JPH0341078A - 除草性スルホンアミド類 - Google Patents

除草性スルホンアミド類

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JPH0341078A
JPH0341078A JP2175434A JP17543490A JPH0341078A JP H0341078 A JPH0341078 A JP H0341078A JP 2175434 A JP2175434 A JP 2175434A JP 17543490 A JP17543490 A JP 17543490A JP H0341078 A JPH0341078 A JP H0341078A
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    • A01N47/08—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having one or more single bonds to nitrogen atoms
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は生長R節剤及び除草剤の如き農薬として有用で
あるテトラゾール置換されたベンゼンスルホンアミドに
関するものである。
ヨーロッパ特許出1111(E P −A ’)第83
,975号(1983年7月20日付け)に式 式中、Qは種々の5または6只の芳香族或いはO2Sも
しくはNRから選ばれる2または3fiのへテロ原子を
含む部分的に不飽和の複索環式環から選ばれる、 ノ除11− Filであるベンゼンスルホンアミドが開
示されている。
ヨーロッパ特許出願第85,476号(1983年8月
10日付け)に式 式中、QはO2SもしくはNRがら選ばれる1つのへテ
ロ原子を含む種々の5貝芳香族複累環、並びにそのジヒ
ドロ及びテトラヒFD同族体であるか、或いはQはOも
しくはSから選ばれる1個のへテロ原子を含む飽和また
は部分的に不飽和の6貝環であり;そしてQ’は1〜3
個のN原子を含む6貝の芳香族複素環である、 の除Jic剤であるベンゼンスルホンアミドが開示され
ている。
南アフリカ国特許出頴t583/8416号(1983
年5月12日付け)に式 式中、Aは炭素原子を通して結合し、そしてヘテロ原子
1,2もしくは3個を含む不飽和であるか、或いは部分
的にのみ飽和である5または6貝の複索環式環系である
、 の除草剤であるベンゼンスルホンアミドが開示されてい
る。
ヨーロッパ特許出願第116,518号(スイス優先権
2/4/83.8/22/84付け)に式式中、XはN
R−Ry、N(SO,R8)2または(C)n AはCo、SQ、、C0NR,、またはCO2であり; BはC,−C,アルキルまたはC2〜C,アルケニルで
あり:そして CはCo、CR,、R,□またはS02である、の除草
剤であるスルホンアミドが開示されている。
米国特許第4,475,944号に式 式中、WはO9SまたはNR,である、のものの如きオ
ルト−複索環式環を持つ除草剤のスル7アメートが開示
されている。
望ましくない植物の存在により有用な作物、特に人間の
基本的食物の必要性を満足する農業生産物、例えばトウ
モロコシ、ダイズ、コムギなどに実質的な損害が与えら
れる。現代の人口爆発及びそれに伴なう世界的な食糧不
足はこれらの作物の生産の効率を改善することを必要と
している。望ましくない植物を撲滅するか、またはこの
ものの生民を阻害することにより価値ある作物の損失を
防止するか、または最小にすることはこの効率を改善す
る1つの方法である。
望ましくない植物を撲滅するか、またはその生長を阻害
(調節)するに有用な広範囲の物質が得られる。かかる
物質は通常除草剤と称される。しかしながら、更に有用
な作物に重大な損害を生じずに2I草を破壊するか、ま
たはその生長を遅延させる有効な除草剤が未だ必要とさ
れる。
本発明は式Iの新規な化合物、このものを含む農業的に
適する岨戊物、及び発芽前もしくは発芽後除草剤または
植物生長調節剤としてのその使用方法に関するものであ
る。
式 %式% : : ジ(C3〜C3アルキル)アミノまたは01〜C2アル
コキシ、01〜C2ハロアルコキシ、C0〜C2アルキ
ルチオ%C1−02ハロアルキルチオもしくはCNで置
換されたC7〜C2アルキルであり; R2はH,C,〜C,フルキル、アリルまたはフェニル
であり; R1はH,C,〜C,CNキル、C1〜C,シクロアル
キル、C6〜C,ハロアルキル、CH2−(02〜C5
アルケニル)、CH2(C−〜C5ハロアルケニル)、
CH、(C、〜C5アルキニル)、c H2(C2〜C
,ハロアルキニル)、C,H,または01〜C,フルコ
キシ、C6〜C2アルキルチオ、CI″−C2アルキル
スルフィニルまたは01〜C,フルキルスルホニルで置
換されたC0〜C,アルキルであり; R1はH、ハロゲン、C1〜C,アルキル、C1〜C,
シクロアルキル、C5〜C6ハロアルキ/Ll、C,〜
C,CIケニル、C7〜C6ハロアルケニル、C2〜C
sアルキニル、C1〜C6ハロアルキニル、C,H,、
C1〜C,アルコキシ、C3〜C4アルキルチオ、C,
−C,アルキルスルフィニル、01〜C,アルキルスル
ホニル、0C82CH20−(C,〜C2アルキル)ま
たはジ(C,〜Cコアルキル)アミノであり:R4,は
H,C,−C,アルキルまたはアリルであり; RaはH%C,−C,アルキル、C2〜C,シアノアル
キル、メトキシまたはエトキシであり;RbはH,C,
〜C,CIキルまたはC1〜C4アルケニルであるか;
または Ra及びRbは−(CH2)3    (CH2)−−
(CH2)5−または−CH、CH、OCH、CH2−
として−緒にすることができ: RcはC1〜C4アルキル、C1〜C4アルケニル、C
:l〜C4アルキニル% C2〜C,ハロアルキル、0
1〜C2シア/アルキル、C5〜C6シクロアルキル、
04〜C7シクロアルキルアルキルまたは02〜C4ア
ルフキジアルキルであり; Aは Xは!]、 〜C,CIキル、 01〜C4アルフ キシ、CI〜C,ハロアルコキシ、01〜C1八ロアル
キル、01〜C,ハロアルキルチオ、C,−C,アルキ
ルチオ、ハロゲン、02〜C。
アルコキシアルキル、02〜C,アルコキシアルコキシ
、アミノ、01〜C,アルキルアミノ、ノ(C+〜C,
アルキル)アミノまたはC1〜C。
シクロアルキルであり; YはH,C,〜C,アルキル、C,−C,アルコキシ、
C9〜C4ハロアルコキシ、01〜C,ハロアルキルチ
オ%CI〜C4アルキルチオ、02〜C5アルコキシア
ルキル、C7〜C,アルコキシアルコキシ、アミノ、C
I−C,アルキルアミ7、ジ(C,〜C,CIキル)ア
ミノ、CコルC4アルケニルオキシ、C1〜C,アルキ
ニルオキシ、02−〇、デアルルチオアルキル、02〜
CSアルキルスルフイニルアルキル、C2〜Csフルキ
ルスルホニルアルキル、C1〜C4ハロアルキル、C2
〜C4アルキニル、7ノド、 シア八 L、R。
R=  L z あり; pは2または3であり: L、及びR2は独立してOまたはSであり;R6はHま
たはCH、であり; R7及びR8は独立してC5〜Cコアルキルであり: Zj、tCH,N、CCH,、CC,H,、CC1*た
はCB rであり; Y、はOまたはCH2であり; X、1iCH,、OCH,,0C2H7,4:たは0c
F2H′t′あり; X、はCH3,C2H,またはCH2CFコであり;Y
2はOCH,,0C2H6,SCH,,5C2H,。
CH,またはCH2CH3であり; X、はCH,またはOCR,であり; Y、はHまたはCH,であり; X、はCH,、OCH,、OC2H5,CH20CH。
またはC1であり; Y4はCH3,OCH,、OC,H5またはC1であり
:そして ZIはCHまたはNである、 の化合物において、 a)  XfJ’CI、F、BrまたはIである場合、
ZはCHであ’)、(−してYl、tOCH,、OC2
H5,N(OCH,)CH,、NHCH,、N(CH,
)2またはOCF、H”c’あり; b)XまたはYがC,ハロアルコキシである場合、Zは
CHであり: c)  JがJ−2,J−3またはJ−4である場合、
置換基Gm(CI−1,)nQまたは(CH,)nQ及
びスルホニル尿素架橋は隣接する現位置にあり;d) 
 JhtJ−4”C”あり、+LテnfJ’Ot’Aル
場合、QはQ−1またはQ−2であり; e)  Eが0である場合、JはJ−1であり;f)W
がSである場合、A11A−11’あ’)、RはHであ
り、そしてYはCH31OCHs−OCz)(5tCH
,OCH,、C,H,、CF3.SCH,,0CH2C
H=CH2,OCH2C三 CH、OCH2CH、OC
g)  X及IJY中の炭素原子の全体数が4より大き
い場合、R,、R,、R,及IJR,の炭素含有量は各
々2より少ないか、または等しくなければならず; h)  X、及VY、は同時に01であることはできず
; ;) JがJ−1であり、そして論がOである場合、n
は0であり;そして j)nがOであり、そして鯵が1である場合、QはQ−
1またはQ−2である、 式の化合物、及びその農業的に適する塩。
上の定義において、単独でか、または「アルキルチオ」
もしくは「ハロアルキル」の如き合成語のいずれかに使
用される「アルキル」なる用語は直鎖状または分枝鎖状
のアルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピルまたは異なったブチル、ペンチルもしくはヘ
キシル異性体を表わす。
フルコキシはメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ンプロポキシ及び異なったブチル異性体を表わす。
アルケニルは直鎖状または分枝鎖状のアルケン、例えば
ビニル、1−プロペニル、2−プロペニル、3−プロペ
ニル及び異なったブテニル、ペンテニルまたはへキセニ
ル異性体を表わす。
アルキニルは直鎖状または分枝鎖状のアルキル、例えば
エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル並びに異な
ったブチニル、ペンチニル及びヘキシニル異性体を表わ
す。
アルキルスルホニルはメチルスルホニル、エチルスルホ
ニルまたは異なったプロピルスルホニル異性体を表わす
。
アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルアミ7
などは同様に定義される。
シクロアルキルはシクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル及びシクロヘキシルを表わす。
単独でか、または「ハロアルキル」の如き合成語のいず
れかにお(する「ハロゲン」なる用語はフッ素、塩素、
臭素また1キヨウ素を表わす。
02〜C,アルキルチオアルキルの如き用語において、
炭素原子の特定数はその置換基における炭素原子の全数
を定義することを意味する。例えば、02〜C,フルキ
ルチオアルキルはCH25CH,、CHz S Cz 
Hs、CH,CH25CH,またはCH(CH,)SC
H,を表わし、モしてC,−Csフルコキシアルコキシ
はOCH,OCH,から0(C)I2LOCH,または
0CH20(CH,)、CH,及びこのものに含まれる
種々の構造異性体を表わす。
合成の容易さ及び/または大きな除草効力の理由のため
に好ましいものは次のものである=1)  Eが単結合
である式1の化合物。
2)  EがCH2である弐■の化合物。
3)  EがOである式1の化合物。
4)鎗がOであり;WがOであり:そしてRがHである
好適な1の化合物。
5)  XがC1〜C2アルキル、C1〜C2アルフキ
シ、CI、F、Br、I、0CF2H,CH,F、CF
、。
0CH2CH,F、0CH2CHF2,0CH2CF、
。
CH、CIまたはCHt B rであり、YがH,C。
C2アルキル、01〜C2アルコキシ、CH20C11
,、CH,0CH2CH,、NHCH,、N(OCH,
)CH,。
N(Cト1  y )2 、CF  3 、S  CH
* 、OCH2CH=  CH2。
OCH2C:1iCH,OCH2CH20CH,。
シクロプロピル、C=CHまたはCミCCH,である好
適な4の化合物。
6)R6がH,CH,、F、CI、Br、0CH=、S
CH,、CH2CN、CH20CH,、CF、または0
CF2Hであり;そしてnがOである好適な5の化合物
。
7)  RがH,C,−C,アルキル、CH20H2C
= CH2CH−F −CHz CHF 2 、CH2
CF x−アリルまたはプロパルギルであり;そしてR
1がH,C。
〜Csフルキル、C1〜C2アルコキシ、01〜C2ア
ルキルチオ、N(CH,)2.アリル、プロパルギルま
たはF、CIもしくはBr1〜3個の原子で置換される
01〜C2アルキルである好適な6の化合物。
8)AがA−1であり;ZがCHまたはNであり;Xが
CH,、OCH,、OCH,CH,、シクロプロピル、
C1またはOCF、Hであり:YがCH3,OCH,、
C,R5,CH20CH,、NHCH,またはCH(O
CH3)2である好適な7の化合物。
9)  JがJ−1である好適な8の化合物。
10)R4(/R,5’独立t、てH,CH,*たはC
2H,である好適な9の化合物。
11) JがJ−2であり:そしてR4がHである好適
な8の化合物。
12) JがJ−3であり;そしてR7がHである好適
な8の化合物。
13) JがJ−4であり:そしてR1がHである好適
な8の化合物。
14)  Jh(J−5”C”あり:そしてR+ カH
t’ある好適な8の化合物。
15) JがJ−6であり;そしてR1がHである好適
な8の化合物。
16)QがQ−1であり、そしてR1が5−または6−
位置にある好適な9の化合物。
17)QがQ−2であり、そしてR1が5−または6−
位置にある好適な9の化合物。
18)QがQ−3であり、モしてR3が5−または6−
位置にある好適な9の化合物。
19)QがQ−4であり、そしてR1が5−または6−
位置にある好適な9の化合物。
20)QがQ−5であり、モしてR1が5−または6−
位置にある好適な9の化合物。
21)QがQ−6であり、そしてR3が5−または6−
位置にある好適な9の化合物。
22)QがQ−7であり、モしてR1が5−または6−
位置にある好適な9の化合物。
23)  raがOであり;nがOであり;JがJ−1
であり;WがOであり;RがHであり;R1がHであり
;R3がHまたはC1〜C,アルキルであり;R4がH
またはC1〜C,アルキルであり;AがA−1であり;
ZがCHまたはNであり:X fJtc H、,0C1
l□OCH2CH、、シクロプロピルであり、C1また
は0CF2Hであり;そしてYがCH,、OCH,、C
。
H,、CH,OCH,、NHCH3またはCH(OCl
l、 )2である好適な2の化合物。
24)IIIがOであり;RがHであり;R1がHであ
り;R1がHまたはC3〜C,アルキルであり:R1が
HまたはC,−C,アルキルであり;AがA−1であり
;ZがCHまたはNであり;XがCH、,0C11,。
0C82CH3,シクロプロピル、CIまたはOCF。
Hであり:そしてYがC)I ’= −OCH2、C2
Hs 。
CH,OCH,、NHCH2またはCH(OCH,)2
である好適な3の化合物。
合或が極めて容易であり、セして/または除草効力が極
めて太さいために特に好ましいものは次のものである:
N−[(4−クロロ−6−メドキシビリミノンー2−イ
ル)アミ7カルボニル]−2−(1−エチル−IH−テ
トラゾルー5−イル)ベンゼンスルホンアミド、融点2
23〜225℃;N−[(4,6−ノメトキシビリミノ
ンー2−イル)アミ7カルボニル]−2−(1−エチル
−IH−テ)ラブル−5−イル)ベンゼンスルホンアミ
ド、融点214〜217℃;N−((4,6−ジメトキ
シビリミシン−2−イル)アミ7カルボニル1−2−メ
チル−6−(1−メチル−IH−テトラゾルー5−イル
)ベンゼンスルホンアミド、fi点178〜180℃;
N−[(4,6−ジメチルピリミジン−2−イル)アミ
/カルボニル1−2−メチル−6−(1−メチル−IH
−テトラゾルー5−イル)ベンゼンスルホンアミド、融
点213〜215℃;N−[(4,6−ジメトキシピリ
ミシン−2−イル)アミ7カルボニル]−2−(S−メ
チル−IH−テトラゾルー1−イル)ベンゼンスルホン
アミド、融点213〜216℃;N−((4,6−ジメ
トキシビリミシン−2−イル)アミ7カルボニル]−2
−(1−メチル−IH−テトラゾルー5−イル)ベンゼ
ンスルホンアミド、M点214−222℃;N−[(4
,6−ジメトキジピリミノンー2−イル)アミ7カルボ
ニルl−2−(1−メチル−11−r−テトラゾルー5
−イル)ベンゼンスルホンアミド、9点207〜210
℃;N−[(4,6−ノメチルビリミノンー2−イル)
アミ7カルボニル]−2−(1−メチル−IH−テトラ
ゾルー5−イル)ベンゼンスルホンアミド、融点224
〜226℃;N−((4−メトキシ−6−メチルピリミ
シン−2−イル)アミ7カルボニル]−2−(1−メチ
ル−IH−テトラゾルー5−イル)ベンゼンスルホンア
ミド、融点222〜224℃;及1/N−[(4−クロ
ロ−6−メドキシビリミノンー2−イル)アミ7カルボ
ニルJ−2−(1−メチル−IH−テトラゾルー5−イ
ル)ベンゼンスルホンアミド、融点225〜227℃。
生え 式lの化合物は下記の反応式1及V2にお〜1て示され
る方法の1つまたは両方により合或し得る。
反応式1は式Hのスルホニルイソシアネート及びインチ
オシアネートを適当な式■の複葉環式アミンと反応させ
て式Iの所望のスルホニル尿素及びスルホニルチオ尿素
を生じさせることを示す。
罠盗1」− L    L    L 式中、J、W、R及びAは上記の通りである。
反応式1の反応は塩化メチレン、テトラヒドロ7ランま
たはアセトニトリルの如き不活性非プロトン性溶媒中に
て0乃至82℃間の温度で最良に一ジアザビシクロ[2
,2,27オクタン[DABCO[F]1を使用し得る
。生成物が反応溶媒に不溶性である場合、これらのもの
は単なる「・ip過により単離し得る。生成物が可溶性
である場合、これらのものは溶媒の蒸発、1−クロロブ
タン、ジエチルエーテルまたは酢酸エチルの如き溶媒を
用いる砕解、及び濾過により単離し得る。
式lの化合物は下の反応式2に示されるよう1こ等モル
量の1,8−ジアザビシクロ[5,4,01ウンデカ−
7−エン(D B U )の如き第三級アミンの存在下
にてスルホンアミド■を式■の適当なカルバミン酸、4
 rL ハチオカルバミンン酸のフェニルエステルと反
応させることによりi14’JIし得る。
l                  RL    
XL          土工式中、J、R,W及びA
は上記の通りである。
反応式2に示される反応は25℃でジオキサンまたはア
セトニトリルの如き溶媒中にて不活性雰囲気下でヨーロ
ッパ特許出a第70,804号(1983年1月26日
付け)に記載されるように最良に行われる0式1の所望
の生成物は反応!#液を水性塩酸で酸性にすることによ
り便利に単離し得る。また、水相を塩化メチレンまたは
酢酸エチルの如き溶媒で抽出し得る。乾燥及び溶媒の蒸
発により所望の生成物が得られる。
式Vの フェニルカルバメート及びフェニルチオカルバ
メートは南アフリカ国特許出1m第8215671号及
び同Pt58215045号に記載されるように本分野
に精通せる者には公知である方法、またはその改良法に
より調製し得る。
式1の化合物をy4製する際にはJ@(J、〜Jg)内
に含まれる置換基、即ちQ及びR3の特性、並びにその
反応式1及V2の反応条件との化学的適応性を2v慮し
て適当な方法を慎重に選択しなければならない。
弐Hのスルホニルイソシアネートは反応式3に示される
ように一数式■のスルホンアミドをn −ブチルイソシ
アネート及び触媒量の1.4−ジアザビシクロ[2,2
,2]オクタン(DABCO)の存在下でホスゲンと反
応させることにより調製し得る。
キシレン 式中、Jは上記の通りであり、但しEは酸素ではない。
反応式3r示される反応は米国特許第4,238.62
1号に記載される方法により最良にイアわれる。
また、スルホニルイソシアネート■は反応式4に表わさ
れるように予備生成された式■のn−ブチル尿素のホス
ゲン化を介して調製し得る。
罠肇j1( キシレン 式中、Jは上記の通りであり、但しEは酸素ではない。
式■の化合物は適当なスルホンアミド■、無水炭酸カリ
ウム及びn−ブチルイソシアネートの混合物をすべての
インシアネートが反応するまでアセトンまたはメチルエ
チルケトンの如き適当な溶媒中にて25〜80℃で攪拌
することにより便利に調製される。考釈水性酸中で冷却
し、そして不溶性の固体を再結晶することに上り生成物
を単離する1次に反応式3に参考として記載される方法
と同様にn−ブチル尿素■を還流キシレンまたはクロロ
ベンゼン中でホスゲン及び触媒量の0^DCOで処理す
る。
また、塩化チオニルを用いる弐■のスルホンアミドの処
理により中間体であるN−スルフィニルスルホンアミド
■が生じ、このものは触媒量のピリクンの存在下でホス
ゲンに曝す際にスルホニルイソシフネート■(WがO′
″?7)る)を生じさせる。
■ +1sO2Ns0 ■ Δ 反応式5はH,ウルリッヒ(U Ir1ch)、B、タ
ッカ−(Tucker)及びA、セイイ7 (S ay
igh)、ジャーナル・第1・オー〃ニック・ケミスト
リー(J、 Org、 CheTa、 )、34.32
00(1969)の方法によr)最良に行い得る。
スルホニルインチオシアネート■(WがSである)は本
分’IFで公知C″7>rl、そして対応するスルホン
アミド(V)から二硫化炭素及び水酸化カリウムと反応
させ、続いて生じるニカリウム塩をホスゲンで処理する
ことにより+1191される。かかる方法はArch、
 Pham、299.174(1966)に記載されて
いる。
式■の化合物を調製する際にはJ値(J 、+ J 、
)内に含まれる置換基、即ちQ及びR,の特性、並びに
その反応式3〜5の反応条件との化学的適応性を#慮し
て適当な方法を慎重に選択しなければならない。
必要な弐■のスルホンアミドは下記の方法の1つまたは
それ以上により合威し得る。
反応酸6は式■の塩化スルホニルをアンモニアと反応さ
せて式1’/nのスルホンアミドを生じさせることを表
わす。
JSO,CI  −一→   JSO2NI+□■−h 式中、Jは上記の通りであり、但しEは酸素ではない。
反応酸6の7ミノ化はノエチルエーテル、塩化メチレン
またはテトラヒドロ7ランの如き溶媒中にて−30乃至
25℃間の温度で少なくとも2モル当量の無水アンモニ
アまたは濃厚な水酸化アンモニラムラ塩化スルホニル■
の溶液に加えることにより行い得る。弐F/aのスルホ
ンアミドは塩化アンモニウム副生物を水で洗浄すること
により除去する濾過、または塩化メチレンの如き有機溶
媒中への抽出のいずれかにより単離する。乾燥及び溶媒
の蒸発によりスルホンアミド■aが生じ、このものは通
常次の工程を直接行うためにも十分純粋なものである。
式■の塩化スルホニルは下の反応式7.8及び9に示さ
れる方法の1つまたはそれ以上により調製し得る。
反応式7に示されるように、塩化第二または第一銅の存
在下における適当に置換された式1xのN−アリールヒ
ドロキシルアミンの反応及ヴ続いての二酸化イオウとの
置換により式■の所望の塩化スルホニルが生じる。
え鮫左L 1)Nano、 ・HCI L             ■− 反応式7の反応は適当なアリールヒドロキシルアミンを
水性a塩酸及び酢酸と一緒にし、そして−10〜10℃
で亜硝酸ナトリウムの水溶液を加えることにより行い得
る。10分〜2時間攪拌した後に、反応混合物を一5〜
20℃で酢酸、触媒量の塩化第一または第二銅及び過剰
の二酸化イオウの混合物に加える。0.5〜24時間攪
拌した後に、混合物を冷水で希釈し、そして生成物を塩
化メチレンまたはエチルエーテルの如き溶媒中に抽出す
る。
かくて得られる塩化スルホニルの溶液は所望のスルホン
アミド■aを調製するために反応式6のように処理し得
る。
反応式8に示されるように、適当に置換された式Xのア
ミン誘導体のジアゾ化及び続いての塩化第二または第一
銅の存在下での二酸化イオウとの反応に上り所望の式■
の生成物が生じる。
又藁j1L 反応式8の反応はヨーロッパ特許出願第83゜975号
及び同第85.4’76号(1983年8月10日付け
)に記載されるものと同様の方法により行い得る0反応
式8において、濃塩酸中で置換されたアミンXを一5〜
5℃で水中の亜硝酸ナトリウムの溶液で処理する。約0
℃で10分〜1時間攪拌した後、この溶液を酢酸中にて
約10゛Cで過剰の二酸化イオウ及び触媒量の塩化第二
または第一銅の混合物に加える。10〜25℃間の温度
で0.25〜24時間攪件した後、この溶液を過剰の氷
水中に注いだ、塩化スルホニル■は濾過、または塩化メ
チレンもしくはエーテルの如き溶媒中への抽出に続いて
、乾燥及び溶媒の蒸発により単離し得る。
また塩化スルホニルは下記の反応式9に示すように適当
に置換されたアリールまたは複素環式基体X1の金属ハ
ロゲン交換または直接のリチウム化、及び塩化スルフリ
ルとの抽促により1lll!!!L得る。
左1− z) so□C+、/ヘキサン  起工式中、
Jは上記の通りであり、但しR5はCO2Rc、 CI
−C3” ロアルキル、B「、ニトロ、C1〜C,アル
キルスルホニルまたはCNではない。
反応式10に示されるリチウム化はS、H,バッタチャ
リア(B hattaeharya)ら、ノヤーナル・
オブ・ケミカル・ンサイアテイー(J、CheIl、S
oc、 >(C)、1265(1968)の方法または
H。
ブシュウィンド(G schwind)及びH,ロドリ
ゲス(Rodriquez)、オーガニック・リアクシ
ョンズ(Or8anic  Reactions)、第
26巻、ウィリー(Wiley)、ニューヨーク、19
79、並びにそこに引用される文献に記載される方法に
より行−得る。
式■の化合物は反応式10に表わされるように適当な千
オニーチルまたは式XHのメルカプタンの酸化的塩素化
を介してy4m!!シ得る。
区」L                ■−式中、J
は上記の通りであり、RISはH,C。
〜C,CNキルまたはベンノルであり、そしてR,はC
1〜C,フルキルチオまたはC1〜C。
アルキルスルフィニルではない。
反応式10の反応はW¥酸の如き溶媒中のナオエーテル
X■の溶液を少なくとも2.5当量の水及び少なくとも
3.0当量の塩素の存在下にて0〜30℃で0.25〜
5時Iff処理することにより行い得る9反応体を水−
水中に注ぎ、そしで生成物を塩化メチレンの如き適当な
溶媒で抽出することにより単離し、乾燥し、溶媒を蒸発
させて次の工程を直接行う際に十分に純粋である生成物
を生じさせる。
式■bの塩化アリールメタンスルホニルは反応式11に
概説される単純な2#5L階工程により適当に置換され
た式X■のまたは臭化ベンノルから調製し得る。
又盗、(11 J’C+12)I            J’C11
2SC−Nl+2・1+14H 0亙 式中、J’CH,はEがCH,であるJ−1〜J−6に
対して定aされ: R,及びQはR7がC1〜C,アルキルチオまたはC5
〜C,アルキルスルフィニルではないことを除いて上記
のものであり;そして MはCIまたはBrである。
式X[のハロゲン化アルキルの弐XIVのインチオウロ
ニウムへの転化はT、B、ジョンソン(johnson
)及びJoM、スプレーク(S praque)、ジャ
ーナル◆オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ 
−(J、  Am、  Chew、  5oc−)−5
8,1348(1936);59.1837及び243
9(1937);扛、176(1939)の方法により
行い得る0式■bの塩化スルホニルを与えるXIVの如
きインチオウロニウム塩の酸化的塩素化はノヤーナル・
オプ・アメリカン・ケミカル・フサイアティー。61.
2548(1939)に記載されるジョンソンの方法に
より最良に行われる。
必要とされるテトラゾール置換された中間体はテトラゾ
ールが置換されるJ(J−1〜J−6)系中の芳香族環
の特性及びJ(J−1〜J−6)上に存在する他の置換
の特性に依存して種々の方法により調製し得る。これら
の中間体はテトラゾール化学に関する次の文献に参照さ
れる方法で本分野に精通せる者によりy4製し得る:F
、R,ベンソン(B enson )、「複索環式化合
物(HeteroeyclicCompounds)J
[R、C、エルグ−フィールド(Elderfield
)編1B 、 1−104 、ジョーン・ウイリー・ア
ンド・サンズ(John  Wiley  and  
5ons)。
ニューヨーク、(1967);R,N、パトラ−(Bu
tlerLr複素環式化合物の進jp (A dvan
ees  1nHeterocyelic  Che+
s、)J、21.323−436、アカデミツク・プレ
ス(A cade論ic  P ress)(1977
);R,N、パトラ−1「複素環式化学総論(Co曽p
rehensive   HeLerocyclic 
  Che−、)且に+T、ボツツ(Potts)編]
Σ、791〜838.ベル〃モン・ブレ゛ス(Perg
amon  Press)(1984)及びF、R−ベ
ンソン、「亭窒素化合物(High  N1troHe
n  Compounds)J*ジョーン・ウィリー・
アンド・サンズ、ニューヨーク(1983)。
上の反応式1における式■の複索環式アミンは本分野に
精通せる者により文献で公知である方法、またはその簡
単な改良法により調製し得る0例えば、ヨーロッパ特許
出11[184,224号(1983年7月27日付け
)及びW、ブレーカ−(Braker)ら、ノヤーナル
・オプ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテイー、土工
、3072(1947)に7セタール基例えば殊にノア
ルフキシメチルまたは1.3−ジオキシラン−2−イル
により置換されるアミノピリジン及びトリアジンの製造
方法が記載される。*た、例えば南アフリカ国特許出M
第8215045号及び同第8215671号にハロア
ルキルまたはハロアルキルチオ例えば殊に0CHzCH
aF、0CHzCF−1SCFJもしくはOCF、ll
l二上り置換されるアミノピリミジン及びトリアノンの
製造方法が記載される。南アフリカ国特許出願第83/
7434号(1983年10月5日付け)にアルキル、
ハロフルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキル
アミノ、ジアルキルアミノまたはアルコキシアルキルの
如き基により置換されるシクロブロビルビリミノン及び
トリアノンの合成方法が記載されている。
5.6−7ヒドロ70[2,3−dllビリジン−2−
アミン、シクロペンタ[dllビリジン−2−アミン(
III、AはA−2である)及V6,7−ノヒドロー5
H−ビラ/[2,3−dlピリミジン−2−アミン(1
,AはA−3である)はヨーロッパ特許出願第15,6
83号に記載されるように調製し得る。70[2,3−
dlビリミク゛2−2−アミン(Ill。
AはA−4である)はヨーロッパ特許出願第46゜67
7号に記載されている。
AがA−5である弐■の化合物はヨーロッパ特許出1!
i第73,562号に記載されている。AがA−6であ
る弐■の化合物はヨーロッパ特許出願第94,260号
に記載されている。
加えて、アミノピリミジン及びトリアノンの一般的製造
方法は次の出版物に記載されている:・「複素環式化合
物の化学(The  Chemistryof  He
Lerocyelic  Compounds)J、イ
ンターサイエンス(I nterseience)出版
社、ニューヨーク及びロンドンにより出版されたシリー
ズ;・「ピリミジン(P yrimidines)J、
D、J、ブラウン(Brown)により同じシリーズの
第16巻:・「s−トリアジン及び誘導体(s −T 
riazinesancl  Derivatives
)J、E、M、スモリン(Smolin)及びり、ラボ
ポート(Rappoport)による同じシリーズの第
13巻; −l:’  (’、  F/ ニー 77− / Q 
kaararl 譬F*% 鉾$3.154,547号
並びにに、R,ハフマン(Huffman)及びF、C
,シエー77−.ジャーナル・オプ・オーガニック・ケ
ミストリー、28.1812(1963)t)1,1ア
ジンの合皮が記載されている。
また農業に適する式Iの化合物の塩は有用な除草剤であ
り、そして本分野で公知の多数の方法により1lll製
し得る0例えば、式Iの化合物を十分に塩基性の陰イオ
ンを有するアルカリまたはアルカリ土金属塩(例えば水
酸化物、アルフラートまたは炭酸塩)の溶液と接触させ
ることにより金属塩を製造し得る。第四級アミン塩は同
様の技術により製造し得る。
また式1の化合物の塩は1つの陽イオンを他のものと交
換することにより調製し得る。陽イオン交換は式■の化
合物の塩(例えばアルカリまたは第四級アミン塩)の水
fB液を交換される陽イオンを含む溶液と直接接触させ
ることにより行い得る。
この方法は交換陽イオンを含む所望の塩が水に不’l1
41knLnQlf+B3r−)nQm+m?−IKA
I−最も有効である。
また式Iの化合物の塩(例えばアルカリ金属または第四
a7ミン塩)の水溶液をもとの塩に対して交換される陽
イオンを含む陽イオン交換樹脂を充填したカラムに通し
、そして所望の生成物をカラムから溶出させることによ
り交換を行い得る。
この方法は所望の塩が水溶液である0例えばカリウム、
ナトリウムまたはカルシウム塩である場合に殊に有用で
ある。
本発明に有用である酸付加塩は式Iの化合物を適当な例
えばp−)ルエンスルホン酸、トリクロロ酢酸などと反
応させることに上り得ることができる。
本発明の化合物の91造を次の特定の実施例により更に
説明する。
実施例1 37%塩酸12a1及び酢酸5−1中の1−(2−ヒド
ロキシアミ/フェニル)−5−メチル−1トI−テトラ
ゾール5gに0〜5℃で水10−1中の亜硝酸ナトリウ
ム2.3gを加えた。生じた溶液を一5〜+5℃で1時
間攪拌し、次に攪拌しながら5℃以下で酢酸25m1、
塩化第二銅0.5g及び液化二酸化イオウ5s+lの混
合物に一部ずつ加えた。その開に混合物を室温に加温し
ながら2時間攪拌した後、このものを水及び水150e
lに注ぎ、そして塩化メチレン150m1で2回抽出し
た。塩化メチレン溶液を水100m1で3回、飽和重炭
酸ナトリウム水溶1100mlで2回、続いて飽和塩化
ナトリウム水溶液100m1及び水100m1で1回洗
浄した1次に塩化メチレン溶液を硫酸マグネシウム上で
乾燥し、そして濾過して所望の塩化スルホニルを含む溶
液を生成させた。この溶液を更に処理せずに実施例2の
スルホン7ミドを調製するために用いた。
実施例2 28%水酸化アンモニウム25麺Iを実施例1から得ら
れた塩化メチレン溶液に加え、この混合物を2時間攪拌
し、そして真空中で濃縮して油及び固体の混合物を生成
させた。固体生成物を濾過により分離し、そして水で洗
浄して141〜148℃で溶融する所望の生成物2.2
gを生成させた。
3260及V3360cm−’での赤外吸収ピークはN
H,に一致し、そして1160及1/1350cm−は
所望の生成物のS02に一致した。 Cs H* N 
−OtSに対する元素分析計算値:C,40,15;H
,3゜79;N、29.26;S、13.39.実測値
:C,40,43:H,3,84;N、29.61;S
、13.04゜実施例3 ゾール 37%塩1’1112m1及び酢酸5−1に溶解させた
5−(2−ヒドロキシアミノフェニル)−2−メチル−
28−テトラゾール及115−(2−ヒドロキシアミノ
フェニル)−1−メチル−IH−テトラゾールの混合6
5gに一5g〜5℃で攪拌しながら水10silに溶解
させた亜硝酸ナトリウム2.3gを加えた。1時間後、
この溶液を0〜5℃で酢酸25m1、塩化第二銅0.5
g及び塩化二酸化イオウ5曽1の混合物に一部ずつ加え
た。添加が完了した後、冷却浴を除去し、そして反応混
合物を31℃に加温し、その際に冷却浴を再び用い、そ
して添加の完了後2時間半まで攪拌を続けた6次にこの
混合物を氷水上に注ぎ、そして所望の塩化メチレン溶液
を真空中で濃縮して固化した油を生成させる以外は実施
例1に記載の通り処理した。所望の塩化スルホニルの混
合物であるこの生成物(3,2,8g)は実施例4のス
ルホンアミドの31Mに対して十分純粋なものであった
。
実施例4 ゾール 実施例3で得られた固体生成物をテトラヒドロ7ラン5
0−1に溶解させ、そして28%水酸化アンモニウム2
0m1に一部ずつ加えた。この混合物を1時間攪件し、
そして真空中で濃縮した。残渣に水を加え、混合物を濾
過し、そして固体を少量の冷却水で洗浄して異性体混合
物1.3gを生じさせた。3260及び3360cm+
−’でのピークで示される赤外吸収スペクトルはNH,
に一致し、そして1160及び1330は所望の生成物
のSO7基に一致した。 C=HsN so 2Sに対
する元素分析計算値:C,40,15;H,3,79;
N、29,26:S、13.39.実測値:C,40,
49;H,3,86;N、29.99:S、13.75
゜実施例5 プロピオン酸40嘗1及び水1.08g中の5−(2−
エチルチオフェニル)−1−メチル−IH−テトラゾー
ル4.4gに一10℃で液体塩素(1,367g/m1
)5.2mlを滴下しながら徐々に加えた。
添加後、混合物を室温に加温し、次に水約100g中に
注いだ、生じた塩化スルホニルを塩化メチレンで抽出し
、水で洗浄し、そして水浴冷却を用いて反応温度を25
℃以下に保持しながら塩化メチレン溶液を濃厚な水酸化
アンモニウム水溶945m1に加えた。塩化メチレンを
蒸発させて固体生成物を生じさせ、このものを濾過によ
り水性残渣から除去し、そして水で洗浄した。生成物3
.72gは176〜179℃で溶融し、そして所望のス
ルホンアミドに一致する3 210及(/3300cr
a−’での赤外スペクトルによる吸収ピークを示した。
実施例6 −10 ’Cに冷却した5−(4−メチル−2−プロピ
ルチオフェニル)−1−メチル−IH−テトラゾール4
.68g、プロピオン酸40曽1及び水1゜08gの混
合物に反応温度を一10〜θ℃に保持しながら塩素5 
、2 ml(液化)を滴下°しながら加えた。半時間後
、反応混合物を室温に加温し、そして1時間攪件した6
次にこのものを水及び水200IIIl中に注ぎ、そし
て塩化メチレンで抽出した。
塩化メチレン溶液を10℃で濃水酸化アンモニウム45
−1に加え、そして−夜攪拌した。混合物を真空中で油
残渣に濃縮し、このものを塩化メチレン10〇−中に採
取し、水100m1及び飽和水酸化ナトリウム水溶液1
00m1で3回洗浄した1次に塩化メチレン溶液を硫酸
マグネシウム上で乾燥し、を濾過し、そして2戸液を蒸
発させて161〜171℃で溶融する所望の生成物4.
1gを生成させた。
NMR(CDCI、):δ 2 、56 (sr 7 エニル上のCH,);3.9
9(s、テトラゾール上のC11,);5.6(s、w
、NHz):及び 7.3〜8,1(lIyフェニル上の3C11)。
実施例7 0℃の8I(1 2M)塩酸1 4.6階1、 酢酸6 、1 ml、 一メチルフェニル)−1−メチル−IH−テトラゾール
の混合物に反応温度を10℃以下に保持しながら水12
.2mlに溶解させた亜硝酸ナトリウム2.8gを滴下
しながら加えた。添加が完了した後に攪拌を1時間続け
た0次にこの混合物を塩化第二銅0.6g及び液化二酸
化イオウ6 、1 mlを含む酢酸30.5+*lに徐
々に加えた0周囲温度で2時間攪拌後、混合物を水−水
200m1中に注ぎ、そして塩化メチレン125m1で
2回抽出した0次に有機相を水200a+1で2回、飽
和塩化ナトリウム水溶液200m1で1回、重炭酸ナト
リウム水溶液200m1で1回、続いて水200m1及
び飽和塩化ナトリウム水溶液200m1で洗浄した0次
に有機相を濃水酸化アンモニウム水溶液に滴下しながら
加え、この混合物を一夜攪拌し、そして固体に蒸発させ
、このものを水で洗浄し、そして乾燥した。かくて得ら
れた粗製生成物は140〜161℃で溶融し、収量は6
.26gであった。質量スペクトル分析により生成物に
対して253(計算値実施例8 アセトニトリル25m1に周囲温度及び圧力で5−(2
−7ミノスルホニルフエニル) −2−/ fルー2H
−テトラゾール0.48g及びフェニルN−(4,6−
ジメトキシビリミシン−2−イル)カルバメート0.5
4g1:wcいてDBUo、3mlを加えた。3時間攪
拌した後、反応混合物を氷25gに加え、そして塩酸を
用いてpH3の酸性に調整した。かくて得られた沈澱を
濾過し、水で洗浄し、そして乾燥して融点214〜22
2℃の所望の生成物OJ 6gを生成させた。1720
.1600及び1580cm−’での赤外吸収は所望の
構造と一致した。
NMR(CDCl2):δ3,91(s−2XCHzO
)5 、82 (s、Cfl、ビリミノン)4.43(
s、テトラゾールのN−2 上のCHt)) 4.38(s、テトラゾールのN−1 上のCH,)。
4.43d及び4.38dでのピークの積分により2:
1の1−メチル−IH−テトラゾールに対する2−メチ
ル−2H−テトラゾールの比を示す1つのCH,になっ
た、この混合物は本発明の目的に適する。必要に応じて
、実施例6で得られた異性体混合物をクロマトグラフィ
ーによりその成分部分に分離することができた。
実施例9 7セトニトリル25曽1中の1−(2−アミ/スルホニ
ルフェニル)−5−メチル−IH−テトラゾール048
gに周囲温度及び圧力でフェニルN−(4,6−ノメト
キシビリミノンー2−イル)カルバメート054g及び
DBLIo、3mlを加えた。
反応混合物を3時間攪拌し、水25gに加え、そして塩
酸を用いてpH3の酸性に調整した。かくて得られた沈
澱を濾過し、水で洗浄し、そして乾燥して融点213〜
216℃の所望の生成物0゜74gを生成させた。赤外
吸収スペクトルは所望の生成物に一致する1710,1
605及び1570cm−’のピークを示した。
NMR(CDCIs):δ2.48(s、テトラゾール
上の(CH3)3.82(s、2XCHsO) 5.81 (s、CH−ビリミノン)。
実施例10 アセトニトリル25鎗1中の1−(2−7ミノスルホニ
ルフエニル)−5−メチル−IH−?)ラゾール048
g及びフェニルN−(4−メトキシ−6−メチル−1,
3,5−)す7ジンー2−イル)カルバメー) 0.5
2gに周囲温度及び圧力でDBUo、3mlを加えた。
混合物を3時間攪件し、大壁した。かくて得られた沈澱
を濾過し、水で洗浄し、そして真空中で乾燥して207
〜209℃で#融する所望の生成物0.65gを生成さ
せた。赤外吸収スペクトルは所望のvt造に一致する1
700.1600及び1550cm−’での吸収を示し
た。
実施例11 アミド 乾燥アセトニトリル2On+l中の5−(2−7ミノス
ルホニルフエニル)−1−メチル−IH−テトラゾール
0.48g及びフェニルN−(4−クロロ−6−7トキ
シビリミノンー2−イル)カルバメー) 0.56gに
周囲温度で攪拌しながらDBUo 、3 mlを加えた
。16[1i?間攪件した後、混合物を水25g中に注
ぎ、続いて2N塩酸1011を加えた。かくて生じた沈
澱を濾過により除去し、水で洗浄し、そして乾燥して融
点225〜227℃M wr’M y Ib  を紗に
+  0 7  A  −b  ル +D ’l JJ
−?mNMR(CDCI*):δ3,88(s、テトラ
ゾール上のC11,);3.95(s、CH=O); 6.52(s、ピリミジンのCH); 7.2〜?、5(@tフェニルのCH及びNH); 7.84(論、フェニルの2CH); 8 、6 (m、 フェニルのCH);及び11.96
(s、NH)。
実施例12 アセトニトリル10m1中の1−(2−7ミノスルホニ
ルー5−90ロフエニル)−4−メチル−IH−テトラ
ゾール−5[H]−オン0.29g及びフェニルN−(
4,6−シノトキシピリミノンー2−イル)カルバメー
) 0.27gの攪拌された溶液に周囲温度でDBUo
、1mlを加えた。混合物を2時間攪拌し、水20g中
に注ぎ、そして2N塩酸で酸性に調整した。沈澱を濾過
により除去し、水で洗浄し、そして乾燥して融点178
〜180℃の生成物0.37gを生皮させた。
NMR(CDCI、):δ3.63(s、テトラゾール
上のCH3);3.92(s、2XCH−0); 5.81(s、ピリミジンのCH); 7.4〜8 、6 (s、 フェニルの3CI+);及
び 12.6 (s、w、 N H)。
実施例13 ルホンアミド 12N塩酸3.1 ml、酢酸12.5慣1、ギ酸3゜
7ml及び5−アミノ−1−7二二ルー3−(2−メチ
ル−2H−テトラゾルー5−イル)−18−ピラゾール
4.5gの混合物に−8〜−6℃で水2゜5ml中の亜
硝酸ナトリウム1.4gを滴下しながら加えた。混合物
を15分間攪拌し、次に二酸化イオウ3−7 ml(液
体)及V塩化第二銅無水物0.75gを含む酢1’92
0m1に加えた。30分間攪拌し、そして加温した後、
混合物を氷及び水混合物中に注ぎ、そして沈澱を濾過に
より除去した。水で洗浄した後、固体をテトラヒドロ7
ラン中に溶解させ、−78℃に冷却し、そしてアンモニ
ア(rll化、1.0m1)を滴下しながら加えた。混
合物を周囲温度で一夜放置し、そして濾過して褐色の固
体を生皮させた。この固体はNH2に一致する3300
及び3200e+i−’、並びにS O2に一致する1
370.1185及Vl 170cm−’でピークを示
した。
上の反応式及び実施例またはその改良法に記される方法
を用いることにより、本分野に精通せる者は次の表に示
される化合物を調製することかでさる。
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aしうる。それらは、粗削、粒剤、錠剤、液剤、懸濁剤
、乳剤、水和削、濃厚乳削などを含む.これらの多くの
ものは直接施用できる.噴霧用319l物は、適当な媒
体中で増量でさ、数リットル〜数百リットル/haf)
噴n容量で用いられる.高強度の組或物を調製物に対す
る中開体として主に用いる.概述するとy4製物は、活
性戊分約0.1〜99m景%、及び(,l)表面活性剤
約0.1〜20%及び(b)固体または液体不活性@釈
削約1〜99.9%の少くとも1種を含有する.更に特
にこれらのものはこれらの戒分を凡そ次に示す割合で含
有するであろう: 重量%本 活性或分 布釈剤 表面活性剤 水和削     20−90   0−74    1
−10水性懸濁剤 ■−20 粉削       1−25   70−99    
0−5粒剤及び錠剤  0.1−95   5−99.
9   0−15高強度m或物  90−99   0
−10    0−2本 活性或分十表面活性剤または
希釈削の少くとも1M=100重量% 勿論低または高量の活性或分も、意図する用途及び化合
物の物理性に応じて存在しうる.表面活性の活性或分に
対する高割合は特に望ましく、調製物中への混入により
またはタンクでの混合により達威される。
代表的な固体希釈剤は、ワトキンス(Watkins)
ら者、”H andbook  of  I nsec
Licide  D ustDiluer+Ls  a
nd  Carriers s弟2版、ドランドブツク
ス社(Dorland  Books,  Caldw
cll,N,J.)に記載されているが、他の固体、即
ち天然及び合或固体も使用しうる.水和削及V2!a厚
粉削には更に吸着性希釈剤が好適である。代表的な液体
希釈剤及び溶媒は、マースデン( M a rsden
 )者、″S olvents  guide’″、第
2版、インターサイエンス社( I ntersien
ce會N .Y +)、1950年に記截されでいる.
0.1%以下の溶解度は濃厚懸濁剤に好適であり:濃厚
液剤は好ましくはθ℃での相分離に対して安定である。
”M cC utebeon sJ,)、並びにシスリ
(S isely)及びウツド(Wood)者、”En
cyclopedia  of  Surface  
ActiveA genLs″、ケミカル出版社(C 
hemical  P ubl,Co,Inc  N.
Y.)、1964年は、表面活性及びその推奨用途を表
示している.すべての調製物は、泡立ち、ケーク化、腐
食、微生物の戒艮などを減ずるために少量の添加剤を含
有してもよい そのような組成物の製造法は十分公知である。
液剤は各或分を単に混合することによって製遺される.
微細な固体組或物は、ハンマーミル又は流体エネルギー
ミルを用いて混合し、廿通粉砕することによって製造さ
れる.S濁剤は、湿式ミル処理に上って91造される[
参照、リトラー(LiLtler)の米国特許第3,0
60,084号].粒剤及び錠剤は、活性物質を予備或
形した粒状担体上に噴霧することによりまたは凝集法に
より製造しうる。
参照、J.E.プロウニング( B rowning)
W、″ABlomeration  S  Chemi
cal    Engineeringi  2月4日
号、147頁(1967)、及びペりー(Perry)
者、Chemical  Engineer s  H
andbook第5版、8〜57頁、マツクグロウ・ヒ
ル社(MeGram−Hill,N. Y. )、19
73年.更に調製の技術に関する文献については、例え
ば次のものを参照: H,M.ルークス(Loux)、米国特許13,235
.361号、第6欄16行〜第7欄19行及び災施例1
0〜41; R.W,ルツケンバウ( L uckenbaugh 
)、米国特許第3,3 0 9.1 9 2号、第5欄
43行〜第7欄62行及び実施例8、12、15、39
、41、52、53、58、132、138〜140、
162〜164,166、167、169〜182;H
.ジシン(G ysin)及びE.ヌスリ(Knusl
i)、米国特許第2,891,855号第3欄66行〜
弟5欄17行及び実施例1〜4; G.C.クリングマン(K lingman)W, −
WeedContral  as  as  Scie
nce ,ジョン◆ウイリー・アンド・サンズ社(Jo
hn  Wiley  andSonsv I nc,
 *New  York)w 1 9 6 1年、81
〜96頁;及び J,D.7?イヤ(Fryer)及びS.A.エバンス
(Evans)¥7, ”Weed  Contral
  }iandboo&ブラックウエル・サイエンテイ
7イック・バプリケーションX”(Blackwell
  Scientific  Pub目cations
, O xford)、1968年、101−103頁
. 次の実施例において、すべての部は特記せぬ限り重量に
よるものとする. 実施例14 リグニンスルホン酸ナトリウム       2%合或
非晶質シリカ             3%カオリナ
イト               13%上記戊分を
混合し、すべての固体が*質的に50ミクロン以下にな
るまでハンマーミルで粉砕し、再混合し、そして包装し
た. 実施例15 低粘度メチルセルロース         2%ケイン
ウ土              46%上記戒分を混
合し、粗くハンマーミルで粉砕し、次に空iミルで粉砕
して本質的にすべてが直径】Oミクロン以下である粒子
を生或させた.包装前に生成物を再混合した. 実施例16 象豚 実施例1ら(上記)の水利削 5% コーン混合機中で混合しなからアタバルジャイト粒子の
表面上に噴霧した.粒子を?!.燥し、そして包装した
. 実施例17 無水硫酸ナトリウム          10%粗製リ
グニンスノレホン酸カノレシ゛冫ム    5%7ルキ
ルナ7タレン入ルホン酸ナトリウム 1%カルシウム/
マグネシウムベントナイ  59%上記或分を混合し、
ハンマーミルで処理し、次いで約12%の水で湿めらし
た.この混合物を直径3■の円柱として押し出し、これ
を切断して艮さ3曽一の錠剤とした.これは乾燥したa
i接使用することができ、或いは乾燥した錠剤を粉砕し
て米国標準ふるい20号(開口0.84mm)に供する
ことができた.米国標準ふるい40号(開口0.42m
m)にとどまる粒子を使用するために包装し、そしてふ
るい下は循環した. 災施例I8 ボリオキシエチレンンルビトール ヘキサオレエート             5%高級
脂肪族炭化水素油         70%上記威分を
サンドミル中で一結に粉砕し、固体粒子を釣5ミクロン
以下に減じた.得られた濃厚懸濁液を、好ましくは柚で
増量しまたは水中に7L化した後、直接施用した. 実施例19 アルキルナ7タレンスルホン酸ナト リグニンスルホン酸ナトリウム       4%低粘
度メチルセルロース         3%アタバルノ
ヤイト            69%上記成分を完全
に混合した.ハンマーミル中で本質的にすべてのものが
100ミクロン以下の粒子になるまで粉砕した後、この
物質を再混合し、米国標増ふるい50号(開口0 .3
 II一)にかけ、そして包装した. 実施例20 N,N−ノメチルホルムアミ ド 9% 活性威分を溶媒させ、そしてダブル・コーン混合機中に
て脱粉末した粒子上に噴霧した.FInの噴霧が完了し
た後、混合機を短時間運転し、次に粒子を包装した. 実施例21 5−イル)ベンゼンスルホンアミド  40%ポリアク
リル酸糊料 0.3% ドデシル7工/−ルポリエチレン グリコールエーテル          0.5%リン
酸二ナトリウム          1%リン酸一ナト
リウム           0.5%ポリビニルアル
コール         1.0%水        
                 56・7%上記戊
分を混合し、そしてサンドミルで一緒に粉砕し、本質的
にすべてのものを5ミクロンの大きさになるような粒子
にした. 実施例22 東並 水 95% この塩を攪件しながら水に直接加えて液剤を生威させ、
次にこのものを施用するために包装した.実施例23 活性或分を溶媒に溶解させ、そして液剤をダブル・コー
ン混合機中にて脱粉末した粒子上に噴霧した.液剤の噴
霧が完了した後、このものを加熱して溶媒を蒸発させた
.このものを冷却し、次に包装した. 実施例24 1笠 湿潤剤 1% アタパルジャイト粘土          9%上記r
R分を混合し、そして100メッシュのふるいを通るよ
うに粉砕した。次にこのものを流動床遺粒慨に加え、こ
のものが一般的に流動するように空ス流を調節し、そし
て水の微細噴霧体を流動した物質上に噴霧した.所望の
粒径範囲の粒子が得られるまで流動及び噴nを続けた。
噴nは停止するが、水分が一般的に1%より少ない所望
の濃度に減じられるまで、場合によつ′ては加熱しなが
ら流動を続けた.大にこのものを取り出し、般的に14
〜100メッシュ(1 4 1 0〜149ミクロン)
の所望の粒径範囲にふるい、そして施用のために包装し
た. 実施例25 シリカ・エアロデル 0.5% 合或非晶貿シリカ ().5% 上記或分をハンマーミル中で混合し、11つ粉砕して、
本質的にすべてが米国ふるい50号(開口0 .3 m
m)を通過するものを生成させた.この濃厚物を更に必
要に応じて組或物にした. 実施例26 合或徴細シリカ            9.9%上記
或分をハンマーミル中で混合し、且つ粉砕して、本質的
にすべてのものが100ミクロン以下の粒子を生戒させ
た.このものを米国標型ふるい50号に通し1次に包装
した. 実施例27 リグニンスルホン酸ナトリウム 20% モンモリロナイト粘土       40%上記或分を
完全に混合し、粗くハンマーミルで粉砕し、次に空it
 ミルで粉砕して本質的にすべて(r)も(r)M10
ミクロン以下の粒子を生或させた。
このものを再混合し、次に包装した. 実施例28 5−イル)ベンゼンスルホンアミド  35%スルホン
酸塩の混合物        6%キシレン     
        59%上記或分をサンドミル中で配合
し、且つ一緒に粉砕して本質的にすべてのものが5ミク
ロン以下である粒子を生或させた.この生!!t.物を
直接施用するか、油で増量するが、または水に乳化させ
ることができる. 実施例29 塾肚 アタバルノヤイト          10%石筆石 
              80%活性戊分をアタパ
ルジャイトと混合し、次にハンマーミルに通して実質的
にすべてのものが200ミクロン以下の粒子を生或させ
た.次に粉砕した濃厚物を均一になるまで粉末状の石筆
石と混合した。
狙1L 試験結果から本発明の化合物は高活性の発芽前もしくは
発芽後除草剤またはM物生艮j凋節削であることが示さ
れた.これらのものは、すべての植物の完全な駆除を期
待する区域、例えば燃料貯蔵タンクの周辺、弾薬19周
辺、工業貯蔵区域、駐車場、野外劇場、広告板周辺、高
速道路及び鉄道域における雑草の発芽前及び/又は発5
F後の駆除に対し広範囲の有用性を示す.本化合物のあ
るものは作物例えばトウモロコシ、イネ、小麦、大友及
びアブラナの2!1エを発芽前及び/または発芽後に選
択的に駆除するのにも有用である.また、本化合物の多
くは植物生長を改良するのに有用である。
本発明の化合物の使用割合は、植物生艮改良剤または除
草剤としての使用、共存する作物種、駆除すべき雑草種
、天候及びス候、選択される処方物、施用法、存在する
葉の量などを含む多くの因子により決定される。一般的
に言って、本化合物は豹0.0 0 1 − 1 0k
g/ haノilで使用さレルヘきであり、この場合、
軽い土壌及(1/または低有機物質含量の土壌に対して
使用するとき、植物の生長を改良するとき、或いは短期
間の持続性だけが必要なときに低泣が使用される. 本発明の化合物は他の市販の除Ix剤、例えばトリアノ
ン、トリアゾール、ウラシル、尿素、アミド、ノ7エニ
ルエーテル、カルバメート、7工/キシ酢酸及びビビリ
ジリウム型、並びに他のスルホニル尿素の除草剤と組合
わせても使用できる。
これらのものは殊に次の除草削と配合する際にイf用で
ある. 週』ミを 化学名 一トリアジン プチレート S一エチルージイソプチルチオ力 ルバメート 二トリル ノカルバ 3,6−ジクロロー0−7ニシン酸 EPTC S一エチルノプロピルチオカルバ ノート リヌロン 3−(3.4−ジクロロ7エニル) −1−メトキシー1−メチル尿素 セトアミド −5(4H)一オン チル)オキシラン 2.4−D (2.4一ノクロロ7工/キシ)酢 直3口を 化学名 ポン酸、メチルエステル 本化合物の除草特性は多くの温室試験において見い出さ
れた.試験方法及び結果は次の通りである. :lc  工 : NI  Z  (J  C)  ( ℃ エ          エ エ :I:     
エ エ    エ エ エ エJ<JZZZCJCJC
JZUCJZUUCJU工     :!:  エ  
    エ エ        エ エNl  (J 
 Z  Z  C)  (J  Z  Z  (J  
(J  Z  Z  Z  (J  (J,:′1 エ エ         エ エ エ エ      
   エ エ エ エ(J(J2ZZ(J(JCJ(J
ZZ2(J(J(J(JZZ0: 工 Ol:  工 
工 N1 :2 υ UCJ(J(JZ 工 :I:  工    工 Nl  (J  (J  CJ  Z  (J拭IシL メヒシバ(D igiLaria  spp.)、イヌ
ビエ(Sataria  faberii)(ある場合
に)、アキノエノコログサ(Eehinoehloa 
 erusqalli)、スズメノチャヒキ(B ro
eius  secalinus)、カラスムギ(Av
ena  faLua)、ベルベットリー7 (A b
tilon  theophrasti)、アサガオ(
 I pos+oea  spp.)、オナモミ(Xa
ntbius  pensylvanicum)、モロ
コシ、トウモロコシ、ダイズ、サトウダイフン、ワタ、
イネ、オオムギ(ある場合に)、コムギ及びハマスゲ(
Cyperus  rotundus)の塊基を植え、
そして植物に対して無害の溶媒中に溶かした試験化学物
質を用いて発芽前の処理を行った.同時にこれらの作物
及び雑草種を土壌/葉において処理した.処理の時点で
植物は2〜18cmの高さの@囲であった.処理した植
物及び対照を温床中で16日間保ち、その後すべての種
を対照と比較し、そして処理に対する応答を肉眼で評価
した.第A:Aに要約した評価は0=損傷なしから10
=完全撲滅までの数字の尺度を基^−とじた.随伴する
文字記号は次の意味を有する:C=黄化/顛a;B=焼
け;D=落葉;E=発芽阻止;G=生長遅延;H=形或
の影V;U =異常な色素形或;X=葉腋刺激;S=色
素欠乏症;及ぴ6Y=jiil瘍のできたつぼみまたは
花.ひ 赤 ooooo + 000 oo ooooo ooooo +  00000 +  ooo:co ぐ1 0oOo00o000o000oo0 ト Dシ n七 八 n七 一へ n 工0000000000150(J(500p−4  
               M   (NNrQ巳 工:Il:cpooooctoooooo’−oo+ 
) N    の(F      >CJrqN aoooooooooooo  −(J(50−   
                      0N山
〜 a  +  + ooooooooooo  I  Q
  I(v1                   
       rQ(NC:)O O O O O O
OO OOC:)(J O(−1  + 0(N   
                  (N(N   
N   (NO +  o o o O O O O O O O O 
O O Ooooooaoooo○O工工 ・OON 
        N閂一一〇のN o00000oOo00oo0000 oOo000000o000o000 モH ooooooooooooooooo o:eoooooooooooooooN 試w&B 発1ゴL 2個の丸底なべ(直径25c曽、深さ1 2.5c論)
にササ7ラス(S assafras)砂状ローム土を
満たした.1つのなべにブラックグラス(A lope
eurus一yosuroides)、サトウグイコン
、ノ1マスデ( C yperus  rotundu
s)i茎、アブラナ( B rassica  nap
uS)、メヒシバ(D igitaria  sanq
uinalis)、シクルボッド(Cassia  o
btusifolia)、テイーウイード(S ida
  S pinosa)、シロバナチョウセンアサガオ
(D aLura  sLras+onium)、ベル
ベットリー7(A butilon  theophr
asti)及びアキノエ/コログサ(S etaria
  faberii)を稙えた.他のなべにコムギ、オ
オムギ、ワタ、イネ、トウモロコシ、ダイズ、カラスム
ギ(A venafaLua)、オオモミ(Xanth
ium  pensylvanicum)、アサガオ(
 1 po*oea  hederacea)、セイパ
ンモロコシ(S orghum  halepense
)及びイヌエビ(Echinoehloa  crus
qalli)を植えた.この植物を約14日問生艮させ
た.次に植物に無害の溶媒に溶解した化学物質を発芽後
に噴霧した.免肥膨 2つの丸底なべ(直径25cmS深さ12.5c憎)に
ササ7ラス砂状ローム土を満たした.1つのなべにブラ
ックグラス、サトウダイコン、ハマスデ、アブラナ、メ
ヒシバ、シクルポツド、テイーウイード、シロバナチョ
ウセンアサガオ、ベルベットリー7及びアキノエノコロ
グサを植えた.他のなべにコムギ、オオムギ、ワタ、イ
ネ、ダイズ、カラスムギ、オナモミ、アサガオ、セイバ
ンモロコシ及びイヌビエを植えた.この2つのなべに植
物に無害の溶媒に溶解した化学物質を発芽前に噴霧した
. 処理した植物及び対照を温床中に28時間保ち、次にす
べての処理した植物を対照と比較し、そして植物応答に
対して肉眼で評価した.応答評価はO=効果なし、及び
100=完全制御であるO〜100の尺度を基礎とした
.ダッシュ(一)応答は試験をしないことを意味する. 応答評価を第B表に含める. oo  +000000000000000000r+
N   M     MNN(q+71       
1NINN堰 oO I Q OoOo oo oooOo oOo 
o o o(Fl      a+N&I’llA  
  &/’1      〜     〜い の(  
  OOIOOOOOOOOOQOOOQOOOQ( 
     Ow   otco    Flh    
X   <<?t”IFIMM(    OOIOOO
OOQOOOOOOOOOOOOc40<MOL>F’
lQ)Oficrtt/1   ffit’lM のω
かw   00  1  000 00 000 00
00 0 00 0 0  0s   o<   00
10000)000000)Q)Ol710%OOx 
  s  l−11−IP1  stssss−−1−
4F−I   P+    OhhOか1’IN−小の
φ0かψωトいψω一    一 ψ   00  1  0 0 0  0 0  00
 0  0 0 0 0  0  0  0  0 Q
  O一l”+f%l   Ol++hOかψφ0ω0
ωトいクω小o0N   oO I O O O O 
o OO 0 0 0 0 o O o o ◇ 0 
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sv−+−s−P1f−It−<N    QOIOO
OOOOOOOOOOOOOOOOψ   oo   
 ooooo  ψO o o o00 ooOφ0 
00   00 I O oo QoOOoOOOO 
Oo O oo OI/1   oO   o o 0
0o oo o0000 0 0o o0 0N  −
r4  r4r4s−sr4y4t−4r4r4t4−
?rr4r4t−4r−+→ぐ リ   oO ψト Io00oo0000oO00oOo000ψ(QO%
ψvトのψψψty h rQ Fl (’Q t/I
 u”1r→ 一  〇〇 一r l  oooooooooooooooooo守閂の0
0寸百リト     Vの閂円vv一 A   00 『1 I00ooooooOo00oOooooリo′1a%
          守     V一円   のψo
o +  O O O O O O O O O O O 
O O O O O O O(N      I/l(
FININ1”l    LI5          
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 I oOoo00(’J   5 r++l’J小か
 ψ一ψ小− N円(NN一のL/′1  0o I 
000o000QoOoo000ooON    Q 
       161’Q)ψ   M    1’Q
1’Q      MM      Fll”1,−I
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1(D%O(”LM(”1    G)      +
711”+1”+1”1(’QMoo M(%I.o          (21      
FIM      MI 000ooooOooOo0
00oOoψt’Q t’Q O   (F (’Q 
の(%      1”) 1”1 (’1 (’1 
閂1”1七H 使用割合g/ha トウモロコシ コムギ オナモミ ベルベットリーフ 第一  B二聚(続) 止金虫一一二匹 o0 ψ守   cD一閂ψψリψト   一+ 0 0 0 五K o0 I OOoooo00oOOooooooO+.OQ(
ho   (”IQ   tj’l     (ht/
l     Mtl’1r→ 0o I 000000000oooo00000MM   
 Q)LJ’l    V+Q(’IQQ    MN
M    l”’IMQ0 I 00ooOOo0000 o00o00 oA  
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   M    MM.−100 I 000o○OoQOOo000o000リ   M
 O M Fl (”1 1”1    リ   『り
閂     リリr→ O 0 I 000oOo00oOoo00oOoOhM   
 tl″IN    <PL/’11”INM    
M(N      r’1rつ七K ,−1    00 N I oOooo00oOoooooooOo円トの47
″10百のト小の−N f’− > Flのトかr→ oO I Oo000o000o000oo000呼N
oリ円r−+−のトのリトの1”I M l”l リ 
 山のr→ l O O O O O O O O O O O O
 O O O O O○Iv′LL/′l      
MM             r’INOo I ooOoOoooOoooOooOoOVψMXO
M      の       り     −のr→ o0 I Oo000o0000ooo00000tJ1  
 M         M             
    r’lM七K o0 u’l    >O    リ   (’IPIFI 
   MF1      0Vr→ I oo00oOo000ooooO00of++(”
1 (”1 h M +−’l (% ψの一一   
9Fl      l”1 閂oo I Oo00oo00oooOooOoooV ザ  
 t++     FIMFI    1”I    
  LA0o I OoOOo000o0000000oOty   
   I/l    MQ ψ      (F   
      (N M N  N,I\ 五一−1−』 使月割合g/ha 発芽後 ベルベットリーフ bu ;(続) 』3」二一二匝 発芽前 90   90   So    0 oOOoooOoO0000000000Cザ    
 r++C++   ψ山の一り一山   寸ωr〉0
00000 1M  M M  M ml +7’1;田    田
田  田丑田田エ     田田  田田田田pu22
c)uZuouoo2,2gouZuuuoクトトト卜
トt’− t.− C% t−ト00 Co O:lω
ののののωのO田       田 田 田 エ   
    丑 田 田 丑o2,22  0 0 ooZ
22:  ooooZ2試験C

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 Jは ▲数式、化学式、表等があります▼¥J−1¥,▲数式
    、化学式、表等があります▼¥J−2¥, ▲数式、化学式、表等があります▼¥J−3¥,▲数式
    、化学式、表等があります▼¥J−4¥, ▲数式、化学式、表等があります▼¥J−5¥,▲数式
    、化学式、表等があります▼¥J−6¥ であり; WはOまたはSであり; GはO,S,SOまたはSO_2であり; mは0または1であり; nは0,1または2であり; RはHまたはCH_3であり; Eは単結合、CH_2またはOであり; Qは ▲数式、化学式、表等があります▼¥Q−1¥,▲数式
    、化学式、表等があります▼¥Q−2¥,▲数式、化学
    式、表等があります▼¥Q−3¥,▲数式、化学式、表
    等があります▼¥Q−4¥,▲数式、化学式、表等があ
    ります▼¥Q−5¥,▲数式、化学式、表等があります
    ▼¥Q−6¥,▲数式、化学式、表等があります▼¥Q
    −7¥であり; R_1はH、C_1〜C_3アルキル、C_1〜C_3
    ハロアルキル、ハロゲン、ニトロ、C_1〜C_3アル
    コキシ、SO_2NRaRb、C_1〜C_3アルキル
    チオ、C_1〜C_3アルキルスルフィニル、C_1〜
    C_3アルキルスルホニル、CN、CO_2Rc、C_
    1〜C_3ハロアルコキシ、C_1〜C_3ハロアルキ
    ルチオ、アミノ、C_1〜C_3アルキルアミノ、ジ(
    C_1〜C_3アルキル)アミノまたはC_1〜C_2
    アルコキシ、C_1〜C_2ハロアルコキシ、C_1〜
    C_2アルキルチオ、C_1〜C_2ハロアルキルチオ
    もしくはCNで置換されたC_1〜C_2アルキルであ
    り; R_2はH、C_1〜C_3アルキル、アリルまたはフ
    エニルであり: R_3はH、C_1〜C_6アルキル、C_3〜C_6
    シクロアルキル、C_1〜C_6ハロアルキル、CH_
    2−(C_2〜C_5アルケニル)、CH_2(C_2
    〜C_5ハロアルケニル)、CH_2(C_2〜C_5
    アルキニル)、CH_2(C_2〜C_5ハロアルキニ
    ル)、C_6H_5またはC_1〜C_2アルコキシ、
    C_1〜C_2アルキルチオ、C_1〜C_2アルキル
    スルフィニルまたはC_1〜C_2アルキルスルホニル
    で置換されたC_1〜C_4アルキルであり; R_4はH、ハロゲン、C_1〜C_6アルキル、C_
    3〜C_6シクロアルキル、C_1〜C_6ハロアルキ
    ル、C_2〜C_6アルケニル、C_2〜C_6ハロア
    ルケニル、C_2〜C_6アルキニル、C_3〜C_6
    ハロアルキニル、C_6H_5、C_1〜C_4アルコ
    キシ、C_1〜C_4アルキルチオ、C_1〜C_4ア
    ルキルスルフィニル、C_1〜C_4アルキルスルホニ
    ル、OCH_2CH_2O−(C_1〜C_2アルキル
    )またはジ(C_1〜C_3アルキル)アミノであり;
    R_5はH、C_1〜C_3アルキルまたはアリルであ
    り; RaはH、C_1〜C_4アルキル、C_2〜C_3シ
    アノアルキル、メトキシまたはエトキシであり;Rbは
    H、C_1〜C_4アルキルまたはC_3〜C_4アル
    ケニルであるか;または Ra及びRbは−(CH_2)_3−、−(CH_2)
    _4−、−(CH_2)_5−または−CH_2CH_
    2OCH_2CH_2−として一緒にすることができ; RcはC_1〜C_4アルキル、C_3〜C_4アルケ
    ニル、C_3〜C_4アルキニル、C_2〜C_4ハロ
    アルキル、C_1〜C_2シアノアルキル、C_5〜C
    _6シクロアルキル、C_4〜C_7シクロアルキルア
    ルキルまたはC_2〜C_4アルコキシアルキルであり
    ; Aは ▲数式、化学式、表等があります▼¥A−1¥,▲数式
    、化学式、表等があります▼¥A−2¥,▲数式、化学
    式、表等があります▼¥A−3¥,▲数式、化学式、表
    等があります▼¥A−4¥,▲数式、化学式、表等があ
    ります▼¥A−5¥,▲数式、化学式、表等があります
    ▼¥A−6¥又は▲数式、化学式、表等があります▼¥
    A−7¥であり; XはH、C_1〜C_4アルキル、C_1〜C_4アル
    コキシ、C_1〜C_4ハロアルコキシ、C_1〜C_
    4ハロアルキル、C_1〜C_4ハロアルキルチオ、C
    _1〜C_4アルキルチオ、ハロゲン、C_2〜C_5
    アルコキシアルキル、C_2〜C_5アルコキシアルコ
    キシ、アミノ、C_1〜C_3アルキルアミノ、ジ(C
    _1〜C_3アルキル)アミノまたはC_3〜C_5シ
    クロアルキルであり; YはH、C_1〜C_4アルキル、C_1〜C_4アル
    コキシ、C_1〜C_4ハロアルコキシ、C_1〜C_
    4ハロアルキルチオ、C_1〜C_4アルキルチオ、C
    _2〜C_5アルコキシアルキル、C_2〜C_5アル
    コキシアルコキシ、アミノ、C_1〜C_3アルキルア
    ミノ、ジ(C_1〜C_3アルキル)アミノ、C_3〜
    C_4アルケニルオキシ、C_3〜C_4アルキニルオ
    キシ、C_2〜C_5アルキルチオアルキル、C_2〜
    C_5アルキルスルフィニルアルキル、C_2〜C_5
    アルキルスルホニルアルキル、C_1〜C_4ハロアル
    キル、C_2〜C_4アルキニル、アジド、シアノ、▲
    数式、化学式、表等があります▼, ▲数式、化学式、表等があります▼, ▲数式、化学式、表等があります▼または−N(OCH
    _3)CH_3であり; pは2または3であり; L_1及びL_2は独立してOまたはSであり;R_6
    はHまたはCH_3であり; R_7及びR_8は独立してC_1〜C_3アルキルで
    あり; ZはCH,N,CCH_3,CC_2H_5、CClま
    たはCBrであり; Y_1はOまたはCH_2であり; X_1はCH_3,OCH_3、OC_2H_5または
    OCF_2Hであり; X_2はCH_3,C_2H_5またはCH_2CF_
    3であり;Y_2はOCH_3,OC_2H_5,SC
    H_3,SC_2H_5,CH_3またはCH_2CH
    _3であり; X_3はCH_3またはOCH_3であり;Y_3はH
    またはCH_3であり; X_4はCH_3,OCH_3,OC_2H_5,CH
    _2OCH_3またはClであり; Y_4はCH_3,OCH_3,OC_2H_5または
    Clであり;そして Z^1はCHまたはNである、 但し上記において、 a)XがCl,F,BrまたはIである場合、ZはCH
    であり、そしてYはOCH_3,OC_2H_5,N(
    OCH_3)CH_3,NHCH_3,N(CH_3)
    _2またはOCF_2Hであり; b)XまたはYがC_1ハロアルコキシである場合、Z
    はCHであり; c)JがJ−2,J−3またはJ−4である場合、置換
    基G_m(CH_2)_nQまたは(CH_2)_nQ
    及びスルホニル尿素架橋は隣接する環位置にあり;d)
    JがJ−4であり、そしてnが0である場合、QはQ−
    1またはQ−2であり; e)Eが0である場合、JはJ−1であり;f)WがS
    である場合、AはA−1であり、RはHであり、そして
    YはCH_3,OCH_3,OC_2H_5,CH_2
    OCH_3,C_2H_5,CF_3,SCH_3,O
    CH_2CH=CH_2,OCH_2C≡CH,OCH
    _2CH_2OCH_3、CH(OCH_3)_2また
    は▲数式、化学式、表等があります▼であり;g)X及
    びY中の炭素原子の全体数が4より大きい場合、R_1
    、R_3、R_4及びR_5の炭素含有量は各々2より
    少ないか、または等しくなければならず; h)X_4及びY_4は同時にClであることはできず
    ; i)JがJ−1であり、そしてmが0である場合、nは
    0であり; j)nが0であり、そしてmが1である場合、QはQ−
    1またはQ−2であり;そして k)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物を除く、 の化合物及びその農業的に適する塩。 2、Eが単結合である、特許請求の範囲第1項記載の化
    合物。 3、EがCH_2である、特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 4、EがOである、特許請求の範囲第1項記載の化合物
    。 5、mが0であり;WがOであり;そしてRがHである
    、特許請求の範囲第2項記載の化合物。 6、XがC_1〜C_2アルキル、C_1〜C_2アル
    コキシ、Cl,F,Br,I,OCF_2H,CH_2
    F,CF_3,シクロプロピル,OCH_2CH_2F
    ,OCH_2CHF_2,OCH_2CF_3,CH_
    2ClまたはCH_2Brであり、YがH、C_1〜C
    _2アルキル、C_1〜C_2アルコキシ、CH_2O
    CH_3、CH_2OCH_2CH_3,NHCH_3
    ,N(OCH_3)CH_3,N(CH_3)_2,C
    F_3,SCH_3,OCH_2CH=CH_2,OC
    H_2C≡CH,OCH_2CH_2OCH_3,CH
    _2SCH_3,▲数式、化学式、表等があります▼,
    ▲数式、化学式、表等があります▼, ▲数式、化学式、表等があります▼,OCF_2H,S
    CF_2H, シクロプロピル、C≡CHまたはC≡CCH_3である
    、特許請求の範囲第5項記載の化合物。 7、R_1がH,CH_3,F,Cl,Br,OCH_
    3,SCH_3,CH_2CN,CH_2OCH_3,
    CF_3またはOCF_2Hであり;そしてnが0であ
    る、特許請求の範囲第6項記載の化合物。 8、R_3がH,C_1〜C_3アルキル、CH_2C
    H_2Cl、CH_2CH_2F、CH_2CHF_2
    ,CH_2CF_3,アリルまたはプロパルギルであり
    ;そしてR_4がH,C_1〜C_3アルキル、C_1
    〜C_2アルコキシ、C_1〜C_2アルキルチオ、N
    (CH_3)_2,アリル、プロパルギルまたはF、C
    lもしくはBrの1〜3個の原子で置換されたC_1〜
    C_2アルキルである特許請求の範囲第7項記載の化合
    物。 9、AがA−1であり;ZがCHまたはNであり;Xが
    CH_3,OCH_3,OCH_2CH3,シクロプロ
    ピル、ClまたはOCF_2Hであり;YがCH_3,
    OCH_3,C_2H_5,CH_2OCH_3,NH
    CH_3またはCH(OCH_3)_2である、特許請
    求の範囲第8項記載の化合物。 10、JがJ−1である、特許請求の範囲第9項記載の
    化合物。 11、R_3及びR_4が独立してH,CH_3または
    C_2H_5である、特許請求の範囲第10項記載の化
    合物。 12、JがJ−2〜J−6であり;そしてR_1がHで
    ある、特許請求の範囲第9項記載の化合物。 13、QがQ−1〜Q−7であり、そしてR_1が5−
    または6−位置にある、特許請求の範囲第10項記載の
    化合物。 14、mが0であり;nが0であり;JがJ−1であり
    ;WがOであり;RがHであり;R_1がHであり;R
    _3がHまたはC_1〜C_3アルキルであり;R_4
    がHまたはC_1〜C_3アルキルであり;AがA−1
    であり;ZがCHまたはNであり;XがCH_3、OC
    H_3,OCH_2CH_3,シクロプロピル、Clま
    たはOCF_2Hであり;そしてYがCH_3、OCH
    _3、C_2H_5、CH_2OCH_3、NHCH_
    3またはCH(OCH_3)_2である、特許請求の範
    囲第3項記載の化合物。 15、mが0であり;RがHであり;R_1がHであり
    ;R_3がHまたはC_1〜C_3アルキルであり;R
    _4がHまたはC_1〜C_3アルキルであり;AがA
    −1であり;ZがCHまたはNであり;XがCH_3,
    OCH_3,OCH_2CH_3,シクロプロピル、C
    lまたはOCF_2Hであり;そしてYがCH_3,O
    CH_3,C_2H_5,CH_2OCH_3,NHC
    H_3またはCH(OCH_3)_2である、特許請求
    の範囲第4項記載の化合物。 16、N−[(4−クロロ−6−メトキシピリミジン−
    2−イル)アミノカルボニル]−2−(1−エチル−1
    H−テトラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドで
    ある、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 17、N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
    ル)アミノカルボニル]−2−(1−エチル−1H−テ
    トラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドである、
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。 18、N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
    ル)アミノカルボニル]−2−メチル−6−(1−メチ
    ル−1H−テトラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンア
    ミドである、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 19、N−[(4−メトキシ−6−メチルピリミジン−
    2−イル)アミノカルボニル]−2−メチル−6−(1
    −メチル−1H−テトラゾル−5−イル)ベンゼンスル
    ホンアミドである、特許請求の範囲第1項記載の化合物
    。 20、N−[(4,6−ジメチルピリミジン−2−イル
    )アミノカルボニル]−2−メチル−6−(1−メチル
    −1H−テトラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミ
    ドである、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 21、N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
    ル)アミノカルボニル]−2−(5−メチル−1H−テ
    トラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドである、
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。 22、N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
    ル)アミノカルボニル]−2−(1−メチル−1H−テ
    トラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドである、
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。 23、N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
    ル)アミノカルボニル]−2−(1−メチル−1H−テ
    トラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドである、
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。 24、N−[(4,6−ジメチルピリミジン−2−イル
    )アミノカルボニル]−2−(1−メチル−1H−テト
    ラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドである、特
    許請求の範囲第1項記載の化合物。 25、N−[(4−メトキシ−6−メチルピリミジン−
    2−イル)アミノカルボニル]−2−(1−メチル−1
    H−テトラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドで
    ある、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 26、N−[(4−クロロ−6−メトキシピリミジン−
    2−イル)アミノカルボニル]−2−(1−メチル−1
    H−テトラゾル−5−イル)ベンゼンスルホンアミドで
    ある、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 27、有効量の特許請求の範囲第1〜6項のいずれかに
    記載の化合物及び少なくとも1つの表面活性剤、固体ま
    たは液体希釈剤からなる、望ましくない植物の生長の防
    除に適する組成物。 28、有効量の特許請求の範囲第16〜20項のいずれ
    かに記載の化合物及び少なくとも1つの表面活性剤、固
    体または液体希釈剤からなる、特許請求の範囲第27項
    記載の望ましくない植物の生長の防除に適する組成物。 29、有効量の特許請求の範囲第1〜6項のいずれかに
    記載の化合物を保護される場所に施用することからなる
    、望ましくない植物の生長の防除方法。 30、有効量の特許請求の範囲第16〜20項のいずれ
    かに記載の化合物を保護される場所に施用することから
    なる、特許請求の範囲第29項記載の望ましくない植物
    の生長の防除方法。
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