JPH0339643A - X線回折装置 - Google Patents
X線回折装置Info
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- JPH0339643A JPH0339643A JP1173966A JP17396689A JPH0339643A JP H0339643 A JPH0339643 A JP H0339643A JP 1173966 A JP1173966 A JP 1173966A JP 17396689 A JP17396689 A JP 17396689A JP H0339643 A JPH0339643 A JP H0339643A
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 74
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
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- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
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- ZPDRQAVGXHVGTB-UHFFFAOYSA-N gallium;gadolinium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Gd+3] ZPDRQAVGXHVGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はX線回折装置に関し、特に試料の取付方法に
関連して試料ホルダの配置を改良したX線回折装置に関
する。
関連して試料ホルダの配置を改良したX線回折装置に関
する。
[従来の技術]
単結晶体の構造を評価するためのX線回折法として、二
結晶法(さらには二結晶法、四結晶法など)が知られて
いる。第4図は、この二結晶法の概略構成を示す斜視図
である。第1結晶131と、第2結晶である試料結晶1
41とを用いる。X線管120から出たX線は、第1結
晶131と試料結晶141とで回折してX線検出器15
0で検出される。この二結晶法では、第1結晶131と
試料結晶141とに格子面間隔が厳密に等しいものを用
いて、試料結晶141における格子定数の局所的な微小
変化や格子面の微小な傾きを測定できる。測定に当たっ
ては、第1結晶131とX線検出器150とを固定して
、試料結晶141を回転軸144を中心として微小角度
だけ回転させて回折パターンを測定する。
結晶法(さらには二結晶法、四結晶法など)が知られて
いる。第4図は、この二結晶法の概略構成を示す斜視図
である。第1結晶131と、第2結晶である試料結晶1
41とを用いる。X線管120から出たX線は、第1結
晶131と試料結晶141とで回折してX線検出器15
0で検出される。この二結晶法では、第1結晶131と
試料結晶141とに格子面間隔が厳密に等しいものを用
いて、試料結晶141における格子定数の局所的な微小
変化や格子面の微小な傾きを測定できる。測定に当たっ
ては、第1結晶131とX線検出器150とを固定して
、試料結晶141を回転軸144を中心として微小角度
だけ回転させて回折パターンを測定する。
ところで、第4図の配置では、測定に寄与するX線経路
(X線管120からX線検出器150に至るまでのX線
経路)を含む平面170(以下、測定平面という。)が
水平面となっている(以下、この配置を横形配置という
)。したがって、試料ホルダの試料取付面は水平面に対
して垂直となり、鉛直面となる。試料結晶141はこの
鉛直な取付面に取り付けなければならない。ところで、
試料結晶を取り付けるときに試料に余分な力をかけると
歪みを生じ、測定精度に悪影響を及ぼす。特に二結晶法
では高精度測定を行なうので、試料の歪みはできるだけ
避けなければならない。したがって、二結晶法では、試
料結晶を試料ホルダに取り付けるのに、接着力の弱いエ
レクトロンワックスやマニキュア液を利用している。あ
るいは、磁石で試料結晶の外周部を支えるようにしてい
る。
(X線管120からX線検出器150に至るまでのX線
経路)を含む平面170(以下、測定平面という。)が
水平面となっている(以下、この配置を横形配置という
)。したがって、試料ホルダの試料取付面は水平面に対
して垂直となり、鉛直面となる。試料結晶141はこの
鉛直な取付面に取り付けなければならない。ところで、
試料結晶を取り付けるときに試料に余分な力をかけると
歪みを生じ、測定精度に悪影響を及ぼす。特に二結晶法
では高精度測定を行なうので、試料の歪みはできるだけ
避けなければならない。したがって、二結晶法では、試
料結晶を試料ホルダに取り付けるのに、接着力の弱いエ
レクトロンワックスやマニキュア液を利用している。あ
るいは、磁石で試料結晶の外周部を支えるようにしてい
る。
[発明が解決しようとする課題]
上述のように試料取付法を工夫しても、依然として試料
結晶にはわずかな取付力が作用し、試料結晶に生じた歪
みに基づく測定誤差を完全には取り除くことができない
。
結晶にはわずかな取付力が作用し、試料結晶に生じた歪
みに基づく測定誤差を完全には取り除くことができない
。
理想的には、試料結晶を、自重によって単に試料ホルダ
に載せるだけの状態が最も好ましい。そのためには、第
5図のように測定平面170が鉛直面となるようにX線
光学系を配置すればよい(以下、この配置を縦形配置と
いう)。そして、試料ホルダの試料取付面を水平にする
。このようにすれば、試料結晶141を単に試料ホルダ
に載せるだけでよく、試料結晶141には余分な外力が
かからない。しかし、この縦形配置は、装置構成上、次
のような欠点がある。試料結晶ホルダは水平な回転軸1
44を中心に微小回転できるようになっているが、水平
な回転軸をもつ回転機構は重力の影響を受けることにな
る。したがって、良好な回転精度を保つためには、鉛直
な回転軸をもつ回転機構と比較して、軸受などの機構を
頑丈にかつ精度良く作らなければならず、製作費が高く
なる。第1結晶ホルダについても調整用の回転機構があ
るので、同様な問題がある。さらにX線管120は、使
用状態では固定しているが光軸調整のための微小調節機
構が付いているので、この調節機構も頑丈なものにしな
ければならない。X線管120を保持する保持筒は重い
ので、この調整機構を頑丈にすることは特に重要である
。結局、縦形配置は、試料の取り付けには理想的である
が、装置の各部を頑丈にしなければならず装置の大型化
は避けられない。
に載せるだけの状態が最も好ましい。そのためには、第
5図のように測定平面170が鉛直面となるようにX線
光学系を配置すればよい(以下、この配置を縦形配置と
いう)。そして、試料ホルダの試料取付面を水平にする
。このようにすれば、試料結晶141を単に試料ホルダ
に載せるだけでよく、試料結晶141には余分な外力が
かからない。しかし、この縦形配置は、装置構成上、次
のような欠点がある。試料結晶ホルダは水平な回転軸1
44を中心に微小回転できるようになっているが、水平
な回転軸をもつ回転機構は重力の影響を受けることにな
る。したがって、良好な回転精度を保つためには、鉛直
な回転軸をもつ回転機構と比較して、軸受などの機構を
頑丈にかつ精度良く作らなければならず、製作費が高く
なる。第1結晶ホルダについても調整用の回転機構があ
るので、同様な問題がある。さらにX線管120は、使
用状態では固定しているが光軸調整のための微小調節機
構が付いているので、この調節機構も頑丈なものにしな
ければならない。X線管120を保持する保持筒は重い
ので、この調整機構を頑丈にすることは特に重要である
。結局、縦形配置は、試料の取り付けには理想的である
が、装置の各部を頑丈にしなければならず装置の大型化
は避けられない。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであ
り、その目的は、試料に余分な力を加えることなく、か
つ、装置の大型化も避けることのできる、X線回折装置
を提供することにある。
り、その目的は、試料に余分な力を加えることなく、か
つ、装置の大型化も避けることのできる、X線回折装置
を提供することにある。
[課題を解決するための手段と作用]
上記の目的を達成するために、この出願の第一の発明に
係るX線回折装置は、以下の特徴を備えている。すなわ
ち、この発明は、回転可能な試料ホルダに取り付けられ
た試料にX線を照射して試料からの回折X線をX線検出
手段で検出するX線回折装置において、前記試料ホルダ
の試料取付面を鉛直面に対して所定角度だけ傾斜させた
ことを特徴としている。
係るX線回折装置は、以下の特徴を備えている。すなわ
ち、この発明は、回転可能な試料ホルダに取り付けられ
た試料にX線を照射して試料からの回折X線をX線検出
手段で検出するX線回折装置において、前記試料ホルダ
の試料取付面を鉛直面に対して所定角度だけ傾斜させた
ことを特徴としている。
試料ホルダの試料取付面は鉛直面に対して所定角度だけ
傾斜しているので、試料の下端を支持体で支えるだけで
、試料は試料取付面に寄りかかることになる。これによ
り、試料には余分な力がほとんど加わらない。傾斜角度
は、装置の各部をあまり頑丈にしなくても済む程度の角
度であり、せいぜい45度が限度である。しかし、45
度付近まで傾けると、横形配置の構造をそのまま採用す
るには無理があり、装置の各部を補強する必要が生じて
くるのはやむをえない。好ましい傾斜角度は5〜35度
である。この出願の第二の発明は傾斜角度をこのような
値に特定したものである。傾斜角度が5度より小さいと
、試料ホルダの取付面に試料が必ずしもうまく寄りかか
るとは限らず、試料が不安定になる恐れがある。傾斜角
度が35度より大きくなると、装置の各部が重力の影響
を受けやすくなって横形配置の構造をそのまま利用でき
なくなり、何等かの補強が必要になってくる。
傾斜しているので、試料の下端を支持体で支えるだけで
、試料は試料取付面に寄りかかることになる。これによ
り、試料には余分な力がほとんど加わらない。傾斜角度
は、装置の各部をあまり頑丈にしなくても済む程度の角
度であり、せいぜい45度が限度である。しかし、45
度付近まで傾けると、横形配置の構造をそのまま採用す
るには無理があり、装置の各部を補強する必要が生じて
くるのはやむをえない。好ましい傾斜角度は5〜35度
である。この出願の第二の発明は傾斜角度をこのような
値に特定したものである。傾斜角度が5度より小さいと
、試料ホルダの取付面に試料が必ずしもうまく寄りかか
るとは限らず、試料が不安定になる恐れがある。傾斜角
度が35度より大きくなると、装置の各部が重力の影響
を受けやすくなって横形配置の構造をそのまま利用でき
なくなり、何等かの補強が必要になってくる。
この発明は、二結晶法における試料取付法を改良する目
的で開発されたものであるが、その発明の性質上、二結
晶法以外のどのような形式のX線回折装置にも適用でき
て、同様の効果を生じる。
的で開発されたものであるが、その発明の性質上、二結
晶法以外のどのような形式のX線回折装置にも適用でき
て、同様の効果を生じる。
この出願の第三の発明は、上述の第一の発明を二結晶法
に適用したものである。すなわち、上述の第一の発明の
特徴に加えて、X線源から試料に至るまでのX線経路の
途中に第1結晶を配置して、X線源からのX線を第1結
晶と試料(第2試料)とで順に回折させるようにしであ
る。二結晶法では高精度測定ゆえに、試料結晶に余分な
力が加わるのを極度に嫌うので、上述の第一の発明を二
結晶法に適用すれば極めて効果的である。なお、光学系
の中に試料結晶以外の結晶を2個または3個配置すれば
、二結晶法または四結晶法となる。
に適用したものである。すなわち、上述の第一の発明の
特徴に加えて、X線源から試料に至るまでのX線経路の
途中に第1結晶を配置して、X線源からのX線を第1結
晶と試料(第2試料)とで順に回折させるようにしであ
る。二結晶法では高精度測定ゆえに、試料結晶に余分な
力が加わるのを極度に嫌うので、上述の第一の発明を二
結晶法に適用すれば極めて効果的である。なお、光学系
の中に試料結晶以外の結晶を2個または3個配置すれば
、二結晶法または四結晶法となる。
[実施例]
次に、図面を7参照してこの発明の詳細な説明する。
第1図は、この発明を固定光学式の二結晶法デフラクト
メータに適用した実施例の基本構成を示す斜視図である
。ベース10の上には、X線源20、第1結晶ホルダ3
0.試料ホルダ(第2結晶ホルダ)40、X線検出器5
0を配置しである。
メータに適用した実施例の基本構成を示す斜視図である
。ベース10の上には、X線源20、第1結晶ホルダ3
0.試料ホルダ(第2結晶ホルダ)40、X線検出器5
0を配置しである。
第1結晶ホルダ30には第1結晶31を取り付ける。試
料ホルダ40には測定すべき試料結晶41を取り付ける
。X線源20から出たX線は、第1結晶31で回折し、
さらに試料結晶41で回折してX線検出器50で検出さ
れる。測定に際しては、第1結晶ホルダ30とX線検出
器50とを所定位置に固定して、第2結晶ホルダ40を
微小回転させながら回折パターンを測定する。
料ホルダ40には測定すべき試料結晶41を取り付ける
。X線源20から出たX線は、第1結晶31で回折し、
さらに試料結晶41で回折してX線検出器50で検出さ
れる。測定に際しては、第1結晶ホルダ30とX線検出
器50とを所定位置に固定して、第2結晶ホルダ40を
微小回転させながら回折パターンを測定する。
第1図では、X線開閉シャッタやスリットは、図示を省
略しである。
略しである。
ベース10の上面12は、水平な底面11に対して角度
αだけ傾斜している。したがって、第1結晶31と試料
結晶41も、鉛直面に対して角度αだけ傾斜することに
なる。結局、X線源20からX線検出器50に至るまで
のX線経路を含む平面が、水平面に対して角度αだけ傾
斜していることになる。なお、この実施例では、α=2
0度である。
αだけ傾斜している。したがって、第1結晶31と試料
結晶41も、鉛直面に対して角度αだけ傾斜することに
なる。結局、X線源20からX線検出器50に至るまで
のX線経路を含む平面が、水平面に対して角度αだけ傾
斜していることになる。なお、この実施例では、α=2
0度である。
第2図は、試料ホルダ40とベース10との関係を横か
ら見た側面図である。試料ホルダ40の試料取付板42
は、ベース10の上面12に対して乗直に配置され、か
つ、ベース10の前縁13の長手方向に対して平行に配
置されている(第1図参照)。したがって、試料取付板
42は鉛直線60に対して角度αだけ傾斜する。ただし
、試料ホルダ40は微小角度範囲(±3度)で回転でき
るから、回転位置によっては、試料取付板42は厳密に
はベース10の前縁13の長手方向に対して平行になら
ない。したがって、試料取付板42の鉛直線60に対す
る傾斜角はαかられずかにずれることもある。しかし、
傾斜角がαから多少ずれても、試料結晶41の安定性に
はなんら問題がない。
ら見た側面図である。試料ホルダ40の試料取付板42
は、ベース10の上面12に対して乗直に配置され、か
つ、ベース10の前縁13の長手方向に対して平行に配
置されている(第1図参照)。したがって、試料取付板
42は鉛直線60に対して角度αだけ傾斜する。ただし
、試料ホルダ40は微小角度範囲(±3度)で回転でき
るから、回転位置によっては、試料取付板42は厳密に
はベース10の前縁13の長手方向に対して平行になら
ない。したがって、試料取付板42の鉛直線60に対す
る傾斜角はαかられずかにずれることもある。しかし、
傾斜角がαから多少ずれても、試料結晶41の安定性に
はなんら問題がない。
この実施例で使用している試料結晶41は、GGG(ガ
ドリニウム・ガリウム・ガーネット)の単結晶ウェハで
あり、第3図に示すように、試料結晶41の下縁を支持
体43の上に載せる。2個の支持体43は試料取付板4
2に固定されている。
ドリニウム・ガリウム・ガーネット)の単結晶ウェハで
あり、第3図に示すように、試料結晶41の下縁を支持
体43の上に載せる。2個の支持体43は試料取付板4
2に固定されている。
試料結晶41は、角度αで傾斜している試料取付板42
に寄りかかることになる。これにより、試料結晶41に
余分な力をかけることなく、試料取付板42に試料結晶
41をきわめて簡単にセットすることができる。また、
試料結晶を接着用ワックスなどで汚すこともない。
に寄りかかることになる。これにより、試料結晶41に
余分な力をかけることなく、試料取付板42に試料結晶
41をきわめて簡単にセットすることができる。また、
試料結晶を接着用ワックスなどで汚すこともない。
上述の実施例は、二結晶法デフラクトメータにこの発明
を適用したものであるが、この発明は、二結晶法トポグ
ラフィツクカメラに適用しても効果的である。
を適用したものであるが、この発明は、二結晶法トポグ
ラフィツクカメラに適用しても効果的である。
[発明の効果]
以上説明したようにこの発明は、試料ホルダの試料取付
面が鉛直面に対して所定角度だけ傾斜しているので、試
料の下端を支持体で支えるだけで、試料は試料取付面に
寄りかかることになる。したがって、試料に余分な力を
かけることなく、試料を試料ホルダにきわめて簡単にセ
ットできる。また、装置の各部は、縦形配置のものに比
べて重力の影響を浮けに<<、横形配置の構造とほぼ同
じものを採用できるので、装置を大型化しなくても済む
。
面が鉛直面に対して所定角度だけ傾斜しているので、試
料の下端を支持体で支えるだけで、試料は試料取付面に
寄りかかることになる。したがって、試料に余分な力を
かけることなく、試料を試料ホルダにきわめて簡単にセ
ットできる。また、装置の各部は、縦形配置のものに比
べて重力の影響を浮けに<<、横形配置の構造とほぼ同
じものを採用できるので、装置を大型化しなくても済む
。
第1図は、この発明の一実施例の斜視図、第2図は、試
料ホルダの側面図、 第3図は、試料ホルダの斜視図、 第4図は、二結晶法の従来の横形配置を示す斜視図、 第5図は、二結晶法の従来の縦形配置を示す斜視図であ
る。 20・・・X線源 30・・・第1結晶ホルダ 31・・・第1結晶 40・・・試料ホルダ 41・・・試料結晶(第2結晶) 42・・・試料取付板 50・・・X線検出器 60・・・鉛直線
料ホルダの側面図、 第3図は、試料ホルダの斜視図、 第4図は、二結晶法の従来の横形配置を示す斜視図、 第5図は、二結晶法の従来の縦形配置を示す斜視図であ
る。 20・・・X線源 30・・・第1結晶ホルダ 31・・・第1結晶 40・・・試料ホルダ 41・・・試料結晶(第2結晶) 42・・・試料取付板 50・・・X線検出器 60・・・鉛直線
Claims (2)
- (1)回転可能な試料ホルダに取り付けられた試料にX
線を照射して試料からの回折X線をX線検出手段で検出
するX線回折装置において、 前記試料ホルダの試料取付面を鉛直面に対して所定角度
だけ傾斜させたことを特徴とするX線回折装置。 - (2)前記所定角度が5〜35度であることを特徴とす
る請求項1記載のX線回折装置。(3)前記X線源から
前記試料に至るまでのX線経路の途中に第1結晶を配置
して、X線源からのX線を第1結晶と、第2結晶である
試料とで順に回折させるようにしたことを特徴とする請
求項1記載のX線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1173966A JPH0339643A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | X線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1173966A JPH0339643A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | X線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0339643A true JPH0339643A (ja) | 1991-02-20 |
Family
ID=15970337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1173966A Pending JPH0339643A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | X線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0339643A (ja) |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1173966A patent/JPH0339643A/ja active Pending
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