JPH0337903A

JPH0337903A - ステージ用投光装置

Info

Publication number: JPH0337903A
Application number: JP1169806A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Amo; 天羽　弘; Toshiharu Arata; 荒田　敏治
Original assignee: USHIO YUUTEC KK; Ushio U Tech Inc
Current assignee: USHIO YUUTEC KK; Ushio U Tech Inc
Priority date: 1989-07-03
Filing date: 1989-07-03
Publication date: 1991-02-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明はステージ上の被投射物にスポット状の光を投射
するために好適に用いられるステージ用投光装置に関す
る。

〔発明の背景〕

ステージにおいて、被投射物にスポット状の光を当てる
ためにステージ用投光装置が用いられる。

ステージ用投光装置のオペレーターは被投射物の大きさ
に合わせてスポット径を調整し、更に、ステージ上を移
動する被投射物に狙いを定め、スポット状の光がこれに
追従するよう操作する必要がある。この場合、オペレー
ターは、目視等により被投射物を確認し投射位置の狙い
を定めていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、従来の投光装置においては、シャッター
のいずれかが閉じた状態、すなわち暗転状態において被
投射物の位置を確認することができない。

本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであ
って、その目的は暗転状態においても、被投射物の位置
を確認できるステージ用投光装置を提供することにある
。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係るステージ用投光装置は、キセノンランプよ
りなる光源と、この光源よりの光をステージ上の被投射
物にスポット状に投射するスポット投射光学系とを備え
てなるステージ用投光装置において、前記スポット投射
光学系は、その光路中に配置された、投射光を制御する
シャッターと、このンヤッターと前記光源との間の光路
中に介挿され、当該光源よりの赤外線を当該光路外に反
射する赤外線反射フィルターとを有し、前記赤外線反射
フィルターにより反射された赤外線を、前記スポット投
射光学系における光の投射方向と同方向に投射してステ
ージ上の被投射物に当てる赤外線用投射光学系と、この
赤外線用投射光学系よりの赤外線を受けたステージ上の
被投射物からの反射赤外線をモニタするモニタ機構とを
付加した構成を採用する。

光源としては、キセノンランプが用いられる。

キセノンランプよりの光は自然光に近い点で優れている
。

スポット投射光学系において、その光路中に配置された
、投射光を制御するシャッターにより、被投射物の大き
さに合わせてスポット径を調整することができる。この
シャッターとしては、例えばアイリスシャッター、カッ
ター、ドウサー等を用いることができる。

前記シャッターと前記光源との間の光路中に介挿される
赤外線反射フィルターは、光源よりの光のうち可視光を
効率的に透過し、赤外線を効率的に反射するものであり
、これにより、当該光源よりの赤外線をスポット投射光
学系の光路外に反射することができる。また、シャッタ
ーの過熱を防止する機能をも有する。

赤外線用投射光学系は、赤外線反射フィルターによって
、スポット投射光学系の光路外に反射された赤外線を、
前記スポット光学系による光の投射方向と同方向に投射
するためのものであり、赤外線透過フィルター、赤外線
反射ミラーおよび赤外線投射レンズ等により構成するこ
とができる。

モニタ機構は、前記赤外線用投射光学系よりの赤外線を
受けたステージ上の被投射物からの反射赤外線をモニタ
するためのものであり、これによりオペレーターは被投
射物の位置を確認することができる。このモニタ機構と
しては、赤外線カメラ、ＣＣＤカメラ等を用いることが
できる。

〔作用〕

光源よりの光のうち赤外線は、赤外線反射フィルターに
よってスポット投射光学系の光路外に反射され、赤外線
用投射光学系によりスポット光学系による光の投射方向
と同方向に投射される。赤外線用投射光学系によりステ
ージ上の被投射物に投射された赤外線は、被投射物によ
り反射され、オペレーターは被投射物からの反射赤外線
をモニタ機構により検知することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を具体的に説明する。

第１図は、本発明に係るステージ用投光装置の一実施例
の概略を示す説明用断面図である。

本実施例のステージ用投光装置は、キセノンランプより
なる光源ＩＯと、この光源ｌＯよりの光をステージ上の
被投射物にスポット状に投射するスポット投射光学系２
０と、赤外線用投射光学系３０と、赤外線カメラよりな
るモニタ機構４０とにより構成されている。

スポット投射光学系２０は、可視光路Ｐ中に配置された
ドウサー２Ｌカッター２２、アイリスシャッター２３の
各シャッターと、可視光路Ｐ中に介挿された赤外線反射
フィルター２５と、光源１０よりの光をシャッターの開
口位置に集光させる集光ミラー２７と、集光性レンズ２
８と、投影レンズ２９とを有してなる。前記の各シャッ
ター２１．２２．２３を組み合わせることにより、光源
１０よりの光のうち可視光を種々のパターンで制御して
投射することができる。

また、赤外線反射フィルター２５により、当該光源１０
よりの光のうち赤外線を可視光路Ｐ外に反射することが
できる。

赤外線用投射光学系３０は、赤外線透過フィルタ−３１
、赤外線反射ミラー３２、赤外線投射レンズ３３とを有
してなる。■は赤外線光路を示す。

光源１０よりの光のうち赤外線は、赤外線反射フィルタ
ー２５によってスポット投射光学系２０の可視光路Ｐ外
に反射され、赤外線用投射光学系３０によりスポット光
学系２０による光の投射方向と同方向に投射される。赤
外線用投射光学系３０によりステージ上の被投射物に投
射された赤外線は、被投射物により反射され、オペレー
ターは被投射物からの反射赤外線を赤外線カメラよりな
るモニタ機構４０により検知することができる。

以上のような構成のステージ用投光装置を用いることに
より、オペレーターは、シャッターのいずれかが閉じた
状態、すなわち暗転状態においても被投射物の位置を正
確に６［することができ、正確なスポット狙いが可能と
なる。

〔発明の効果〕

本発明のステージ用投光装置によれば、オペレーターは
暗転状態においても被投射物の位置を正確に確認するこ
とができ、投射位置の狙いが確実となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るステージ用投光装置の一実施例の
概略を示す説明用断面図である。１０・・・光源　　　　　　　　２０・・・投射光学系
２１・・・ドウサー　　　　　　２２・・・カッター２
３・・・アイリスシャッター２５・・・赤外線反射フィルター２７・・・集光ミラー　　　　　２８・・・集光性レン
ズ２９・・・投影用レンズ３０・・・赤外線用投射光学系３１・・・赤外線透過フィルター３２・・・赤外線反射ミラー　　３３・・・赤外線投射
レンズ４０・・・モニタ機構　　　　　Ｐ・・・可視光
路■・・・赤外線光路

Claims

【特許請求の範囲】

（１）キセノンランプよりなる光源と、この光源よりの
光をステージ上の被投射物にスポット状に投射するスポ
ット投射光学系とを備えてなるステージ用投光装置にお
いて、前記スポット投射光学系は、その光路中に配置された、
投射光を制御するシャッターと、このシャッターと前記
光源との間の光路中に介挿され、当該光源よりの赤外線
を当該光路外に反射する赤外線反射フィルターとを有し
、前記赤外線反射フィルターにより反射された赤外線を、
前記スポット投射光学系における光の投射方向と同方向
に投射してステージ上の被投射物に当てる赤外線用投射
光学系と、この赤外線用投射光学系よりの赤外線を受け
たステージ上の被投射物からの反射赤外線をモニタする
モニタ機構とを付加したことを特徴とするステージ用投
光装置。