JPH03369B2

JPH03369B2 -

Info

Publication number: JPH03369B2
Application number: JP57104064A
Authority: JP
Inventors: Harorudo Hooeru Furederitsuku
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1981-06-19
Filing date: 1982-06-18
Publication date: 1991-01-07
Also published as: JPS58925A; EP0069066B1; DE3260883D1; US4661601A; EP0069066A1; CA1240689A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は新規のレゾルシノール化合物およびそ
れらの製法に関する。

芳香族環に直接結合している官能性置換基をも
つレゾルシノールはよく知られておりまた例えば
ロツドのChemistry of Carbon Compounds.2
版、巻Ｄおよび米国特許第4126461号に記載さ
れている。

あるフエノール性化合物、特にレゾルシノール
は写真の中性デンシテイー又は黒色像を生成する
カラーカツプラーとして使用できることは従来か
ら知られている。しかし今までは黒色像生成の必
要はそう大きくなく、またこのフエノール性カラ
ーカツプラーを使うことはあつても少なかつた。
しかし今や銀が非常に高価なため、ハロゲン化銀
増感写真材料中の画像としての銀の代用又は黒色
染料使用による銀像の強化のいづれかの必要性が
増大している。したがつて従来のフエノール性化
合物が再び検討されたが、いづれも十分なよい色
又はデンシテイをもつ黒色像を生成しないことが
わかつたのである。

例えば米国特許第4126461号は黒色カラーカツ
プラーとしてあるレゾルシノール化合物の使用に
関するものである。このレゾルシノール化合物は
カラー現像した場合殆んど使用できる黒色像を生
成するが、しかしこれらは製造困難であることが
わかりまたカツプルしない副成物のそれからの分
離が非常にむつかしいことがわかつている。黒色
カラーカツプラーとして使用するフエノール性化
合物を記載した他の特許は英国特許明細書第
1564349号および英国特許出願公告第2044474号で
ある。第1564349号のフエノール性化合物はｍ−
アミノフエノール化合物である。これらの化合物
をカラー現像法でカラーカツプルさせると暗青色
染料を生じ、これは500nm.以下の低デンシテイ
をもつので、これらは最終像染料としても又はポ
シプリントの生成に使う陰画染料としてもいづれ
にも使用価値がない。2044474号の化合物は４−
置換フエノールによつて結合された２ピラゾロン
核より成るものである。これらの化合物はカラー
現像法でカラーカツプルされると眼には中性の黒
色像を生成するが、その色吸収スペクトルに非常
に不均一でいくつものピークを示すのでポジプリ
ントを生成する陰画として使用できない。

出願人らは新規の化合物、即ち分枝鎖アルキル
基で置換されておりその芳香族環に結合している
炭素が第３級炭素原子でありかつ官能性基をもつ
アルキル基があるレゾルシノールを発見したので
ある。これらの化合物を写真材料中に使うならば
前記した欠点の殆んどは解決される。

下記式(1)で示される新規のレゾルシノール化合
物を写真カラー現像法においてカツプルさせると
良好な暗黒色画像染料を生成し、それはポジプリ
ント中に単独で又は銀像と共にいづれかで最終染
料像として使用でき又はポジプリントがえられる
陰画生成に使用できる。

本発明によれば式(1)：｛式中Ｗは水素、炭素原子１乃至５をもつｎ−
アルキル、又は−COR¹（但しR¹はC₁−C₁₂直鎖又
は分枝鎖アルキルを表わす）又はハロゲンを表わ
し；Ｘは水素、塩素、臭素、式−SR¹¹（但しR¹¹
は窒素含有複素環状基を表わす）から選ばれた基
を表わし；Ｙは式(2)：［式中Ｑはａ −COOR⁴又は−CONR⁴R⁵（但しR⁴は水素、
C₁−C₂₀直鎖又は分枝鎖アルキル、任意にC₁−
C₄アルキルで置換されたC₆−C₁₀アリール基を
表わし、かつR⁵は水素又はC₁−C₂₀直鎖又は分
枝鎖アルキルを表わし；ｂ −OM（但しＭは水素又は−COR⁶（（但しR⁶は
水素、C₁−C₂₀直鎖又は分枝鎖アルキルを表わ
す））を表わす）；ｃ −NR⁷R⁸（但しR⁷は水素又はC₁−C₄直鎖又は
分枝鎖アルキルを表わし、かつR⁸は水素、C₁
−C₄直鎖又は分枝鎖アルキル又は式−COR⁴
（（R⁴は上に定義したとおりとする））をもつア
シルを表わす）；ｄ −PO（OR⁹）［Ｏ］_xR¹⁰（但しｘは０又は１と
し、R⁹は水素又はC₁−C₂₀直鎖又は分枝鎖アル
キルを表わし、R₁₀はｘが１ならば水素又はC₁
−C₂₀直鎖又は分枝鎖アルキルを表わし、ｘが
０ならばC₁−C₅直鎖又は分枝鎖アルキルを表
わし、又はR⁹とR¹⁰は共に結合して任意にC₁−
C₂₀アルキル１又は２以上で置換されたC₂又は
C₃−アルキレンを形成しうる）；ｅ −SO₂T（但しＴは−OH又は−NR⁴R⁵（（但し
R⁴とR⁵は上に定義したとおりとする））を表わ
す）；から選ばれた残基を表わし；ｎは１乃至20の整数とし；ｋは１又は２とし、
R²とR³は各無関係にC₁−C₅直鎖又は分枝鎖アル
キルを表わし、またＱが−CO₂R⁴基である場合、
R²又はR³のいずれかは任意に１又は２の−
CO₂R⁴で置換されていてもよく又はR²とR³の少
なくも１方は−C_oH_2o+1-k残基と結合して−
（CO₂R⁴）_k（但しR⁴は同種又は異種でありまたR⁴
とｋは上に定義したとおりとする）で置換された
C₅−C₁₂シクロアルキレン残基を形成する］をも
つ基を表わす｝で示されることを特徴とする化合
物又はそれらの酸又は塩基との塩が提供される。

式(2)のｋが２でありかつＱが(a)群の残基であれ
ば２群のＱは同種又は異種でよい。同様にR²又
R³が−CO₂R⁴で置換されている場合その中のR⁴
は残基ＱのR⁴基と同種又は異種でもよい。

Ｗおよび（又は）R¹⁰基がC₁−C₅直鎖アルキル
基であるならば、それらは例えばメチル、エチ
ル、ｎ―プロピル、ｎ―ブチル又はｎ―ペンチル
であつてもよい。

R¹基がC₁−C₁₂直鎖又は分枝鎖アルキルであり
又はフエノキシアセチル基がC₁−C₁₂直鎖又は分
枝鎖アルキルをもつ場合は、それは例えばメチ
ル、エチル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―
ブチル、ｓ―ブチル、ｔ―ブチル、ｎ―ペンチ
ル、ｎ―ヘキシル、ｎ―ヘプチル、ｎ―オクチ
ル、２―エチルヘキシル、１，１，３，３―テト
ラメチルブチル、ｎ―ノニル、ｎ―デシル又はｎ
―ドデシルであつてもよい。

R⁴又はR⁶がC₆−C₁₀アリール基である場合、そ
れは例えばフエニル又はナフチルであつてよい。

残基R¹¹がチアゾール、イソチアゾール、ビラ
ゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサジ
アゾール、チアジアゾール、チアトリアゾール、
テトラゾール、ピリジン、ビリミジン、ピラジ
ン、ピリダジン、トリアジン又はアゼピンであつ
てもよい。

R²又はR³基がC₁−C₅直鎖又は分枝鎖アルキル
基である場合は、それは例えばメチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ
−ブチル、ｎ−ペンチル又はネオペンチルであつ
てもよい。

R⁴、R⁵、R⁶、R⁹又はR¹⁰がC₁−C₂₀直鎖又は分
枝鎖アルキル基である場合、それは例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−
ブチル、ｓ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチル−
ヘキシル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシ
ル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−
オクタデシル又はｎ−エイコシルであつてもよ
い。

R⁴又はR⁶がC₃−C₁₂シクロアルキル基である場
合はそれは例えばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチル、シクロデシル、アダマ
ンチル又はシクロドデシルであつてもよい。

R¹、R⁴又はR⁶がC₇−C₁₃アラルキルである場合
は、それは例えばベンジル、フエネチル、ベンズ
ヒドリル、又はナフチルメチルであつてもよい。

R¹、R¹¹、R⁴又はR¹¹がC₁−C₄基１又は２で置
換されたC₆−C₁₀アリール基である場合又はR⁴と
R⁵又はR⁷とR⁸が各それらが結合している窒素と
共にC₁−C₄アルキル基で置換された５−又は６
−員複素環を形成する場合、C₁−C₄直鎖又は分
枝鎖アルキル基は例えばメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチ
ル又はｔ−ブチルであつてもよい。

R⁷又はR⁸が直鎖又は分枝鎖アルキル基である
場合それは例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル又はｓ−ブチル
であつてもよい。

R⁹とR¹⁰が結合してC₁−C₂₀アルキル基１又は
２以上で任意に置換されたC₂又はC₃メチレン鎖
を形成している場合、それらは例えば−CH₂CH₂
−、−CH₂CH₂CH₂、−CH₂CH（CH₃）−、−
CH₂CH（C₂H₅）−、−CH₂CH（C₂₀H₄₁）−、−CH
（CH₃）CH（CH₃）−、−CH（CH₃）Ｃ（CH₃）₂−、
−Ｃ（CH₃）₂C（CH₃）₂−、−CH₂CH₂C（CH₃）₂−又
は−CH（CH₃）CH₂CH（CH₃）−であつてもよい。

R⁴基が任意に置換されたC₆−C₁₀アリール基で
ある場合は、アリール基は無関係に例えば１又は
２のC₁−C₄アルキル基、で置換されていてもよ
い。

Ｗ基、又はアリール基R⁴の置換基がハロゲン
である場合それはふつ素、塩素又は臭素であつて
もよい。

式(1)をもつ化合物の塩の例はアルカリ金属、ア
ルカリ土金属、遷移元素陽イオンおよびアンモニ
ウムと置換アンモニウム陽イオンから生成された
ものである。式(1)において残基Ｑ（但しＱは−
NR⁷R⁸とする）をもつ化合物の塩の例には塩酸
塩、硫酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、マレイ
ン酸塩、および蓚酸塩がある。

２置換基ＷとＹは式(1)をもつカツプルされたレ
ゾルシノール化合物の黒色染料の吸収スペクトル
に影響を及ぼしうるのである。しかし置換基Ｘは
カツプリング反応中に分離するのでこれは染料の
吸収スペクトルには影響をもたない。しかしＸが
水素原子よりも塩素又は臭素原子のいづれかであ
ればこの置換基はカツプリング速度に影響をもち
ある場合カツプリング活性を増加する。−SR¹¹基
はいわゆる現像抑制基であつて、ある場合像エツ
ジー向上の様なインターイメジおよびイントライ
メジ効果をおこす様写真材料中にこの型のD.I.R.
カツプラーが含まれているとよい。

特に好ましいものは式(1)においてR²がメチル
である化合物である。式(1)をもつ更に適当する化
合物の置換基Ｗは水素、メチル、エチル、ブチ
ル、塩素又は臭素である。

式(1)をもつ化合物において、ｎが１乃至10であ
り、ｋが１であり、R³が炭素原子１乃至５をも
つ直鎖又は分枝鎖アルキルであり、Ｑが−CO₂R⁴
又は−CONR⁴R⁵、−OM又は−NR⁷R⁸（但しR⁴、
R⁵、R⁷、R⁸およびＭは上に定義したとおりとす
る）であり、Ｘが水素でありかつＷが水素、メチ
ル、塩素又は臭素であることが好ましい。

式(1)をもつ好ましい化合物はｎが３乃至５であ
り、ｋが１であり、R³がメチルであり、Ｑが−
CO₂R⁴又は−CONR⁴R⁵又は−NR⁷R⁸（但しR⁴、
R⁵、R⁷およびR⁸は上に定義したとおりとする）
であり、Ｘが水素でありかつＷが水素、メチル、
である様な化合物である。

本発明はまた式(1)をもつ化合物又はそれらの酸
又は塩基との塩の製法を提供する。その方法は酸
フリーデル−クラフツ触媒の存在において20−
150℃の温度において式(3)：（式中Ｘは上に定義したとおりとし、W¹は水
素、炭素原子１−５をもつｎ−アルキル、−
NH₂、−NHCOR¹又は−COR¹、−NO₂又はハロ
ゲンとし、かつR¹は上に定義したとおりとする）
をもつ化合物又はその塩を式(2)；（式中R²、R³、Ｑ、ｎおよびｋは上に定義し
たとおりとする）をもつ基を導入しうる官能性ア
ルキル化剤と反応させ、任意にニトロ基W¹があ
ればアミノ基に還元した後このアミノ基をアシル
化して−NHCOR¹（但しR¹は上に定義したとおり
とする）基を生成し、かつ２−又は６−位置に置
換基Ｗおよび（又は）Ｘいづれも水素以外のもの
とする）を任意に導入し、および（又は）任意に
えた化合物をそれらの対応する酸又は塩基との塩
に転化することより成る。

式(3)をもつ反応体はよく知られておりそれ自体
知られた方法で製造できる。

芳香族フエノール(3)のアルキル化剤に対する比
率は10：１乃至１：１、好ましくは５：１乃至
１：１である。フエノール(3)の過剰は溶媒として
働らく。

更に本発明の方法において環の２−位置への−
NHCOR¹基導入は次の方法によつてできる：式（1a）：（式中ＸとＹは上に定義したとおりとする）を
もつ化合物を硝酸又はフエノール性化合物硝化に
この分野で知られた他の硝化剤で硝化し、式(4)：（式中ＸとＹは上に定義したとおりとする）を
もつ化合物とした後、この分野の知識ある者に知
られた接触水素添加又は他の還元法により還元し
式(5)：（式中ＸとＹは上に定義したとおりとする）を
もつ化合物とし、次いでこれを残基R¹CO−を導
入できるアシル化剤、例えばエステル、酸ハロゲ
ン化物、酸アジ化物、酸無水物、例えばモノ−エ
ステル化された炭酸、トリメチル酢酸又はトリク
ロロ酢酸で生成された酸R¹COOHの混合無水物
で又は縮合剤、例えばカルボジイミドの存在で遊
離酸自体でＮ−アシル化して式（1b）：（R¹、ｘおよびＹは上に定義したとおりとす
る）をもつ化合物がえられる。式(4)と(5)をもつ化
合物は還元および（又は）アシル化反応に適しま
た式(3)をもつ化合物から前記したとおりえること
もできる。

更に本発明の方法において式(6)：をもつ化合物をハロゲン、インターハロゲン又は
式W²−Cl、又はW²−Br（但しW²は塩素、臭素又
はR¹¹S−とする）をもつR¹¹−Ｓ−化合物の３モ
ル迄の量と反応させてハロゲン、インタ−ハロゲ
ン又はR¹¹S−基を式(6)をもつ化合物中に導入し
て式（1c）：（式中W³とX³は各無関係にW²又は水素を表わ
すが、但しW³とX³が共に水素であることなく、
またR²、R³、ｎ、Ｑおよびｋは上に定義したと
おりとする）をもつ化合物がえられる。

式(3)をもつ反応体の例には次のレゾルシノール
がある：２−アセチルレゾルシノール２−メチルレゾルシノール２−エチルレゾルシノール２−ｎ−ペンチルレゾルシノール２−ニトロレゾルシノール２−アミノレゾルシノール２−アセトアミドレゾルシノール２−プロピオンアミドレゾルシノール２−ベンズアミドレゾルシノール２−クロロ−レゾルシノール４−クロロレゾルシノール２，４−ジクロロ−レゾルシノール２，４−ジブロモ−レゾルシノール４−メチルチオ−レゾルシノール。

フエノール性化合物(3)と反応させる官能性アシ
ル化剤は反応性センター、例えばオレフイン基、
又はアルキル化反応操作中除去、変移又は再配置
される水酸基をもつ。

式(3)をもつ化合物の官能的アルキル化に適する
官能性オレフインの例には次のものがある：メチル５−メチルヘキセ−５−エノエイト、４−カルボメトキシ−１−メチル−シクロヘキ
セ−１−エン、ジメチルプレニルホスフオネイト、ジエチルプレニルホスフオネイト、シトロネロール、シトロネリルアセテイト、２−アセトアミド−６−メチル−５−ヘプテ
ン、２−アセトアミド−６−メチル−ヘプテン、２−メチル−２−プロパン−１−スルホン酸、２−メチル−２−プロペン−１−スルホンアミ
ド、Ｎ−メチル−２−メチル−２−プロペン−１−
スルホンアミド又はＮ，Ｎ−ジメチル−２−メチル−２−プロペン
−１−スルホンアミド。

式(3)をもつ化合物の官能性アルキル化に適する
官能性ヒドロキシ化合物の例には次のものがあ
る：式(7)：（式中Y₁とY₃は各無関係に水素又はC₁−C₈ア
ルキルを表わし、Y₂とY₄は各無関係にC₁−C₈ア
ルキルを表わしかつY₅とY₆は各無関係に水素又
はC₁−C₄アルキルを表わす）をもつものから選
ばれた11−アミノ−ウンデカノール、好ましくは２−アミノ−６−ヒドロキシ−６−メチル−ヘ
プタン、２−アセトアミド−６−ヒドロキシ−６−メチ
ル−ヘプタン、 11−アミノ−２，２，12−トリメチル−トリデ
カン−１−オル。

これら11−アミノ−ウンデカノールは更に詳細
にその製法と共にドイツ公開公報第2831299号に
記載されている。

式(1)をもつ化合物中にあるＱ基はみなちがつた
Ｑ基に転化できる、例えばカルボキシル基をもつ
Ｑ基は対応するエステルに、又はエステル基をも
つＱ基はトランスエステル化してちがつたエステ
ル基にすることができる。

本発明による化合物の例を次にあげるがこれら
に限定するものではない：メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル−５
−メチルヘキサノエイト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−5′−メチル
チオ−フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−5′−ｎ−ペ
ンチルチオ−フエニル）−５−メチルヘキサノエ
イト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−5′−フエニ
ルチオ−フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−〔2′，4′−ジヒドロキシ−5′−（1″−
メチルテトラゾル−5″−イル−チオ）−フエニル〕
−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（3′−アセチル−2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−5′−スクシ
ニミド−フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−3′−メチル
−フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−3′−ｎ−ペ
ンチル−フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（3′−アセトアミド−2′，4′−ジヒド
ロキシフエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−3′−ｎ−ヘ
キサノイルアミノ−フエニル）−５−メチル−ヘ
キサノエイト、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシ−3′−ｎ−ド
デカノイルアミノ−フエニル）−５−メチルヘキ
サノエイト、メチル５−（3′−アクリルアミド−2′，4′−ジヒ
ドロキシフエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（3′−シクロヘキシルカルボニルア
ミノ−2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メ
チルヘキサノエイト、メチル５−（3′−クロロ−2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（3′−ブロモ−2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（5′−クロロ−2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（5′−ブロモ−2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（3′，5′−ジクロロ−2′，4′−ジヒド
ロキシフエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（3′，5′−ジブロモ−2′，4′−ジヒド
ロキシフエニル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−（3′−ベンズアミド−2′，4′−ジヒド
ロキシフエニル）−５−メチルヘキサノエイト、２−ｎ−ブトキシ−エチル５−（2′，4′−ジヒ
ドロキシ−3′−フエニルアセチルアミノ−フエニ
ル）−５−メチルヘキサノエイト、メチル５−〔2′，4′−ジヒドロキシ−3′−（2″，
4″−ジネオペンチル−フエノキシアセチルアミノ
フエニル）−５−メチル〕ヘキサノエイト、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸、ｉ−プロピル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエ
ニル）−５−メチルヘキサノエイト、ｎ−ヘキシル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエ
ニル）−５−メチルヘキサノエイト、２−エチルヘキシル５−（2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−５−メチルヘキサノエイト、ｎ−エイコシル５−（2′，4′−ジヒドロキシフ
エニル）−５−メチルヘキサノエイト、アリル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−
５−メチルヘキサノエイト、シクロヘキシル５−（2′，4′−ジヒドロキシフ
エニル）−５−メチルヘキサノエイト、ベンジル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）
−５−メチルヘキサノエイト、フエニル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）
−５−メチルヘキサノエイト、ｐ−トリル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−５−メチルヘキサノエイト、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸アミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸メチルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸エチルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ｎ−ヘキシルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ｎ−オクチルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ｎ−エイコシルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ジメチルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ジエチルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ジアリルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ジシクロヘキシルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ベンジルアミド、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルカプロン酸ｐ−ブチル−アニリド、Ｎ−〔２−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５
−メチルヘキサノイル〕−モルフオリン、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクタン−１−オル、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルアセテイト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルプロピオネイト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルｎ−ヘキサノエイ
ト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルｎ−エイコサネイ
ト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルクロトネイト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルソルベイト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルフエニルアセテイ
ト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルベンゾエイト、７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７−
ジメチル−オクト−１−イルオキシカルボニル
シクロヘキサン、４−カルボメトキシ−１−（2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−１−メチルシクロヘキサン、２−アミノ−６−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−６−メチルヘプタン、３−アミノ−12−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−２，12−ジメチルテトラデカン、３−アミノ−13−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−２，12−ジメチルテトラデカン、２−Ｎ−メチルアミノ−６−（2′，4′−ジヒドロ
キシフエニル）−６−メチルヘプタン、２−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−６−（2′，4′−ジヒ
ドロキシフエニル）−６−メチルペンタン、２−ジメチルアミノ−６−（2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−６−メチルヘプタン、２−ジ−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−６−（2′，4′−
ジヒドロキシフエニル）−６−メチルヘプタン、６−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−２−モル
フオリノ−６−メチルヘプタン、２−アセトアミド−６−（2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−６−メチルヘプタン、２−ヘキサノイルアミノ−６−（2′，4′−ジヒド
ロキシフエニル）−６−メチルヘプタン、２−ベンズアミド−６−（2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−６−メチルヘプタン、１−アセトアミド−５−（2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−５−メチルヘキサン、３−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３−メチ
ル−ブタン−ホスフイン酸、ジメチル３−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）
−３−メチル−ブタン−ホスホフイネイト、ジエチル３−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）
−３−メチル−ブタンホスホフオネイト、ジ−２−エチルヘキシル３−（2′，4′−ジヒド
ロキシフエニル）−３−メチル−ブタン−ホスフ
オネイト、ｎ−ドデシルメチル３−（2′，4′−ジヒドロ
キシフエニル）−３−メチル−ブタン−ホスフオ
ネイト、２−〔３−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３
−メチル−ブト−１−イル〕−４−メチル−１，
３，２−ジオキサホスフオラン、エチル３−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−
３−メチル−ブタン−メチルホスフイネイト、 21−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−21−メチ
ル−ドコサン酸メチルエステル、メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−
５，７，７−トリメチル−オクタノエイト、ジメチル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）
−５−メチル−アゼレイト、シス−４−カルボメトキシ−１−（2′，4′−ジヒ
ドロキシフエニル）−１−メチルシクロヘキサン、トランス−４−カルボメトキシ−１−（2′，4′−
ジヒドロキシフエニル）−１−メチルシクロヘキ
サン、２−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−２−メチ
ル−プロパンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−２−メチル−プロパンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−２−（2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−２−メチル−プロパンスルホンアミ
ド、Ｎ−ｎ−エイコシル−２−（2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−２−メチル−プロパンスルホンア
ミド、Ｎ−アリル−２−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−２−メチル−プロパンスルホンアミド、Ｎ−シクロヘキシル−２−（2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−２−メチルプロパンスルホンアミ
ド、Ｎ−ベンジル−２−（2′，4′−ジヒドロキシフエ
ニル）−２−メチル−プロパンスルホンアミド、Ｎ−フエニル−２−（2′，4′−ジヒドロキシフエ
ニル）−２−メチル−プロパンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−（2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−２−メチル−プロパンスルホンアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−（2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−２−メチル−プロパンスルホンアミ
ド、Ｎ−〔２−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−２
−メチル−プロパンスルホニル〕−モルフオリン、１−シアノ−４−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−４−メチルペンタン、５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチ
ルアゼライン酸、ジエチル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）
−５−メチルアゼレイト、ジ−ｎ−プロピル−５−（2′，4′−ジヒドロキシ
フエニル）−５−メチル−アゼレイト。

式(1)をもつ化合物は支持体上につけられた少なく
も１ハロゲン化銀乳剤層をもつ写真用ハロゲン化
銀材料中に有用であり、ハロゲン化銀乳剤層（単
数又は複数）中に又は少なくも１ハロゲン化銀乳
剤層（単数又は複数）と効果的に接触している層
中に上記式(1)をもつ化合物があるのである。その
１層中に式(1)をもつ化合物を含む写真材料は露出
後知られた型の第１級芳香族アミンカラー現像剤
を使つてカラー現像法により処理される。

本発明の写真材料に使われる支持体は写真材料
として通常使われるどんな支持体でもよい。

式(1)をもつ化合物は、最適写真効果をだすため
の広い種々の官能性アルキル残基を導入する価値
ある手段となる。例えば式(1)をもつレゾルシノー
ルの極性および（又は）レゾルシノール中のバラ
スト（ballast）は調節できるので、溶解度、適
合性、写真系の移動度／非移動度の有効な調整が
できる。この様な性質によつて式(1)をもつ化合物
はより複雑な写真に有用な化合物製造用の価値あ
る中間体となりまた黒色カラーカツプラーとして
便利である。

次の実施例は更に本発明を例証するものであ
る。明細書中の部とパーセントは重量基準であ
り、圧力はミリバールで示している。

実施例１レゾルシノール110部、メチル−５−メチル−
ヘクセ−５−エノエイト28.4部（米国特許第
3783136号により生成した）および活性±フルモ
ント237 5.0部を125−130℃で18時間撹拌した。
反応混合物を冷却しエーテルで稀め触媒を別除
去しエーテルを蒸発除去した。残留油を蒸留し
190℃迄の主としてレゾルシノールより成る留分
b₁₀ 91.0部とb_0.2 186−194℃留分30部をえた。
この留分をエーテル少量を含む石油エーテル（沸
点40−60℃）で稀釈して式：をもつメチル−５−（2′，4′−ジヒドロキシフエ
ニル）−５−メチルヘキサノエイトをえた。融点
93−96℃。次の組成（重量％）をもつていた：ＣＨ測定値 66.34 8.13 C₁₄H₂₀O₄に対する計算値 66.65 7.99 実施例２実施例１に記載の方法でレゾルシノール55部、
４−カルボメトキシ−１−メチルシクロヘキセ−
１−エン（J.Org.Chem.36、924（1971）のコジマ
らの方法により生成した）15.4部およびフルモン
ト237 5.0部を反応させた。蒸留してレゾルシノ
ール42.6部を回収して次にシスとトランス−４−
カルボメトキシ−１−（2′，4′−ジヒドロキシフ
エニル）−１−メチルシクロヘキサン15.4部をえ
た。b_0.3 218℃。次の組成（重量％）をもつ：ＣＨ測定値 67.93 7.77 C₁₅H₂₀O₄に対する計算値
68.16 7.63 実施例３実施例１の方法によりレゾルシノール73部、シ
トロネロール52部およびフルモント237 60部か
ら７−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３，７
−ジメチルオクタン−１−オル（b_0.2 210℃）36
部をえた、次の組成（重量％）をもつていた：ＣＨ測定値 72.56 10.40 C₁₆H₂₆O₃に対する計算値 72.14 9.84 実施例４レゾルシノール11.0部、シトロネリルアセテイ
ト10.0部およびｐ−トルエンスルフオン酸0.5部
を115℃で45時間加熱した。反応混合物をエーテ
ルに注入し重炭酸ナトリウム溶液と水で洗い蒸発
した。残渣油を蒸留し７−（2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−3.7−ジメチルオクト−１−イルア
セテイト（b_0.2 215℃）3.9部をえた。次の組成
（重量％）をもつていた：ＣＨ測定値 70.44 9.20 C₁₈H₂₈O₄に対する計算値 70.09 9.15 実施例５ａエーテル100部中の２−アミノ−６−ヒドロ
キシ−６−メチルヘプタン（J.ドーブルとJ.ポ
アザのCompt.rend.224、286−８（1947））36部
を20℃で撹拌しながら無水酢酸25.5部を加え
た。

添加完了後反応混合物を更に30分撹拌し揮発分
を減圧除去した。残渣油を蒸留し２−アセトアミ
ド−６−ヒドロキシ−６−メチルヘプタン（b₁₂
196−198℃）35.4部をえた。この組成（重量
％）は次のとおり：ＣＨＮ測定値 63.90 11.71 7.66 C₁₀H₂₁NO₂に対する計算値 64.14 11.30 7.48 ｂガラスキヤリウス管中にレゾルシノール11.0
部、２−アセトアミド−６−ヒドロキシ−６−
メチルヘプタン7.5部およびｐ−トルエンスル
ホン酸0.5部を封じ３日間120℃とした。反応混
合物をエーテルで稀釈し重炭酸ナトリウム溶液
と水で洗い蒸発した。レゾルシノール5.1部を
とつた後残渣油を蒸留し２−アセトアミド−６
−（2′，4′−ジヒドロキシ−フエニル）−６−メ
チルヘプタン（b_0.2234−240℃）6.3部をえた。
この留分はエーテルで稀釈後晶出させて白色固
体（融点197−200℃）となつた。この組成（重
量％）は次のとおり：ＣＨＮ測定値 68.59 9.03 4.95 C₁₆H₂₅NO₃に対する計算値 68.79 9.02 5.01 実施例６１，１，１−トリクロロエタン17部中に５−メ
ルカプト−１−メチルテトラゾール0.64部を懸濁
させ完全に溶液となる迄塩素を混合物にバブルさ
せた。全部を減圧蒸発乾固し更に２回トリクロロ
エタン少量づつを加え蒸発乾固した。残渣をトリ
クロロエタン19部中にとり、これをトリクロロエ
タン19部中に実施例１のメチル−５−（2′，4′−
ジヒドロキシフエニル）−５−メチルヘキサノエ
イト1.26部の還流溶液に水分から保護し窒素のも
とで15分間にわたり滴加した。混合物を８時間還
流した後冷却し少量の固体を別し、蒸発乾固し
非揮発性油をえて、これを予備層クロマトグラフ
法（シリカ／１：１エチルアセテイト／シクロヘ
キサン）で精製しガラス状メチル５−〔2′，4′−
ジヒドロキシ−5′−（1″−メチルテトラゾール−
5″−イル−チオ−フエニル〕−５−メチルヘキサ
ノエイトをえた。これは次式で表わされる：実施例７メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）
−５−メチルヘキサノエイト5.5部、ｎ−ヘキサ
ノール50部およびｐ−トルエンスルホン酸0.5部
を水蒸気浴上で６時間加熱した。過剰のヘキサノ
ールを減圧除去し、残渣油をエーテルにとり重炭
酸ナトリウム溶液と水で洗い蒸発した。残油を
0.7ミリバールでシヨートパス蒸留して式：をもつｎ−ヘキシル−５−（2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−５−メチルヘキサノエイト5.8部を
えた。この組成は次のとおり：ＣＨ測定値 70.69 9.71 C₁₉H₃₀O₄に対する計算値 70.77 9.38 実施例８２−メチルレゾルシノール10.0部、５−メチル
−ヘクセ−５−エノエイト5.7部およびフルモン
ト327 2.5部を共に反応させて実施例１のとおり
処理した。蒸留によつてメチル５−（2′，4′−ジ
ヒドロキシ−3′−メチル−フエニル）−５−メチ
ルヘキサノエイト（b_0.7 196℃）をえた。この組
成（重量％）は次のとのり：ＣＨ測定値 67.95 8.57 C₁₅H₂₂O₄に対する計算値 67.65 8.33 実施例９レゾルシノール11.0部、２−ヘキサノイルアミ
ノ−６−ヒドロキシ−６−メチル−ヘプタン12.2
部およびｐ−トルエンスルホン酸0.5部をガラス
キヤリウス管中に４日間封じた。次いで反応混合
物を水500部中に注入し30分水蒸気浴上で撹拌し
た。水を傾瀉し上記の洗浄法を２回反復した後残
油をエーテルにとつた。エーテル液を乾燥し回転
蒸発機上で100℃、減圧（16mb）のもとでストリ
ツプしてこはく色油として２−ヘキサノイルアミ
ノ−６−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−６−
メチルヘプタンをえた。この組成（重量％）は次
のとおり：ＣＨＮ測定値 71.19 10.29 4.02 C₂₀H₃₃NO₃に対する計算値 71.60 9.92 4.18 実施例 10 ガラスキヤリハウス管中にメチル−５−（2′，
4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチルヘキサ
ノエイト2.5部とｎ−オクチルアミン5.0部を入れ
120℃で３日間封じた。反応混合物を冷却しエー
テルにとり、先ず稀塩酸で過剰オクチルアミンの
なくなる迄洗つた後水洗した。エーテルを除去し
残油を少量のエーテルを含む40−60℃石油エーテ
ルで稀釈すると５−（2′，4′−ジヒドロキシ−フ
エニル）−５−メチルカプロン酸−ｎ−オクチル
アミドを生じた。融点110−113℃、この組成（重
量％）は次のとおり：ＣＨＮ測定値 71.99 9.99 3.90 C₂₁H₃₅NO₃に対する計算値 72.17 10.09 4.01 次の化合物も同様に製造される：実施例 11 メチル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−
５−メチル−ヘキサノエイト5.0部、２−エチル
−ヘキサノール50部およびｐ−トルエンスルホン
酸0.5部を水蒸気浴上で18時間加熱した。反応混
合物をエーテルでうすめ重炭酸ナトリウム溶液と
水で洗い蒸発した。回転蒸発機上で100℃、0.1mm
圧で過剰２−エチルヘキサノールをストリツプし
て粘性こはく色液体２−エチルヘキシル５−（2′，
4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチルヘキサ
ノエイトをえた。この組成（重量％）は次のとの
り：ＣＨ測定値 71.94 9.89 C₂₁H₃₄O₄に対する計算値 71.96 9.78 実施例 12 ２−エチルヘキサノールの代りにｎ−ドデカノ
ールを用いて実施例11の方法と同様にｎ−ドデシ
ル５−（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メ
チル−ヘキサノエイトを製造した。これはこはく
色シロツプとしてえられ次の組成（重量％）をも
つていた：ＣＨ測定値 74.24 10.38 C₂₅H₄₂O₄に対する計算値 73.85 10.41 実施例 13 レゾルシノール55.0部、ジメチルプレニルホ
スフオネイト17.8部およびフルモント237 5.0部
を125℃で18時間撹拌した。反応混合物を冷却し
エーテルで稀め触媒を過除去した後500部の水
中に注入した。油を分離し水で傾瀉して洗いエー
テルで抽出した。更に重炭酸ナトリウム溶液と水
で洗つた後エーテル液を濃縮してジメチル３−
（2′，4′−ジヒドロキシフエニル）−３−メチル−
ブタン−ホスフオネイトをえた。融点142−143
℃。この組成（重量％）は次のとおり：ＣＨＰ測定値 53.97 7.33 10.94 C₁₃H₂₁O₅Pに対する計算値 54.16 7.34 10.75 実施例 14 ジメチルプレニルホスフオネイトの代りにジ
エチルプレニルホスフオネイト20.6部を用いて実
施例13を反復しエタノール／エーテルから晶出さ
せてジエチル３−（2′，4′−ジヒドロキシフエニ
ル）−３−メチル−ブタンホスフオネイト／水化
物をえた。融点94−６℃。

ＣＨＰ測定値 53.74 8.21 9.47 C₁₅H₂₅PO₅−H₂Oに対する計算値 53.88 8.14 9.26 実施例 15 ガラスキヤリウス管中にメチル（2′，4′−ジヒ
ドロキシフエニル）−５−メチルヘキサノエイト
5.0部とジ−ｎ−ブチルアミン10.0部を封じ160℃
に48時間保つた。実施例10のとおり処理して0.3
ミリバールでシヨートパス蒸留して５−（2′，
4′−ジヒドロキシフエニル）−５−メチルカプロ
ン酸Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミドを粘性こはく
色油としてえた。この組成（重量％）は次のとお
り：ＣＨＮ測定値 72.50 9.61 3.66 C₂₁H₃₅NO₃に対する計算値 72.17 10.09 4.01 実施例 16 ガラスキヤリウス管中に２−アセチルレゾル
シノール1.5部、メチル５−メチル−ヘキセ−５
−エノエイト1.4部およびｐ−トルエンスルホ
ン酸0.1部を封じ100℃に48時間保つた。反応混合
物を洗い酸触媒を除去しシリカをとおしクロマト
グラフ処理し40−60℃石油エーテルから晶出させ
てメチル５−（3′−アセチル−2′，4′−ジヒドロキ
シフエニル）−５−メチルヘキサノエイトをえた。
融点94−７℃。

ＣＨ測定値 65.39 7.30 C₁₆H₂₂O₅に対する計算値 65.29 7.53 実施例 17 レゾルシノール化合物の油分散液としての調合Ａ実施例１によるレゾルシノール化合物１ｇを
イソプロピル化したフエニルホスフエイト１ｇ
を酢酸エチル１ｇの混合物と還流加熱してとか
し50℃に冷却した。

Ｂ 10％（水中v/v）スルホン化したPEO湿潤剤
１mlと蒸留水３mlを約50℃における10％（水中
ｗ／ｗ、PH6.5）脱イオン化ゼラチン液８ｇに加
えた。

次いでＡとＢを手で撹拌し超音波混合機上で約
30秒分散させた。

被膜用調合上記カラー分散液0.45ｇを10％脱イオン化ゲル
溶液1.70ｇと9.2％アイオダイド銀アイオドロブ
ロマイド乳化物0.54ｇに加えた。

乳化全重量1467ｇ中に銀162ｇおよびゲル100ｇ
を含む。20モル／10⁵ｇゲルの量のトリアジン硬
化剤を加えた。適当に混合後この被膜用調合物を
ポリエステル（厚さ５−thou′）支持体2.4dm²上
に40℃の温度において手で塗布した。カツプラー
と銀膜重量は約25mg／dm²でありまたゲル膜重量
は約80mg／dm²であつた。膜を乾燥し45℃相対湿
度65％で約12時間保存した。この膜全体を白色光
に10秒間露出し38℃で次のとおり処理した：現像５分間 0.37ｇ K₂CO₃ 1.51ml 65％K₂SO₃溶液 1.05ｇ KBr 6.0ml DTPA（37％溶液）２ｇヒドロキシルアミン硫
酸塩１ml 5NH₂SO₄ 2.40ｇ CD₄ 1.33ｇ Na₂S₂O₅ 0.94ml 80％（ｗ／ｖ）酢酸 H₂Oを加え１とす。PH10.20 漂白6.5分間 150ｇ臭化アンモニウム 112ｇ第二鉄アンモニウム
EDTA 2.5ｇ EDTA 35ｇ硝酸ナトリウム 10ml 氷酢酸水を加え１とす、PH6.0±0.2 定着6.5分間 130ｇチオ硫酸アンモニウム 1.25ｇナトリウムEDTA 12ｇメタ重亜硫酸ナトリウムム２ｇ水酸化ナトリウム PH 6.5±0.2 水洗 38℃ ３分間註 CD4は４〔Ｎ−エチル−Ｎ−（2′−ヒドロキ
シエチル）−アミノ〕−２−メチルアニリン
−ヒドロサルフエイトである。

EDTAはエチレンジアミン４酢酸である。

DTPAはジエチレントリアミン５酢酸で
ある。

次表〔対応する波長（nm）における特定吸収
値（ε）〕に示すとおりえられた黒色染料は全可
視スペクトルにわたり非常によい吸収スペクトル
を示している。

波長（nm）吸収（ε） 345 1.5 350 1.35 400 0.95 450 0.98 480 1.02 500 0.98 550 0.82 600 0.72 650 0.63 700 0.53

Claims

【特許請求の範囲】１式(1)：｛式中Ｗは水素、炭素原子１乃至５をもつｎ―
アルキル、又は−COR¹（但しR¹はC₁−C₁₂直鎖又
は分枝鎖アルキルを表わす）又はハロゲンを表わ
し；Ｘは水素、塩素、臭素、式−SR¹¹（但しR¹¹
は窒素含有複素環状基を表わす）から選ばれた基
を表わし；Ｙは式(2)：［式中Ｑはａ −COOR⁴又は−CONR⁴R⁵（但しR⁴は水素、
C₁−C₂₀直鎖又は分枝鎖アルキル、任意にC₁−
C₄アルキルで置換されたC₆−C₁₀アリール基を
表わし、かつR⁵は水素又はC₁−C₂₀直鎖又は分
枝鎖アルキルを表わし；ｂ −OM（但しＭは水素又は−COR⁶（（但しR⁶は
水素、C₁−C₂₀直鎖又は分枝鎖アルキルを表わ
す））を表わす）；ｃ −NR⁷R⁸（但しR⁷は水素又はC₁−C₄直鎖又は
分枝鎖アルキルを表わし、かつR⁸は水素、C₁
−C₄直鎖又は分枝鎖アルキル又は式−COR⁴
（（R⁴は上に定義したとおりとする））をもつア
シルを表わす）；ｄ −PO（OR⁹）［Ｏ］_xR¹⁰（但しｘは０又は１と
し、R⁹は水素又はC₁−C₂₀直鎖又は分枝鎖アル
キルを表わし、R¹⁰はｘが１ならば水素又はC₁
−C₂₀直鎖又は分枝鎖アルキルを表わし、ｘが
０ならばC₁−C⁵直鎖又は分枝鎖アルキルを表
わし、又はR⁹とR¹⁰は共に結合して任意にC₁−
C₂₀アルキル１又は２以上で置換されたC₂又は
C₃−アルキレンを形成しうる）；ｅ −SO₂T（但しＴは−OH又は−NR⁴R⁵（（但し
R⁴とR⁵は上に定義したとおりとする））を表わ
す）；から選ばれた残基を表わし；ｎは１乃至20の整数とし；ｋは１又は２とし、
R²とR³は各無関係にC₁−C₅直鎖又は分枝鎖アル
キルを表わし、またＱが−CO₂R⁴基である場合、
R²又はR³のいずれかは任意に１又は２の−
CO₂R⁴で置換されていてもよく又はR²とR³の少
なくも１方は−C_oH_2o+1-k残基と結合して−
（CO₂R⁴）_k（但しR⁴は同種又は異種でありまたR⁴
とｋは上に定義したとおりとする）で置換された
C₅−C₁₂シクロアルキレン残基を形成する］をも
つ基を表わす｝で示されることを特徴とする化合
物又はそれらの酸又は塩基との塩。２ R²がメチルである特許請求の範囲第１項に
記載の化合物。３Ｗが水素、メチル、エチル、ブチル、塩素又
は臭素である特許請求の範囲第１項に記載の化合
物。４Ｗが水素、メチル、塩素又は臭素である特許
請求の範囲第３項に記載の化合物。５ｎが１乃至10であり、ｋが１であり、R²が
メチルであり、R³がC₁−C₅直鎖又は分枝鎖アル
キルであり、Ｑが−CO₂R⁴、又は−CONR⁴R⁵、
−OM又は−NR⁷R⁸（但しR⁴，R⁵，R⁷，R⁸および
Ｍは特許請求の範囲第１項に定義したとおりとす
る）であり、かつＷが水素、塩素、臭素又はメチ
ルである特許請求の範囲第１項に記載の化合物。６ｎが３乃至５であり、ｋが１でありR²とR³
がメチルであり、Ｑが−COOR⁴又は−CONR⁴R⁵
又は−NR⁷R⁸（但しR⁴，R⁵，R⁷とR⁸は特許請求
の範囲第１項に定義したとおりとする）であり、
かつＷが水素又はメチルである特許請求の範囲第
５項に記載の化合物。