JPH0339500A - メッキ液の回収方法 - Google Patents
メッキ液の回収方法Info
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- JPH0339500A JPH0339500A JP17335989A JP17335989A JPH0339500A JP H0339500 A JPH0339500 A JP H0339500A JP 17335989 A JP17335989 A JP 17335989A JP 17335989 A JP17335989 A JP 17335989A JP H0339500 A JPH0339500 A JP H0339500A
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- plating solution
- liquid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、メッキ処理が施されろ被処理体の表面にメ
ッキ処理する際に持ち出されるメッキ液を回収し、再利
用するメッキ液の回収方法に関するものである。
ッキ処理する際に持ち出されるメッキ液を回収し、再利
用するメッキ液の回収方法に関するものである。
従来のこの種の持ち出しメッキ液を回収する装置は、第
２図に模式的に示すように構成され、再利用されていた
。すなわち、第２図において、１はメッキ装置で、メッ
キ液２が収容されるメッキ処理槽５．メッキが施される
被処理体に付着して持出しメッキ液３として持ち出され
回収希釈メッキ液４として収容される希釈メッキ液槽６
．回収された水洗水１０が収容される水洗水槽７をそれ
ぞれ備えている。８は前記回収希釈メッキ１α４が収容
される第１の回収ストック槽、９は回収装置で、第１の
回収ストック槽８からの回収希釈メッキ液４が取り込ま
れて濃縮され、この際発生する蒸気が回収装置９内のコ
ンデンサにて水洗水１０として回収され使用される。一
方、濃縮されたメッキ液は回収ストック液１１として第
２の回収ストック槽１２に収容され、回収リターン液１
３としてメッキ処理槽５に回収される。
２図に模式的に示すように構成され、再利用されていた
。すなわち、第２図において、１はメッキ装置で、メッ
キ液２が収容されるメッキ処理槽５．メッキが施される
被処理体に付着して持出しメッキ液３として持ち出され
回収希釈メッキ液４として収容される希釈メッキ液槽６
．回収された水洗水１０が収容される水洗水槽７をそれ
ぞれ備えている。８は前記回収希釈メッキ１α４が収容
される第１の回収ストック槽、９は回収装置で、第１の
回収ストック槽８からの回収希釈メッキ液４が取り込ま
れて濃縮され、この際発生する蒸気が回収装置９内のコ
ンデンサにて水洗水１０として回収され使用される。一
方、濃縮されたメッキ液は回収ストック液１１として第
２の回収ストック槽１２に収容され、回収リターン液１
３としてメッキ処理槽５に回収される。
次に動作について説明する。
メッキ装置１のメッキ処理槽５のメッキ液濃度がメッキ
を施される被処理体である製品に付着し、持出しメッキ
液３となり、これが回収希釈メッキ液４として第１の回
収ストック槽８に収容され、これを回収装置９を用いて
濃縮し、その時に蒸発する水分全回収装置９内のコンデ
ンサによって水とし、水洗水１０として回収し使用する
。
を施される被処理体である製品に付着し、持出しメッキ
液３となり、これが回収希釈メッキ液４として第１の回
収ストック槽８に収容され、これを回収装置９を用いて
濃縮し、その時に蒸発する水分全回収装置９内のコンデ
ンサによって水とし、水洗水１０として回収し使用する
。
一方、回収希釈メッキ液４は、メッキ液濃度までＲ縮さ
れ、回収ストック液１１として第２の回収ストック槽１
２に回収された後、回収リターン液１３となってメッキ
処理槽５に戻され、メッキ液の回収を行っている。
れ、回収ストック液１１として第２の回収ストック槽１
２に回収された後、回収リターン液１３となってメッキ
処理槽５に戻され、メッキ液の回収を行っている。
上記のように構成されたメッキ液の回収方法は、持出し
メッキ液３として持ち出された回収希釈メッキ液４は、
強酸２強アルカリタイプのメッキ液の回収としては回収
可能であるが、中性タイプ等のメッキ液で希釈され変化
しやすいメッキ液は、濃縮回収するとメッキ液の成分が
分解し、メッキ液２として使用できない問題点があった
。
メッキ液３として持ち出された回収希釈メッキ液４は、
強酸２強アルカリタイプのメッキ液の回収としては回収
可能であるが、中性タイプ等のメッキ液で希釈され変化
しやすいメッキ液は、濃縮回収するとメッキ液の成分が
分解し、メッキ液２として使用できない問題点があった
。
この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、変化しやすい回収希釈メッキ液を濃縮回収
できろようにしたメッキ液の回収方法を得ることを目的
とするものである。
れたもので、変化しやすい回収希釈メッキ液を濃縮回収
できろようにしたメッキ液の回収方法を得ることを目的
とするものである。
この発明に係るメッキ液の回収方法は、回収装置に回収
希釈メッキ液を取り込む前にｉｌＩ縮を行ってもメッキ
液の成分が分解しない高濃度基本液をメッキ液として回
収装置に取り込んだ後、回収希釈メッキ液を取り込み濃
縮を行い回収するものである。
希釈メッキ液を取り込む前にｉｌＩ縮を行ってもメッキ
液の成分が分解しない高濃度基本液をメッキ液として回
収装置に取り込んだ後、回収希釈メッキ液を取り込み濃
縮を行い回収するものである。
この発明においては、濃縮してもメッキ液の成分が分解
しない高濃度基本液をメッキ液として用い、このメッキ
液を回収希釈メッキ液を取り込む前に回収装置に取り込
み、その後回収希釈メッキ液を取り込んで濃縮すること
から、メッキ液中に添加しである安定剤の効果が作用し
、加温濃縮を行ってもメッキ液の分解変化はなく、持出
しメッキ７夜をメッキ液として使用可能な状態で回収で
きる。
しない高濃度基本液をメッキ液として用い、このメッキ
液を回収希釈メッキ液を取り込む前に回収装置に取り込
み、その後回収希釈メッキ液を取り込んで濃縮すること
から、メッキ液中に添加しである安定剤の効果が作用し
、加温濃縮を行ってもメッキ液の分解変化はなく、持出
しメッキ７夜をメッキ液として使用可能な状態で回収で
きる。
以下、この発明の一実施例を第１図に基づいて説明する
。
。
第１図において、第２図と同一符号は同じものを示し、
１４は濃縮を行ってもメッキ液の成分が分解しない高濃
度基本液で、これをメッキ液２としてメッキ処理槽５に
収容する。
１４は濃縮を行ってもメッキ液の成分が分解しない高濃
度基本液で、これをメッキ液２としてメッキ処理槽５に
収容する。
この動作は、回収希釈メッキ液４を回収装置９に取り込
む前に、高濃度基本液１４を回収装置９に取り込んで濃
縮動作をスタートシ、濃縮時に蒸発する水分を回収装置
９のコンデンサにて水とし、水洗水１０として回収する
。この後は水洗水１０として循環する。−窓以上のメッ
キ液、例えば倍程度に濃縮された回収ストック液１１は
、第２の回収ストック槽１２に収容され、回収リターン
欣１３として取り出され、補給メッキとしてメッキ処理
槽５へ戻される完全クローズドシステムで回収される。
む前に、高濃度基本液１４を回収装置９に取り込んで濃
縮動作をスタートシ、濃縮時に蒸発する水分を回収装置
９のコンデンサにて水とし、水洗水１０として回収する
。この後は水洗水１０として循環する。−窓以上のメッ
キ液、例えば倍程度に濃縮された回収ストック液１１は
、第２の回収ストック槽１２に収容され、回収リターン
欣１３として取り出され、補給メッキとしてメッキ処理
槽５へ戻される完全クローズドシステムで回収される。
この発明のメッキ液の回収方法を用いると、高濃度基本
液１４を濃縮基本液としたことで、メッキ液の分解は全
くない。これはメッキ液としである程度の高濃度に保っ
た液であれば、メッキ液の安定剤として添加しである薬
品の効果作用で真空濃縮にて５０℃程度までメッキ液を
加温してもメッキ液の分解はなく、１５％濃度を７５％
まで濃縮し、また、基準まで希釈し、メッキ液濃度とし
てメッキしても良好なメッキを得ることができた。
液１４を濃縮基本液としたことで、メッキ液の分解は全
くない。これはメッキ液としである程度の高濃度に保っ
た液であれば、メッキ液の安定剤として添加しである薬
品の効果作用で真空濃縮にて５０℃程度までメッキ液を
加温してもメッキ液の分解はなく、１５％濃度を７５％
まで濃縮し、また、基準まで希釈し、メッキ液濃度とし
てメッキしても良好なメッキを得ることができた。
以下にその具体例を示す。
（高濃度基本液）（濃縮） （希釈メッキ液）、Ｗ機酸
１００ｎＪ ５００ｎＪ ２５０
ｍｔ’ティンコンク ５０ｔｎｊ ２５０ｎＪ
１２５−Ｌ／ｌドコンク ６＋ｎｊ
３０ｒｎ１１５−プライドナー １０ ｍｊ
５０ ｍｌ ２５ ｍ１ＰＨ調整剤 ５
０ｍ１２５０ ｍｊ １２５ ｍｌなお、濃縮液
は十分補給液としても使用可能である。
１００ｎＪ ５００ｎＪ ２５０
ｍｔ’ティンコンク ５０ｔｎｊ ２５０ｎＪ
１２５−Ｌ／ｌドコンク ６＋ｎｊ
３０ｒｎ１１５−プライドナー １０ ｍｊ
５０ ｍｌ ２５ ｍ１ＰＨ調整剤 ５
０ｍ１２５０ ｍｊ １２５ ｍｌなお、濃縮液
は十分補給液としても使用可能である。
また、この発明を用いることにより大幅な軽質の低減が
図れる。
図れる。
以上説明したように、この発明は、回収装置に回収希釈
メッキ液を取り込む前に原綿を行ってもメッキ液の成分
が分解しない高濃度基本液をメッキ液として回収装置に
取り込み濃縮を行い回収するので、従来回収できなかっ
た持出しメッキ液の回収が容易になり、再生メッキ液（
持ち出しメッキン佼１０（Ｈ’／日×２５日×１２ケ月
Ｘ ｌ ／２５００円＝ ７５０００円／年）として利
用できることから、−殻内なメッキラインにおけろ経費
低減効果が顕著であるとともに、回収再利用のため排水
処理も不要となる効果が得られる。
メッキ液を取り込む前に原綿を行ってもメッキ液の成分
が分解しない高濃度基本液をメッキ液として回収装置に
取り込み濃縮を行い回収するので、従来回収できなかっ
た持出しメッキ液の回収が容易になり、再生メッキ液（
持ち出しメッキン佼１０（Ｈ’／日×２５日×１２ケ月
Ｘ ｌ ／２５００円＝ ７５０００円／年）として利
用できることから、−殻内なメッキラインにおけろ経費
低減効果が顕著であるとともに、回収再利用のため排水
処理も不要となる効果が得られる。
第１図はこの発明のメッキ液回収方法の一実施例を説明
するための構成図、第２図は従来のメッキ液回収方法を
説明するための構成図である。 図において、１はメッキ装置、２はメッキ液、３は持出
しメッキ液、４は回収希釈メッキ液、５はメッキ処理槽
、６は希釈メッキ液槽、７は水洗水槽、８は第１の回収
ストック槽、９は回収装置、１０は水洗水、１１は回収
ストック液、１２は第２の回収ストック槽、１３は回収
リターン液、１４は高濃度基本液である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
するための構成図、第２図は従来のメッキ液回収方法を
説明するための構成図である。 図において、１はメッキ装置、２はメッキ液、３は持出
しメッキ液、４は回収希釈メッキ液、５はメッキ処理槽
、６は希釈メッキ液槽、７は水洗水槽、８は第１の回収
ストック槽、９は回収装置、１０は水洗水、１１は回収
ストック液、１２は第２の回収ストック槽、１３は回収
リターン液、１４は高濃度基本液である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- メッキ処理が施される被処理体に付着してメッキ処理槽
から持ち出されたメッキ液と、回収された水洗水とが混
合して希釈された回収希釈メッキ液を回収装置に取り込
み、濃縮を行う際発生する蒸気を前記水洗水として回収
するとともに、濃縮された濃縮液を回収リターンメッキ
液として前記メッキ処理槽に戻すメッキ液の回収方法に
おいて、前記回収装置に前記回収希釈メッキ液を取り込
む前に濃縮を行ってもメッキ液の成分が分解しない高濃
度基本液をメッキ液として前記回収装置に取り込んだ後
、前記回収希釈メッキ液を取り込み濃縮を行い回収する
ことを特徴とするメッキ液の回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17335989A JPH0726239B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | メッキ液の回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17335989A JPH0726239B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | メッキ液の回収方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0339500A true JPH0339500A (ja) | 1991-02-20 |
| JPH0726239B2 JPH0726239B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=15958946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17335989A Expired - Lifetime JPH0726239B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | メッキ液の回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0726239B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006322069A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-30 | Yuken Industry Co Ltd | 回収型電気亜鉛めっき方法および装置 |
| JP4756103B1 (ja) * | 2010-10-29 | 2011-08-24 | 田中貴金属工業株式会社 | めっき排水からの貴金属イオン回収方法 |
| JP4764886B2 (ja) * | 2004-12-20 | 2011-09-07 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 酸性またはアルカリ性の亜鉛または亜鉛合金浴の連続稼動方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9303329B2 (en) | 2013-11-11 | 2016-04-05 | Tel Nexx, Inc. | Electrochemical deposition apparatus with remote catholyte fluid management |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP17335989A patent/JPH0726239B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4764886B2 (ja) * | 2004-12-20 | 2011-09-07 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 酸性またはアルカリ性の亜鉛または亜鉛合金浴の連続稼動方法 |
| KR101237037B1 (ko) * | 2004-12-20 | 2013-02-25 | 아토테크더치랜드게엠베하 | 산성 또는 알칼리성 아연 또는 아연 합금조를 연속적으로작동하기 위한 방법 |
| JP2006322069A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-30 | Yuken Industry Co Ltd | 回収型電気亜鉛めっき方法および装置 |
| JP4756103B1 (ja) * | 2010-10-29 | 2011-08-24 | 田中貴金属工業株式会社 | めっき排水からの貴金属イオン回収方法 |
| WO2012057242A1 (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-03 | 田中貴金属工業株式会社 | めっき排水からの貴金属イオン回収方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0726239B2 (ja) | 1995-03-22 |
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