JPH0342541A - 圧力検出器 - Google Patents
圧力検出器Info
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- JPH0342541A JPH0342541A JP17863689A JP17863689A JPH0342541A JP H0342541 A JPH0342541 A JP H0342541A JP 17863689 A JP17863689 A JP 17863689A JP 17863689 A JP17863689 A JP 17863689A JP H0342541 A JPH0342541 A JP H0342541A
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- JP
- Japan
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- pressure
- lead
- sensing element
- chip
- strain gauge
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は圧力検出器に関し、特に高温流体の圧力測定例
えば内燃機関の燃焼圧測定に好適な圧力検出器に関する
。
えば内燃機関の燃焼圧測定に好適な圧力検出器に関する
。
圧力検出器の一般的構造として圧力室壁に固定する筒状
ハウジングを有し、圧力室内に臨む上記ハウジング先端
の開口部に金属製センシング部を設けるとともに該セン
シング部に歪ゲージ素子を付設した受圧部を保持せしめ
て、受圧部の変形に応じた出力信号を得るものが知られ
ている。
ハウジングを有し、圧力室内に臨む上記ハウジング先端
の開口部に金属製センシング部を設けるとともに該セン
シング部に歪ゲージ素子を付設した受圧部を保持せしめ
て、受圧部の変形に応じた出力信号を得るものが知られ
ている。
第8図に従来の圧力検出器の一例を示す。このものは、
筒状ハウジング3゛を有し、ハウジング3゛の小径部外
周のネジ部3a’ で圧力室壁に固定される。ハウジン
グ3”の先端部開口には側壁に開口2b′が設けられた
センシングボデー2゛が気密に保持せしめてあり、この
間口2b“にセラミック板よりなる受圧ダイヤフラムl
°が覆着されるとともに、該ダイヤフラム1“の内側面
に半導体歪ゲージ素子(囲路)が接合固定しである。
筒状ハウジング3゛を有し、ハウジング3゛の小径部外
周のネジ部3a’ で圧力室壁に固定される。ハウジン
グ3”の先端部開口には側壁に開口2b′が設けられた
センシングボデー2゛が気密に保持せしめてあり、この
間口2b“にセラミック板よりなる受圧ダイヤフラムl
°が覆着されるとともに、該ダイヤフラム1“の内側面
に半導体歪ゲージ素子(囲路)が接合固定しである。
歪ゲージ素子はターミナル板4°の電極にワイヤ線10
゛で接続され、歪ゲージ素子の出力信号は上記ター旦ナ
ル板4゛、リードピン41゛、およびリードvA6°を
経て外部へ取り出される。
゛で接続され、歪ゲージ素子の出力信号は上記ター旦ナ
ル板4゛、リードピン41゛、およびリードvA6°を
経て外部へ取り出される。
ところで、上記従来構造の圧力検出器において、歪ゲー
ジ素子からの出力信号を外部に取り出すワイヤ線10’
、ターミナル板4″、リードピン41°等のリード取出
部も高温の圧力室内へ挿入されることになり、特にダイ
ヤフラム1゛ とターミナル板4゛間のワイヤ線10’
によるボンディング部は高温にさらされることになり
、この部分での信頼性確保が達成できないという問題が
ある。
ジ素子からの出力信号を外部に取り出すワイヤ線10’
、ターミナル板4″、リードピン41°等のリード取出
部も高温の圧力室内へ挿入されることになり、特にダイ
ヤフラム1゛ とターミナル板4゛間のワイヤ線10’
によるボンディング部は高温にさらされることになり
、この部分での信頼性確保が達成できないという問題が
ある。
本発明はかかる問題点に鑑み、高温によるリード取出部
での信頼性悪化を避けることができる圧力検出器を提供
することを目的とする。
での信頼性悪化を避けることができる圧力検出器を提供
することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するために、
先端部を圧力室内に臨ましめるとともに内部に空間を保
有するハウジングと、 このハウジングの先端部に気密的に保持せしめられると
ともに、一端閉鎖の圧力導入路を有するエレメントホル
ダと、 前記圧力導入路の内壁の所定の位置に固定されて、前記
圧力導入路に導入される流体の圧力を検出するべく歪ゲ
ージ素子を接合固定した受圧ダイヤフラムが形成された
センシングエレメントとを有し、 前記エレメントホルダは、前記圧力導入路において流体
導入口部よりも奥部が狭くなるように形成され、かつ、
この狭くなった前記圧力導入路の奥部側壁には前記ハウ
ジングの内部空間に連通ずる開口部が配設され、 前記センシングエレメントは、その長手方向に所定の長
さを有する形状に構成されて、この長手方向における一
方端を受圧部として前記受圧ダイヤフラムが形成される
とともに、他方端に前記開口部を介して前記内部空間に
リードを取り出すリード取出領域が配設され、 前記所定の位置は、前記エレメントホルダの開口部が前
記センシングエレメントの前記リード取出領域にて気密
的に覆着されるべく規定され、前記センシングエレメン
トの前記受圧部は前記圧力導入部の流体導入口部に臨ま
しめられるという技術的手段を採用する。
有するハウジングと、 このハウジングの先端部に気密的に保持せしめられると
ともに、一端閉鎖の圧力導入路を有するエレメントホル
ダと、 前記圧力導入路の内壁の所定の位置に固定されて、前記
圧力導入路に導入される流体の圧力を検出するべく歪ゲ
ージ素子を接合固定した受圧ダイヤフラムが形成された
センシングエレメントとを有し、 前記エレメントホルダは、前記圧力導入路において流体
導入口部よりも奥部が狭くなるように形成され、かつ、
この狭くなった前記圧力導入路の奥部側壁には前記ハウ
ジングの内部空間に連通ずる開口部が配設され、 前記センシングエレメントは、その長手方向に所定の長
さを有する形状に構成されて、この長手方向における一
方端を受圧部として前記受圧ダイヤフラムが形成される
とともに、他方端に前記開口部を介して前記内部空間に
リードを取り出すリード取出領域が配設され、 前記所定の位置は、前記エレメントホルダの開口部が前
記センシングエレメントの前記リード取出領域にて気密
的に覆着されるべく規定され、前記センシングエレメン
トの前記受圧部は前記圧力導入部の流体導入口部に臨ま
しめられるという技術的手段を採用する。
上記構造によれば、受圧部は圧力導入路の流体導入口部
に配置されるため、高温流体の流体圧が受圧ダイヤフラ
ムの受圧面に作用してこれを変形セしめ、変形歪に応じ
た出力信号が歪ゲージ素子より発せられ、リード取出領
域を経て開口部より取り出される。この時、リード取出
領域は狭くなった圧力導入路の奥部に配置されているた
めに、クエンチング効果によって前記高温流体の熱が前
記リード取出領域に作用することが抑制される。
に配置されるため、高温流体の流体圧が受圧ダイヤフラ
ムの受圧面に作用してこれを変形セしめ、変形歪に応じ
た出力信号が歪ゲージ素子より発せられ、リード取出領
域を経て開口部より取り出される。この時、リード取出
領域は狭くなった圧力導入路の奥部に配置されているた
めに、クエンチング効果によって前記高温流体の熱が前
記リード取出領域に作用することが抑制される。
しかして、高温によるリード取出領域の信頼性の低下を
避けることができるという優れた効果がある。
避けることができるという優れた効果がある。
以下、本発明を実施例について説明する。
第1図には、本発明一実施例による圧力検出器の主要部
構造を示す。右端部を大径とした筒状ハウジング3には
本体外周に取付用ネジ部3aが形成され、左端開口には
一端閉鎖の筒体よりなるエレメントホルダ2が挿通配設
され、溶接により密着固定しである。
構造を示す。右端部を大径とした筒状ハウジング3には
本体外周に取付用ネジ部3aが形成され、左端開口には
一端閉鎖の筒体よりなるエレメントホルダ2が挿通配設
され、溶接により密着固定しである。
エレメントホルダ2は熱膨張係数の小さいFe−Ni−
Co系合金で構成されており、エレメントホルダ2内は
圧力導入ボート2aとなしである。
Co系合金で構成されており、エレメントホルダ2内は
圧力導入ボート2aとなしである。
また、圧力導入ボーt−2a奥の側壁には後述するリー
ド引込み用の小径間口2bが設けられており、この小径
間口2bをふさぐようにしてシリコンからなるセンシン
グエレメント1が圧力導入ボート2aの内壁側から前記
エレメントホルダ2にガラス接合により気密的に覆着さ
れている。第2図。
ド引込み用の小径間口2bが設けられており、この小径
間口2bをふさぐようにしてシリコンからなるセンシン
グエレメント1が圧力導入ボート2aの内壁側から前記
エレメントホルダ2にガラス接合により気密的に覆着さ
れている。第2図。
第3図に、センシングエレメントlの詳細を示す。
センシングエレメントlは、細長い板形状をなしており
、センシングチップ11とカバーチップ12とから構成
されている。なお、センシングエレメント1の長方方向
における一方端を受圧部とするべく、センシングチップ
11の一方端には薄肉部が形成され、受圧ダイヤフラム
llaとなしている。また、他方端をリード取出領域と
するべく、カバーチップ12にはリード取出穴12bが
設けられている。
、センシングチップ11とカバーチップ12とから構成
されている。なお、センシングエレメント1の長方方向
における一方端を受圧部とするべく、センシングチップ
11の一方端には薄肉部が形成され、受圧ダイヤフラム
llaとなしている。また、他方端をリード取出領域と
するべく、カバーチップ12にはリード取出穴12bが
設けられている。
センシングチップ11は、第4図(a)、 (b)に示
すように、受圧ダイヤフラムllaの受圧面と反対側の
端面には絶縁層110が形成されている。そして、この
I!縁層110上には、半導体歪ゲージ素子111a−
111dおよび半導体からなるリード電極112a−1
12dが形成されている。
すように、受圧ダイヤフラムllaの受圧面と反対側の
端面には絶縁層110が形成されている。そして、この
I!縁層110上には、半導体歪ゲージ素子111a−
111dおよび半導体からなるリード電極112a−1
12dが形成されている。
さらに、表面保護のためにバッシベーシッン膜114が
成膜され、所定位置にコンタクトホールが開口されてボ
ンディング用の金属薄膜よりなる電極バッド113a〜
113dが形°戒されている。
成膜され、所定位置にコンタクトホールが開口されてボ
ンディング用の金属薄膜よりなる電極バッド113a〜
113dが形°戒されている。
なお、前記歪ゲージ素子において、1lla、111c
は受圧ダイヤフラムllaの中心部上に形成され、1l
lb、1lldは周辺の厚肉部上に形成されており、前
記リード電極112a−112dによって第6図に示す
如きフルブリッジを構成している。また、リード電極1
12a〜112dは、受圧ダイヤフラムllaが構成さ
れるセンシングチップ11の一方端からリード取出領域
となる他方端まで平行に配線成形され、その終端には前
記電極パッド113a〜113dがそれぞれ接続形成さ
れている。なお、本実施例ではリード電極を半導体歪ゲ
ージと同じ半導体で形成したが、金属薄膜にて形成する
ようにしてもよい。なお、第4図(a)はセンシングチ
ップ11の平面図であり、パッシベーシッンM114の
図示は略されている。
は受圧ダイヤフラムllaの中心部上に形成され、1l
lb、1lldは周辺の厚肉部上に形成されており、前
記リード電極112a−112dによって第6図に示す
如きフルブリッジを構成している。また、リード電極1
12a〜112dは、受圧ダイヤフラムllaが構成さ
れるセンシングチップ11の一方端からリード取出領域
となる他方端まで平行に配線成形され、その終端には前
記電極パッド113a〜113dがそれぞれ接続形成さ
れている。なお、本実施例ではリード電極を半導体歪ゲ
ージと同じ半導体で形成したが、金属薄膜にて形成する
ようにしてもよい。なお、第4図(a)はセンシングチ
ップ11の平面図であり、パッシベーシッンM114の
図示は略されている。
また、第4図(b)は第4図(a)に示すもののA−A
断面図である。
断面図である。
一方、カバーチップ12において、前記エレメントホル
ダ2との接合面と反対側の端面ば、第5図(a)、 (
b)に示すように内側をエツチングされて、前記センシ
ングチップ11との接合面12aが周縁に形成されてい
る。また、図に示す如く右端に前記リード取出穴12b
が設けられている。なお、第5図(a)はカバーチップ
12の正面図であり、同図(b)に示すもののB−B断
面図である。また、第5図(ロ)はカバーチップ12の
底面図である。
ダ2との接合面と反対側の端面ば、第5図(a)、 (
b)に示すように内側をエツチングされて、前記センシ
ングチップ11との接合面12aが周縁に形成されてい
る。また、図に示す如く右端に前記リード取出穴12b
が設けられている。なお、第5図(a)はカバーチップ
12の正面図であり、同図(b)に示すもののB−B断
面図である。また、第5図(ロ)はカバーチップ12の
底面図である。
上記センシングチップ11およびカバーチップ12を前
記接合面12aにおいて接合することにより、前記セン
シングエレメント1が構成される(第2図、第3図参照
)。接合方法としては、例えば5i−3iの直接接合に
よるもの、あるいはSi表面を酸化してSin、−3i
n、の接合によるものがある。本実施例においては、セ
ンシングチップ用に所定の加工と素子形成を施した第1
のシリコンウェハと、カバーチップ用に所定の加工を施
した第2のシリコンウェハを、親水処理した後に高温奪
囲気にて脱水して接合し、その後チップ状にダイシング
することによりセンシングエレメント1を構成している
。
記接合面12aにおいて接合することにより、前記セン
シングエレメント1が構成される(第2図、第3図参照
)。接合方法としては、例えば5i−3iの直接接合に
よるもの、あるいはSi表面を酸化してSin、−3i
n、の接合によるものがある。本実施例においては、セ
ンシングチップ用に所定の加工と素子形成を施した第1
のシリコンウェハと、カバーチップ用に所定の加工を施
した第2のシリコンウェハを、親水処理した後に高温奪
囲気にて脱水して接合し、その後チップ状にダイシング
することによりセンシングエレメント1を構成している
。
上記の如く構成したセンシングエレメント1を、前述の
ようにエレメントホルダ2に気密的に覆着する。その時
、前記圧力導入ボート2aの側壁に設けられたリード引
込み用の小径間口2bとセンシングエレメントlに設け
られたり−ド取出穴12bが位置合わせされる。
ようにエレメントホルダ2に気密的に覆着する。その時
、前記圧力導入ボート2aの側壁に設けられたリード引
込み用の小径間口2bとセンシングエレメントlに設け
られたり−ド取出穴12bが位置合わせされる。
さらに、第1図において、エレメントホルダ2の圧力導
入ポート2aの内壁には、段部21が設けられており、
該圧力導入ポート2aはその人口部に比して奥部におい
て狭くなるように構成されている。従って、前述のよう
に圧力導入ボート2a内壁にはセンシングエレメントl
が覆着されているために、小径間口2b付近、すなわち
センシングエレメント1のリード取出領域での隙間は非
常に狭いものとなっている。また、センシングエレメン
ト1の受圧部としての受圧ダイヤフラム11aは、圧力
導入ポー)2aの人口近くに臨む構造となっている。
入ポート2aの内壁には、段部21が設けられており、
該圧力導入ポート2aはその人口部に比して奥部におい
て狭くなるように構成されている。従って、前述のよう
に圧力導入ボート2a内壁にはセンシングエレメントl
が覆着されているために、小径間口2b付近、すなわち
センシングエレメント1のリード取出領域での隙間は非
常に狭いものとなっている。また、センシングエレメン
ト1の受圧部としての受圧ダイヤフラム11aは、圧力
導入ポー)2aの人口近くに臨む構造となっている。
また、エレメントホルダ2の圧力導入ボート2a側と反
対側の端面にはリードプレート4が接着固定されており
、センシングエレメント1とリードプレート4とは小径
間口2bを挿通してワイヤ線10にて電気的に接続され
ている。すなわち、ワイヤ線10は、前述のセンシング
エレメントlのリード取出穴!2bを介して、前記電極
パッド113a〜113dと接続されている。また、リ
ードプレート4には、センシングエレメント1からワイ
ヤ線lOを介して入力される信号の増幅・温度補償処理
用の回路チップ5が接着固定されており、さらに回路チ
ップ5の出力信号を外部へ取り出すべくリード線6が接
続されている。
対側の端面にはリードプレート4が接着固定されており
、センシングエレメント1とリードプレート4とは小径
間口2bを挿通してワイヤ線10にて電気的に接続され
ている。すなわち、ワイヤ線10は、前述のセンシング
エレメントlのリード取出穴!2bを介して、前記電極
パッド113a〜113dと接続されている。また、リ
ードプレート4には、センシングエレメント1からワイ
ヤ線lOを介して入力される信号の増幅・温度補償処理
用の回路チップ5が接着固定されており、さらに回路チ
ップ5の出力信号を外部へ取り出すべくリード線6が接
続されている。
さらに、第1図において、ハウジング3には筒体のカバ
ー7が溶接固定され、カバー7とハウジング3に接着固
定されたホルダ部材8により、前記リードプレート4が
保持されている。
ー7が溶接固定され、カバー7とハウジング3に接着固
定されたホルダ部材8により、前記リードプレート4が
保持されている。
上記構成において、その作用を説明する。例えば、上記
圧力検出器を内燃機関の燃焼室壁にハウジング3に設け
られたネジ部3aによって固定し、圧力導入ポー)2a
を燃焼室内に臨ましめたとすると、センシングエレメン
トlに構成された受圧ダイヤフラムllaの受圧面は、
圧力導入ポート2aの入口近くの・広口部にあるため、
燃焼室内の高温・高圧の流体(最高温度400〜500
°C2最高圧力100 kg f /cj)にさらされ
ることになる。
圧力検出器を内燃機関の燃焼室壁にハウジング3に設け
られたネジ部3aによって固定し、圧力導入ポー)2a
を燃焼室内に臨ましめたとすると、センシングエレメン
トlに構成された受圧ダイヤフラムllaの受圧面は、
圧力導入ポート2aの入口近くの・広口部にあるため、
燃焼室内の高温・高圧の流体(最高温度400〜500
°C2最高圧力100 kg f /cj)にさらされ
ることになる。
受圧ダイヤフラムllaに圧力が作用すると、ダイヤフ
ラムllaはこれに応じて変形し、受圧面と反対側の端
面に設けられた半導体歪ゲージ素子111a〜1lld
が各々抵抗値変化する。すなわち、薄肉となったダイヤ
フラムllaの中心部に配置された前記歪ゲージ素子1
11a、111cの抵抗値は著しく変化する。一方、i
t i b。
ラムllaはこれに応じて変形し、受圧面と反対側の端
面に設けられた半導体歪ゲージ素子111a〜1lld
が各々抵抗値変化する。すなわち、薄肉となったダイヤ
フラムllaの中心部に配置された前記歪ゲージ素子1
11a、111cの抵抗値は著しく変化する。一方、i
t i b。
111dは厚肉部に配置されているためにその抵抗変化
はほとんど生じず、そのため、第6図に示すブリッジの
バランスは変化することになる。リード電極112b、
112dには定電流あるいは定電圧が印加されており、
前記ブリッジのバランス変化によって、リード電極11
2a、112cに現れる出力はダイヤフラムllaに作
用した圧力に応じたものとなる。しかして、この出力が
ワイヤ線10.リードプレート4を介して回路チップ5
に入力され、増幅・温度補償処理されて、リード線6に
より外部へ取り出される。
はほとんど生じず、そのため、第6図に示すブリッジの
バランスは変化することになる。リード電極112b、
112dには定電流あるいは定電圧が印加されており、
前記ブリッジのバランス変化によって、リード電極11
2a、112cに現れる出力はダイヤフラムllaに作
用した圧力に応じたものとなる。しかして、この出力が
ワイヤ線10.リードプレート4を介して回路チップ5
に入力され、増幅・温度補償処理されて、リード線6に
より外部へ取り出される。
その時、小径間口2b付近、すなわちセンシングエレメ
ント1のリード取出領域(電極バッド113a〜113
d)では、段部21によって圧力導入ポート2aが非常
に狭くなっているために、クエンチング効果によって、
燃焼の火炎が入り込みにくく温度上昇を迎えることがで
き、高温によるボンディング部の信頼性の低下を防止す
ることができる。
ント1のリード取出領域(電極バッド113a〜113
d)では、段部21によって圧力導入ポート2aが非常
に狭くなっているために、クエンチング効果によって、
燃焼の火炎が入り込みにくく温度上昇を迎えることがで
き、高温によるボンディング部の信頼性の低下を防止す
ることができる。
また、前述のように受圧ダイヤフラムllaは高温・高
圧の流体にさらされることになるが、上記実施例では、
絶8i層110を介して半導体歪ゲージ素子を形成する
Sol構造で各々絶縁分離しているために、PN接合を
有さす、従って温度上昇と共に発生ずるPN接合部のリ
ーク電流の発生という問題を生じることなく高温下での
高圧測定を高感度に行うことができる。
圧の流体にさらされることになるが、上記実施例では、
絶8i層110を介して半導体歪ゲージ素子を形成する
Sol構造で各々絶縁分離しているために、PN接合を
有さす、従って温度上昇と共に発生ずるPN接合部のリ
ーク電流の発生という問題を生じることなく高温下での
高圧測定を高感度に行うことができる。
また、センシングエレメント1はエレメントホルダ2に
燃焼室内の高圧圧力によって押しつけられる圧縮力を受
けることになるため接合部の強度保証の点で有利となり
、しかも両者の接合強度が小さくても、高いシール性を
確保することができる。
燃焼室内の高圧圧力によって押しつけられる圧縮力を受
けることになるため接合部の強度保証の点で有利となり
、しかも両者の接合強度が小さくても、高いシール性を
確保することができる。
さらに、センシングエレメント1は前述のように2枚の
シリコンチップを接合したものであり、半導体歪ゲージ
、リード電極等が内部に収納される構造となる。そのた
め、センシングエレメントlをエレメントホルダ2へ接
合する際、取り扱いが容易となる。
シリコンチップを接合したものであり、半導体歪ゲージ
、リード電極等が内部に収納される構造となる。そのた
め、センシングエレメントlをエレメントホルダ2へ接
合する際、取り扱いが容易となる。
また、上記実施例では、リードプレート4上に回路チッ
プ5を構成しているので、歪ゲージの構成するブリッジ
の出力をそのまま外部に取り出す場合と比べて、電気雑
音に対するS/N比が向上している。
プ5を構成しているので、歪ゲージの構成するブリッジ
の出力をそのまま外部に取り出す場合と比べて、電気雑
音に対するS/N比が向上している。
なお、上記一実施例においては、センシングエレメント
1のカバーチップ12の上面が全面にわたってエレメン
トホルダ2と接触するように構成されているが、第7図
に示すもののように、センシングエレメント1の長手方
向の一方端にある受圧端がエレメントホルダ2と接触し
ないように、エレメントホルダ2に逃し部2cを設ける
ようにしてもよい、これにより接合時に生じる応力が、
検出部である受圧ダイヤフラムの構成される薄肉部およ
び半導体歪ゲージ素子に直接作用するのを防ぐことがで
き、より安定した出力を得ることができる圧力検出器を
提供することができる。
1のカバーチップ12の上面が全面にわたってエレメン
トホルダ2と接触するように構成されているが、第7図
に示すもののように、センシングエレメント1の長手方
向の一方端にある受圧端がエレメントホルダ2と接触し
ないように、エレメントホルダ2に逃し部2cを設ける
ようにしてもよい、これにより接合時に生じる応力が、
検出部である受圧ダイヤフラムの構成される薄肉部およ
び半導体歪ゲージ素子に直接作用するのを防ぐことがで
き、より安定した出力を得ることができる圧力検出器を
提供することができる。
第1図は本発明一実施例の圧力検出器の主要部構造を示
す断面図、第2図および第3図はセンシングニレメンl
−1の構造を示す詳細図、第4図はセンシングチップl
lの構造を示す詳細図で、同図(a)は平面図、同図(
b)は同図(a)に示すもののAA断面図、第5図はカ
バーチップ12の構造を示す詳細図で、同図(a)は同
図(b)に示すもののB−B断面図、同図中)は底面図
、第6図はブリッジ回路図、第7図はエレメントホルダ
2の他の形状を示す図、第8図は従来例を示す圧力検出
器の全体断面図である。 ■・・・センシングエレメント、2・・・エレメントホ
ルダ、2a・・・圧力導入ポー)、2b・・・小径開口
。 2c・・・逃し部、3・・・ハウジング、3a・・・ネ
ジ部。 4・・・リードプレート、10・・・ワイヤ線、11・
・・センシングチップ、11a・・・受圧ダイヤフラム
、12・・・カバーチップ、12a・・・接合面、12
b・・・リード取出穴、21・・・段部、110・・・
絶縁層、111a〜111d・・・半導体歪ゲージ素子
、112a〜112 d−・・リード電極、 113
a−113d−・・電極パッド。 2 +2b 第 2 図 第 図 第 4 第 図 第 図
す断面図、第2図および第3図はセンシングニレメンl
−1の構造を示す詳細図、第4図はセンシングチップl
lの構造を示す詳細図で、同図(a)は平面図、同図(
b)は同図(a)に示すもののAA断面図、第5図はカ
バーチップ12の構造を示す詳細図で、同図(a)は同
図(b)に示すもののB−B断面図、同図中)は底面図
、第6図はブリッジ回路図、第7図はエレメントホルダ
2の他の形状を示す図、第8図は従来例を示す圧力検出
器の全体断面図である。 ■・・・センシングエレメント、2・・・エレメントホ
ルダ、2a・・・圧力導入ポー)、2b・・・小径開口
。 2c・・・逃し部、3・・・ハウジング、3a・・・ネ
ジ部。 4・・・リードプレート、10・・・ワイヤ線、11・
・・センシングチップ、11a・・・受圧ダイヤフラム
、12・・・カバーチップ、12a・・・接合面、12
b・・・リード取出穴、21・・・段部、110・・・
絶縁層、111a〜111d・・・半導体歪ゲージ素子
、112a〜112 d−・・リード電極、 113
a−113d−・・電極パッド。 2 +2b 第 2 図 第 図 第 4 第 図 第 図
Claims (3)
- (1)先端部を圧力室内に臨ましめるとともに内部に空
間を保有するハウジングと、 このハウジングの先端部に気密的に保持せしめられると
ともに、一端閉鎖の圧力導入路を有するエレメントホル
ダと、 前記圧力導入路の内壁の所定の位置に固定されて、前記
圧力導入路に導入される流体の圧力を検出するべく歪ゲ
ージ素子を接合固定した受圧ダイヤフラムが形成された
センシングエレメントとを有し、 前記エレメントホルダは、前記圧力導入路において流体
導入口部よりも奥部が狭くなるように形成され、かつ、
この狭くなった前記圧力導入路の奥部側壁には前記ハウ
ジングの内部空間に連通する開口部が配設され、 前記センシングエレメントは、その長手方向に所定の長
さを有する形状に構成されて、この長手方向における一
方端を受圧部として前記受圧ダイヤフラムが形成される
とともに、他方端に前記開口部を介して前記内部空間に
リードを取り出すリード取出領域が配設され、 前記所定の位置は、前記エレメントホルダの開口部が前
記センシングエレメントの前記リード取出領域にて気密
的に覆着されるべく規定され、前記センシングエレメン
トの前記受圧部は前記圧力導入部の流体導入口部に臨ま
しめられたことを特徴とする圧力検出器。 - (2)前記センシングエレメントは、箱状とし、側壁の
一部を薄肉となしてこれを受圧ダイヤフラムとなし、こ
の受圧ダイヤフラムの受圧面と反対側の前記センシング
エレメントの内側面に半導体歪ゲージ素子を形成し、前
記センシングエレメントの他方端のリード取出領域まで
リード電極を前記半導体歪ゲージ素子と同じ半導体で配
線形成したことを特徴とする請求項1記載の圧力検出器
。 - (3)前記センシングエレメントをシリコンで構成し、
絶縁層を介して前記半導体歪ゲージ素子および前記リー
ド電極を形成したことを特徴とする請求項2記載の圧力
検出器。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17863689A JPH0342541A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 圧力検出器 |
| US07/807,629 US5181417A (en) | 1989-07-10 | 1991-12-13 | Pressure detecting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17863689A JPH0342541A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 圧力検出器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0342541A true JPH0342541A (ja) | 1991-02-22 |
Family
ID=16051926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17863689A Pending JPH0342541A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 圧力検出器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0342541A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001108554A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 圧力センサ |
| JP2012154801A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Denso Corp | 圧力センサ |
| CN114295276A (zh) * | 2020-10-08 | 2022-04-08 | 阿自倍尔株式会社 | 压力测定装置 |
-
1989
- 1989-07-10 JP JP17863689A patent/JPH0342541A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001108554A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 圧力センサ |
| JP2012154801A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Denso Corp | 圧力センサ |
| CN114295276A (zh) * | 2020-10-08 | 2022-04-08 | 阿自倍尔株式会社 | 压力测定装置 |
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