JPH0340899B2 - - Google Patents
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- JPH0340899B2 JPH0340899B2 JP61049465A JP4946586A JPH0340899B2 JP H0340899 B2 JPH0340899 B2 JP H0340899B2 JP 61049465 A JP61049465 A JP 61049465A JP 4946586 A JP4946586 A JP 4946586A JP H0340899 B2 JPH0340899 B2 JP H0340899B2
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- H10W72/321—Structures or relative sizes of die-attach connectors
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- H10W72/30—Die-attach connectors
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Combinations Of Printed Boards (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
(産業上の利用分野)
本発明は回路の接続構造体に関する。
(従来の技術)
従来より集積回路類の配線基板への接続、表元
素子類と配線基板への接続、電気回路とリードと
の接続などのように接続端子が相対峙して細かい
ピツチで並んでいる場合の接続方法として、ハン
ダ付や導電性接着剤などの接続部材による方法が
広く用いられている。しかしながら、これらの方
法においては導電回路部のみに限定して接続部材
を形成しなければならないので、高密度、高精細
化の進む微細回路の接続に困難をきたしていた。
最近回路の接続材料について検討が加えられ、
例えば特開昭51−20941号公報、特開昭51−21192
号公報、特開昭51−135938公報、特開昭55−
104007号公報、特開昭56−122193号公報、特開昭
57−111366、特開昭58−111202号公報などによれ
ば、相対峙する回路間に金属粒子等の導電性粒子
と接着剤成分を含む異方導電性の接続部材層を設
け、加圧または加熱加圧手段を構じることによつ
て回路間の電気的接続と同時に隣接回路間に絶縁
性を付与し、相対峙する回路を接着固定すること
が提案されている。
しかしながらこれらの方法においては、回路間
の導通は主として複数個の導電材料、多くの場合
は金属粒子の接触によつて得られるものであり、
金属粒子が剛直であるため粒子/粒子間あるいは
粒子/回路間の接触面積が充分でなくさらに接着
剤成分と金属粒子の熱膨張係数の異ることから、
温度変化に対する抵抗値変化が大きく接続部の信
頼性に劣る欠点を有していた。
温度係数を小さくするには、接続部の接触抵抗
を少なくすることが有効であるが、例えば特開昭
60−140790号公報に見られるように、絶縁性接着
剤中に分散された熱溶融性金属粒子を回路間で溶
融して接続することで良好な接続を得ようとする
試みもある。しかしながらこのものは金属粒子が
熱溶融性である為に接続作業時の条件巾が狭いと
いう欠点を有していた。
すなわち融点以上では従来のハンダ付と同様に
金属粒子が溶融して流れ微小な隣接回路間にまた
がり絶縁性が保持されない、すなわちリークとい
う現象が生じるので細かなピツチの回路接続に対
応できず、また金属の融点以下においては粒子の
溶融が起らないために剛直な金属粒子が回路間に
存在するでけであり、前記したように接続部の抵
抗変化が雰囲気温度の変化に対して大きくなる。
いわゆる温度係数が大きいという欠点を有してい
た。
またこれらの異方導電性の接続材料の主要な適
用分野の一つであるデイスプレイ用の回路接続に
おいては、ガラス、プラスチツクなどの透明基板
上に酸化錫あるいは酸化インジウム、酸化チタン
などの酸化物やアルミニウム、クロムなどの薄膜
により導電性の回路を形成した透明導電膜が多用
されるが、これらの回路面に対してハンダに代表
される熱溶融性金属粒子は、その表面張力がきわ
めて大きいことから回路面に対する濡れ性がない
ことや、アルミニウム等の酸化面あるいは酸化物
回路とは合金化しないこと等から、回路面との濡
れ性が不十分でありやはり接続部の温度変化に対
する抵抗の変化率が大きいという欠点を有してい
た。
そのために液晶(LCD)やエレクトロルミネ
ツセンス(EL)プラズマ、あるいは蛍光表示管
などのデイスプレイ用途においては、高温下にお
ける表示不鮮明となつたり、表示が出来なくなる
等の実用上の問題点を有していた。
この改良方法としては、透明導電膜上にAuや
Niなどの薄層をメツキやスパツタリングなどで
形成し、回路の表面張力を上げることで対処して
きたが、この方法は工程の繁雑さと高度な処理技
術を必要とし、結果的に製品のコスト高を紹く等
の欠点を有していた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みてなされた
ものであり、回路接続部の抵抗温度係数の少ない
微細回路の接続構造体を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
すなわち本発明は複数の導電パターンと相対峙
する回路とが接続部材により電気的に接続された
回路の接続構造体において、接続すべき回路相互
間に高分子重合体からなる核材のほゞ全表面が導
電性の金属薄層により実質的に被覆された導電性
粒子と、高剛性のスペーサ粒子および絶縁性接着
剤よりなる接続部材層を介在させるとともに、前
記核材は該回路面に押しつけられるように変形さ
せた状態で固定され、かつ相対峙する回路相互間
の厚みがスペース粒子径とほゞ等しいことを特長
とする回路の接続構造体に関する。
本発明にかかる構成材料について以下に詳しく
説明する。
まず導電性粒子については高分子重合体からな
る核材(以下高分子核材と称す)上のほぼ全表面
に金属薄層を有するものである。高分子核材の構
造としては完全な充実体、内部が気体からなる中
空体、内部に気泡部を有する発泡体、小粒子の集
りである凝集体などのいずれでも良く、これらを
単独あるいは複合して用いることが可能である。
高分子核材9の形状はほゞ球状が代表的である
がその形状については特に問わない。
その材質としては各種プラスチツク類またはゴ
ム類や天然高分子類があり、これらを主成分とし
て必要に応じて架橋剤、硬化剤等の添加剤を用い
ることができる。
これらの高分子類を例示すると、ポリエチレ
ン、ポロプロピレン、ポリスチレン、アクリロニ
トリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−
ブタジエン−スチレン共重合体、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタアクリレート等の各種アクリ
レート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、フツ
素樹脂、ポリフエニレンオキサド、ポリフエニレ
ンサルフアイド、ポリメチルペンテン、尿素樹
脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フエ
ノール−ホルマリン樹脂、キシレン樹脂、フラン
樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、
ポリイソシアネート樹脂、フエノキシ樹脂、シリ
コーン樹脂などがあり、これらを適宜変性しても
よい。
またこれらは単体あるいは2種以上の複合物で
あつても良い。ここで熱硬化性の物にあつては、
接着剤成分との混合等に支障のない範囲であれば
その硬化度合は問わないものとする。
これらの高分子核材は、回路接続時の加圧ある
いは加熱加圧により軟化あるいは変形可能である
要件が必要である。
ここで接続時の加圧あるいは加熱加圧により軟
化あるいは変形を必要とする理由は、回路接続時
に導電性粒子同士あるいは導電性粒子と回路との
接触面積を増加するために必要であり、常温にお
いてのいわゆる感圧接着剤による感圧接続あるい
は400℃迄の加熱を併用した感熱接続によること
も可能である。400以上では回路基板に対して熱
損傷を与える恐れがあり、また常温貼付の場合に
は回路の実装上耐熱性が問題となる場合があるた
めに、好ましは高分子核材は100〜250℃で軟化あ
るいは変形可能であることがよい。
圧力は接続を要する回路部に悪影響を及ぼさぬ
ように、出来れば低圧が望ましく通は100Kg/cm2
以下(望ましくは50Kg/cm2以下)でおこなわれ
る。
被覆に用いられる金属としては導電性を有する
各種の金属、金属酸化物、合金等が用いられる。
金属元素の例としては、Zn,Al,Sb,U,
Cd,Ga,Ca,Au,Ag,Co,Sn,Se,Fe,
Cu,Th,Pb,Ni,Pd,Be,Mg,Mnなどがあ
り、これらを単独もしくは複合して用いることが
出来、さらに特殊な目的たとえば硬度や表面張力
改良などのために他の元素あるいは化合物なども
添加できる。
高分子核材の表面上に金属を形成する方法とし
ては、たとえば蒸着法、スパツタリング法、イオ
ンプレーテイング法、メツキ法、溶射法などの物
理化学的方法や、高分子核材の合成時に少量の金
属をモノマー中に分散させ、重合後のポリマー粒
子表面に金属粉を吸着させたり、官能基を有する
核材と金属を化学結合させたり、果面活性剤やカ
ツプリング剤などにより吸着させるなどの化学的
手法による等の方法が採用できる。
高分子核材のメツキ方法として、無電解メツキ
法による金属の形成法についての一般的な方法が
適用可能であるがたとえば、高分子核材を必要に
応じて表面粗や親水化処理を行ない塩化パラジウ
ムなどの触媒付与を行なう。
そのあと、無電解メツキ液中にて所定の温度と
時間をかけて必要により撹拌等による核材の凝集
防止はかなりながら処理すればよい。メツキ厚み
はメツキ液量や時間、温度などの制御により可能
である。
メツキ液としては、たとえばニツケルの場合に
は、ニツケル−リン系、ニツケル−ホウ素系など
でよく、還元剤としては次亜リン酸ナトリウム、
ほう素化水素ナトリウムなどが代表的であり、銅
メツキの場合には、ロツシエル塩浴とEDTA浴
が代表的であり還元剤にはホルムアルデヒド等が
用いられる。
さらにメツキ法により金属の複合層を形成する
場合を説明する。たとえば前記したニツケル層上
に金属を設ける場合について述べると、金属メツ
キ液はシアン化金系が一般的であり還元型置換型
いずれも適用できるが、置換型金めつき法が取扱
い易いことと、所望厚みからして本発明には好ま
しい。
ニツケルメツキ品を金めつき液中にて所定温度
で所定時間処理すれば高分子核材/Ni/Auの複
合層を有する導電性粒子を得ることができる。
金属被覆層の厚みは0.01〜5μm程度が望ましく
0.05〜1μmがさらに良好であるが、この厚みは回
路接続前の導電粒子の粒径の1/5〜1/1000に
入るようにすることが望ましい。ここで金属薄層
の厚みが薄いと導電性が低下し、厚みが増すと回
路接続時における高分子核材の軟化変形時におけ
る追随性が無くなるためである。また金属は薄層
であることから充分に変形に対して追随性を有す
るが、たとえば伸び性の良い展延性の材料である
ことが好ましい。
従来このような導電性粒子として、ガラス球
(ビーズ)あるいはガラス中空球(バルーン)に
Ag等の薄層を形成したものもあるが、これらは
加熱加圧時に軟化変形することが出来ない為に本
発明の実施には不適である。
上記により得られた導電性粒子は平均粒径が
0.5〜300μm、粒子径の最小径に対する最大径の
比が0.05〜1.0であるものが好ましい。粒子径が
0.5μm以下では多量の導電性粒子を必要とし、ま
た結果的に充填粒子数が多くなるので回路との接
着性が低下し、300μm以上になると粒子が大きい
ために同一基板の隣接回路間が導通されるように
なり(リーク)、好ましくない。
リークの発生を防止するためには、接続すべき
回路の間隙よりも粒径の小さい導電性粒子を選択
することが必要であり安全率を考瞭して最大粒径
が回路間間隙の1/2〜1/4の導電性粒子を用
いることが好ましい。
導電性粒子の形状は最小径に対する最大径の比
(以下粒径比)が0.05〜1.0が好ましい。この範囲
外では粒子が余りにも偏平状となり本発明の目的
とする回路間の導通性と隣接回路間の絶縁性を得
るには不向きであり、また回路との接着性も低下
する傾向が強くなる。
この範囲を満す例としては、ほぼ球であるもの
が代表的であるが上記条件を満たすものであれば
特に限定されない。また粒子表面に多少の突起物
や凹凸があつても良く、また単一粒子に限らず微
小粒子の凝集体からなる粒子であつても良い。
粒子径は全体的な平均粒径をとるものとし、粒
子の形状や粒子径の測定は、たとえば走査形電子
顕微鏡などによる方法が便利である。平均粒径D
は次式で求めるものとする。
P=Σnd/Σn
ここに、nはdなる粒径の粒子の数を示す。
導電性粒子が球状であると、接続時の加熱加圧
により粒子相互あるいは粒子と回路面との接触を
得やすく高導電性を得やすい。
導電性粒子は接続部材の厚み方向に単層で存在
しても良いし、複個列あるいは凝集した構造であ
つても良い。
接着剤中に占める導電性粒子は0.1〜15体積%
が適当である。0.1体積%以下では満足する導電
性が得られず、15体積%以上では横(幅)方向に
おいて粒子が連結する機会が増し隣接回路との絶
縁性が低下し透明性も悪くなる。上記理由からよ
り好ましい添加量は0.5〜10体積%である。
本発明で用いられる接着剤としては、基本的に
は絶縁性を示す常の接着性シート類に用いられて
いる配合が適用可能である。通常の接着シート類
に用いられる配合は凝集力を付与するための合成
樹脂やゴム等からなるポリマー類と、その他必要
に応じて用いる粘着付与剤、粘着性調整剤、架橋
剤、老化防止剤、分散剤等からなつている。
本発明にかてる接続部材の製造方法としては、
ポリマおよびその他必要に応じて使用する添加剤
からなる接着剤組成物を溶剤するか懸濁状に媒体
中に分散しあるいは熱溶融させて液状とした後に
導電性粒子をボールミルや撹拌装置などの通常の
分散方法により混合し、導電性粒子混合接着剤組
成物を得る。
溶剤を用いる場合については、高分子核材上に
金属層の形成された導電性粒子は溶剤に対する溶
解性がほとんどないため溶剤を用いることも可能
であるが、接着剤を溶解し高分子核材を溶解しな
い溶剤を選択することがさらに好ましい。この手
段としては、たとえば接着剤をエマルシヨン化し
て水媒体中に導電性粒子を分散することもよい方
法である。
上記導電性粒子混合接着剤組成は、接続を要す
る一方あるいは双方の回路上にスクリーン印刷や
ロールコータ等の手段を用いて直接回路上に接着
剤層を形成しても良く、またフイルム状の連続長
尺体としてもよい。連長尺体としての接着剤フイ
ルムを得るには紙やプラスチツクフイルム等に必
要に応じて剥離処理を行なつたセパレータ上に前
記手段により接続部材層を形成後連続に巻重して
も良いし、接着層の粘着性が無い場合においては
セパレータを用いずに巻重することも可能であ
り、さらに接着剤の補強用として、たとえば不織
布等の芯材を用いることも可能である。
得られた接続部材を用いて回路を接続する方法
としては、たとえば回路にフイルム状接続部材を
仮貼付した状態でセパレータのある場合にはセパ
レータを剥離し、あるいは接着剤組成物を回路上
に塗布し必要に応じて溶剤除去後の状態で、その
面に他の接続すべき回路を熱プレスあるいは加熱
ロール等で貼付ければよい。
接続時の加熱加圧に際し、被覆金属は薄層であ
るために高分子核材の変形に充分追随可能であ
り、もし変形に追随できずに金属層にヒビ割れ等
の欠陥が生じても、回路あるいは、他の粒子との
接触により導電路は保持できる。
最適な接続状態を得るには、接続後の回路間隔
(t)に対する接続前の接続部材の厚み(T)の
比を、t/T=0.02〜0.95の範囲内にすることが
好ましい。このとき接続前の粒径Dなる導電性粒
子が厚み方向に単粒子状で存在している場合にお
いては接続後の粒径をdとしてd/Dの比をt/
Tと同様に用いることが出来る。t/Tが0.02以
下では導電性粒子が破壊して金属薄片が脱落し易
なり、またこの比が0.95以上では回路あるいは導
電性粒子との充分な面接触が得られないことか
ら、満足すべき接続構造体とすることが出来ない
ので本発明の実施には好ましくない。
上記理由から、t/Tのさらに好ましい範囲は
0.10〜0.90である。
この最適な接続状態を簡単に得る方法としては
接続操作時に回路間に所望厚みの剛性を有するス
ペーサを挿入したり、接続部材中にスペーサ粒子
を混入すれば、本発明に係る導電性粒子は任意に
変形可能であるため、所望厚みの高分子核材隔を
有する接続構造を簡単に得ることが出来る。
スペーサ粒子としては、導電性粒子よりも高剛
性であることが必要である。すなわち回路の接続
構造体の作製時の加圧あるいは加熱加圧によりス
ペーサ粒子は粒形の変化をほとんど示さないこと
が必要である。
またスペーサ粒子は導電性、あるいは絶縁性の
いずれでも良く両者を複合して用いることもでき
る。
スペーサ粒子ついての粒径、粒子形状、添加量
ついては特に制限されるものでないが、好ましく
は導電性粒子の場合に準じて平均粒径は0.5〜
300μm、粒子形状としての最小径に対する最大径
の比が0.05〜1.0、その添加量は0.1〜15積%が適
用できる。
導電性粒子とスペーサ粒子の添加量の比率につ
いても特に制限されるものではなく、接続構造体
の特性を考慮して決定すれば良い。
(作 用)
本発明にかかる回路の接続構造体においては、
導電性粒子が接続時の加圧あるいは加熱加圧によ
り、導電性粒子相互あるいは導電回路部と接触し
て導通路を形成する。
この時、高分子核材は加圧あるいは加熱加圧に
よる接続操作時に軟化あるいは変形可能であるた
めに回路面あるいは導電粒子相間で押付けるよう
に適度に変形し接触積を大く保つことが出来、良
好な導電性と信頼性を得るとができる。一方非回
路部における粒子には、回路間の粒子ほどには圧
力がかからない為変形することがなく従つて導電
性粒子の粒径や添加量を選択することと合わせて
隣接回路との絶縁性は充分に保たれる。
さらに高分子核材は軟化変形域を、その材料の
熱特性の選定あるいは組み合せにより、任意に設
定できるために、広い作業件下で接続構造体を得
ることが可能となる。
たとえば核材として一定融点を示さない非晶性
の高分子やゴム状領域の広架橋物を用いた場合に
は、特にその軟化流動域が広く、回路接続時の条
件(温度、圧力、時間)も広くとることが可能で
接続時の信頼性が著しく向し、合せて良好な接続
作業性も得ることが出来る。
また高分子核材は軟化変形の度合を、その接続
条件により任意に設定することが可能であり、接
続状態を管理することが可能となる。たとえば接
続部における導電性粒子の粒径が不一致の場合で
もその接続条件を管理することで、大きな導電性
粒子を小な導電性粒子の大きさかさらにそれ以上
に小さくなるまで圧着して接続することが可能で
あり、多くの導電性粒子が導通に有効に寄与する
ことが出来る。これに対して従来の金属粒子の場
合は、大きな金属粒子がスペーサ状に作用し、他
の小さな粒子は導通に寄与しないために導通点数
が減少し接続信頼性が低かつた。
接続状態を有効に管理するためには、導電性粒
子より高剛性のスペーサ粒子を併用して接続部材
中に添加することが好ましく、この場合には導電
性粒子は任意に変形可能であることから所望厚み
の接続構造体を得ることが可能となる。
上述したように本発明になる回路の接続構造体
は、その導電性粒子が回路面に沿つて押つけられ
るように適度に変形し、接触面積を大きく保つこ
とが出来るために、従来ハンダ付の不可能であつ
た、たとえば透明導電膜に対しても有効に接触面
積を保つことが出来る。また透明導電膜上にAu
やNiメツキなどの表面処理を特に必要としない。
また他の各種の回路面に対しても接続構造体を得
ることが出来る。
回路との接触面積を大きくとれるようになつた
ことおよび高分子核材は接着剤成分と膨張係数が
近似していることから接着剤の熱膨張により接続
回路の間隔が大きくなつても、導電性粒子の熱膨
張により接続回路間隔の広がりに追随できるため
粒子と回路との接触状態が良好に保たれるので、
接続部の温度に対する抵抗変化はきわめて小さい
ものとなる。
実施例 1〜3
(1) 接続部材の作製
スチレンブタジエンブロツク共重合体
(M12.6)100重部と軟化点130℃のロジン変性
フエノール樹脂40重量部およびトルエン200重
量部よりなる接着剤溶液中に、Niを被覆した
ポリスチレン粒子およびアトマイズi(平均粒
径10μm、ほぼ球状)を分散して得られた溶液
をバーコータによりスペーサ粒子(シリコン処
理ポリエステルフイルム)上に塗布し、110℃
−5分間の乾燥を行い、導電性粒子を2体積%
含有した厚み35μmの接続部材を得た。ここで
導電性粒子の平均粒径は30μmであり、Ni被覆
層の厚みは約0.5μmであつた。
(2) 回路の接続
ライン巾0.1mm、ピツチ0.2mm、厚み35μmの回
路を有する全回路巾100mmのフレキシブル回路
板(FPC)に、接着巾3mm、長さ100mmに切断
した接続部を載置して150℃−10Kg/cm2−5秒
の加熱加圧により仮貼付を行い接続部材付
FPCを得た。そのあとセパレータを剥離して、
他の同一ピツチを有する透明導電ガラス(酸化
インジウム回路、ガラス厚み1mm)と顕微鏡下
で回路の位置合わせを行い、170℃−20Kg/cm2
−10秒間の加熱加圧により回路を接続した。
(3) 評 価
回路接続部を恒温槽中に保持し、リード線を
通して−20℃および80℃における回路の接続抵
抗をマルチメータで測定し、合わせて隣接回路
間の絶縁性をチエツクした。絶縁性は107Ω以
上を良好なものとした。抵抗の測定結は−20℃
における値を規準の1.0として80℃における抵
抗の変化率で表示した。
結果を第1表に示したが、抵抗の変化率は良
好であり、さらに実施例1−2,1−3におい
ては回路接続後の厚みはスペーサ粒子として用
いた導電性のNi粒子の粒子径である10μmに制
御された。高分子核材よりなる導電性粒子より
も小さな粒子径の導電性スペーサを用いたこと
により接続回路間のNiと混在して高分子核材
よりなる導電粒子が若干押しつぶされた状態で
回路間に存在し、好ましい接続状態を得ること
ができた。実施例1−1の130℃接続の場合に
回路間の厚みがスペーサ粒子径である10μmま
で達しない18μmであつたのは、高分子核材お
よび接着剤成分の流動性が不足しているため
で、さらに温度上昇などの手段よりスペーサ厚
みに制御可能である。なお第1表における厚み
の変化とは接続後の回路間隔(t)に対する接
続前の接続部材の厚み(T)の変化の比(t/
T)で表示した。
実施例 2
実施例1と同じであるが、スペーサ粒子として
アトマイズNiの代わりに絶縁性のシリカ粉(粒
径10μの球状)を加えた。第1表のように、この
場合も良好な抵抗変化率と接続回路間厚みの制御
が可能であつた。
絶縁性スペーサ粒子の添加は回路間のリーク防
止効果もあるとみられ、またシリカなどのいわゆ
る抵熱膨張材の添加は、マトリツクス(本例では
接着剤)全体の熱膨張率を低下させることは良く
知られた事実であり、本例でもそのような効果も
併せて発生しているものとみられる。
実施例 3
実施例2と同様であるが、導電性粒子として平
均粒径3μm(被覆層はNiで0.1μmの厚み)の粒子
を2体積%含有するようにして、厚み15μmのフ
イルム状接続部材を得た。この場合は導電性粒子
よりも大きなスペーサ粒子を用いたことに相当す
る。結果は第1表のように良好な抵抗の変化率を
示し、接続後の回路間厚みはスペーサ粒子の粒子
径に一致して得ることができた。また回路間にお
いては導電性粒子数個が凝集して連なつている様
子が接続部断面の電子顕微鏡により観察できた。
比較例
粒径20μm、融点170℃のハンダ粒子を熱可塑性
ポリエステル(分子量20000,Tg7℃)100重量部
とアルキルフエノール樹脂(軟化点100℃)20重
量部をメチルエチルケトン280重量部とからなる
溶液に混合たものを用いては上記実施例と同様に
してフイルム状接着部材としたものを用いた。結
果を第1表に示したが、実施例1〜3に較べて変
化率は約2倍と大きかつた。
また回路接続部を観察したところ、FPC側の
Cu回路面にはハンダが濡れており良好に接続で
きていたが、透明導電膜面にはハンダの濡れは生
じておらず点状に接触しているだけであつた。
したがつて熱膨張収縮の大きな接着剤層の変動
に対して、金属であるハンダ粒子の変動はわずか
であるためにハンダ粒子はガラス回路面と不安定
な接触となり、抵抗の変化率が大きかつたものと
推定される。
〔発明の効果〕
以上詳述したように本発明になる回路の接続構
造体は、導電性粒子として回路接続時の加圧ある
いは加熱加圧により軟化あるいは変形可能である
高分子核材の表面に導電性の金属薄層を有する導
(Industrial Application Field) The present invention relates to a circuit connection structure. (Prior art) Connecting terminals have traditionally been arranged facing each other at a fine pitch for connecting integrated circuits to wiring boards, connecting surface elements to wiring boards, connecting electrical circuits to leads, etc. In this case, methods using connecting members such as soldering and conductive adhesive are widely used. However, in these methods, the connection member must be formed only in the conductive circuit portion, making it difficult to connect fine circuits that are becoming increasingly dense and fine. Recently, consideration has been given to connection materials for circuits.
For example, JP-A-51-20941, JP-A-51-21192.
Publication No. 135938, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-135938, Japanese Patent Publication No. 1983-
Publication No. 104007, Japanese Patent Application Publication No. 1983-122193, Japanese Patent Application Publication No. 1987-122193
57-111366, Japanese Patent Application Laid-open No. 58-111202, etc., an anisotropically conductive connecting member layer containing conductive particles such as metal particles and an adhesive component is provided between opposing circuits, and a pressure or It has been proposed to provide electrical connection between circuits and at the same time provide insulation between adjacent circuits by providing heating and pressing means to adhesively fix opposing circuits. However, in these methods, continuity between circuits is primarily achieved through contact between multiple conductive materials, often metal particles;
Because the metal particles are rigid, there is not enough contact area between particles or between particles and circuits, and because the coefficient of thermal expansion of the adhesive component and the metal particles are different,
This had the disadvantage that the resistance value changed significantly with respect to temperature changes, and the reliability of the connection part was poor. In order to reduce the temperature coefficient, it is effective to reduce the contact resistance of the connection part.
As seen in Japanese Patent No. 60-140790, there has been an attempt to obtain a good connection by melting and connecting heat-fusible metal particles dispersed in an insulating adhesive between circuits. However, since the metal particles are heat-fusible, this method has the disadvantage that the range of conditions required for connection work is narrow. In other words, at temperatures above the melting point, the metal particles melt and flow across tiny adjacent circuits, resulting in leakage, which makes it impossible to connect circuits with fine pitches. Since the particles do not melt at temperatures below the melting point of the metal, only rigid metal particles exist between the circuits, and as described above, the resistance change of the connection becomes large with respect to the change in ambient temperature.
It had the drawback of having a large so-called temperature coefficient. In addition, in display circuit connections, which is one of the main application fields for these anisotropic conductive connection materials, oxides such as tin oxide, indium oxide, titanium oxide, etc. are used on transparent substrates such as glass and plastic. Transparent conductive films, in which conductive circuits are formed using thin films of aluminum, chromium, etc., are often used, but heat-fusible metal particles, such as solder, have extremely high surface tension on these circuit surfaces. Due to the lack of wettability to the circuit surface and the fact that it does not form an alloy with the oxidized surface of aluminum or other oxide circuits, the wettability with the circuit surface is insufficient, and the rate of change in resistance with respect to temperature changes at the connection part also decreases. It had the disadvantage of being large. Therefore, in display applications such as liquid crystals (LCDs), electroluminescent (EL) plasmas, or fluorescent display tubes, there are practical problems such as the display becoming unclear or not being able to display at high temperatures. was. As an improvement method, Au or
The solution has been to increase the surface tension of the circuit by forming a thin layer of Ni or other materials by plating or sputtering, but this method requires complicated processes and advanced processing technology, resulting in high product costs. It had some drawbacks such as: (Problems to be Solved by the Invention) The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and provides a fine circuit connection structure in which the temperature coefficient of resistance of the circuit connection portion is small. (Means for Solving the Problems) That is, the present invention provides a circuit connection structure in which a plurality of conductive patterns and opposing circuits are electrically connected by a connection member, in which a polymer is placed between the circuits to be connected. Conductive particles in which almost the entire surface of a core material made of a polymer is substantially covered with a conductive metal thin layer, and a connecting member layer made of highly rigid spacer particles and an insulating adhesive are interposed; The present invention relates to a circuit connection structure characterized in that the core material is fixed in a deformed state so as to be pressed against the circuit surface, and the thickness between the opposing circuits is approximately equal to the diameter of the space particle. The constituent materials according to the present invention will be explained in detail below. First, the conductive particles have a thin metal layer on almost the entire surface of a core material made of a polymer (hereinafter referred to as a polymer core material). The structure of the polymer core material may be a completely solid body, a hollow body made of gas inside, a foam body with bubbles inside, an aggregate that is a collection of small particles, etc., and these can be used alone or in combination. It is possible to use it as The shape of the polymer core material 9 is typically approximately spherical, but the shape is not particularly limited. The materials include various plastics, rubbers, and natural polymers, and these are the main ingredients, and additives such as crosslinking agents and curing agents can be used as necessary. Examples of these polymers include polyethylene, polypropylene, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, and acrylonitrile-styrene copolymer.
Butadiene-styrene copolymer, polycarbonate, various acrylates such as polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyimide, polyamide, polyester, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, fluororesin, polyphenylene oxide, polyphenylene Rensulfide, polymethylpentene, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, phenol-formalin resin, xylene resin, furan resin, diallyl phthalate resin, epoxy resin,
Examples include polyisocyanate resin, phenoxy resin, and silicone resin, and these may be modified as appropriate. Further, these may be used alone or as a composite of two or more kinds. For thermosetting materials,
The degree of curing is not critical as long as it does not interfere with mixing with the adhesive component. These polymeric core materials must be able to be softened or deformed by pressure applied during circuit connection or by heating and pressure. The reason why softening or deformation is required by applying pressure or heating and pressing during connection is to increase the contact area between conductive particles or between conductive particles and the circuit when connecting the circuit. It is also possible to use a pressure-sensitive connection using a so-called pressure-sensitive adhesive or a heat-sensitive connection using heating up to 400°C. If the polymer core material has a molecular weight of 100 to 250, it is preferable that the polymer core material has a molecular weight of 100 to 250. It is preferable that the material can be softened or deformed at ℃. The pressure should preferably be as low as possible so as not to adversely affect the circuit parts that need to be connected, and the pressure should be 100Kg/cm 2.
(preferably 50 kg/cm 2 or less). As the metal used for the coating, various conductive metals, metal oxides, alloys, etc. are used. Examples of metal elements include Zn, Al, Sb, U,
Cd, Ga, Ca, Au, Ag, Co, Sn, Se, Fe,
There are Cu, Th, Pb, Ni, Pd, Be, Mg, Mn, etc., and these can be used alone or in combination, and other elements or compounds can be used for special purposes such as improving hardness or surface tension. etc. can also be added. Methods for forming metal on the surface of polymer core materials include physicochemical methods such as vapor deposition, sputtering, ion plating, plating, and thermal spraying, as well as methods for forming metal on the surface of polymer core materials. Chemical methods include dispersing metals in monomers and adsorbing metal powder onto the surface of polymer particles after polymerization, chemically bonding metals with core materials that have functional groups, and adsorbing them with surface activators, coupling agents, etc. Methods such as manual methods can be adopted. As a method for plating the polymer core material, general methods for forming metals by electroless plating can be applied. Add a catalyst such as palladium. Thereafter, the core material may be treated in an electroless plating solution at a predetermined temperature and time for a certain amount of time to prevent agglomeration of the core material by stirring or the like if necessary. The plating thickness can be controlled by controlling the plating liquid amount, time, temperature, etc. For example, in the case of nickel, the plating liquid may be nickel-phosphorus, nickel-boron, etc., and the reducing agent may be sodium hypophosphite,
Sodium borohydride is typical, and in the case of copper plating, Rothsiel's salt bath and EDTA bath are typical, and formaldehyde or the like is used as the reducing agent. Furthermore, a case where a metal composite layer is formed by the plating method will be explained. For example, regarding the case where metal is provided on the nickel layer mentioned above, the metal plating solution is generally gold cyanide, and both reduction and substitution types can be applied, but the substitution type gold plating method is easier to handle. It is preferable for the present invention in view of the desired thickness. By treating a nickel-plated product in a gold plating solution at a predetermined temperature for a predetermined period of time, conductive particles having a composite layer of polymer core material/Ni/Au can be obtained. The thickness of the metal coating layer is preferably about 0.01 to 5 μm.
A thickness of 0.05 to 1 μm is more preferable, but it is desirable that the thickness falls within 1/5 to 1/1000 of the particle size of the conductive particles before circuit connection. This is because if the metal thin layer is thin, the conductivity will be reduced, and if the metal thin layer is thick, it will lose its ability to follow the softening and deformation of the polymer core material during circuit connection. Further, since the metal is a thin layer, it has sufficient deformation followability, but it is preferable to use a malleable material with good extensibility, for example. Conventionally, such conductive particles were made into glass spheres (beads) or glass hollow spheres (balloons).
Although there are products in which a thin layer of Ag or the like is formed, these are not suitable for carrying out the present invention because they cannot be softened and deformed when heated and pressed. The conductive particles obtained above have an average particle size of
Preferably, the particle size is 0.5 to 300 μm, and the ratio of the maximum particle size to the minimum particle size is 0.05 to 1.0. The particle size is
If the diameter is 0.5 μm or less, a large amount of conductive particles is required, and as a result, the number of filled particles increases, resulting in poor adhesion to the circuit. If the diameter is 300 μm or more, the particles are large, making it difficult to conduct between adjacent circuits on the same board. (leak), which is not desirable. In order to prevent the occurrence of leaks, it is necessary to select conductive particles whose particle size is smaller than the gap between the circuits to be connected. It is preferable to use 2 to 1/4 of conductive particles. The shape of the conductive particles preferably has a ratio of the maximum diameter to the minimum diameter (hereinafter referred to as particle size ratio) of 0.05 to 1.0. Outside this range, the particles will be too flat, making them unsuitable for achieving the electrical conductivity between circuits and the insulation between adjacent circuits, which are the objectives of the present invention, and there is also a strong tendency for adhesiveness with circuits to deteriorate. . A typical example that satisfies this range is one that is approximately spherical, but is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions. Further, the particle surface may have some protrusions or irregularities, and the particle may not be limited to a single particle but may be an aggregate of fine particles. The particle size is the overall average particle size, and it is convenient to measure the particle shape and particle size using, for example, a scanning electron microscope. Average particle size D
is calculated using the following formula. P=Σnd/Σn where n indicates the number of particles with a particle size of d. When the conductive particles are spherical, it is easy to obtain contact between the particles or between the particles and the circuit surface by applying heat and pressure during connection, and it is easy to obtain high conductivity. The conductive particles may exist in a single layer in the thickness direction of the connection member, or may have a structure in which they are arranged in multiple rows or aggregated. Conductive particles account for 0.1-15% by volume in the adhesive
is appropriate. If it is less than 0.1 volume %, satisfactory conductivity cannot be obtained, and if it is more than 15 volume %, the chances of particles connecting in the lateral (width) direction increase, the insulation with adjacent circuits decreases, and transparency deteriorates. For the above reasons, a more preferable addition amount is 0.5 to 10% by volume. As the adhesive used in the present invention, basically any formulation used in conventional adhesive sheets exhibiting insulation properties can be used. The composition used for ordinary adhesive sheets includes polymers such as synthetic resins and rubbers to impart cohesive force, and tackifiers, tackiness modifiers, crosslinking agents, anti-aging agents, etc. used as necessary. It consists of dispersants, etc. As a method for manufacturing a connecting member according to the present invention,
An adhesive composition consisting of a polymer and other additives used as necessary is dispersed in a medium in a solvent or in a suspension state, or heated and melted to a liquid state, and then the conductive particles are processed using a conventional method such as a ball mill or stirring device. A conductive particle mixed adhesive composition is obtained. When using a solvent, it is possible to use a solvent because conductive particles with a metal layer formed on the polymer core material have almost no solubility in solvents, but it is possible to use a solvent to dissolve the adhesive and remove the polymer core material. It is further preferable to select a solvent that does not dissolve. A good method for this purpose is, for example, to emulse the adhesive and disperse the conductive particles in an aqueous medium. The above-mentioned conductive particle mixed adhesive composition may be used to form an adhesive layer directly on one or both of the circuits to be connected using means such as screen printing or a roll coater, or to form a continuous adhesive layer in the form of a film. It may be a long body. To obtain an adhesive film as a continuous length, a connecting member layer may be formed by the above method on a separator made of paper or plastic film, which has been subjected to peeling treatment as necessary, and then continuously rolled up. If the adhesive layer has no tackiness, it is possible to roll the adhesive layer without using a separator, and it is also possible to use a core material such as a non-woven fabric to reinforce the adhesive. A method for connecting a circuit using the obtained connecting member includes, for example, temporarily attaching a film-like connecting member to the circuit and peeling off the separator if there is a separator, or applying an adhesive composition to the circuit. If necessary, after the solvent has been removed, other circuits to be connected may be attached to that surface using a hot press or a heated roll. During heating and pressurization during connection, the coating metal is a thin layer, so it can fully follow the deformation of the polymer core material, and even if it cannot follow the deformation and defects such as cracks occur in the metal layer, The conductive path can be maintained by contact with circuits or other particles. In order to obtain an optimal connection state, it is preferable that the ratio of the thickness (T) of the connection member before connection to the circuit interval (t) after connection is within the range of t/T=0.02 to 0.95. At this time, if the conductive particles with a particle size D before connection exist in the form of a single particle in the thickness direction, the particle size after connection is d, and the ratio of d/D is t/
It can be used in the same way as T. If t/T is less than 0.02, the conductive particles will break and the metal flakes will easily fall off, and if this ratio is more than 0.95, sufficient surface contact with the circuit or conductive particles cannot be obtained, so it should be satisfied. Since it cannot be used as a connected structure, it is not preferable for implementing the present invention. For the above reasons, the more preferable range of t/T is
It is between 0.10 and 0.90. An easy way to obtain this optimal connection state is to insert a spacer with a desired thickness and rigidity between the circuits during the connection operation, or to mix spacer particles into the connection member. Since it can be deformed into a shape, it is possible to easily obtain a connection structure having a polymer core material spacing of a desired thickness. The spacer particles need to have higher rigidity than the conductive particles. In other words, it is necessary that the spacer particles show almost no change in particle shape due to pressurization or heating and pressurization during production of the circuit connection structure. Further, the spacer particles may be either conductive or insulating, and a combination of both may be used. There are no particular restrictions on the particle size, particle shape, and amount added of the spacer particles, but preferably the average particle size is 0.5 to 0.5, as in the case of conductive particles.
300 μm, the ratio of the maximum diameter to the minimum diameter as a particle shape is 0.05 to 1.0, and the amount added is 0.1 to 15% by volume. The ratio of the amount of conductive particles to spacer particles added is not particularly limited, and may be determined taking into consideration the characteristics of the connected structure. (Function) In the circuit connection structure according to the present invention,
The conductive particles come into contact with each other or with the conductive circuit section by applying pressure or heating and pressurizing during connection, thereby forming a conductive path. At this time, since the polymer core material can be softened or deformed during connection operations by pressurization or heating and pressurization, it can be appropriately deformed to press against the circuit surface or between the conductive particle phases and maintain a large contact area. , good conductivity and reliability can be obtained. On the other hand, particles in non-circuit areas are not subjected to as much pressure as particles between circuits, so they do not deform.Therefore, in addition to selecting the particle size and addition amount of conductive particles, insulation from adjacent circuits is Sufficiently maintained. Furthermore, since the softening deformation range of the polymer core material can be set arbitrarily by selecting or combining the thermal properties of the material, it becomes possible to obtain a connected structure under a wide range of work conditions. For example, when an amorphous polymer that does not exhibit a constant melting point or a broadly crosslinked rubber-like region is used as a core material, the softening flow range is particularly wide, and the conditions (temperature, pressure, time) during circuit connection It is also possible to have a wider width, which significantly improves reliability during connection, and also provides good connection workability. Furthermore, the degree of softening and deformation of the polymer core material can be arbitrarily set depending on the connection conditions, making it possible to control the connection state. For example, even if the particle sizes of the conductive particles at the connection part do not match, by controlling the connection conditions, it is possible to connect the large conductive particles by crimping them until they are the same size as the small conductive particles or even smaller. is possible, and many conductive particles can effectively contribute to conduction. On the other hand, in the case of conventional metal particles, large metal particles act as spacers, and other small particles do not contribute to conduction, resulting in a decrease in the number of conduction points and low connection reliability. In order to effectively manage the connection state, it is preferable to add spacer particles, which are more rigid than conductive particles, to the connection member.In this case, since the conductive particles can be deformed arbitrarily, It becomes possible to obtain a connected structure with a desired thickness. As mentioned above, the circuit connection structure according to the present invention deforms appropriately so that the conductive particles are pressed along the circuit surface, and can maintain a large contact area, which is different from the conventional soldered structure. For example, it is possible to maintain an effective contact area even with a transparent conductive film, which was previously impossible. In addition, Au
No special surface treatment such as or Ni plating is required.
Connection structures can also be obtained for various other circuit surfaces. The contact area with the circuit can now be increased, and the expansion coefficient of the polymer core material is similar to that of the adhesive component, so even if the distance between connected circuits increases due to the thermal expansion of the adhesive, conductivity is maintained. Thermal expansion of the particles allows it to follow the expansion of the distance between the connected circuits, maintaining good contact between the particles and the circuits.
The resistance change with respect to temperature of the connection part is extremely small. Examples 1 to 3 (1) Preparation of connecting member In an adhesive solution consisting of 100 parts by weight of styrene-butadiene block copolymer (M12.6), 40 parts by weight of rosin-modified phenolic resin with a softening point of 130°C, and 200 parts by weight of toluene. A solution obtained by dispersing Ni-coated polystyrene particles and atomized i (average particle size 10 μm, almost spherical) was applied onto spacer particles (silicon-treated polyester film) using a bar coater, and heated at 110°C.
- Dry for 5 minutes and add 2% by volume of conductive particles.
A connecting member having a thickness of 35 μm was obtained. Here, the average particle size of the conductive particles was 30 μm, and the thickness of the Ni coating layer was about 0.5 μm. (2) Connecting the circuit Place the connection part cut to a length of 100 mm with an adhesive width of 3 mm on a flexible circuit board (FPC) with a total circuit width of 100 mm, which has a circuit with a line width of 0.1 mm, a pitch of 0.2 mm, and a thickness of 35 μm. At 150℃ - 10Kg/cm 2 Temporarily pasted by heating and pressurizing for -5 seconds and attaching the connecting member.
Got FPC. Then peel off the separator and
Align the circuit with another transparent conductive glass (indium oxide circuit, glass thickness 1 mm) with the same pitch under a microscope, and conduct the test at 170℃ - 20Kg/cm 2
The circuit was connected by applying heat and pressure for −10 seconds. (3) Evaluation The circuit connection part was kept in a thermostatic chamber, and the connection resistance of the circuit at -20°C and 80°C was measured with a multimeter using a lead wire, and the insulation between adjacent circuits was also checked. Insulation was considered good if it was 10 7 Ω or more. Resistance measurement result is -20℃
It is expressed as the rate of change in resistance at 80°C, with the value at 1.0 being the standard. The results are shown in Table 1, and the rate of change in resistance was good, and in Examples 1-2 and 1-3, the thickness after circuit connection was determined by the particle diameter of the conductive Ni particles used as spacer particles. The thickness was controlled to 10 μm. By using a conductive spacer with a particle size smaller than the conductive particles made of polymer core material, the conductive particles made of polymer core material are mixed with Ni between the connected circuits, and the conductive particles made of polymer core material are slightly crushed between the circuits. I was able to get a good connection. In the case of connection at 130°C in Example 1-1, the thickness between the circuits was 18 μm, which did not reach the spacer particle diameter of 10 μm, because the fluidity of the polymer core material and adhesive component was insufficient. Furthermore, the spacer thickness can be controlled by means such as increasing the temperature. The change in thickness in Table 1 is the ratio of the change in the thickness (T) of the connecting member before connection to the circuit interval (t) after connection (t/
T). Example 2 The same as Example 1, except that insulating silica powder (spherical with a particle size of 10 μm) was added instead of atomized Ni as spacer particles. As shown in Table 1, in this case as well, it was possible to control the rate of change in resistance and the thickness between the connecting circuits. The addition of insulating spacer particles seems to have the effect of preventing leakage between circuits, and the addition of so-called thermally resistant expansion materials such as silica reduces the coefficient of thermal expansion of the entire matrix (in this example, the adhesive). This is a known fact, and it seems that such an effect also occurs in this example. Example 3 The same as Example 2, except that the conductive particles contained 2% by volume of particles with an average particle diameter of 3 μm (the coating layer was made of Ni and had a thickness of 0.1 μm), and a film-like connecting member with a thickness of 15 μm was prepared. I got it. This case corresponds to using spacer particles larger than the conductive particles. The results showed a good rate of change in resistance as shown in Table 1, and the thickness between the circuits after connection could be obtained to match the particle diameter of the spacer particles. Furthermore, between the circuits, it was possible to observe with an electron microscope a cross section of the connection part that several conductive particles were aggregated and connected. Comparative example Solder particles with a particle size of 20 μm and a melting point of 170°C are mixed in a solution consisting of 100 parts by weight of thermoplastic polyester (molecular weight 20000, Tg 7°C), 20 parts by weight of alkylphenol resin (softening point 100°C), and 280 parts by weight of methyl ethyl ketone. A film-like adhesive member was used in the same manner as in the above embodiment. The results are shown in Table 1, and the rate of change was approximately twice that of Examples 1 to 3. Also, when I observed the circuit connection part, I found that the FPC side
The solder was wet on the Cu circuit surface and a good connection was made, but there was no solder wetting on the transparent conductive film surface and there was only point contact. Therefore, while the adhesive layer, which has large thermal expansion and contraction, fluctuates, the metal solder particles only slightly fluctuate, resulting in unstable contact between the solder particles and the glass circuit surface, resulting in a large rate of change in resistance. It is estimated that the [Effects of the Invention] As described in detail above, the circuit connection structure of the present invention uses conductive particles on the surface of a polymer core material that can be softened or deformed by applying pressure or heating and pressure during circuit connection. conductive material with a thin conductive metal layer
【表】
電性粒子の作用により、回路面あるいはスペーサ
粒子相互間で押しつけるように適度に変形するた
め、接触面積を大きくとることが可能である。ま
た高分子核材はその剛性や熱膨張収縮特性が、接
着剤の性質に極めて近いことと合わせて、温度変
化対して接着剤が熱膨張収縮変形する時も、追随
して変形するため抵抗変化の少ない接続構造体と
することが出来る。さらに高分子核材の弾性によ
り導電性金属の薄層は回路面に押しつけられて存
在する構造のため、回路材質に対する選択性が無
い特長を有し、例えば従来表面処理の必要であつ
た透明導電膜に対して特別な表処理なしでも信性
に優れた有効な構造を得ることが可能となつた。
また、本発明になる接続構造体のおいては、導
電性粒子の核体が高分子であるため、その軟化あ
るいは変形域が広いために広い接続条件巾を有す
るので、ばらつきの少ない安定した接続構造体を
得ることが可能である。[Table] Due to the action of the electrically conductive particles, the circuit surface or spacer particles are appropriately deformed so as to press against each other, so it is possible to have a large contact area. In addition, the rigidity and thermal expansion/contraction properties of the polymer core material are extremely similar to those of adhesives, and even when the adhesive undergoes thermal expansion/contraction deformation due to temperature changes, the polymer core material follows the thermal expansion/contraction deformation, resulting in a change in resistance. It is possible to create a connected structure with fewer connections. Furthermore, because the thin layer of conductive metal is pressed against the circuit surface due to the elasticity of the polymer core material, it has the feature that there is no selectivity to the circuit material. It has become possible to obtain an effective structure with excellent reliability without any special surface treatment of the membrane. In addition, in the connected structure of the present invention, since the core of the conductive particles is a polymer, its softening or deformation range is wide, so it has a wide range of connection conditions, so stable connection with less variation can be achieved. It is possible to obtain a structure.
Claims (1)
続部材により相互に接続された回路の接続構造体
において、接続部材が高分子重合体からなる核材
のほぼ全表面を導電性の金属薄層により実質的に
被覆された導電性粒子と高剛性のスペーサ粒子お
よび絶縁性接着剤とからなり、前記導電性粒子は
前記スペーサ粒子により隔てられた相対峙する回
路により押圧変形した状態で固定してなることを
特徴とする回路の接続構造体。 2 相対峙する回路の少なくとも一方が透明導電
膜である特許請求の範囲第1項記載の回路の接続
構造体。[Scope of Claims] 1. In a circuit connection structure in which connection circuits formed facing each other are connected to each other by an electrical connection member, the connection member covers substantially the entire surface of a core material made of a high molecular weight polymer. consisting of conductive particles substantially covered with a thin layer of conductive metal, highly rigid spacer particles, and an insulating adhesive, said conductive particles being pressed by opposing circuits separated by said spacer particles. A circuit connection structure characterized by being fixed in a deformed state. 2. The circuit connection structure according to claim 1, wherein at least one of the opposing circuits is a transparent conductive film.
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-
1986
- 1986-03-06 JP JP61049465A patent/JPS62206772A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPS62206772A (en) | 1987-09-11 |
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