JPH0341709A - 高透磁率フェライト磁心の製造方法 - Google Patents
高透磁率フェライト磁心の製造方法Info
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- JPH0341709A JPH0341709A JP1176930A JP17693089A JPH0341709A JP H0341709 A JPH0341709 A JP H0341709A JP 1176930 A JP1176930 A JP 1176930A JP 17693089 A JP17693089 A JP 17693089A JP H0341709 A JPH0341709 A JP H0341709A
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Landscapes
- Magnetic Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高透磁率を有するフェライト磁心の製造方怯
に関するものである。
に関するものである。
（従来の技術）
高透磁率を有するフェライト磁心としては、Ｍｎ −Ｚ
ｎ系フェライト磁心が主に使用されている。
ｎ系フェライト磁心が主に使用されている。
このＭ ｎ −Ｚ ｎ系フェライト磁心の製造方怯は。
主成分となるＦ”ｘｏｙｐ Ｚｎ○、ＭｎＯを所定の組
成化で混合し、更にＢｉ、Ｃａ等の添加物を所定量添加
した原料を、仮焼、粉砕、造粒、銭形。
成化で混合し、更にＢｉ、Ｃａ等の添加物を所定量添加
した原料を、仮焼、粉砕、造粒、銭形。
焼成、する各工程からなっている。また、焼成後、磁心
に直接巻線を施すため、又コーティングをし易くするた
めに、磁心のバリ取りを行っていた。
に直接巻線を施すため、又コーティングをし易くするた
めに、磁心のバリ取りを行っていた。
（発明が解決しようとする問題点）
このような高透磁率フェライト磁心は、例えばノイズフ
ィルタ等に使用されるが、このノイズフィルタ等の小型
化、高性能化のため、更に高い透磁率を有するフェライ
ト磁心が要求されている。
ィルタ等に使用されるが、このノイズフィルタ等の小型
化、高性能化のため、更に高い透磁率を有するフェライ
ト磁心が要求されている。
この高透磁率フェライト磁心を得るために種々の検討を
していたところ、焼成後所望の透磁率を有していた磁心
が、バリ取り処理により、透磁率が１０〜５０％も劣化
していることがわがった。
していたところ、焼成後所望の透磁率を有していた磁心
が、バリ取り処理により、透磁率が１０〜５０％も劣化
していることがわがった。
本発明は、上記の事を鑑みて、バリ取り処理により劣化
した透磁率をバリ取り前の透磁率に回復させる手段を提
供することを目的とするものである。
した透磁率をバリ取り前の透磁率に回復させる手段を提
供することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、Ｍ ｎ −Ｚ ｎ系高透磁率フェライト磁心
の製造方怯において、焼成機磁心のバリ取りを行った後
、酸による表面処理を行うものである。
の製造方怯において、焼成機磁心のバリ取りを行った後
、酸による表面処理を行うものである。
（実施例）
実施例（
Ｆｅ２０，５２．５モル％、Ｍｎ０２５．５モル％、Ｚ
ｎ○２２．０モル％を主成分とし、これにＣａＯ０，０
２重量％、Ｓｉｎ！ ０．０１重量％含有する原料を用
い、これを８５０℃で２時間仮焼し、その後ボールミル
で８時間粉砕し、有機バインダーを加え造粒したフェラ
イト粉末をリング状に圧縮成形し、１３８０℃５時間窒
素雰囲気中で焼威し、リング状磁心を得た。この磁心を
バリ取りのため３０分間バレル研摩した。そして。
ｎ○２２．０モル％を主成分とし、これにＣａＯ０，０
２重量％、Ｓｉｎ！ ０．０１重量％含有する原料を用
い、これを８５０℃で２時間仮焼し、その後ボールミル
で８時間粉砕し、有機バインダーを加え造粒したフェラ
イト粉末をリング状に圧縮成形し、１３８０℃５時間窒
素雰囲気中で焼威し、リング状磁心を得た。この磁心を
バリ取りのため３０分間バレル研摩した。そして。
その磁心を塩酸中（濃度３５％、液温６０℃）に５分間
つけ、表面処理した。このときのバレル研摩の前後及び
表面処理後の磁心の透磁率を第１表に示す。また、バレ
ル前の値を初期値とした。
つけ、表面処理した。このときのバレル研摩の前後及び
表面処理後の磁心の透磁率を第１表に示す。また、バレ
ル前の値を初期値とした。
第 Ｌ 表
この実施例に示したように、
バレル研摩により。
約３５％初透磁率が劣化していたものを表面処理により
完全に回復させることができた。
完全に回復させることができた。
実施例２
実施例１と同様の工程であって、初透磁率のバリ取り処
理後の変化率の異なる磁心の表面処理時間と回復の様子
を第１図に示す。また、そのデータを第２表に示す。
理後の変化率の異なる磁心の表面処理時間と回復の様子
を第１図に示す。また、そのデータを第２表に示す。
この第１図及び第２表から明らかに、バリ取り処理によ
る初透磁率の変化率が異なっても、表面処理時間を変え
ることにより、初期値へ回復することがわかる。
る初透磁率の変化率が異なっても、表面処理時間を変え
ることにより、初期値へ回復することがわかる。
実施例３
実施例１と同様の工程であって、表面処理に用いる塩酸
（濃度３５％）の液温を変えたときの回復の様子を第２
図に示す、この第２図に示したように１表面処理する塩
酸の液温が高い方が早く回復することがわかる。
（濃度３５％）の液温を変えたときの回復の様子を第２
図に示す、この第２図に示したように１表面処理する塩
酸の液温が高い方が早く回復することがわかる。
実施例４
実施例１と同様の工程であって、表面処理に用いる塩酸
の濃度を変え、液温６０℃処理時間１分のときの回復の
様子を第３図に示す、この第３図に示したように、塩酸
の濃度が３５％であれば１分の処理でほぼ回復するが、
濃度１１．５％ではわずか（バリ取り処理後−２４％Ｅ
処理後−２０％）回復するだけである。しかし、濃度が
低くても処理時間を長くすることにより、はぼ１００％
回復する。
の濃度を変え、液温６０℃処理時間１分のときの回復の
様子を第３図に示す、この第３図に示したように、塩酸
の濃度が３５％であれば１分の処理でほぼ回復するが、
濃度１１．５％ではわずか（バリ取り処理後−２４％Ｅ
処理後−２０％）回復するだけである。しかし、濃度が
低くても処理時間を長くすることにより、はぼ１００％
回復する。
実施例５
実施例↓とほぼ同様の組成のＭ ｎ −Ｚ ｎフェライ
トを焼成後、３０分間バリ取り処理としてバレル研摩し
、その後濃度３５％、液温６０℃の塩酸中で１分間表面
処理した磁心を、信頼性テストした。温度６０℃、相対
湿度９５％中に１８０時間放置した結果、初透磁率の変
化はほぼ見られなかった。
トを焼成後、３０分間バリ取り処理としてバレル研摩し
、その後濃度３５％、液温６０℃の塩酸中で１分間表面
処理した磁心を、信頼性テストした。温度６０℃、相対
湿度９５％中に１８０時間放置した結果、初透磁率の変
化はほぼ見られなかった。
また、上記実施例では、表面処理に用いる酸として塩酸
を用いたが、塩酸以外の酸を用いても良塾）。
を用いたが、塩酸以外の酸を用いても良塾）。
本発明によれば、液温にも左右されるが、塩酸の濃度が
３５％で約１分、濃度１０％で約５分、濃度５％で約１
０分の処理時間により、バリ取りによる透磁率の劣化を
ほぼ１００％回復させることができた。また、この回復
に要する時間よりも、更に長い時間表面処理すると、表
面からの結晶の脱落が激しく、直接巻線することが困難
となり、かつコーティングすることも困難となる。従っ
て、回復に要する時間より必要以上長く表面処理するこ
とは好ましくない。
３５％で約１分、濃度１０％で約５分、濃度５％で約１
０分の処理時間により、バリ取りによる透磁率の劣化を
ほぼ１００％回復させることができた。また、この回復
に要する時間よりも、更に長い時間表面処理すると、表
面からの結晶の脱落が激しく、直接巻線することが困難
となり、かつコーティングすることも困難となる。従っ
て、回復に要する時間より必要以上長く表面処理するこ
とは好ましくない。
（発明の効果）
本発明は、高透磁率を有するフェライト磁心をバリ取り
したときの磁心の透磁率の劣化を、酸を用いた表面処理
により、透磁率を回復させるものであり、特に高透磁率
（μｉ≧１００００）のフエライト磁心を得るために有
効な技術である。
したときの磁心の透磁率の劣化を、酸を用いた表面処理
により、透磁率を回復させるものであり、特に高透磁率
（μｉ≧１００００）のフエライト磁心を得るために有
効な技術である。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明に係り、初透磁率のバリ取り処理後の
変化率の異なる磁心の表面処理時間と初透磁率の回復の
様子を示すグラフであり、第２図は１本発明に係り、塩
酸の液温を変えたときの初透磁率の回復の様子を示すグ
ラフであり、第３図は、本発明に係り、塩酸の濃度を変
えたときの初透磁率の回復の様子を示すグラフである。 第１図 第２図 込埋吟間（労Ｊ
変化率の異なる磁心の表面処理時間と初透磁率の回復の
様子を示すグラフであり、第２図は１本発明に係り、塩
酸の液温を変えたときの初透磁率の回復の様子を示すグ
ラフであり、第３図は、本発明に係り、塩酸の濃度を変
えたときの初透磁率の回復の様子を示すグラフである。 第１図 第２図 込埋吟間（労Ｊ
Claims (1)
- Ｍｎ−Ｚｎ系高透磁率フェライト磁心の製造方怯におい
て、焼成後磁心のバリ取りを行った後、酸による表面処
理を行うことを特徴とする高透磁率フェライト磁心の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1176930A JP2765964B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 高透磁率フェライト磁心の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1176930A JP2765964B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 高透磁率フェライト磁心の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341709A true JPH0341709A (ja) | 1991-02-22 |
| JP2765964B2 JP2765964B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=16022233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1176930A Expired - Fee Related JP2765964B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 高透磁率フェライト磁心の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2765964B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103617883A (zh) * | 2013-11-07 | 2014-03-05 | 长兴柏成电子有限公司 | 一种磁芯表面酸处理工艺 |
| CN110480422A (zh) * | 2019-08-08 | 2019-11-22 | 浙江通达磁业有限公司 | 高频磁芯毛坯的表面处理工艺 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1176930A patent/JP2765964B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2765964B2 (ja) | 1998-06-18 |
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