫通しているとき、これら
の貫通部分にはシール手段が講じられる。
ナ７へのガス供給管、ガラス堆積基材８の両端等
が反応容器１の壁面を貫通しているとき、これら
の貫通部分にはシール手段が講じられる。
本発明では、かかる構成の合成ガラス製造装置
において、反応容器１の全部（または一部でもよ
い）が内部空間１０を有する二重壁体１１により
構成されている。
において、反応容器１の全部（または一部でもよ
い）が内部空間１０を有する二重壁体１１により
構成されている。
二重壁体１１には、その内部空間１０に連通す
る給気系１２と、圧力調整弁１３を有する排気系
１４とがそれぞれ連結される。
る給気系１２と、圧力調整弁１３を有する排気系
１４とがそれぞれ連結される。
給気系１２は前記ガス導入系２ａ，２ｂの場合
と同じくフイルタ（濾過機能：クリーン度０〜
100クラス）を有するとか、あるいは不活性ガス
ボンベ、あるいはクリーンエア（クリーン度０〜
100クラス）のボンベが配管接続される。
と同じくフイルタ（濾過機能：クリーン度０〜
100クラス）を有するとか、あるいは不活性ガス
ボンベ、あるいはクリーンエア（クリーン度０〜
100クラス）のボンベが配管接続される。
さらに本発明装置には、前記の通り、反応容器
１外のガス圧に対して反応容器１内のガス圧、二
重壁体１１の内部空間１０のガス圧が相対的に調
整可能なガス調整機構が装備される。
１外のガス圧に対して反応容器１内のガス圧、二
重壁体１１の内部空間１０のガス圧が相対的に調
整可能なガス調整機構が装備される。
そのガス調整機構の一部は、前述したガス導入
系２ａ，２ｂ、ガス排出系３、給気系１２、排気
系１４からなる。
系２ａ，２ｂ、ガス排出系３、給気系１２、排気
系１４からなる。
そのガス調整機構の他部は、反応容器１外のガ
ス圧を測定するための圧力計１５と、内部空間１
０のガス圧を測定するための圧力計１６と、反応
容器１内のガス圧を測定するための圧力計１７
と、反応容器１内のガス圧および内部空間１０の
ガス圧を制御するための制御機器１８とからな
り、圧力計１５は反応容器１外に配置され、圧力
計１６のセンサ１９は内部空間１０内に配置さ
れ、圧力計１７のセンサ２０は反応容器１内に配
置される。
ス圧を測定するための圧力計１５と、内部空間１
０のガス圧を測定するための圧力計１６と、反応
容器１内のガス圧を測定するための圧力計１７
と、反応容器１内のガス圧および内部空間１０の
ガス圧を制御するための制御機器１８とからな
り、圧力計１５は反応容器１外に配置され、圧力
計１６のセンサ１９は内部空間１０内に配置さ
れ、圧力計１７のセンサ２０は反応容器１内に配
置される。
制御機器１８は各圧力計１５〜１７からの測定
値入力に基づき、反応容器１内のガス圧、内部空
間１０のガス圧を所定値に調整するが、そのた
め、ガス導入系２ａ，２ｂ、ガス排出系３、給気
系１２、排気系１４の一部または全部を制御する
機能を有する。
値入力に基づき、反応容器１内のガス圧、内部空
間１０のガス圧を所定値に調整するが、そのた
め、ガス導入系２ａ，２ｂ、ガス排出系３、給気
系１２、排気系１４の一部または全部を制御する
機能を有する。
より具体的には、制御機器１８は、少なくとも
ガス排出系３の排気フアン６と排気系１４の圧力
調整弁１３とを制御する機能を有する。
ガス排出系３の排気フアン６と排気系１４の圧力
調整弁１３とを制御する機能を有する。
上述した本発明装置の場合、従来例と同様、反
応容器１内においてガラス堆積基材８を回転なら
びにその軸方向へ往復動させ、多重管構造のバー
ナ７には例えばSiCl4、Ar、O2、H2等を供給し、
これら各ガスの所定反応に生成したガラス微粒子
を上記ガラス堆積基材８の外周に堆積させて石英
系の多孔質ガラス層２１を形成する。
応容器１内においてガラス堆積基材８を回転なら
びにその軸方向へ往復動させ、多重管構造のバー
ナ７には例えばSiCl4、Ar、O2、H2等を供給し、
これら各ガスの所定反応に生成したガラス微粒子
を上記ガラス堆積基材８の外周に堆積させて石英
系の多孔質ガラス層２１を形成する。
こうして合成ガラスを製造するとき、ガス導入
系２ａ，２ｂとガス排出系３とを稼動させるだけ
でなく、給気系１２、排気系１４をも稼働させ、
しかもこの際、反応容器１外のガス圧P1、内部
空間１０のガス圧P2、反応容器１内のガス圧P3
等を圧力計１５〜１７を介して測定して、これら
の測定結果を制御機器１８へ入力し、当該制御機
器１８にてガス排出系３の排気フアン６と排気系
１４の圧力調整弁１３とを制御することにより、
上記各圧力を『P1＜P3＜P2』としたり、あるい
は『P2＜P1、P2＜P3』とする。
系２ａ，２ｂとガス排出系３とを稼動させるだけ
でなく、給気系１２、排気系１４をも稼働させ、
しかもこの際、反応容器１外のガス圧P1、内部
空間１０のガス圧P2、反応容器１内のガス圧P3
等を圧力計１５〜１７を介して測定して、これら
の測定結果を制御機器１８へ入力し、当該制御機
器１８にてガス排出系３の排気フアン６と排気系
１４の圧力調整弁１３とを制御することにより、
上記各圧力を『P1＜P3＜P2』としたり、あるい
は『P2＜P1、P2＜P3』とする。
かくて、反応容器１内のガスがその外部に漏れ
たり、あるいは外部から反応容器１内へ不純物が
混入することがなくなり、各系がきわめて安定し
た稼働状態を呈するようになる。
たり、あるいは外部から反応容器１内へ不純物が
混入することがなくなり、各系がきわめて安定し
た稼働状態を呈するようになる。
その結果、反応容器１内のクリーン度が良好に
保持されて高品質の多孔質ガラス層２１が得ら
れ、周囲の作業循環も汚染されなくなる。
保持されて高品質の多孔質ガラス層２１が得ら
れ、周囲の作業循環も汚染されなくなる。
『発明の効果』
以上説明した通り、本発明によるときは、所定
の合成ガラス製造装置における反応容器の一部ま
たは全部が内部空間を有する二重壁体により構成
され、その反応容器に、反応容器外部のガス圧に
対する反応容器内部のガス圧、二重壁体の内部空
間のガス圧が相対調整可能なガス調整機構が設け
られているから、当該ガス調整機構を介して反応
容器内部のガス圧、二重壁体の内部空間のガス圧
を適切な状態に調整することにより、反応容器か
らその外部へのガス漏れ、および外部から反応容
器内への不純物混入等が防止でき、したがつて高
品質の合成ガラスが、作業環境を汚染することな
く安定して製造できる。
の合成ガラス製造装置における反応容器の一部ま
たは全部が内部空間を有する二重壁体により構成
され、その反応容器に、反応容器外部のガス圧に
対する反応容器内部のガス圧、二重壁体の内部空
間のガス圧が相対調整可能なガス調整機構が設け
られているから、当該ガス調整機構を介して反応
容器内部のガス圧、二重壁体の内部空間のガス圧
を適切な状態に調整することにより、反応容器か
らその外部へのガス漏れ、および外部から反応容
器内への不純物混入等が防止でき、したがつて高
品質の合成ガラスが、作業環境を汚染することな
く安定して製造できる。
図面は本発明に係るガラス合成装置の一実施例
を略示した断面図である。 １……反応容器、２ａ，２ｂ……ガス導入系、
３……ガス排出系、６……排気フアン、７……ガ
ラス微粒子生成用のバーナ、８……ガラス堆積基
材、１０……二重壁体の内部空間、１１……二重
壁体、１２……給気系、１３……排気系の圧力調
整弁、１４……排気系、１５〜１７……圧力計、
１８……制御機器、１９，２０……圧力計のセン
サ、２１……多孔質ガラス層、P1……反応容器
外部のガス圧、P2……内部空間のガス圧、P3…
…反応容器内部のガス圧。
を略示した断面図である。 １……反応容器、２ａ，２ｂ……ガス導入系、
３……ガス排出系、６……排気フアン、７……ガ
ラス微粒子生成用のバーナ、８……ガラス堆積基
材、１０……二重壁体の内部空間、１１……二重
壁体、１２……給気系、１３……排気系の圧力調
整弁、１４……排気系、１５〜１７……圧力計、
１８……制御機器、１９，２０……圧力計のセン
サ、２１……多孔質ガラス層、P1……反応容器
外部のガス圧、P2……内部空間のガス圧、P3…
…反応容器内部のガス圧。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ガス導入系、ガス排出系を有する反応容器内
に、ガラス微粒子生成用のバーナと、ガラス堆積
基材とが相互に対応して内装された合成ガラス製
造装置において、上記反応容器の一部または全部
が内部空間を有する二重壁体により構成され、当
該反応容器には、反応容器外部のガス圧に対して
反応容器内部のガス圧、二重壁体の内部空間のガ
ス圧が相対的に調整可能なガス調整機構が設けら
れていることを特徴とする合成ガラス製造装置。 ２ ガス調整機構が、反応容器に設けられたガス
導入系およびガス排出系と、二重壁体の内部空間
に連通して設けられた給気系および排気系と、反
応容器内外のガス圧および二重壁体の内部空間の
ガス圧を測定するための圧力計と、反応容器内部
のガス圧および二重壁体の内部空間のガス圧を制
御するための制御機器とからなる特許請求の範囲
第１項記載の合成ガラス製造装置。 ３ 反応容器外部のガス圧をP1、二重壁体の内
部空間のガス圧をP2、反応容器内部のガス圧を
P3とした場合、これらガス圧がP1＜P3＜P2の関
係を満足している特許請求の範囲第１項記載の合
成ガラス製造装置。 ４ 反応容器外部のガス圧をP1、二重壁体の内
部空間のガス圧をP2、反応容器内部のガス圧を
P3とした場合、これらガス圧がP2＜P1、P2＜P3
の関係を満足している特許請求の範囲第１項記載
の合成ガラス製造装置。 ５ 二重壁体の内部空間のガス圧が正圧である特
許請求の範囲第１項ないし第４項いずれかに記載
の合成ガラス製造装置。 ６ 反応容器内へ導入するガスが、不活性ガスま
たはクリーンエアまたはこれらの混合ガスからな
る特許請求の範囲第１項ないし第４項いずれかに
記載の合成ガラス製造装置。 ７ 二重壁体の内部空間へ導入するガスが、不活
性ガスまたはクリーンエアまたはこれらの混合ガ
スからなる特許請求の範囲第１項ないし第５項い
ずれかに記載の合成ガラス製造装置。 ８ クリーンエアのクリーン度が０〜100クラス
である特許請求の範囲第６項または第７項記載の
合成ガラス製造装置。 ９ 反応容器が石英ガラス、セラミツクスのうち
から選択された任意材料からなる特許請求の範囲
第１項ないし第４項または第６項いずれかに記載
の合成ガラス製造装置。 １０ 反応容器用の材料が樹脂コーテイングされ
ている特許請求の範囲第１項ないし第４項または
第６項または第９項いずれかに記載の合成ガラス
製造装置。 １１ 樹脂コーテイング材料がフツ素樹脂または
シリコーン樹脂のいずれかからなる特許請求の範
囲第９項記載の合成ガラス製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2753086A JPS62187121A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 合成ガラス製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2753086A JPS62187121A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 合成ガラス製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62187121A JPS62187121A (ja) | 1987-08-15 |
| JPH033615B2 true JPH033615B2 (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=12223667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2753086A Granted JPS62187121A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 合成ガラス製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62187121A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2557651B2 (ja) * | 1987-07-02 | 1996-11-27 | 株式会社フジクラ | 光フアイバ母材の製造方法 |
| JP2604454B2 (ja) * | 1988-12-23 | 1997-04-30 | 信越化学工業株式会社 | シングルモード型光ファイバープリフォームの製造方法 |
| JPH02243521A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フッ化物ガラスロッドレンズ並びにその製造方法及び装置 |
| JP5050969B2 (ja) * | 1998-08-24 | 2012-10-17 | 旭硝子株式会社 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
| JP5678711B2 (ja) * | 2011-02-16 | 2015-03-04 | 住友電気工業株式会社 | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
-
1986
- 1986-02-10 JP JP2753086A patent/JPS62187121A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62187121A (ja) | 1987-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU632336B2 (en) | Process for thermal treatment of glass fiber preform | |
| EP1405833A1 (en) | Device and method for producing stack of fine glass particles | |
| JPH0550448B2 (ja) | ||
| EP0025230A2 (en) | Method of and apparatus for producing optical fibre preforms | |
| JP4379554B2 (ja) | 光ファイバ母材の脱水焼結方法 | |
| JPH06345469A (ja) | 高純度透明ガラスの製造方法 | |
| EP0231022B1 (en) | Apparatus for the production of porous preform of optical fiber | |
| EP1468971A1 (en) | Method of manufacturing glass particulate sedimentary body, and method of manufacturing glass base material | |
| US20040055339A1 (en) | Method for producing glass-particle deposited body | |
| US4592924A (en) | Method of manufacturing a reaction vessel for crystal growth purposes | |
| JP2808857B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の加熱炉および製法 | |
| JPS62187121A (ja) | 合成ガラス製造装置 | |
| JP4375333B2 (ja) | ガラス材の製造方法 | |
| JPH0788227B2 (ja) | ガラス体の製造方法および装置 | |
| JPH09188523A (ja) | シリカガラスの製造方法及び製造装置 | |
| JPS62176936A (ja) | 光フアイバプリフオ−ムの製造方法および製造装置 | |
| JP3290612B2 (ja) | 光ファイバ母材の焼結工程における炉芯管割れ検知方法及び光ファイバ母材の製造方法 | |
| JP2003212561A (ja) | ガラス母材の製造方法および製造装置 | |
| EP3153478B1 (en) | Apparatus for producing porous glass preform | |
| JPS605030A (ja) | 高純度ガラス粉末およびこの粉末からガラス製品を製造する装置および方法 | |
| JP2002104830A (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
| JPH0222137A (ja) | 合成石英母材の製造方法 | |
| JP6540450B2 (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
| JPS62162646A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
| JP2003192357A (ja) | 多孔質ガラス母材の熱処理方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |