JPH0336217B2 - - Google Patents
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- JPH0336217B2 JPH0336217B2 JP56175800A JP17580081A JPH0336217B2 JP H0336217 B2 JPH0336217 B2 JP H0336217B2 JP 56175800 A JP56175800 A JP 56175800A JP 17580081 A JP17580081 A JP 17580081A JP H0336217 B2 JPH0336217 B2 JP H0336217B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- metal
- photosensitive
- image
- photosensitive resin
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属画像を形成するための材料に関
し、詳しくは、ハイコントラストの画像形成能を
有し、微細線画像、網点画像用に適した、新規な
金属画像形成材料に関する。
し、詳しくは、ハイコントラストの画像形成能を
有し、微細線画像、網点画像用に適した、新規な
金属画像形成材料に関する。
一般に、感光性樹脂層等画像形成層と金属等被
加工材層とからなる金属画像形成材料を用いる
時、被加工材である金属あるいは非金属板上に一
定の画像、図柄を有する耐腐蝕性皮膜を写真技法
等を用いて形成させて後、被加工材の露出部を化
学的、または電気化学的に溶解させて、所望の金
属画像を得たり、穴あけ、みぞ加工を行なう技法
として写真腐蝕法(以下フオトエツチング法とい
う。)がある。
加工材層とからなる金属画像形成材料を用いる
時、被加工材である金属あるいは非金属板上に一
定の画像、図柄を有する耐腐蝕性皮膜を写真技法
等を用いて形成させて後、被加工材の露出部を化
学的、または電気化学的に溶解させて、所望の金
属画像を得たり、穴あけ、みぞ加工を行なう技法
として写真腐蝕法(以下フオトエツチング法とい
う。)がある。
従来の金属画像形成材料において、金属薄層を
用いた場合のフオトエツチング法では、画像形成
のされた感光性樹脂層で耐腐蝕性の特性を有する
被覆層(以下レジストという。)がエツチング液
によつて侵される傾向が有り、侵されない程度に
弱いエツチング液では、金属薄層が該エツチング
液によりエツチングされにくいことで、そのため
通常は、エツチング時間が長く掛ることになる。
従つて効率を昇げる為に強いエツチング液を用い
なければならず、作業上、環境上危険性が有り、
レジストとしては、耐腐蝕性の極めて強いものを
用いなければならないという欠点があつた。しか
も、強いエツチング液や弱いレジストでは鮮鋭な
画像が得難く、エツチングが進行すると、エツチ
ングは被加工材表面に垂直方向に進むと同時に横
方向へも進行するので、いわゆるサイドエツチが
起きて、画像のエツヂの乱れを生ずるという不都
合があつた。
用いた場合のフオトエツチング法では、画像形成
のされた感光性樹脂層で耐腐蝕性の特性を有する
被覆層(以下レジストという。)がエツチング液
によつて侵される傾向が有り、侵されない程度に
弱いエツチング液では、金属薄層が該エツチング
液によりエツチングされにくいことで、そのため
通常は、エツチング時間が長く掛ることになる。
従つて効率を昇げる為に強いエツチング液を用い
なければならず、作業上、環境上危険性が有り、
レジストとしては、耐腐蝕性の極めて強いものを
用いなければならないという欠点があつた。しか
も、強いエツチング液や弱いレジストでは鮮鋭な
画像が得難く、エツチングが進行すると、エツチ
ングは被加工材表面に垂直方向に進むと同時に横
方向へも進行するので、いわゆるサイドエツチが
起きて、画像のエツヂの乱れを生ずるという不都
合があつた。
また、感光性樹脂層へ所望の画像を紫外線ラン
プ等を用いて焼き込む時に、感光性樹脂層を通過
した光が、下層の金属薄層に反射してハレーシヨ
ンを起こすため、焼込み画像の再現性が問題とな
つていた。
プ等を用いて焼き込む時に、感光性樹脂層を通過
した光が、下層の金属薄層に反射してハレーシヨ
ンを起こすため、焼込み画像の再現性が問題とな
つていた。
本発明の目的は、金属薄層を短時間にエツチン
グするための強力なエツチング液を使用すること
なく、短時間に金属薄層をエツチングして、しか
も鮮鋭な画像を得ることができる金属画像形成材
料を提供するにある。
グするための強力なエツチング液を使用すること
なく、短時間に金属薄層をエツチングして、しか
も鮮鋭な画像を得ることができる金属画像形成材
料を提供するにある。
本発明の別の目的は、下引層に対し強固に蒸着
される金属蒸着層と、この上に設けられる感光性
樹脂層との接着性が強固で、全体としてみても膜
剥れが見られない金属画像形成材料を提供するに
ある。
される金属蒸着層と、この上に設けられる感光性
樹脂層との接着性が強固で、全体としてみても膜
剥れが見られない金属画像形成材料を提供するに
ある。
かかる目的は、水系処置液を滴下した時に、滴
下1分後の接触角が30°以下である下引層を設け
た支持体上に、該下引層面に対して蒸着角度80°
以上の斜め方向から金属を蒸着して形成され、膜
厚400Å〜1500Åで表面に微細な凹凸を有する少
なくとも1層の金属蒸着層が設けられており、こ
の金属蒸着層上に乾燥厚さ0.1〜10μの感光性樹脂
層が設けられていることを特徴とする金属画像形
成材料によつて達成される。
下1分後の接触角が30°以下である下引層を設け
た支持体上に、該下引層面に対して蒸着角度80°
以上の斜め方向から金属を蒸着して形成され、膜
厚400Å〜1500Åで表面に微細な凹凸を有する少
なくとも1層の金属蒸着層が設けられており、こ
の金属蒸着層上に乾燥厚さ0.1〜10μの感光性樹脂
層が設けられていることを特徴とする金属画像形
成材料によつて達成される。
本発明を以下に詳述する。
本発明に用いられる下引層は、水はもちろん実
質的に水を主成分とするアルカリ水溶液及び酸水
溶液あるいは、これらに少量の有機溶媒を加えた
従来公知の水系処理液に溶解するか、又は親和性
を有する素材からなる下引層であつて、水系処理
液を該下引層上に滴下した時に、滴下1分後の接
触角が30°以下である素材からなる下引層である
この特性を有する下引層を調整するためには、各
種既知の水系処理液に可溶性又は親和性のある樹
脂を単独あるいは複数で用いることが好ましい。
この樹脂の例としては、水処理液の場合は例えば
ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、およびポリエチレンオ
キサイド等の水溶性樹脂が挙げられる。
質的に水を主成分とするアルカリ水溶液及び酸水
溶液あるいは、これらに少量の有機溶媒を加えた
従来公知の水系処理液に溶解するか、又は親和性
を有する素材からなる下引層であつて、水系処理
液を該下引層上に滴下した時に、滴下1分後の接
触角が30°以下である素材からなる下引層である
この特性を有する下引層を調整するためには、各
種既知の水系処理液に可溶性又は親和性のある樹
脂を単独あるいは複数で用いることが好ましい。
この樹脂の例としては、水処理液の場合は例えば
ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、およびポリエチレンオ
キサイド等の水溶性樹脂が挙げられる。
水あるいはアルカリ水溶液処理の場合、ノボラ
ツク樹脂、ビニルピロリドン共重合体、アクリル
酸共重合体、メタクリル酸共重合体、アクリルア
ミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、無水
マレイン酸共重合体等の水溶性あるいはアルカリ
可溶性樹脂が挙げられる。
ツク樹脂、ビニルピロリドン共重合体、アクリル
酸共重合体、メタクリル酸共重合体、アクリルア
ミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、無水
マレイン酸共重合体等の水溶性あるいはアルカリ
可溶性樹脂が挙げられる。
また、酸水溶液処理の場合は、例えば側鎖にジ
アルキルアミノ基を有するジメチルアミノメチル
メタクリレート共重合体、ジエチルアミノメチル
メタクリレート共重合体等が挙げられる。
アルキルアミノ基を有するジメチルアミノメチル
メタクリレート共重合体、ジエチルアミノメチル
メタクリレート共重合体等が挙げられる。
本発明における下引層の厚さは、画像の解像
力、エツヂのシヤープネスの点で、出来るだけ薄
いことが好ましく、通常2μ以下、好ましくは1μ
以下である。
力、エツヂのシヤープネスの点で、出来るだけ薄
いことが好ましく、通常2μ以下、好ましくは1μ
以下である。
本発明に用いられる支持体としては、前述の下
引層を保持するものであつて、それを用いて構成
される本発明の金属画像形成材料の用途を考慮し
て各種の形態のものとすることができる。通常当
業者が従来の経験から考えつくこの感光性画像形
成材料を必要とする多くの用途に対しては、その
基板は板状、シート状またはフイルム状といつた
形態のものが好適であり、その用途によつて透明
なもの、半透明なものあるいは不透明のものとす
ることができる。そして支持体は金属層を腐蝕さ
せるエツチング液に侵されず、かつエツチングに
よりその上に設けられている層が剥離したり剥離
し易くなつたりするような層に対する接着力が劣
化してしまうものであつてはならない。
引層を保持するものであつて、それを用いて構成
される本発明の金属画像形成材料の用途を考慮し
て各種の形態のものとすることができる。通常当
業者が従来の経験から考えつくこの感光性画像形
成材料を必要とする多くの用途に対しては、その
基板は板状、シート状またはフイルム状といつた
形態のものが好適であり、その用途によつて透明
なもの、半透明なものあるいは不透明のものとす
ることができる。そして支持体は金属層を腐蝕さ
せるエツチング液に侵されず、かつエツチングに
よりその上に設けられている層が剥離したり剥離
し易くなつたりするような層に対する接着力が劣
化してしまうものであつてはならない。
支持体の素材としては、従来公知の多くのもの
が用いられ、たとえば陶磁器、無定形ガラス、結
晶性ガラス、金属、合金、プラスチツク及びこれ
らの複合材料などを挙げることができる。これら
の素材は不透明なものや透明なものもあるが、必
要によつては透明なものに着色剤や不透明化剤を
加えて半透明化あるいは不透明化されることがで
きる。しかしながら考えられる多くの用途の分野
は、本発明の金属画像形成材料に金属蒸着層によ
る画像を形成せしめ、金属蒸着層がなく支持体が
画面に露出している非画像部分に光を透過せし
め、画像部分は金属蒸着層によつて光を遮断す
る、いわゆる光透過型の応用分野であり、そのよ
うな分野に用いられる金属画像形成材料の場合
は、その支持体が透明であることが必要である。
他方、形成された画像を反射光によつて認識する
応用分野に適用されるものにあつては、その基板
は透明であることを要しない。かかる支持体に
は、下引層との接着を改良する目的で、コロナ放
電、プラズマ処理といつた表面処理の技法を用い
ることもできる。
が用いられ、たとえば陶磁器、無定形ガラス、結
晶性ガラス、金属、合金、プラスチツク及びこれ
らの複合材料などを挙げることができる。これら
の素材は不透明なものや透明なものもあるが、必
要によつては透明なものに着色剤や不透明化剤を
加えて半透明化あるいは不透明化されることがで
きる。しかしながら考えられる多くの用途の分野
は、本発明の金属画像形成材料に金属蒸着層によ
る画像を形成せしめ、金属蒸着層がなく支持体が
画面に露出している非画像部分に光を透過せし
め、画像部分は金属蒸着層によつて光を遮断す
る、いわゆる光透過型の応用分野であり、そのよ
うな分野に用いられる金属画像形成材料の場合
は、その支持体が透明であることが必要である。
他方、形成された画像を反射光によつて認識する
応用分野に適用されるものにあつては、その基板
は透明であることを要しない。かかる支持体に
は、下引層との接着を改良する目的で、コロナ放
電、プラズマ処理といつた表面処理の技法を用い
ることもできる。
本発明に係る金属画像形成材料における金属薄
層は金属蒸着層であり、該金属蒸着層に用いられ
る金属としては、例えば特開昭50−139720号公報
に記載されているアルミニウムを主体とする金属
や、特開昭48−65927号、同48−65928号、同50−
2925号及び同50−14161号の各公報に記載されて
いるようなテルル、モリブテン、ポロニウム、コ
バルト、亜鉛、銅、ニツケル、鉄、錫、バナジウ
ム、ゲルマニウム、銀及び銀エマルジヨン、また
クロム、チタニウム等や合金を挙げることができ
る。
層は金属蒸着層であり、該金属蒸着層に用いられ
る金属としては、例えば特開昭50−139720号公報
に記載されているアルミニウムを主体とする金属
や、特開昭48−65927号、同48−65928号、同50−
2925号及び同50−14161号の各公報に記載されて
いるようなテルル、モリブテン、ポロニウム、コ
バルト、亜鉛、銅、ニツケル、鉄、錫、バナジウ
ム、ゲルマニウム、銀及び銀エマルジヨン、また
クロム、チタニウム等や合金を挙げることができ
る。
本発明において好ましい金属薄層はアルミニウ
ム金属薄層である。上記金属薄層は、下引層の塗
設された支持体の面に対して、斜め方向から金属
を蒸着して作成された金属蒸着層であり、蒸着角
度θ(支持体面の法線と蒸着粒子の入射方向との
なす角)は80°以上である。
ム金属薄層である。上記金属薄層は、下引層の塗
設された支持体の面に対して、斜め方向から金属
を蒸着して作成された金属蒸着層であり、蒸着角
度θ(支持体面の法線と蒸着粒子の入射方向との
なす角)は80°以上である。
本発明において蒸着とは、通常の抵抗加熱方式
の真空蒸着はもちろん、電子ビーム加熱蒸着法、
スパツタリング法、イオンプレーテイング法等を
含むものである。
の真空蒸着はもちろん、電子ビーム加熱蒸着法、
スパツタリング法、イオンプレーテイング法等を
含むものである。
本発明の金属蒸着層の厚さは、得られる画像に
必要な光学濃度によつて決まつてくるが、両者に
ほぼ比例関係にあり、たとえば画像が線画や網点
の場合は比較的高濃度が必要であつて少なくとも
光学濃度で2.0以上、特に本発明の材料をPS印刷
版に焼き付けを行なうためのマスクとして用いる
場合にはかなりの光学濃度が要求され、少なくと
も3.0の光学濃度が必要であるので、それに相応
した厚さの、膜厚400Å〜1500Åの範囲内に決め
るのである。このときの光学濃度は〔金属蒸着層
+下引層〕を有するフイルムのマクベス透過濃度
計による計測値である。
必要な光学濃度によつて決まつてくるが、両者に
ほぼ比例関係にあり、たとえば画像が線画や網点
の場合は比較的高濃度が必要であつて少なくとも
光学濃度で2.0以上、特に本発明の材料をPS印刷
版に焼き付けを行なうためのマスクとして用いる
場合にはかなりの光学濃度が要求され、少なくと
も3.0の光学濃度が必要であるので、それに相応
した厚さの、膜厚400Å〜1500Åの範囲内に決め
るのである。このときの光学濃度は〔金属蒸着層
+下引層〕を有するフイルムのマクベス透過濃度
計による計測値である。
この金属蒸着層の厚さと光学濃度との関係は、
金属蒸着層を形成させる方法、たとえば真空蒸着
の条件によつて多少異なることはあるが大体にお
いてほぼ同様である。所望の光学濃度を得るため
に金属蒸着層の厚さを必要以上にすることは特に
禁止されることはないが、金属蒸着層の試料の浪
費や後述するごとき画像形成のためのエツチング
に過大な時間が要することになるので望ましいこ
とではない。さらに過大なエツチング時間のため
にレジストを劣化させることがあることを考慮す
れば金属蒸着層の必要以上の厚さはむしろ避ける
べきである。蒸着により形成される金属蒸着層の
膜厚は用途に従つて要求される光学濃度を得るよ
うにするのに、400Å〜1500Åである。
金属蒸着層を形成させる方法、たとえば真空蒸着
の条件によつて多少異なることはあるが大体にお
いてほぼ同様である。所望の光学濃度を得るため
に金属蒸着層の厚さを必要以上にすることは特に
禁止されることはないが、金属蒸着層の試料の浪
費や後述するごとき画像形成のためのエツチング
に過大な時間が要することになるので望ましいこ
とではない。さらに過大なエツチング時間のため
にレジストを劣化させることがあることを考慮す
れば金属蒸着層の必要以上の厚さはむしろ避ける
べきである。蒸着により形成される金属蒸着層の
膜厚は用途に従つて要求される光学濃度を得るよ
うにするのに、400Å〜1500Åである。
本発明の金属蒸着層は、少なくとも1層設けら
れておればよく、2以上の金属蒸着層とされる場
合、少なくとも最上層の金属蒸着層が、支持体の
面に対して蒸着角度80°以上の斜め方向から金属
を蒸着して形成されたものであればよい。また、
本発明における金属蒸着層は、該金属と蒸着可能
な有機物質を混在する層であつてもよい。
れておればよく、2以上の金属蒸着層とされる場
合、少なくとも最上層の金属蒸着層が、支持体の
面に対して蒸着角度80°以上の斜め方向から金属
を蒸着して形成されたものであればよい。また、
本発明における金属蒸着層は、該金属と蒸着可能
な有機物質を混在する層であつてもよい。
本発明における感光性樹脂層は、従来公知の
種々のレジスト形成用感光性樹脂を利用して形成
させることができる。この感光性樹脂は輻射線
(近紫外線または可視光)の照射を受けると短時
間のうちにその分子構造が化学的に変化し、それ
に伴つて溶媒に対する溶解性または粘着性といつ
た物理的性質が変化するモノマー、プレポリマー
及びポリマーなどの化合物及び組成物をすべて包
含する(なお、「感光性樹脂」の概念中に上記の
ごときモノマーやプレポリマーが含まれることは
当業界においては常識である。)。上記の感光性樹
脂はその現像の態様から溶媒(溶剤)による溶解
型と剥離型のものとに大別され、さらに、それぞ
れポジテイブワーキング型とネガテイブワーキン
グ型とに分類され、さらに化学変化の内容から、
輻射線の照射を受けると金属イオンを介して架橋
反応をするものや、それ自体が二量化する光架橋
型感光性樹脂、輻射線の照射を受けると、共に存
在する光分解性物質が分解し、その分解物を介し
て架橋反応をするもの、及び輻射線の照射を受け
ると重合を開始するものに分類され、これらのい
ずれも本発明の金属画像形成材料を調製するため
に用いられる。これらの感光性樹脂はそれぞれ公
知の多くのものがあるが、感光性レジスト膜を形
成し得る今後開発される感光性樹脂もその区分を
問わず公知のものの場合と全く同様に本発明の金
属画像形成材料に適用され得る。
種々のレジスト形成用感光性樹脂を利用して形成
させることができる。この感光性樹脂は輻射線
(近紫外線または可視光)の照射を受けると短時
間のうちにその分子構造が化学的に変化し、それ
に伴つて溶媒に対する溶解性または粘着性といつ
た物理的性質が変化するモノマー、プレポリマー
及びポリマーなどの化合物及び組成物をすべて包
含する(なお、「感光性樹脂」の概念中に上記の
ごときモノマーやプレポリマーが含まれることは
当業界においては常識である。)。上記の感光性樹
脂はその現像の態様から溶媒(溶剤)による溶解
型と剥離型のものとに大別され、さらに、それぞ
れポジテイブワーキング型とネガテイブワーキン
グ型とに分類され、さらに化学変化の内容から、
輻射線の照射を受けると金属イオンを介して架橋
反応をするものや、それ自体が二量化する光架橋
型感光性樹脂、輻射線の照射を受けると、共に存
在する光分解性物質が分解し、その分解物を介し
て架橋反応をするもの、及び輻射線の照射を受け
ると重合を開始するものに分類され、これらのい
ずれも本発明の金属画像形成材料を調製するため
に用いられる。これらの感光性樹脂はそれぞれ公
知の多くのものがあるが、感光性レジスト膜を形
成し得る今後開発される感光性樹脂もその区分を
問わず公知のものの場合と全く同様に本発明の金
属画像形成材料に適用され得る。
感光性樹脂の実際の使用上からは、化学変化の
内容からの分類よりもその現像の態様からの分類
に着目して用いられる感光性樹脂を概観すること
が望ましい。以下、それらに着目して説明する。
内容からの分類よりもその現像の態様からの分類
に着目して用いられる感光性樹脂を概観すること
が望ましい。以下、それらに着目して説明する。
溶剤溶解型の層をつくる感光性樹脂の場合、ポ
ジテイブワーキング型は、例えばo−キノンジア
ジド類にみられるように光照射により分解してカ
ルボキシ基を有する五員環化合物を生成してアル
カリ液に可溶型となり、アルカリ液による現像に
よつて露光部分の樹脂層が除去され、未露光部分
の感光性樹脂層が所望の画線部を形成して残留す
るように作用する型であり、一方、ネガテイブワ
ーキング型は、例えばシンナモイル基、ジアゾニ
ウム基等で代表される光架橋、およびアクリルア
ミド、アクリル酸エステルで代表される光重合に
見られるように光照射により、分子の巨大化や網
目構造の形成によつて不溶化するものであつて、
適当な現像液を用いることによつて、感光性樹脂
層の未露光部分を除去し、不溶化した露光部分が
所望の画線部を形成して残留するように作用する
型である。
ジテイブワーキング型は、例えばo−キノンジア
ジド類にみられるように光照射により分解してカ
ルボキシ基を有する五員環化合物を生成してアル
カリ液に可溶型となり、アルカリ液による現像に
よつて露光部分の樹脂層が除去され、未露光部分
の感光性樹脂層が所望の画線部を形成して残留す
るように作用する型であり、一方、ネガテイブワ
ーキング型は、例えばシンナモイル基、ジアゾニ
ウム基等で代表される光架橋、およびアクリルア
ミド、アクリル酸エステルで代表される光重合に
見られるように光照射により、分子の巨大化や網
目構造の形成によつて不溶化するものであつて、
適当な現像液を用いることによつて、感光性樹脂
層の未露光部分を除去し、不溶化した露光部分が
所望の画線部を形成して残留するように作用する
型である。
これらの溶剤溶解型感光性樹脂はPS版、ワイ
プオン版およびフオトエツチング用レジストなど
の感光液として広く一般に利用されている。
プオン版およびフオトエツチング用レジストなど
の感光液として広く一般に利用されている。
ポジテイブワーキング型の感光性樹脂として
は、1,2−ナフトキノンジアジド類が用いられ
るが、たとえば特公昭37−18015号公報に記載の
2,3,4−トリオキシベンゾフエノン−ビス
〔ナフトキノン−1,2−ジアジド−5,5−ス
ルホン酸エステル〕、特公昭37−3627号公報に記
載の2−〔ナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルフオニルオキシ〕−7−ヒドロキシナフタ
リン、特公昭37−1954号公報に記載のナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルフアニリド、特
公昭45−9610号公報に記載のナフトキノン−1,
2−ジアジド−スルホン酸ノボラツクエステルな
どがある。そして、市販されているものとして
は、KPR(type3)(米国Eastman Kodak社);
AZ−340、AZ−1350、AZ−111、AZ−119
(Azoplate−shipley社);Kalle
AktingesellschaftのCoping Lacquer−P;フオ
トゾール、フオトゾールB、フオトゾールE(東
京応化工業(株));FPPR−300、FPPR−700、
FPPR−1000(富士薬品工業(株));などがある。
は、1,2−ナフトキノンジアジド類が用いられ
るが、たとえば特公昭37−18015号公報に記載の
2,3,4−トリオキシベンゾフエノン−ビス
〔ナフトキノン−1,2−ジアジド−5,5−ス
ルホン酸エステル〕、特公昭37−3627号公報に記
載の2−〔ナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルフオニルオキシ〕−7−ヒドロキシナフタ
リン、特公昭37−1954号公報に記載のナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルフアニリド、特
公昭45−9610号公報に記載のナフトキノン−1,
2−ジアジド−スルホン酸ノボラツクエステルな
どがある。そして、市販されているものとして
は、KPR(type3)(米国Eastman Kodak社);
AZ−340、AZ−1350、AZ−111、AZ−119
(Azoplate−shipley社);Kalle
AktingesellschaftのCoping Lacquer−P;フオ
トゾール、フオトゾールB、フオトゾールE(東
京応化工業(株));FPPR−300、FPPR−700、
FPPR−1000(富士薬品工業(株));などがある。
ネガテイブワーキング型の感光性樹脂のうち、
水溶性感光液では、岡本化学工業、富士薬品工
業、四輪産業などから市販されているものがある
が、PVA−重クロム酸アンモン系のものがほと
んど大部分であり、ほかにグル−重クロム酸アン
モン系、カゼイン−重クロム酸アンモン系のもの
がある。他に有用な感光性樹脂として、ジアゾニ
ウム塩類、アジド化合物、シンナモイル基を有す
る化合物などの多くの感光性物質が知られている
が、ネガテイブワーキング型の感光性樹脂として
用いられるジアゾニウム塩類としては、p−ジア
ゾジフエニルアミンのパラホルムアルデヒド縮合
物や米国特許第1762033号に記載の1−ジアゾ−
4−ジメチルアミノベンゼン・ヒドロフルオホレ
ート、1−ジアゾ−3−メチル−4−ジメチルア
ニリン・サルフエート、1−ジアゾ−3−モノエ
チルナフチルアミン等がある。またアジド化合物
としては、米国特許第2852379号及び同第2940853
号に記載のp−フエニレンビスアジド、p−アジ
ドベンゾフエノン、4,4′−ジアジドベンゾフエ
ノン、4,4′−ジアジドジフエニルメタン、4,
4′−ジアジドスチルベン、4,4′−ジアジルカル
コン、2,6−ジ−(4′−アジドベンザル)シク
ロヘキサノン、2,6−ジ−(4′−アジドベンザ
ル)−4−メチルシクロヘキサノンなどがある。
これらのアジド化合物は通常ゴム溶液中に混合さ
れて「ゴム感光液」として用いられるが、このと
きに用いられるゴムは天然ガムまたは合成ゴムで
ある、合成ゴムの場合としては特公昭45−22084
号に記載されているポリイソブチレンが多く用い
られている。
水溶性感光液では、岡本化学工業、富士薬品工
業、四輪産業などから市販されているものがある
が、PVA−重クロム酸アンモン系のものがほと
んど大部分であり、ほかにグル−重クロム酸アン
モン系、カゼイン−重クロム酸アンモン系のもの
がある。他に有用な感光性樹脂として、ジアゾニ
ウム塩類、アジド化合物、シンナモイル基を有す
る化合物などの多くの感光性物質が知られている
が、ネガテイブワーキング型の感光性樹脂として
用いられるジアゾニウム塩類としては、p−ジア
ゾジフエニルアミンのパラホルムアルデヒド縮合
物や米国特許第1762033号に記載の1−ジアゾ−
4−ジメチルアミノベンゼン・ヒドロフルオホレ
ート、1−ジアゾ−3−メチル−4−ジメチルア
ニリン・サルフエート、1−ジアゾ−3−モノエ
チルナフチルアミン等がある。またアジド化合物
としては、米国特許第2852379号及び同第2940853
号に記載のp−フエニレンビスアジド、p−アジ
ドベンゾフエノン、4,4′−ジアジドベンゾフエ
ノン、4,4′−ジアジドジフエニルメタン、4,
4′−ジアジドスチルベン、4,4′−ジアジルカル
コン、2,6−ジ−(4′−アジドベンザル)シク
ロヘキサノン、2,6−ジ−(4′−アジドベンザ
ル)−4−メチルシクロヘキサノンなどがある。
これらのアジド化合物は通常ゴム溶液中に混合さ
れて「ゴム感光液」として用いられるが、このと
きに用いられるゴムは天然ガムまたは合成ゴムで
ある、合成ゴムの場合としては特公昭45−22084
号に記載されているポリイソブチレンが多く用い
られている。
分子中にアジド基をもつポリマーの例として
は、特公昭40−28499号及び同45−22085号公報に
記載のポリアジド安息香酸ビニル、ポリアジドフ
タル酸ビニル、ホリビニルアジドベンザルアセタ
ールなどがある。シンナモイル基を感光基とする
感光性樹脂としては、ホリ桂皮酸ビニルがある。
PVAのシンナミリデン酢酸エステル誘導体も用
いられる。例えば、ポリビニルシンナミリデンア
セテート、ポリビニルシンナメート、シンナミリ
デンアセテート、ポリビニルエトキシカルボニル
メチルカルバメートシンナミリデンアセテート、
ポリビニルアセテートシンナミリデンアセテート
などがある。その他アクリロイル基を用いるも
の、アクリルアミド類を用いるもの、アクリレー
ト類を用いるものなど多数のものが知られてい
る。現在市販されているネガテイブワーキング型
感光性樹脂としては、KPR、KTFR、KMER
(米国Eastman Kodak社製);ウエスタンワイプ
オン(米国Western Litho Plate社製);ワイプ
−O−センシタイザー(米国Litho Chemical
& Supply社製);国外品としてはこの他に
Dynachem CorporationのDCR(Dynachem
Photo Resist)、Philip A.Hunt Chemical
CorporationのWPR(Waycoat photo Resist)、
Kalle AktingesellschaftのCoping Lacquer−N
などが有る。国内品としては、EFPR、OMR、
TPR(東京応化工業(株)製);ネガコートフジスー
パーレジスト(富士薬品工業(株)製);ワイプドー
ルレジストS(岡本化学工業(株)製)、及びKYレジ
スト(ヤマトヤ商店)などがある。
は、特公昭40−28499号及び同45−22085号公報に
記載のポリアジド安息香酸ビニル、ポリアジドフ
タル酸ビニル、ホリビニルアジドベンザルアセタ
ールなどがある。シンナモイル基を感光基とする
感光性樹脂としては、ホリ桂皮酸ビニルがある。
PVAのシンナミリデン酢酸エステル誘導体も用
いられる。例えば、ポリビニルシンナミリデンア
セテート、ポリビニルシンナメート、シンナミリ
デンアセテート、ポリビニルエトキシカルボニル
メチルカルバメートシンナミリデンアセテート、
ポリビニルアセテートシンナミリデンアセテート
などがある。その他アクリロイル基を用いるも
の、アクリルアミド類を用いるもの、アクリレー
ト類を用いるものなど多数のものが知られてい
る。現在市販されているネガテイブワーキング型
感光性樹脂としては、KPR、KTFR、KMER
(米国Eastman Kodak社製);ウエスタンワイプ
オン(米国Western Litho Plate社製);ワイプ
−O−センシタイザー(米国Litho Chemical
& Supply社製);国外品としてはこの他に
Dynachem CorporationのDCR(Dynachem
Photo Resist)、Philip A.Hunt Chemical
CorporationのWPR(Waycoat photo Resist)、
Kalle AktingesellschaftのCoping Lacquer−N
などが有る。国内品としては、EFPR、OMR、
TPR(東京応化工業(株)製);ネガコートフジスー
パーレジスト(富士薬品工業(株)製);ワイプドー
ルレジストS(岡本化学工業(株)製)、及びKYレジ
スト(ヤマトヤ商店)などがある。
一方、剥離形の層をつくる感光性樹脂の場合、
たとえば特公昭38−9663号、同41−15932号、同
43−22901号、同48−43126号、特開昭47−7728
号、同47−33623号、同48−58909号、及び同48−
101117号に記載されているように、感光性のポリ
マーすなわち光の照射を受けた部分、もしくは受
けなかつた部分が下層すなわち支持側に隣接する
金属層または中間層との接着性が減少するかある
いは失なわれる性質を有するポリマー、あるいは
感光性モノマーであつて光の照射を受けると重合
して硬化し、下層との接着性が増大するかあるい
は減少または消滅する性質を有するものであり、
具体的にはきわめて多種多様な物質または組成物
があり、それらの特性の程度を考慮して適宜選択
することができる。
たとえば特公昭38−9663号、同41−15932号、同
43−22901号、同48−43126号、特開昭47−7728
号、同47−33623号、同48−58909号、及び同48−
101117号に記載されているように、感光性のポリ
マーすなわち光の照射を受けた部分、もしくは受
けなかつた部分が下層すなわち支持側に隣接する
金属層または中間層との接着性が減少するかある
いは失なわれる性質を有するポリマー、あるいは
感光性モノマーであつて光の照射を受けると重合
して硬化し、下層との接着性が増大するかあるい
は減少または消滅する性質を有するものであり、
具体的にはきわめて多種多様な物質または組成物
があり、それらの特性の程度を考慮して適宜選択
することができる。
本発明に係る金属画像形成材料を調整するに
は、まず特定した支持体表面に前述の下引用樹脂
を適当な溶媒に溶解もしくは分散させ、たとえば
ローラー塗布法、エアナイフ塗布法、浸漬法、カ
ーテン塗布法、スプレー塗布法などの公知の塗布
方法によつて塗布乾燥せしめることによつて下引
層を設ける。
は、まず特定した支持体表面に前述の下引用樹脂
を適当な溶媒に溶解もしくは分散させ、たとえば
ローラー塗布法、エアナイフ塗布法、浸漬法、カ
ーテン塗布法、スプレー塗布法などの公知の塗布
方法によつて塗布乾燥せしめることによつて下引
層を設ける。
次いで、この下引層を施した支持体の下引層面
に、真空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレ
ーテイング法などの方法によつて所望の金属蒸着
層を形成せしめる。その方法の一例を説明すると
以下の通りである。図は真空蒸着法により支持体
に金属蒸着層を設ける場合の、本発明の実施態様
の一例を示す真空蒸着装置の概略図である。図に
おいて、蒸発源2と対向すべき支持体1は蒸着角
度θとなるように傾斜をもつて基板ホルダー5に
より斜めに設置される。蒸発源2は抵抗加熱、電
子ビーム加熱方式等の加熱手段により蒸発試料3
の支持体1に向かつて飛翔させるものである。そ
の飛翔工程の途中に設けたシヤツター4の開閉に
よつて支持体1に対する蒸着継続時間を定めるこ
とができる。
に、真空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレ
ーテイング法などの方法によつて所望の金属蒸着
層を形成せしめる。その方法の一例を説明すると
以下の通りである。図は真空蒸着法により支持体
に金属蒸着層を設ける場合の、本発明の実施態様
の一例を示す真空蒸着装置の概略図である。図に
おいて、蒸発源2と対向すべき支持体1は蒸着角
度θとなるように傾斜をもつて基板ホルダー5に
より斜めに設置される。蒸発源2は抵抗加熱、電
子ビーム加熱方式等の加熱手段により蒸発試料3
の支持体1に向かつて飛翔させるものである。そ
の飛翔工程の途中に設けたシヤツター4の開閉に
よつて支持体1に対する蒸着継続時間を定めるこ
とができる。
次に、この形成された金属蒸着層膜面上に感光
性樹脂層を形成せしめることが行なわれる。この
場合、感光性樹脂層を形成せしめる塗布液として
は、前述した各種の感光性樹脂から選ばれた1つ
又は複数個の樹脂を溶媒に溶かし、溶液あるいは
分散液となし、必要な増感剤や各種添加剤を加
え、塗布液とする。
性樹脂層を形成せしめることが行なわれる。この
場合、感光性樹脂層を形成せしめる塗布液として
は、前述した各種の感光性樹脂から選ばれた1つ
又は複数個の樹脂を溶媒に溶かし、溶液あるいは
分散液となし、必要な増感剤や各種添加剤を加
え、塗布液とする。
このようにして調製した塗布液は、たとえばロ
ーラー塗布法、エアナイフ塗布法、浸漬法、カー
テン塗布法、スプレー塗布法などの公知の塗布方
法によつて前記の金属層上に塗布し乾燥せしめる
ことによつて感光性樹脂層を形成せしめるもので
ある。感光性樹脂層の乾燥厚さとしては0.1〜10μ
とされる。薄すぎる場合にはレジスト層として弱
いものであり、厚すぎる場合はエツチングに過大
な時間がかかり、かつ露光像に対応した正確な画
像のレジスト画像ができなくなるという問題を生
ずることがある。調製された金属画像形成材料に
は、公知の技術により感光性樹脂層に対して像露
光を行ない、現像処理液とエツチング液を兼ねた
エツチング処理液により感光性樹脂層を現像し、
同時に(1浴法)又は次いで(2浴法)金属蒸着
層のエツチングを行ない、又は現像処理液により
感光性樹脂層を現像し、エツチング液で金属蒸着
層をエツチングして後、所望により感光性樹脂層
によるレジストを除去することにより、目的とす
る黒色ないし褐色の金属画像を得ることができ
る。
ーラー塗布法、エアナイフ塗布法、浸漬法、カー
テン塗布法、スプレー塗布法などの公知の塗布方
法によつて前記の金属層上に塗布し乾燥せしめる
ことによつて感光性樹脂層を形成せしめるもので
ある。感光性樹脂層の乾燥厚さとしては0.1〜10μ
とされる。薄すぎる場合にはレジスト層として弱
いものであり、厚すぎる場合はエツチングに過大
な時間がかかり、かつ露光像に対応した正確な画
像のレジスト画像ができなくなるという問題を生
ずることがある。調製された金属画像形成材料に
は、公知の技術により感光性樹脂層に対して像露
光を行ない、現像処理液とエツチング液を兼ねた
エツチング処理液により感光性樹脂層を現像し、
同時に(1浴法)又は次いで(2浴法)金属蒸着
層のエツチングを行ない、又は現像処理液により
感光性樹脂層を現像し、エツチング液で金属蒸着
層をエツチングして後、所望により感光性樹脂層
によるレジストを除去することにより、目的とす
る黒色ないし褐色の金属画像を得ることができ
る。
本発明により、前記本発明の下引層上に設けら
れた金属蒸着層は、該本発明の下引層面に対して
蒸着角度80°以上の斜め方向から蒸着されている
ことにより、金属蒸着層の膜表面は微細な凹凸に
なり、後の工程でこの上に設けられる感光性樹脂
層の接着保持能力が向上し、かつ画像形成後に金
属蒸着層が露出した部分へのエツチング液の浸透
が早まり、且つ本発明の下引層がエツチング液に
可溶性あるいは親和性であるため極めてエツチン
グ速度が早くなる。従つて、さほど強くないエツ
チング液でもエツチング処理が行なえる。エツチ
ング時間が短かいことは、レジストが侵されるこ
とがなく、サイドエツチも少ないことから、画像
現像処理のプロセス性の良いことに関連し、腐蝕
部分のエツヂのシヤープネスが良好な画像が得ら
れて、微細線画像、網点画像でも再現性よく、高
精度で加工できる。また、蒸着角度80°以上の斜
め方向からの蒸着により金属蒸着層は表面反射率
が低下し、感光性樹脂層の露光時のハレーシヨン
防止にも効果がある。
れた金属蒸着層は、該本発明の下引層面に対して
蒸着角度80°以上の斜め方向から蒸着されている
ことにより、金属蒸着層の膜表面は微細な凹凸に
なり、後の工程でこの上に設けられる感光性樹脂
層の接着保持能力が向上し、かつ画像形成後に金
属蒸着層が露出した部分へのエツチング液の浸透
が早まり、且つ本発明の下引層がエツチング液に
可溶性あるいは親和性であるため極めてエツチン
グ速度が早くなる。従つて、さほど強くないエツ
チング液でもエツチング処理が行なえる。エツチ
ング時間が短かいことは、レジストが侵されるこ
とがなく、サイドエツチも少ないことから、画像
現像処理のプロセス性の良いことに関連し、腐蝕
部分のエツヂのシヤープネスが良好な画像が得ら
れて、微細線画像、網点画像でも再現性よく、高
精度で加工できる。また、蒸着角度80°以上の斜
め方向からの蒸着により金属蒸着層は表面反射率
が低下し、感光性樹脂層の露光時のハレーシヨン
防止にも効果がある。
なお、本発明においては、必要に応じて感光性
樹脂層を2以上に分けること、中間層および/又
は保護層を設けること等の構成とすることが可能
である。
樹脂層を2以上に分けること、中間層および/又
は保護層を設けること等の構成とすることが可能
である。
以下、実施例を挙げて本発明を例証するが、本
発明の実施態様がこれによつて限定されることは
ない。
発明の実施態様がこれによつて限定されることは
ない。
実施例 1
厚さ0.5μのクレゾールノボラツク樹脂の下引層
を設けた、長帯状で厚さ100μのポリエチレンテ
レフタレートフイルム支持体のロールを半連続蒸
着装置内に蒸着角度θが80°になるように配置し、
真空度5×10-5Torrの真空下でカーボン製のる
つぼの中に置かれたアルミニウムを加熱すること
により蒸着させる。40m/minの速さで搬送され
ている前記のフイルムの上に真空蒸着し、アルミ
ニウム蒸着層を有する前記下引加工済フイルムの
透過濃度がマクベス透過濃度計で3.5となるよう
にアルミニウム蒸着層を施したのちロール状に巻
き取つた。次に、この形成されたアルミニウム蒸
着層の膜面上に、下記の感光性樹脂組成物を乾燥
後の膜厚が2.0μになるようにホワラー塗布し、
100℃で乾燥器中で、5分間乾燥した。
を設けた、長帯状で厚さ100μのポリエチレンテ
レフタレートフイルム支持体のロールを半連続蒸
着装置内に蒸着角度θが80°になるように配置し、
真空度5×10-5Torrの真空下でカーボン製のる
つぼの中に置かれたアルミニウムを加熱すること
により蒸着させる。40m/minの速さで搬送され
ている前記のフイルムの上に真空蒸着し、アルミ
ニウム蒸着層を有する前記下引加工済フイルムの
透過濃度がマクベス透過濃度計で3.5となるよう
にアルミニウム蒸着層を施したのちロール状に巻
き取つた。次に、この形成されたアルミニウム蒸
着層の膜面上に、下記の感光性樹脂組成物を乾燥
後の膜厚が2.0μになるようにホワラー塗布し、
100℃で乾燥器中で、5分間乾燥した。
スチレンとメタクリル酸共重合体(スチレン/
メタクリル酸=70/30) 5g ペンタエリスリトールトリアクリレート 5g ジイソプロピルチオキサントン 1g メチルセルソルブ 100ml このようにして得られた感光材料の試料を明室
プリンターUP−6(3KW メタルハライドラン
プ、上野化学製)を用い、網点原稿を通して20秒
間パターンを露光し、0.1N水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬した。この時、液温25℃、浸漬時間
30秒において未露光部の金属蒸着層は完全に除去
される一方、露光部の金属蒸着層は、原稿とほぼ
完全に明暗の逆転した金属光沢のないアルミニウ
ム蒸着層で、ハレーシヨンの影響のない黒色画像
が得られた。また、網点のエツヂのシヤープネス
も良好であつた。
メタクリル酸=70/30) 5g ペンタエリスリトールトリアクリレート 5g ジイソプロピルチオキサントン 1g メチルセルソルブ 100ml このようにして得られた感光材料の試料を明室
プリンターUP−6(3KW メタルハライドラン
プ、上野化学製)を用い、網点原稿を通して20秒
間パターンを露光し、0.1N水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬した。この時、液温25℃、浸漬時間
30秒において未露光部の金属蒸着層は完全に除去
される一方、露光部の金属蒸着層は、原稿とほぼ
完全に明暗の逆転した金属光沢のないアルミニウ
ム蒸着層で、ハレーシヨンの影響のない黒色画像
が得られた。また、網点のエツヂのシヤープネス
も良好であつた。
これに対し、蒸着角度θ=0°であり、その他の
点は上記実施例と同様に行つた樹脂層とアルミニ
ウム蒸着層とを下引層とを有する試料では、現像
時間4分と長時間を要し、網点のエツヂのシヤー
プネスが不良のうえ、金属光沢を有する金属蒸着
層のハレーシヨンにより、網点の太り現象を生じ
た。
点は上記実施例と同様に行つた樹脂層とアルミニ
ウム蒸着層とを下引層とを有する試料では、現像
時間4分と長時間を要し、網点のエツヂのシヤー
プネスが不良のうえ、金属光沢を有する金属蒸着
層のハレーシヨンにより、網点の太り現象を生じ
た。
また、蒸着角度θ=45°であり、その他の点は
上記実施例と同様に行つた樹脂層とアルミニウム
蒸着層と下引層とを有する試料では、現像時間が
2分と時間がかかり、かつ網点の太り現像を生じ
たばかりでなく、表面の樹脂層の接着が不良とな
り、一部分が剥離した。
上記実施例と同様に行つた樹脂層とアルミニウム
蒸着層と下引層とを有する試料では、現像時間が
2分と時間がかかり、かつ網点の太り現像を生じ
たばかりでなく、表面の樹脂層の接着が不良とな
り、一部分が剥離した。
実施例 2
厚さ0.3μのスチレンとマレイン酸ナトリウムの
共重合体(モル比1:1)の下引層を設けた、長
帯状の厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの支持体のロール上に実施例1と同様に
してアルミニウム蒸着層を設けた。次に、この形
成されたアルミニウム蒸着層の膜面上に、下記の
感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が2.0μの厚さに
なるようにホワラー塗布し、100℃乾燥器で5分
間乾燥した。
共重合体(モル比1:1)の下引層を設けた、長
帯状の厚さ100μのポリエチレンテレフタレート
フイルムの支持体のロール上に実施例1と同様に
してアルミニウム蒸着層を設けた。次に、この形
成されたアルミニウム蒸着層の膜面上に、下記の
感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が2.0μの厚さに
なるようにホワラー塗布し、100℃乾燥器で5分
間乾燥した。
ポリビニルアセテート〔長鎖アクリレート共重
合体エマルジヨン(Gelva TS−100、
Monsanto Corp.製)〕 100ml ジアゾ樹脂(Fairmount #4) 4g このようにして得られた感光材料の試料を明室
プリンターUP−6で設点原稿を通して20秒間露
光し、流水下スポンジでこすり現像を行なつたと
ころ、未露光部のアルミニウム蒸着層は完全に除
去される一方、露光部のアルミニウム蒸着層は原
稿とほぼ完全に明暗の逆転している黒色画像が得
られた。
合体エマルジヨン(Gelva TS−100、
Monsanto Corp.製)〕 100ml ジアゾ樹脂(Fairmount #4) 4g このようにして得られた感光材料の試料を明室
プリンターUP−6で設点原稿を通して20秒間露
光し、流水下スポンジでこすり現像を行なつたと
ころ、未露光部のアルミニウム蒸着層は完全に除
去される一方、露光部のアルミニウム蒸着層は原
稿とほぼ完全に明暗の逆転している黒色画像が得
られた。
図は、本発明に係る金属画像形成材料における
金属蒸着層を得るのに用いる真空蒸着装置の一例
を示す概略図である。 図中、θは蒸着角度、1は支持体、2は蒸発
源、3は蒸発試料、4はシヤツター、5は基板ホ
ルダー、6は真空蒸着容器を示す。
金属蒸着層を得るのに用いる真空蒸着装置の一例
を示す概略図である。 図中、θは蒸着角度、1は支持体、2は蒸発
源、3は蒸発試料、4はシヤツター、5は基板ホ
ルダー、6は真空蒸着容器を示す。
Claims (1)
- 1 水系処理液を滴下した時に、滴下1分後の接
触角が30°以下である下引層を設けた支持体上に、
該下引層面に対して蒸着角度80°以上の斜め方向
から金属を蒸着して形成され、膜厚400〓〜1500
〓で表面に微細な凹凸を有する少なくとも1層の
金属蒸着層が設けられており、この金属蒸着層上
に乾燥厚さ0.1〜10μの感光性樹脂層が設けられて
いることを特徴とする金属画像形成材料。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175800A JPS5878149A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 金属画像形成材料 |
| EP82305716A EP0082588A3 (en) | 1981-11-02 | 1982-10-27 | Photolithographic elements for the production of metal images |
| US06/688,743 US4591544A (en) | 1981-11-02 | 1985-01-02 | Metal image forming materials with light sensitive resin layer and oblique angle deposited metal underlayer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175800A JPS5878149A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 金属画像形成材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5878149A JPS5878149A (ja) | 1983-05-11 |
| JPH0336217B2 true JPH0336217B2 (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=16002464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56175800A Granted JPS5878149A (ja) | 1981-11-02 | 1981-11-04 | 金属画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5878149A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5821257B2 (ja) * | 1974-04-25 | 1983-04-28 | 富士写真フイルム株式会社 | キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ |
| JPS5931063B2 (ja) * | 1974-11-12 | 1984-07-31 | 凸版印刷株式会社 | フオトマスク用ブランク板の製造方法 |
-
1981
- 1981-11-04 JP JP56175800A patent/JPS5878149A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5878149A (ja) | 1983-05-11 |
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