JPH0341792A - セラミック基板の製造方法 - Google Patents
セラミック基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH0341792A JPH0341792A JP1176411A JP17641189A JPH0341792A JP H0341792 A JPH0341792 A JP H0341792A JP 1176411 A JP1176411 A JP 1176411A JP 17641189 A JP17641189 A JP 17641189A JP H0341792 A JPH0341792 A JP H0341792A
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- Japan
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- alumina
- ceramic substrate
- substrate
- raw material
- ceramic
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明はセラミック基板の製造方法に関し、特にたと
えば薄膜回路用基板などとして使用される表面の平滑性
の高い、セラミック基板の製造方法に関する。
えば薄膜回路用基板などとして使用される表面の平滑性
の高い、セラミック基板の製造方法に関する。
(従来技術〉
マイクロエレクトロニクスの高速化、高密度化に伴い、
電気的1機械的、熱的性質に加えて、表面の平滑性が重
視されている。特に、薄膜回路用基板においては、表面
平滑性が不可欠な特性とされている。
電気的1機械的、熱的性質に加えて、表面の平滑性が重
視されている。特に、薄膜回路用基板においては、表面
平滑性が不可欠な特性とされている。
従来、表面の平滑性の高いセラミック基板を得るための
方法として、たとえば次のような方法が用いられていた
。
方法として、たとえば次のような方法が用いられていた
。
第1の方法は、特公昭50−17679号公報に示され
るように、セラミックグリーンシートを加熱しながら圧
延する方法である。この方法では、セラミックグリーン
シートを所定の寸法に切断し、鏡面仕上げをしたローラ
を100〜150℃に加熱して圧延することによって、
セラミックグリーンシートが緻密化させられる。
るように、セラミックグリーンシートを加熱しながら圧
延する方法である。この方法では、セラミックグリーン
シートを所定の寸法に切断し、鏡面仕上げをしたローラ
を100〜150℃に加熱して圧延することによって、
セラミックグリーンシートが緻密化させられる。
第2の方法は、特開昭48−91599号公報に示すよ
うに、0.1〜0.4%のMgOとO1001〜0.1
%のcrtosとを添加する方法である。この方法では
、MgOを添加することによってアルミナの粒成長が抑
制され、表面の空孔がCr、0.で埋められることによ
って平滑性が得られる。
うに、0.1〜0.4%のMgOとO1001〜0.1
%のcrtosとを添加する方法である。この方法では
、MgOを添加することによってアルミナの粒成長が抑
制され、表面の空孔がCr、0.で埋められることによ
って平滑性が得られる。
第3の方法は、特開昭49−69709号公報に示すよ
うに、α−Altosとその5〜10%のγ−AIZO
3からなる原料を使用する方法である。この方法では、
γ−Alt03とγ−A1203を変態させたα−Af
、O,とを上述の比率で調合することによって、平滑性
の良好なセラミック基板が得られる。
うに、α−Altosとその5〜10%のγ−AIZO
3からなる原料を使用する方法である。この方法では、
γ−Alt03とγ−A1203を変態させたα−Af
、O,とを上述の比率で調合することによって、平滑性
の良好なセラミック基板が得られる。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、このような従来の方法では、それぞれ次
のような問題点があった。
のような問題点があった。
第1の方法では、ローラの接触による傷や、圧延時にお
ける空気中の塵の埋没によって、セラξ・ツク基板の表
面が傷ついてしまう。また、成形時におけるセラ逅ツク
グリーンシートのわずかな厚みの違いが圧延時の圧力差
となって、焼成したときにセラミック基板に反りが発生
する。そのため、セラミック基板の反り直しが必要とな
る。さらに、このような方法では、セラミックグリーン
シートの圧延工程にコストがかかる。
ける空気中の塵の埋没によって、セラξ・ツク基板の表
面が傷ついてしまう。また、成形時におけるセラ逅ツク
グリーンシートのわずかな厚みの違いが圧延時の圧力差
となって、焼成したときにセラミック基板に反りが発生
する。そのため、セラミック基板の反り直しが必要とな
る。さらに、このような方法では、セラミックグリーン
シートの圧延工程にコストがかかる。
第2の方法では、焼成したときのセラミック基板の反り
を防止することができないため、セラミック基板の反り
直しが必要となる。また、セラミックグリーンシートの
焼成が複雑であり、コストがかかってしまう。
を防止することができないため、セラミック基板の反り
直しが必要となる。また、セラミックグリーンシートの
焼成が複雑であり、コストがかかってしまう。
第3の方法では、γ−AIl、O,の熱処理にコストが
かかる。また、焼成したときのセラミック基板に反りが
生じるため、セラミック基板の反り直しが必要となる。
かかる。また、焼成したときのセラミック基板に反りが
生じるため、セラミック基板の反り直しが必要となる。
さらに、この方法では、他の方法に比べてセラミック基
板の表面の平滑性が低い。
板の表面の平滑性が低い。
それゆえに、この発明の主たる目的は、焼成したときに
反りが少なく、低コストで製造することができ、かつ表
面の平滑度の高いセラミック基板の製造方法を提供する
ことである。
反りが少なく、低コストで製造することができ、かつ表
面の平滑度の高いセラミック基板の製造方法を提供する
ことである。
(課題を解決するための手段)
この発明は、99.5重量%以上の純度を有するアルミ
ナ原料を準備する工程と、比表面積が50 rd /
g以上の超微粉アルミナを準備する工程と、アルミナ原
料を95〜99.5重量%および超微粉アルミナを0.
5〜5重量%配合して基板材料を形成する工程と、基板
材料を板状に成形する工程と、板状に成形した基板材料
の一方面側に超微粉アルミナを集合させる工程と、板状
の基板材料を焼成する工程とを含む、セラミック基板の
製造方法である。
ナ原料を準備する工程と、比表面積が50 rd /
g以上の超微粉アルミナを準備する工程と、アルミナ原
料を95〜99.5重量%および超微粉アルミナを0.
5〜5重量%配合して基板材料を形成する工程と、基板
材料を板状に成形する工程と、板状に成形した基板材料
の一方面側に超微粉アルミナを集合させる工程と、板状
の基板材料を焼成する工程とを含む、セラミック基板の
製造方法である。
(作用)
超微粉アルミナが板状に成形した基板材料の一方面側に
集合するため、基板材料を焼成したとき、超微粉アルミ
ナの集合した面が緻密になる。
集合するため、基板材料を焼成したとき、超微粉アルミ
ナの集合した面が緻密になる。
このセラミック基板の材料となるアルミナ原料と超微粉
アルミナとの熱収縮率がほぼ等しい。
アルミナとの熱収縮率がほぼ等しい。
(発明の効果)
この発明によれば、表面の平滑性の高いセラミック基板
を得ることができる。また、材料となるアルミナ原料と
超微粉アルミナとの熱収縮率がほぼ等しいため、焼成し
たときにセラミック基板の反りが少ない。さらに、超微
粉アルミナは極少量しか使用されないため、製造コスト
があまり大きくならない。
を得ることができる。また、材料となるアルミナ原料と
超微粉アルミナとの熱収縮率がほぼ等しいため、焼成し
たときにセラミック基板の反りが少ない。さらに、超微
粉アルミナは極少量しか使用されないため、製造コスト
があまり大きくならない。
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
(実施例)
まず、材料として、99.5重量%以上の純度で平均粒
径0.1〜0.5μmのアルミナ原料を準備した。さら
に、99.5重量%以上の純度で比表面積が50rd/
g以上の超微粉アル主すを準備した。これらの材料とM
gOとを別表に示す割合で混合し、トルエン80%、エ
タノール20%からなる溶剤を用いてスラリーを形成し
た。このスラリーをドクタブレード法によって板状に成
形し、乾燥した。このとき、超微粉アルミナが軟凝集体
を形成するような比較的分散性の悪い条件で、グリーン
シートの下面からの加熱するかまたは室温において長時
間放置することによって乾燥した。
径0.1〜0.5μmのアルミナ原料を準備した。さら
に、99.5重量%以上の純度で比表面積が50rd/
g以上の超微粉アル主すを準備した。これらの材料とM
gOとを別表に示す割合で混合し、トルエン80%、エ
タノール20%からなる溶剤を用いてスラリーを形成し
た。このスラリーをドクタブレード法によって板状に成
形し、乾燥した。このとき、超微粉アルミナが軟凝集体
を形成するような比較的分散性の悪い条件で、グリーン
シートの下面からの加熱するかまたは室温において長時
間放置することによって乾燥した。
このようにすることによって、図に示すように、セラミ
ックグリーンシート10の上面に超微粉アルミナの層1
2が形成され、セラミックグリーンシート10の下面に
アルミナ原料の層14が形成される。
ックグリーンシート10の上面に超微粉アルミナの層1
2が形成され、セラミックグリーンシート10の下面に
アルミナ原料の層14が形成される。
次に、板状のセラミックグリーンシートを焼成後の寸法
が2インチ角となるように切断し、大気中において15
50℃で2時間焼成した。そして、得られたセラミンク
基板の中心線平均粗さ1反りおよび密度を調べ、その結
果を別表に示した。
が2インチ角となるように切断し、大気中において15
50℃で2時間焼成した。そして、得られたセラミンク
基板の中心線平均粗さ1反りおよび密度を調べ、その結
果を別表に示した。
別表かられかるように、超微粉アルミナが0゜5〜5重
量%の範囲内にあるとき、中心線平均粗さが0.05μ
m、反りが0.2w/2イ7チ以下、密度が3.95g
/C11以上という値を得ることができた。
量%の範囲内にあるとき、中心線平均粗さが0.05μ
m、反りが0.2w/2イ7チ以下、密度が3.95g
/C11以上という値を得ることができた。
このように、この発明の方法を用いることによって、反
りが少なく、かつ表面平滑度の高いセラミック基板を得
ることができる。また、この方法では、超微粉アルミナ
の使用量が極少ないため、製造コストがあまり大きくな
らない。
りが少なく、かつ表面平滑度の高いセラミック基板を得
ることができる。また、この方法では、超微粉アルミナ
の使用量が極少ないため、製造コストがあまり大きくな
らない。
図はこの発明の方法を用いて形成したセラミ・ツクグリ
ーンシートの一例を示す図解図である。 図において、10はセラミックグリーンシート、12は
超微粉アルミナの層、14はアルミナ原料の層を示す。
ーンシートの一例を示す図解図である。 図において、10はセラミックグリーンシート、12は
超微粉アルミナの層、14はアルミナ原料の層を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 99.5重量%以上の純度を有するアルミナ原料を準備
する工程、 比表面積が50m^2/g以上の超微粉アルミナを準備
する工程、 前記アルミナ原料を95〜99.5重量%および前記超
微粉アルミナを0.5〜5重量%配合して基板材料を形
成する工程、 前記基板材料を板状に成形する工程、 板状に成形した前記基板材料の一方面側に前記超微粉ア
ルミナを集合させる工程、および 前記板状の基板材料を焼成する工程を含む、セラミック
基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1176411A JP2800030B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | セラミック基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1176411A JP2800030B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | セラミック基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341792A true JPH0341792A (ja) | 1991-02-22 |
| JP2800030B2 JP2800030B2 (ja) | 1998-09-21 |
Family
ID=16013214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1176411A Expired - Fee Related JP2800030B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | セラミック基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2800030B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN119774988A (zh) * | 2025-03-12 | 2025-04-08 | 河北鼎瓷电子科技有限公司 | 一种高效散热多层陶瓷基板及其制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62143866A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-27 | 株式会社デンソー | 高絶縁性高アルミナ質磁器組成物の製造方法 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1176411A patent/JP2800030B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62143866A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-27 | 株式会社デンソー | 高絶縁性高アルミナ質磁器組成物の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN119774988A (zh) * | 2025-03-12 | 2025-04-08 | 河北鼎瓷电子科技有限公司 | 一种高效散热多层陶瓷基板及其制备方法 |
| CN119774988B (zh) * | 2025-03-12 | 2025-06-13 | 河北鼎瓷电子科技有限公司 | 一种高效散热多层陶瓷基板及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2800030B2 (ja) | 1998-09-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |