JPH0337137Y2 - - Google Patents
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- JPH0337137Y2 JPH0337137Y2 JP1278585U JP1278585U JPH0337137Y2 JP H0337137 Y2 JPH0337137 Y2 JP H0337137Y2 JP 1278585 U JP1278585 U JP 1278585U JP 1278585 U JP1278585 U JP 1278585U JP H0337137 Y2 JPH0337137 Y2 JP H0337137Y2
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- magnetic
- magnetic field
- electron beam
- coating film
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- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 21
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は磁気テープその他の磁気記録媒体を
製造する装置に関する。
製造する装置に関する。
(従来の技術)
この種磁気記録媒体を製造するのに、磁性粒子
を適当な添加剤とともに溶液中に分散させた磁性
塗料を、プラスチツクフイルムなどの基材の表面
に塗布して磁性塗膜を形成し、この磁性塗膜が未
乾燥のうちに磁場配向処理し、そのあと熱乾燥を
行つてから、更にカレンダ処理裁断するようにし
ている。
を適当な添加剤とともに溶液中に分散させた磁性
塗料を、プラスチツクフイルムなどの基材の表面
に塗布して磁性塗膜を形成し、この磁性塗膜が未
乾燥のうちに磁場配向処理し、そのあと熱乾燥を
行つてから、更にカレンダ処理裁断するようにし
ている。
このような製造工程のうち、熱乾燥を電子線硬
化によつて行うことが考えられており、これによ
れば、短時間低温での熱処理が可能となること、
磁性塗料のポツトライフが長くなり、溶剤の低減
化がはかれること、配向度、表面硬度、耐摩耗
性、耐久性などが向上し、記録媒体の品質向上が
可能になること、など幾多の効果が得られる。
化によつて行うことが考えられており、これによ
れば、短時間低温での熱処理が可能となること、
磁性塗料のポツトライフが長くなり、溶剤の低減
化がはかれること、配向度、表面硬度、耐摩耗
性、耐久性などが向上し、記録媒体の品質向上が
可能になること、など幾多の効果が得られる。
しかし実際問題として、単に熱乾燥過程を電子
線照射に置換しただけでは、上記のような諸特性
は満足できない。具体的には磁性粒子への配向磁
界印加後、短時間のうちに電子線を照射すること
が必要で、もしこの時間が長くなると、折角配向
された磁性粒子が互いの磁性によつて反発吸引し
合うなどして凝集し、その配向性が悪化してしま
うようになる。
線照射に置換しただけでは、上記のような諸特性
は満足できない。具体的には磁性粒子への配向磁
界印加後、短時間のうちに電子線を照射すること
が必要で、もしこの時間が長くなると、折角配向
された磁性粒子が互いの磁性によつて反発吸引し
合うなどして凝集し、その配向性が悪化してしま
うようになる。
これを回避するためには、磁場配向のための磁
界発生装置と電子線照射装置とをできるだけ接近
させて配置しておき、磁界発生装置を通過した直
後、たとえば1秒以内、好ましくは0.5秒以内の
うちに電子線を照射すればよい。
界発生装置と電子線照射装置とをできるだけ接近
させて配置しておき、磁界発生装置を通過した直
後、たとえば1秒以内、好ましくは0.5秒以内の
うちに電子線を照射すればよい。
第5図は従来のこの種製造装置を示すもので、
1は垂直磁場配向のための磁界を発生させるため
の磁界発生装置で、一対の磁石1A,1Bをその
異極性の磁極を互いに対向させて構成されてあ
り、両磁石間を磁性塗膜を有するテープ2が走行
するようにしてある。3はテープ2の走行方向
(矢印方向)後方に設置されてある電子線照射装
置で、その照射窓3Aがテープ2の表面に相対
し、ここからでる電子線をテープ2に照射するよ
うにしてある。
1は垂直磁場配向のための磁界を発生させるため
の磁界発生装置で、一対の磁石1A,1Bをその
異極性の磁極を互いに対向させて構成されてあ
り、両磁石間を磁性塗膜を有するテープ2が走行
するようにしてある。3はテープ2の走行方向
(矢印方向)後方に設置されてある電子線照射装
置で、その照射窓3Aがテープ2の表面に相対
し、ここからでる電子線をテープ2に照射するよ
うにしてある。
しかしながらこのような構成において、前記し
たように磁界発生装置1と、電子線照射装置3と
を可及的に接近させた場合、つぎのような不都合
が発生する。すなわち各磁石1A,1Bからは図
中点線で示すように磁石1Aからの磁束が、磁石
1Bに向い、この過程でテープ2上の磁性塗膜内
の磁性粒子を垂直磁場配向処理するのであるが、
磁界発生装置1と、電子線照射装置3とが接近し
ていると、磁石1Bから磁石1Aに戻ろうとする
磁束の一部が漏洩磁束となつて、電子線照射装置
からの電子線に交差してしまうことがある。
たように磁界発生装置1と、電子線照射装置3と
を可及的に接近させた場合、つぎのような不都合
が発生する。すなわち各磁石1A,1Bからは図
中点線で示すように磁石1Aからの磁束が、磁石
1Bに向い、この過程でテープ2上の磁性塗膜内
の磁性粒子を垂直磁場配向処理するのであるが、
磁界発生装置1と、電子線照射装置3とが接近し
ていると、磁石1Bから磁石1Aに戻ろうとする
磁束の一部が漏洩磁束となつて、電子線照射装置
からの電子線に交差してしまうことがある。
このように電子線と漏洩磁束とが交差すると、
電子は電磁力により進行方向と直角に力を受け、
円弧を描くように偏向するので、電子線分布は大
きく拡がる。この結果照射窓3Aから得られる電
子線量の分布は不均一となり、磁気テープ面に均
一に均一に電子線を照射することができないよう
になり、高品質の記録媒体は得られない。
電子は電磁力により進行方向と直角に力を受け、
円弧を描くように偏向するので、電子線分布は大
きく拡がる。この結果照射窓3Aから得られる電
子線量の分布は不均一となり、磁気テープ面に均
一に均一に電子線を照射することができないよう
になり、高品質の記録媒体は得られない。
さらに偏向を受けた電子の一部は、電子線照射
装置の内壁に衝突することがあり、これが照射効
率の低下あるいは前記内壁の過熱の原因となるこ
とがある。
装置の内壁に衝突することがあり、これが照射効
率の低下あるいは前記内壁の過熱の原因となるこ
とがある。
(考案が解決しようとする問題点)
この考案は磁界発生装置と電子線照射装置とを
十分接近させて設置しても、電子線が磁界発生装
置からの漏洩磁束により影響されないようにする
ことを目的とする。
十分接近させて設置しても、電子線が磁界発生装
置からの漏洩磁束により影響されないようにする
ことを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
この考案は垂直磁場配向のための磁界を発生す
る磁界発生装置と、これと対称的に他の磁界発生
装置とをテープの走行方向に沿つて並設して、両
磁界発生装置からの磁束が互いに反発し合うよう
にするとともに、両磁界発生装置間に電子照射装
置を設置し、これによつて電子線が漏洩磁束によ
つて影響されないようにしたことを特徴とする。
る磁界発生装置と、これと対称的に他の磁界発生
装置とをテープの走行方向に沿つて並設して、両
磁界発生装置からの磁束が互いに反発し合うよう
にするとともに、両磁界発生装置間に電子照射装
置を設置し、これによつて電子線が漏洩磁束によ
つて影響されないようにしたことを特徴とする。
この考案を図によつて説明する。第1図、第2
図において磁界発生装置1は、一対の磁石1A,
1Bによつて構成されてあり、両磁石の異極性の
磁極が対向する間隙をテープ2が矢印方向に走行
し、その過程でテープ2の表面に塗布されてある
磁性塗膜内の磁性粒子が垂直磁場配向されるよう
になつている。またテープ2の走行方向後方に電
子線照射装置3が設置されてあり、磁界発生装置
1によつて磁場配向されたテープ2は、電子線照
射装置3の照射窓3Aから放射される電子線によ
つて照射され、硬化される。これらの構成ならび
に作用は従来のものと特に相違するところはな
い。
図において磁界発生装置1は、一対の磁石1A,
1Bによつて構成されてあり、両磁石の異極性の
磁極が対向する間隙をテープ2が矢印方向に走行
し、その過程でテープ2の表面に塗布されてある
磁性塗膜内の磁性粒子が垂直磁場配向されるよう
になつている。またテープ2の走行方向後方に電
子線照射装置3が設置されてあり、磁界発生装置
1によつて磁場配向されたテープ2は、電子線照
射装置3の照射窓3Aから放射される電子線によ
つて照射され、硬化される。これらの構成ならび
に作用は従来のものと特に相違するところはな
い。
なお必要があれば、図のように磁石からの磁束
のための磁気シールド体4を設け、テープを磁場
配向した磁束の帰路を確保するようにしておいて
もよい。
のための磁気シールド体4を設け、テープを磁場
配向した磁束の帰路を確保するようにしておいて
もよい。
この考案にしたがい、磁界発生装置1からの磁
束を電子線照射装置3からの電子線に到達しない
ようにするため、電子線照射装置3よりもテープ
2の走行方向後方に別の磁界発生装置5を配置す
る。この磁界発生装置5は前記磁界発生装置1と
同じ構成のものが使用される。すなわち一対の磁
石6A,6Bを備え、両磁石の異極性の磁極を対
向させておき、その対向磁極間にテープ2を走行
するようにしてある。そしてテープ2の同じ面に
相対する磁石1A,6Aの磁極は同極性としてあ
る。7は前記磁気シールド体4に対応する磁気シ
ールド体である。また8は磁気シールド体4,7
に設けた、テープ2が挿通される挿通窓である。
束を電子線照射装置3からの電子線に到達しない
ようにするため、電子線照射装置3よりもテープ
2の走行方向後方に別の磁界発生装置5を配置す
る。この磁界発生装置5は前記磁界発生装置1と
同じ構成のものが使用される。すなわち一対の磁
石6A,6Bを備え、両磁石の異極性の磁極を対
向させておき、その対向磁極間にテープ2を走行
するようにしてある。そしてテープ2の同じ面に
相対する磁石1A,6Aの磁極は同極性としてあ
る。7は前記磁気シールド体4に対応する磁気シ
ールド体である。また8は磁気シールド体4,7
に設けた、テープ2が挿通される挿通窓である。
(作用)
電子線照射装置3をはさんで磁界発生装置1と
対称的に磁界発生装置5を設置しているので、両
磁界発生装置1,5からの磁束は互いに反発し合
い、そのため一方の磁界発生装置からの漏洩磁束
が、他方の磁界発生装置に向かつていくようなこ
とはない。そして磁束はそのほとんどが磁気シー
ルド体4,7を通つて磁石1A,6Aに戻つてい
く。このため電子線照射装置3からの電子線と交
差する磁束はほとんどなくなり、したがつて前記
電子線が磁束によつて影響を受けるといつたこと
が十分回避されるようになるのである。
対称的に磁界発生装置5を設置しているので、両
磁界発生装置1,5からの磁束は互いに反発し合
い、そのため一方の磁界発生装置からの漏洩磁束
が、他方の磁界発生装置に向かつていくようなこ
とはない。そして磁束はそのほとんどが磁気シー
ルド体4,7を通つて磁石1A,6Aに戻つてい
く。このため電子線照射装置3からの電子線と交
差する磁束はほとんどなくなり、したがつて前記
電子線が磁束によつて影響を受けるといつたこと
が十分回避されるようになるのである。
以上の実施例は磁界発生装置として永久磁石を
用いて構成した例であるが、これに代えて第3
図、第4図に示すようにコイル9と鉄心10とか
らなる電磁石11を用いるようにしてもよいし、
あるいは図示しないが交流または直流によつて励
磁される空心コイルを使用して構成してもよい。
この場合は空心コイルをその軸心方向がテープ2
の表面と垂直になるように配置すればよい。
用いて構成した例であるが、これに代えて第3
図、第4図に示すようにコイル9と鉄心10とか
らなる電磁石11を用いるようにしてもよいし、
あるいは図示しないが交流または直流によつて励
磁される空心コイルを使用して構成してもよい。
この場合は空心コイルをその軸心方向がテープ2
の表面と垂直になるように配置すればよい。
(考案の効果)
以上詳述したようにこの考案によれば、垂直磁
場配向のための磁界発生装置と、この磁界発生装
置と対称的に並設される磁界発生装置との間に、
硬化用の電子線照射装置を設置したので、両磁界
発生装置からの磁束が互いに反発し合うようにな
り、したがつて磁界発生装置と電子線照射装置と
を十分に接近して設置しておいても、磁界発生装
置からの磁束によつて電子線が影響されるような
ことはこれをもつて確実に回避することができ、
したがつて磁界発生装置によつて磁場配向処理を
施した後、直ちに電子線照射による熱乾燥処理を
施すことができるようになり、これにより高品質
の記録媒体が製作できるようになるといつた効果
を奏する。
場配向のための磁界発生装置と、この磁界発生装
置と対称的に並設される磁界発生装置との間に、
硬化用の電子線照射装置を設置したので、両磁界
発生装置からの磁束が互いに反発し合うようにな
り、したがつて磁界発生装置と電子線照射装置と
を十分に接近して設置しておいても、磁界発生装
置からの磁束によつて電子線が影響されるような
ことはこれをもつて確実に回避することができ、
したがつて磁界発生装置によつて磁場配向処理を
施した後、直ちに電子線照射による熱乾燥処理を
施すことができるようになり、これにより高品質
の記録媒体が製作できるようになるといつた効果
を奏する。
第1図はこの考案の実施例を示す斜視図、第2
図は第1図の断面図、第3図および第4図はとも
にこの考案の他の実施例を示す断面図、第5図は
従来例の正面図である。 1,5……磁界発生装置、2……テープ(基
材)、3……電子線照射装置。
図は第1図の断面図、第3図および第4図はとも
にこの考案の他の実施例を示す断面図、第5図は
従来例の正面図である。 1,5……磁界発生装置、2……テープ(基
材)、3……電子線照射装置。
Claims (1)
- 基材の表面に形成されてある磁性塗膜の表面を
貫通する磁束を発生して、前記磁性塗膜を垂直磁
場配向するための磁界発生装置と、前記磁界発生
装置によつて磁場配向された前記磁性塗膜にこれ
を硬化するための電子線を照射する電子線照射装
置とからなる磁気記録媒体製造装置において、前
記電子線照射装置をはさんで、前記磁界発生装置
からの磁束と互いに反発し合う磁束を発生する別
の磁束発生装置を、前記基材の走行方向に沿つて
対称的に並設してなる磁気記録媒体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1278585U JPH0337137Y2 (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1278585U JPH0337137Y2 (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61130022U JPS61130022U (ja) | 1986-08-14 |
| JPH0337137Y2 true JPH0337137Y2 (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=30496177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1278585U Expired JPH0337137Y2 (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337137Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-01-30 JP JP1278585U patent/JPH0337137Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61130022U (ja) | 1986-08-14 |
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