JPH0337829Y2 - - Google Patents
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- JPH0337829Y2 JPH0337829Y2 JP1986168192U JP16819286U JPH0337829Y2 JP H0337829 Y2 JPH0337829 Y2 JP H0337829Y2 JP 1986168192 U JP1986168192 U JP 1986168192U JP 16819286 U JP16819286 U JP 16819286U JP H0337829 Y2 JPH0337829 Y2 JP H0337829Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
[考案の技術分野]
本考案は、被切断素材にアシストガスを吹き付
けながらレーザビームを集光し、被切断素材の切
断を行うレーザ照射ヘツドの切断用レーザノズル
に係り、特に被切断素材の切断に伴い発生する有
毒ガス等を気体吸込み装置により吸い込み、大気
中への放出を極力抑えるようにした切断用レーザ
ノズルに関するものである。
けながらレーザビームを集光し、被切断素材の切
断を行うレーザ照射ヘツドの切断用レーザノズル
に係り、特に被切断素材の切断に伴い発生する有
毒ガス等を気体吸込み装置により吸い込み、大気
中への放出を極力抑えるようにした切断用レーザ
ノズルに関するものである。
[従来技術]
特公昭60−45530号公報は、ノズル外周側に吸
引通路を形成し、かつこの吸引通路の外側の空気
吹き付け機構によつてノズル外周側にエアーカー
テンを形成するようにした切断用レーザノズルを
開示している。
引通路を形成し、かつこの吸引通路の外側の空気
吹き付け機構によつてノズル外周側にエアーカー
テンを形成するようにした切断用レーザノズルを
開示している。
このノズルによると、外側のエアーカーテンの
気流と内側の吸引気流との方向が逆で、しかも空
間的に接近しているため、加工位置で乱流が生じ
やすく、有毒ガスや煙のしや断効率が悪い。
気流と内側の吸引気流との方向が逆で、しかも空
間的に接近しているため、加工位置で乱流が生じ
やすく、有毒ガスや煙のしや断効率が悪い。
[考案の目的]
したがつて、本考案の目的は、切断中の発生ガ
スを効率良く吸引して、有毒ガスの拡散を極力抑
えるようにし、かつ作業環境を良好に保てるよう
にすることである。
スを効率良く吸引して、有毒ガスの拡散を極力抑
えるようにし、かつ作業環境を良好に保てるよう
にすることである。
[考案の解決手段]
そこで、本考案は、ノズル本体のノズル部外周
側に所定の空間を設け、この外周縁にて、不活性
ガスを吹き出す多孔質材から成るリングを設け、
前記所定の空間を気体吸い込み装置に連結した構
成としたものである。
側に所定の空間を設け、この外周縁にて、不活性
ガスを吹き出す多孔質材から成るリングを設け、
前記所定の空間を気体吸い込み装置に連結した構
成としたものである。
このような構成とすれば、多孔質材から成るリン
グから、被切断素材に向けて吹き付けられる不活
性ガスと内部空間の吸引流との間で、気流の交錯
がなくなるため、吸引効率がよくなる。
グから、被切断素材に向けて吹き付けられる不活
性ガスと内部空間の吸引流との間で、気流の交錯
がなくなるため、吸引効率がよくなる。
[実施例]
第1図は本考案に係わる切断用レーザノズル1
を示すものである。この切断用レーザノズル1
は、レーザ照射ヘツド2の先端側に取り付けら
れ、ノズル本体3の内部には集束レンズ4を備え
ている。また、ノズル本体3には、アシストガス
5を内部に導くための通路6が設けられており、
レーザ加工時、アシストガス供給源(図示せず)
よりアシストガス5がノズル本体3内へ供給さ
れ、多孔板19上に載置された塩化ビニール等の
薄い被切断素材7に吹き付けられるようになつて
いる。
を示すものである。この切断用レーザノズル1
は、レーザ照射ヘツド2の先端側に取り付けら
れ、ノズル本体3の内部には集束レンズ4を備え
ている。また、ノズル本体3には、アシストガス
5を内部に導くための通路6が設けられており、
レーザ加工時、アシストガス供給源(図示せず)
よりアシストガス5がノズル本体3内へ供給さ
れ、多孔板19上に載置された塩化ビニール等の
薄い被切断素材7に吹き付けられるようになつて
いる。
またノズル本体3の先端側に位置するノズル部
8の外周側には、所定の空間9を隔てて、不活性
ガス10を吹き出す多孔質材から成るリング11
が配設されている。このリング11は、多孔質セ
ラミツクス12と、この多孔質セラミツクス12
の外周側に配設された外周リング13とから構成
され、前記多孔質セラミツクス12は、この実施
例の場合、その外側面が円筒面状に形成されてい
るとともに、内側面が円錐面状に形成されてお
り、この内側円錐面はシール膜14によりシール
されている。また、この多孔質セラミツクス12
は、被切断素材7と向かい合う面、つまり、下端
面12aが大きく形成され、かつノズル本体3に
接する面、つまり上端面12bが小さく形成され
ており、不活性ガス10のガス量を被切断素材7
側を多く、かつノズル本体3側、つまり上端面1
2b側を少なくするように調整している。
8の外周側には、所定の空間9を隔てて、不活性
ガス10を吹き出す多孔質材から成るリング11
が配設されている。このリング11は、多孔質セ
ラミツクス12と、この多孔質セラミツクス12
の外周側に配設された外周リング13とから構成
され、前記多孔質セラミツクス12は、この実施
例の場合、その外側面が円筒面状に形成されてい
るとともに、内側面が円錐面状に形成されてお
り、この内側円錐面はシール膜14によりシール
されている。また、この多孔質セラミツクス12
は、被切断素材7と向かい合う面、つまり、下端
面12aが大きく形成され、かつノズル本体3に
接する面、つまり上端面12bが小さく形成され
ており、不活性ガス10のガス量を被切断素材7
側を多く、かつノズル本体3側、つまり上端面1
2b側を少なくするように調整している。
ここで多孔質セラミツクス材とはムライト、ア
ルミナなどのセラミツクス系粉末と鉄粉、ニツケ
ル粉などの金属粉とを原材料とし、これに補強剤
としてステンレス繊維、ガラス繊維などを材料と
して、これらを液体バインダによつて混練し、マ
スターモデルをセツトした型枠内に流し込んで成
形し、さらに焼成を行つて得られる。焼成は空気
中900℃の比較的低温で行われる。また、バイン
ダとしてエチルシリケートを用い、その残留気孔
により連続的な多孔質となり、通気性が付与され
る。
ルミナなどのセラミツクス系粉末と鉄粉、ニツケ
ル粉などの金属粉とを原材料とし、これに補強剤
としてステンレス繊維、ガラス繊維などを材料と
して、これらを液体バインダによつて混練し、マ
スターモデルをセツトした型枠内に流し込んで成
形し、さらに焼成を行つて得られる。焼成は空気
中900℃の比較的低温で行われる。また、バイン
ダとしてエチルシリケートを用い、その残留気孔
により連続的な多孔質となり、通気性が付与され
る。
また前記外周リング13は、中空円筒形状であ
り、しかもその下端部が密閉されており、多孔質
セラミツクス12の外側面に接した状態で配置さ
れている。この外周リング13の上端側は、前記
ノズル本体3の内部に埋設固定されており、かつ
上端面から下端面側に向かつて形成されたガス導
管13aは、ノズル本体3に設けられた通路16
に接続されている。この通路16は外部のガス導
管17を介して、不活性ガス10のガス供給源に
連結されている。また、前記外周リング13のガ
ス導管13aより内側の部分には、ガス導管13
aを通つてきた不活性ガス10を多孔質セラミツ
クス12側へ導入するための小孔13bが多数設
けられている。
り、しかもその下端部が密閉されており、多孔質
セラミツクス12の外側面に接した状態で配置さ
れている。この外周リング13の上端側は、前記
ノズル本体3の内部に埋設固定されており、かつ
上端面から下端面側に向かつて形成されたガス導
管13aは、ノズル本体3に設けられた通路16
に接続されている。この通路16は外部のガス導
管17を介して、不活性ガス10のガス供給源に
連結されている。また、前記外周リング13のガ
ス導管13aより内側の部分には、ガス導管13
aを通つてきた不活性ガス10を多孔質セラミツ
クス12側へ導入するための小孔13bが多数設
けられている。
一方、前記ノズル本体3のノズル部8の外周側
に設けられた所定の空間9は、ノズル本体3に接
続固定された吸込み管18を介して気体吸い込み
装置(図示せず)に連結されている。
に設けられた所定の空間9は、ノズル本体3に接
続固定された吸込み管18を介して気体吸い込み
装置(図示せず)に連結されている。
切断加工時に、まず、塩化ビニール等の薄い被
切断素材7を多孔板19の上に位置決め載置す
る。この後、被切断素材7にレーザ発振器(図示
せず)からのレーザビーム15を集光させ、アシ
ストガス5を吹き付けながら、被切断素材7を平
行面内で移動させて、被切断素材7の切断加工を
進める。
切断素材7を多孔板19の上に位置決め載置す
る。この後、被切断素材7にレーザ発振器(図示
せず)からのレーザビーム15を集光させ、アシ
ストガス5を吹き付けながら、被切断素材7を平
行面内で移動させて、被切断素材7の切断加工を
進める。
この切断時、窒素やアルゴンガスなどの不活性
ガス10を外周リング13のガス導管13a内に
送り込むと、この不活性ガス10は、矢印Bで示
すように、外周リング13の小孔13b通つて多
孔質セラミツクス12側へ導かれ、この多孔質セ
ラミツクス12の微細な連続孔を通つて広い面積
の下端面12aから矢印Cで示すように、被切断
素材7側へ向かって吹き出される。この被切断素
材7と多孔質セラミツクス12との間の不活性ガ
ス10によつて、エアーカーテン層として押圧層
20が構成されており、この押圧層20の圧力に
よつて、切断時発生する被切断素材7の切断部分
7aからの有毒ガスは外部へ拡散しなくなる。そ
して、この有毒ガスの大部分は、ノズル本体3の
外周側に位置する所定の空間9の内部で、不活性
ガス10によつて希釈され、吸込み管18を通つ
て気体吸い込み装置側へ吸い込まれる。
ガス10を外周リング13のガス導管13a内に
送り込むと、この不活性ガス10は、矢印Bで示
すように、外周リング13の小孔13b通つて多
孔質セラミツクス12側へ導かれ、この多孔質セ
ラミツクス12の微細な連続孔を通つて広い面積
の下端面12aから矢印Cで示すように、被切断
素材7側へ向かって吹き出される。この被切断素
材7と多孔質セラミツクス12との間の不活性ガ
ス10によつて、エアーカーテン層として押圧層
20が構成されており、この押圧層20の圧力に
よつて、切断時発生する被切断素材7の切断部分
7aからの有毒ガスは外部へ拡散しなくなる。そ
して、この有毒ガスの大部分は、ノズル本体3の
外周側に位置する所定の空間9の内部で、不活性
ガス10によつて希釈され、吸込み管18を通つ
て気体吸い込み装置側へ吸い込まれる。
さらに押圧層20は、多孔質セラミツクス1
2、および外周リング13の下端側全域に渡つて
広く形成されており、この押圧層20の圧力が被
切断素材7上に作用して、多孔板19側へ押し付
けるので、被切断素材7が多孔板19上でめくれ
るようなことはない。
2、および外周リング13の下端側全域に渡つて
広く形成されており、この押圧層20の圧力が被
切断素材7上に作用して、多孔板19側へ押し付
けるので、被切断素材7が多孔板19上でめくれ
るようなことはない。
[他の実施例]
なお、多孔質セラミツクス12は、例えば第2
図に示すように、外周リング13と所定の空間9
との間に画成される空間21のうち、少なくとも
外周リング13の下端側内周面側に設けられた構
成であればよい。この場合、外周リング13に設
けた小孔13bは、多孔質セラミツクス12の外
側面に対応する位置に設けるだけでよく、また多
孔質セラミツクス12の内側円錐面と上端面に有
毒ガスの侵入を阻止するためのシール膜22を施
す必要がある。
図に示すように、外周リング13と所定の空間9
との間に画成される空間21のうち、少なくとも
外周リング13の下端側内周面側に設けられた構
成であればよい。この場合、外周リング13に設
けた小孔13bは、多孔質セラミツクス12の外
側面に対応する位置に設けるだけでよく、また多
孔質セラミツクス12の内側円錐面と上端面に有
毒ガスの侵入を阻止するためのシール膜22を施
す必要がある。
[考案の効果]
以上説明したように、本考案に係わる切断用レ
ーザノズルによれば、ノズル本体のノズル部外周
側に所定の空間を隔てて、多孔質材からなるリン
グを配設し、この多孔質材から成るリングによつ
て被切断素材側へ向けて不活性ガスを吹き出すよ
うな構成としたから、被切断素材をレーザビーム
によつて切断する際に発生する有毒ガスは、この
不活性ガスによつて構成される押圧層によつて外
部への放出が能率よく抑制されることになつた。
ーザノズルによれば、ノズル本体のノズル部外周
側に所定の空間を隔てて、多孔質材からなるリン
グを配設し、この多孔質材から成るリングによつ
て被切断素材側へ向けて不活性ガスを吹き出すよ
うな構成としたから、被切断素材をレーザビーム
によつて切断する際に発生する有毒ガスは、この
不活性ガスによつて構成される押圧層によつて外
部への放出が能率よく抑制されることになつた。
特に、多孔質セラミツクスから出る不活性ガス
の流れが吸引方向の流れと交錯せず、その部分で
乱流が発生しないため、発生ガスの吸引効率が従
来のものよりもよくなる。したがつて、作業環境
が汚染されるようなことはない。
の流れが吸引方向の流れと交錯せず、その部分で
乱流が発生しないため、発生ガスの吸引効率が従
来のものよりもよくなる。したがつて、作業環境
が汚染されるようなことはない。
第1図は本考案に係わる切断用レーザノズルの
一実施例を示す断面図、第2図は同切断用レーザ
ノズルの他の実施例を示す一部断面図である。 1……切断用レーザノズル、2……レーザ照射
ヘツド、3……ノズル本体、5……アシストガ
ス、7……被切断素材、8……ノズル部、9……
空間、10……不活性ガス、11……リング、1
2……多孔質セラミツクス、12a……下端面、
12b……上端面、13……外周リング、13a
……ガス導管、15……レーザビーム。
一実施例を示す断面図、第2図は同切断用レーザ
ノズルの他の実施例を示す一部断面図である。 1……切断用レーザノズル、2……レーザ照射
ヘツド、3……ノズル本体、5……アシストガ
ス、7……被切断素材、8……ノズル部、9……
空間、10……不活性ガス、11……リング、1
2……多孔質セラミツクス、12a……下端面、
12b……上端面、13……外周リング、13a
……ガス導管、15……レーザビーム。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 薄い被切断素材にレーザビームを集光し、ア
シストガスを吹き付けながら切断を進めるレー
ザ照射ヘツドの切断用レーザノズルにおいて、
ノズル本体のノズル部外周側に所定の空間をへ
だてて、不活性ガスを吹き出す多孔質材から成
るリングを設け、前記所定の空間を気体吸込み
装置に連結したことを特徴とする切断用レーザ
ノズル。 (2) 前記リングを、内周面でシールされた多孔質
セラミツクスと、この多孔質セラミツクスの外
側にはまり合いガス導管からの不活性ガスを前
記多孔質セラミツクスの外周面に導く外周リン
グとで構成したことを特徴とする実用新案登録
請求の範囲第1項記載の切断用レーザノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986168192U JPH0337829Y2 (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986168192U JPH0337829Y2 (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6376393U JPS6376393U (ja) | 1988-05-20 |
| JPH0337829Y2 true JPH0337829Y2 (ja) | 1991-08-09 |
Family
ID=31100842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986168192U Expired JPH0337829Y2 (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337829Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-11-04 JP JP1986168192U patent/JPH0337829Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6376393U (ja) | 1988-05-20 |
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