JPH0342697B2

JPH0342697B2 -

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Publication number: JPH0342697B2
Application number: JP60240461A
Authority: JP
Priority date: 1985-10-29
Filing date: 1985-10-29
Publication date: 1991-06-28
Also published as: JPS62102538A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の属する分野〕本発明はマスクまたはレチクル基板の搬送装置
に関し、特に半導体露光装置においてマスクまた
はレクチルを都合良く搬送する装置に関する。

〔従来の技術〕

IC、LSI、超LSI等の半導体の製造上解決しな
ければならない事項の１つとして、マスクまたは
レクチルへの塵埃付着の問題がある。マスクに形
成された超微細な回路パターンをウエハに転写す
るとき、マスクに塵埃が付着しているとウエハに
転写された回路パターンの損害につながり、後工
程を経て製品化されたLSI等の半導体装置の性能
を低下させるばかりでなく、最悪の場合半導体装
置の機能全体を損わせてしまう。

しかしながら従来の半導体製造装置に於いては
作業員が直接手によつてマスクまたはレチクルを
マスクホルダに装填しなければならないため、人
体からの塵埃がマスクまたはレチクルに付着する
可能性が大きい。さらに近年マスクの直径が大き
くなつてきたことに伴ない手で扱いにくくなつて
きており、作業員の取扱い上の不注意により、マ
スクに傷を付けたり破損の恐れもある。

また、従来、マスクをセツトする際、その露光
領域に於て、マスク上に設けられたマスクに対し
てウエハの位置を合せる為の位置整合マークが観
察用顕微鏡の視野中央に入るように、マスクの位
置合せが作業者によつて行なわれているが、こう
いつた作業も人間の介在を極端にきらうクリーン
ルームでは省略したい作業である。

ところで、このようなマスクまたはレクチルの
自動搬送装置は、既にいくつかが開発され使用さ
れている（特開昭57−64930、特開昭55−62729、
特開昭52−143771など）。

ところが、これらの自動搬送装置ではマスクま
たはレクチルがその装置に装填される時、マスク
またはレクチルが裸のままであつたり、また例え
ば何らかの容器に収納された状態で装填されたと
しても、搬送時はその容器からマスクまたはレク
チルを抜き取つて搬送するというシステムをとつ
ている。しかしこれらは、マスクまたはレクチル
が装填された後または搬送中に完全にマスクまた
はレクチルが露出される為、ゴミが付き易く、ま
た何らかの外乱があつた場合、破損し易い状態と
なる。従つて、マスクまたはレクチルは非常に高
価で、また非常に高精度であるという性質上、何
らかの容器に収納した状態で自動搬送装置に装填
することは言うまでも無く、装置内部の搬送経路
でもできる限り容器に保護された状態で搬送する
ことが望ましい。

〔発明の目的〕

本発明は、上述の従来形における問題点を解決
するとともに、この装置を露光装置に付加するこ
とにより、人手を一切介すことなく露光装置を稼
動させることを可能とするマスクまたはレチクル
基板の搬送装置を提供することを目的とする。

〔発明の構成〕

上記の目的を達成するため、本発明に係るマス
クまたはレチクル基板の搬送装置は、マスクまた
はレチクル基板が載置される下蓋と、この下蓋に
対して着脱自在に形成される上蓋を有し、これら
により前記基板を略密閉状態に収納する防塵カセ
ツトが複数装填されるカセツトキヤリアと、前記
カセツトキヤリアに対して進退自在に移動し、前
記防塵カセツトの上蓋を前記カセツトキヤリアに
残した状態で、前記基板を前記防塵カセツトの下
蓋と一緒に前記カセツトキヤリアから取出すフオ
ークを有するフオークユニツトと、前記フオーク
によつて前記防塵カセツトの下蓋を取出した後、
前記カセツトキヤリア内で複数の前記防塵カセツ
トが積層される方向に、前記フオークユニツトを
前記カセツトキヤリアに対して相対的に移動する
エレベータユニツトと、前記エレベータユニツト
によつて前記フオークユニツトが前記カセツトキ
ヤリアに対して所定の位置関係まで移動された
後、前記防塵カセツトの下蓋内の前記基板を吸着
保持し、前記防塵カセツトの下蓋から前記基板を
取出すハンドを有するハンドユニツトと、前記ハ
ンドによつて取出された前記基板が載置され、前
記基板を吸着保持する基板ステージと、前記基板
ステージに吸着保持された前記基板上のマークを
光電的に検出する光電検出系を有し、この光電検
出系を用いた前記マークの検出結果に応じて前記
基板ステージの移動を制御し、前記基板を所定の
位置に位置合せする位置合わせユニツトと、前記
位置合わせユニツトによる前記基板の位置合わせ
が終了した後、前記基板を基板設定位置に搬送す
る搬送ユニツトとを有することを特徴とする。

〔実施例の説明〕

以下図面を用いて、本発明の実施例、特に半導
体装置に於て円形マスクを自動搬送する場合を例
に挙げて説明する。

第１図は本発明の一実施例に係るマスクの自動
搬送装置の概略の構成を示す斜視図であり、第２
図はこの搬送装置の中でマスクが防塵カセツトに
収納されている状態から露光ステージへ搬送され
る経路の概念図である。

第１図に於て、防塵カセツト１はカセツトキヤ
リア２に積層されており、本体１０はカセツトキ
ヤリア２から防塵カセツト１しかもマスクが載置
された下蓋のみを抜き取り、最終的にそのマスク
を露光ステージ（不図示）に搬送する機構が備え
られている。

第１図および第２図を参照して、マスクの概略
の流れと各機構の動作を述べる。

マスクは最初マスク位置９ａで、下蓋と上蓋よ
り構成された防塵カセツト１に収納された状態で
カセツトキヤリア２に装填されている。この状態
でオペレータが所望のマスクの入つた防塵カセツ
トの収容されているスロツト番号を指定する。す
ると上下方向に移動するエレベータユニツト４に
支持されるフオーク３が上下してその防塵カセツ
ト位置まで移動し、その後マスクの載置された状
態で下蓋を抜き取る。カセツトの上蓋は抜き取ら
ない。

なお、フオークユニツト３の上下方向位置は固
定のインデツクス板５およびエレベータユニツト
４に設けたフオトスイツチ６によつて第３図Ａ，
Ｂに示す如く光電的に精密に定まり、後述するフ
オークユニツト３の上下移動による上蓋と下蓋の
係止若しくは係止解除を安定したものとしてい
る。

この状態でのマスク位置を９ｂ（第２図）で示
す。次に、このままフオーク３は上昇し、マスク
はマスク位置決めステージ８へ移される。ここ
で、マスク位置決め用光学系１１によつてマスク
９ｃが位置決めされ、その後マスクハンド７、マ
スクローダ１２上の位置９ｄを介して露光ステー
ジ位置９ｅに搬送される。このようにしてマスク
は防塵カセツトから本体１０、マスクローダ１２
を介して露光ステージへ自動搬送される。

以上が本実施例のマスク自動搬送装置内部での
マスクの流れである。

以下に順を追つて、本装置の各部の詳細につい
て述べる。

第４図は、本実施例で用いられる防塵カセツト
１の斜視図であり、第５図は防塵カセツトの下蓋
の概略図である。第４図において、上蓋２１の前
壁２２の中央部２２ａは両端部２２ｂに比べて突
き出ており、一方引込んだ両端部２２ｂにはそれ
ぞれ可撓性の逆Ｌ字形の係止部材２３が一体的に
取り付けられている。この逆Ｌ字形の係止部材２
３の穴部２３ｂは、第５図の下蓋１３の前壁の両
端部の対応する位置に形成された係止用突起１５
とはまり合う。

また、下蓋１３の両側面には案内ピン１６があ
り、上蓋１の側壁部２４ｂの対応する位置に設け
られた案内溝とゆるく嵌合する。この案内ピン１
６が、上蓋の案内溝に嵌合した状態で、先の係止
用部材２３の穴部２３ｂが係止用突起１５とはま
り合うことにより、上蓋２１と下蓋１３は十分に
密閉される。

次に、上蓋２１の側壁部２４ｂの下端に設けら
れる突出片２６は第７図に示されるようにカセツ
ト１を複数段に重ねて収納するためのキヤリア２
の保持部材４４に保持され、かつ案内ピン１６が
案内溝の最奥部に位置したときの該位置を支点と
して揺動可能となつている。

これによつて上蓋２１は係止部材１５，２３の
係止が解かれると案内ピン１６が案内溝の最奥部
に位置したときの位置１６ａ（第７図）を支点と
して回転され所定回転角位置に設けられるストツ
パによつて回転が停止し斜設状態となる。

また、下蓋の両側には突出片１４が設けられて
おり、この突出片の下面は後述する自動搬送の場
合、フオーク部によつて載置される。

さらに、第５図で下蓋の中について説明する
と、下蓋１３の内部中央付近にはマスクまたはレ
クチルを載置させる為の、底部から直立する環状
部１８が配置されている。この環状部１８の上端
面には、３個以上の突起２０が等間隔に配置さ
れ、この突起２０の上にマスク１７が、そのパタ
ーン面を下に向けて載置される。この時、マスク
の下面にペリクル膜を取り付けても何ら支障はな
い。

環状部１８の周囲には、同心円状に位置決めピ
ン１９が直立している。この位置決めピン１９は
マスク１７を環状部１８に載置するときマスク１
７の位置を下蓋１３内のほぼ中央部に定めるのに
役立つ。このためピン１９の高さは、環状部１８
に置かれたマスク１７の上面位置と等しいか或い
は高く設立されるのが都合良い。

さて次に、この防塵カセツト１からマスクの載
置された下蓋１３のみを自動的に取り出す手順に
ついて説明する。先に述べたように防塵カセツト
１はカセツトキヤリア２に積層されており、これ
がフオークユニツト３によつて下蓋１３のみが自
動搬送される。

第６図は、フオークユニツト３の外観を示す図
である。フオーク３ａ，３ｂは下蓋１３の両側壁
よりやや大きな間隔を有し、下蓋１３の突出片１
４の下面を載置する。

第７図〜第１０図はフオークユニツト３を用い
たマスクの自動搬送の様子を示す。

第７図は、フオークユニツト３が所定の防塵カ
セツトへ近づくよう水平方向に移動された状態を
示す。

なおこのとき防塵カセツトについては上蓋１の
突出片２６がキヤリアの保持部材４４に保持さ
れ、また上蓋２１と下蓋１３は係止部材１５，２
３で一体化されるため防塵カセツトは一体的にキ
ヤリアによつて支持固定された状態である。

なお下蓋の突出片１４はキヤリアの案内用ベア
リング４３によつて保持される。

次に第８図はフオークユニツト３がエレベータ
ユニツト４により上方へ数mmシフト（フオークユ
ニツト３は下蓋１３の突出片１４の下面を支持す
ると共に、フオークユニツト３中のベアリング４
６が係止部材１５，２３の係止を解除）する状態
を示す。

上蓋２１はスプリング４５の付勢力で支点１６
ａを中心に時計方向に回転し、不図示のストツパ
で回転方向位置が規制され図の如く斜めにもち上
がつた状態で停止する。

なお支点１６ａは、案内ピン１６が案内溝の最
奥部にあるときの位置である。

第９図はフオークユニツト３が下蓋１３を載置
して水平方向に後退する、すなわち下蓋１３を引
き抜く状態を示す。なお第９図のフオークユニツ
ト３の上下方向位置は第８図と同じである。ま
た、下蓋１３はフオークユニツト３上で搬送方向
の位置が規制される。

第１０図はフオークユニツト３が後退位置に達
した状態を示す。

この後下蓋１３はエレベータユニツト４により
最上位置に運ばれ、マスクはマスクハンドユニツ
ト７の下に到達する。

以上が自動搬送システムによるマスクの抜き取
りの順であるがマスクを防塵カセツト内に挿入す
る場合は前述したフローを逆に戻る。すなわちマ
スクは下蓋１３に載置されてフオークユニツト３
によつて防塵カセツトに近づくよう移動され下蓋
１３の案内ピン１６が上蓋２１の案内溝の最奥部
に達する。

そしてフオークユニツト３が下方にシフトされ
るとフオークユニツト３の爪部４７が係止部材２
３を押し下げるため上蓋２１は支点１６ａを中心
に反時計方向に回転し、上蓋２１の係止部材２３
が下蓋１３の突起１５と係合し、上蓋２１と下蓋
１３は一体化する。

そしてフオークユニツト３は下方にシフトされ
た位置から水平に後退する。

ここでインデツクス板５とフオトスイツチ６に
よるフオークの上下位置検出を第３図Ａ，Ｂに示
す。

固定のインデツクス板５に対し、４つのフオト
スイツチ６ａ〜６ｄがエレベータユニツト４に設
けられる。

第３図Ａでフオトスイツチ６a′〜６d′は上蓋１
を閉じるためフオークユニツト３が下方向にΔだ
けシフトした場合の４つのフオトスイツチの位置
を示す。

第３図Ｂは第３図Ａを紙面の上方向から見た図
で、例えばフオトスイツチ６ｃの如く、投光部６
ｐからの光がインデツクス板５で遮光され受光部
６ｑに届かず出力が無い状態を示している。

フオークユニツト３の上下方向低い位置（第７
図参照）はフオトスイツチ６b′と６c′で検出され
る。一方、フオークユニツト３の上下方向高い位
置（第８図乃至第１０図参照）はフオトスイツチ
６ａと６ｄで検出される。

なお図中l₁，l₂は各インデツクス板５の遮光部、
開口部の長さであつて両者は絶対値を異ならしめ
ており、（l₁＋l₂）はカセツトキヤリア２のカセツ
ト収納位置の各間隔に一致する。

以上の操作によつて、カセツトキヤリア２か
ら、フオークユニツト３によつて下蓋１３と共に
自動搬送されたマスク１７はエレベータ４の最上
位置に搬送され、ここで一旦ハンンドユニツト７
によつて上面を吸着され、マスク位置決めステー
ジ８のθステージ３９まで搬送される。以下に、
マスク位置決めに関し詳述する。

第１１図は、マスク位置決めステージ８および
マスク位置決め用光学系１１の概念図である。

第１１図において、円形マスク１７はθステー
ジ３９の上に搬送される。θステージ３９は、
360゜以上のフル回転が可能である。

マスク１７がθステージ３９の上に運ばれる
と、４個の押付ローラ３４ａ〜３４ｄ（３４ｃは
不図示）によつてマスク１７が外形基準でＸ，Ｙ
方向に略固定位置決めされる。そしてマスク１７
がθステージ３９に真空吸着によつて固定された
後、押付ローラ３４ａ〜３４ｄはマスクから離れ
る。

さてこのマスク位置決めステージ８の上にはマ
スク位置検出用の光学系１１が配置されている。
すなわち５１は光源、５２ａ，５２ｂはCCDカ
メラ、５３ａ，５３ｂはプリズム、５４はハーフ
ミラー、５５ａ，５５ｂは反射ミラー、５６ａ，
５６ｂは対物レンズであり、これらによつて後述
のマスクの位置検出をする。

マスクのＸ，Ｙ方向のセンタリングの後、θス
テージ３９は粗動回転を始め同時にCCDライン
センサを有するCCDカメラは作動を始め第１２
図Ａに示される如きマスク位置決め用パターンの
像が第１２図Ｂの如くCCDラインセンサ上にオ
ーバラツプし、マスク位置決め用パターンが電気
的に検出できる位置になると回転が停止する。そ
してθステージ３９はある角度だけ逆転し、一旦
対物レンズの視野から位置決めパターンがなくな
つた後、再び正転する。この時、θステージは、
微速で送られ、対物レンズの視野の中の（所定の
位置合せされるべき）位置にマスク位置決めパタ
ーンが検出された時、θステージは停止する。一
旦逆転し、微動に切換えて再び正転するのは、
CCDラインセンサの走査速度が、θステージの
粗動時の移動速度に比べて遅く、粗動のまま位置
決めしようとするとオーバーランしてしまい、位
置決め精度が劣化する可能性がある為である。な
お第１１図で３３ａ，３３ｂはシリンダ、３０は
θ方向駆動用のパルスモータ、３１，３２はギア
である。

次にCCDラインセンサによる位置検出原理に
ついて説明する。

第１３図において、５０はCCDカメラ、５８
はモデル的に示されたCCD撮像素子、６１は投
影光学系、５７は第１２図に示される如き三角形
の位置決め用パターンである。CCD撮像素子５
８は現在市販されているもののうち最も素子数の
多い2048個の素子をもつものである。マスク位置
決め用パターンによつて反射された光は投影光学
系６１によつて、例えば10倍に拡大されCCD撮
像素子５８に達する。この時の出力信号を素子の
長さに対応させて表わすと第１３図Ｂの出力信号
５９のようになる。この出力信号５９をある任意
のスレシヨールドレベル（しきい値）６０で切る
と、位置切め用パターンのエツジ５７ａ，５７ｂ
に対応するCCD撮像素子５８ａ，５８ｂが一義
的に決定される。

従つて第１２図Ｂに示す如く、この素子５８
ａ，５８ｂさらには位置決め用パターン５７′の
エツジに対応するCCD撮像素子５８a′，５８b′の
位置が絶対的にどこにあるかを調べることにより
位置決めパターンの位置ずれを正確に検知でき
る。

因みに第１２図Ｂでθ方向にずれがあるときは
素子５８ａ，５８ｂの中点位置がマイナス側にあ
るのに対し、素子５８a′，５８b′の中点位置はプ
ラス側となる。

また、ｘ方向にずれがあるときは素子５８ａ，
５８ｂの間隔と素子５８a′，５８b′の間隔にアン
バランスを生ずる。

さらにｙ方向にずれがあるときは素子５８ａ，
５８ｂおよび素子５８a′，５８b′が共にプラス側
或いはマイナス側となる。

このようにして位置合せが行なわれると素子５
８ａ，５８ｂの中点位置、素子５８a′，５８b′の
中点位置は、第１２図ＢでＯ位置となり、しかも
素子５８ａ，５８ｂ，５８a′，５８b′の絶対位置
は所定位置となる。

本発明において用いられるCCD撮像素子は１
個の素子の大きさが14μｍであり10倍の投影光学
系を用いていることから単純に考えるとエツジ検
出の分解能は約1.4μｍとなるが、実際は、光学系
のフオーカスずれ、光軸のたおれ、照度ムラ等の
要因によつてCCD撮像素子の出力信号のＯレベ
ルから、１レベルへの立上りの勾配が変動する
為、事実上の分解能は、理想的分解能の３〜５倍
の４〜6μｍ程度と推定される。

以上の過程を経てθ位置を決定すると同時に、
ｘ、ｙ方向のずれ量も測定し、この値に応じて、
マスクまたはレクチルを露光位置に搬送した後
に、露光位置のｘ、ｙステージによりこのｘ、ｙ
方向のずれ量を補正してやれば、非常に高精度
な、マスクの位置決めが可能となる。

ここで、マスク１７がθステージ３９の上に運
ばれた後の４個の押付ローラによるＸ、Ｙ位置決
め方式についてさら詳しく述べる。

第１４図において、３６ａ〜３６ｄは押付アー
ム３５ａ〜３５ｄをそれぞれθステージ３９の回
転中心Ｏからの半径方向に移動自在に支持する支
持台、３３ａ〜３３ｄは押付アーム３５ａ〜３５
ｄのそれぞれを駆動するためのエアーシリンダで
ある。支持台３６ａ〜３６ｄは基板４０（第１１
図）に固着されると共に、エアシリンダ３３ａ〜
３３ｄを図示の如く保持している。支持台３６
ｃ，３６ｄには押付アーム３５ｃ，３５ｄに支持
されたローラ３４ｃ，３４ｄの回転中心Ｏの方向
への移動量を規制するためのピン３８ａ，３８ｂ
が固着されている。このピン３８ａ，３８ｂによ
つて規制されたローラ３４ｃ，３４ｄはマスク１
７をセンタリングする際の基準となる。ローラ３
４ｂはマスク１７をＸ方向、即ちマスク１７をロ
ーラ３４ｄに当接させる方向に押圧し、ローラ３
４ａはマスク１７をＹ方向、即ちマスク１７をロ
ーラ３４ｃに当接させる方向に押圧する。ローラ
３４ａ，３４ｂを支持する押付アーム３５ａ，３
５ｂには、シリンダ３３ａ，３３ｂがアーム３５
ａ，３５ｂを回転中心Ｏの方向へ移動させる時、
シリンダ３３ａ，３３ｂの押圧力に抗する付勢力
を発生するバネ３７ａ，３７ｂが設けられてい
る。これにより、マスク１７をセンタリングする
際のローラ３４ａ，３４ｂのマスク押圧力はロー
ラ３４ｃ，３４ｄのマスク押圧力より弱くなつて
いる。これは４個のローラ３４ａ〜３４ｄの押圧
力が同等であると、マスク１７とマスク１７を支
持する部分間の摩擦力等の影響によつてアーム３
５ｃ，３５ｄがピン３８ａ，３８ｂに当接する前
の状態でマスク１７への押圧力がバランスして、
マスク１７のセンタリングが不正確となる可能性
があるので、これを防止するためである。

６０ａ，６０ｂは空気供給源６１からのエアを
制御するための制御弁で、制御弁６０ａはシリン
ダ３３ｃ，３３ｄを介してローラ３４ｃ，３４ｄ
の移動を同時に制御し、制御弁６０ｂはシリンダ
３３ａ，３３ｂを介してローラ３４ａ，３４ｂの
移動を同時に制御する。制御弁６０ａ，６０ｂは
マスク１７のセンタリングの際基準となるローラ
３４ｃ，３４ｄと基準ローラ３４ｃ，３４ｄにマ
スク１７の周縁を当接するためのローラ３４ａ，
３４ｂを独立に制御可能とするために設けられて
いる。センタリングの際には制御弁６０ａによつ
て、ローラ３４ｃ，３４ｄが第１５図ａの位置か
ら第１５図ｂの位置に移動して基準となつた後、
ローラ３４ａ，３４ｂが制御弁６０ｂによつて第
１５図ａの位置から第１５図ｃの位置へ移動す
る。このようにすれば、全ローラ３４ａ〜３４ｄ
を同時に駆動する場合に比して、各ローラのバラ
ンスまでの押し引きによるマスク１７の無駄な動
きを防止できるので、マスク１７のセンタリング
の精度、再現性を向上できる。

マスク１７の中心をホルダ３９の回転中心に一
致させた後の動作は先に述べたとうりである。

以上マスクのプリアライメントステージ上で位
置決めされたマスク１７は第２図に示すマスクハ
ンドユニツト７によつてマスクローダ１２に載置
されているマスクチヤツク位置９ｄに搬送され
る。

第１６図Ａはマスクハンドによつてマスクが真
空吸着され搬送されている様子を示す。ハンド７
１には、３個以上の真空吸着パツド７５が等間隔
に設けられマスク１７の上面を吸着する。しか
し、上面吸着である為、何らかの原因で真空路が
絶たれた場合、マスク１７は落下する。これを防
止する為に、マスク１７の下面に回り込むように
みて万一の場合に備えたマスク落下用ツメ７３が
ハンド７１に取り付けられている。このツメ７３
は軸７４を中心として回動する。回動は、シリン
ダ７２によつて行なわれる。第１６図Ｂはマスク
１７をマスクチヤツクに載置する際、ツメ７３が
シリンダ７２によつて回動された状態を示す。

また、吸着用の真空路の途中には、真空スイツ
チ（不図示）が設けられ、このスイツチによつて
マスクの有無を判断できるようになつているが、
さらにマスク有無検知の信頼性を上げる為と、マ
スクが落下しツメ７３の上に載つていてもマスク
１７が存在することを確認できるように、反射型
の光センサ７６がハンド７１に埋へ込まれてい
る。

前記実施例では、円形マスクの場合を例に挙げ
て記述したが、これが角形のマスクもしくはレチ
クルであつても何ら支障は無く、円形マスクの場
合と全く同等の性能が得られる。但し、この場
合、一部の機構の変更をともなう。第１５図に於
て、基準ローラ３４ｃ，３４ｄは各々１個であつ
たが、これを第１７図に示すように各々２個とす
ることによりθ成分も正確に位置決めが可能とな
る。

また、エレベータユニツト４によりフオーク３
を上下させる際の位置割り出しを第３図に示すよ
うにフオトスイツチ６を４個用いて行なつている
が、これは特にフオトスイツチによらなくても、
例えば、マグネスケールのようなリニアスケール
を用いても良いし、またエレベータの上下駆動を
伝達する為のタイミングベルトを駆動するタイミ
ングプーリ軸の回転量をポテンシヨメータ、ロー
タリーエンコーダ等により読み取るといつた方法
でも可能である。

さらに、第１１図に於て、CCDラインセンサ
によつて、マスクのずれ量を測定する場合、マス
ク位置決めユニツト１１はθステージ３９しか備
えていなかつたが、こに、Ｘ、Ｙステージを備
え、このマスク位置決めステージ上で、マスク１
７の位置決めを完全に行なつた後、マスクハンド
７によりマスク１７を搬送する手段をとつても良
い。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、第１にマ
スクをキヤリアからマスク位置決めステージへ搬
送する間、マスクをカセツト下蓋に載せたまま搬
送することにより、マスク下面のパターン面への
ゴミ付着の可能性を減少させるとともに、何らか
の事故等によるマスクへのダメージ発生の可能性
を減少させることができる。

第２のCCDイメージセンサを備えた光学系に
よつて、マスクに設けられた位置合せ用パターン
を検出し位置合せを行なうという方式をとつたこ
とにより、円形マスクの位置合せが可能となると
ともに、マスクの周辺基準による位置決めでは、
マスク周辺からのそのマスクのパターンの位置が
バラついた場合、その位置決め精度が劣化すると
いう問題を克服することができる。

さらに、このような高精度の位置決め機構を備
えたことにより、従来、マスクが露光位置に載置
された後、作業員がマスク観察用顕微鏡を見なが
ら、マスクを所定の位置に位置合せするといつた
作業も不要となる。

以上、半導体露光装置が本発明によるマスクま
たはレクチルの自動搬送装置を備えることによ
り、作業員の介入が全く不要となり、これは無塵
化、作業ミスの減少につながり、その結果IC、
LSI等の集積回路製造の歩留まりは大きく向上す
ることが期待される。

【図面の簡単な説明】

第１図は自動搬送システムの概略図、第２図は
自動搬送システムによるマスクまたはレチクル基
板の流れ、第３図Ａ，Ｂはインデツクス板とフオ
トスイツチによるフオークの上下位置検出の説明
図、第４図は防塵カセツトの上蓋と下蓋が組み合
わされた図、第５図は防塵カセツトの下蓋構造の
斜視図、第６図は自動搬送システムのフオーク部
を示す図、第７図〜第１０図は防塵カセツトの上
蓋と下蓋を分離して下蓋に載置されるマスクまた
はレチクル基板を搬送する場合の原理説明図、第
１１図は本実施例におけるマスクの位置を検出す
るためのシステムの一例を示す図、第１２図Ａは
本実施例においてマスクの位置決めに用いられる
位置決めマークの一例を示す図、第１２図Ｂはそ
のマークによる位置合せを説明する図、第１３図
Ａ，ＢはCDDカメラによつてマスクの位置決め
マークを検出する原理図、第１４図は本実施例の
ローラの駆動系を示す図、第１５図ａ〜ｃは本実
施例のローラ駆動の流れを示す図、第１６図Ａ，
Ｂは、本発明の自動搬送システムのハンド部を示
す図、第１７図は本実施例で角マスクを使用した
場合のローラの配置を示す図である。１：防塵カセツト、２：カセツトキヤリア、
３：フオークユニツト、４：エレベータユニツ
ト、５：インデツクス板、６：フオトスイツチ、
７：ハンドユニツト、８：マスク位置決めステー
ジ、１０：本体、１１：マスク位置決め用光学
系、１３：下蓋、１７：マスク、２１：上蓋、３
４：ローラ、３９：θステージ、５２：CCDカ
メラ、５７：位置決め用マーク、７１：ハンド、
７３：落下防止ツメ、７５：吸着パツド。

Claims

【特許請求の範囲】１マスクまたはレチクル基板が載置される下蓋
と、この下蓋に対して着脱自在に形成される上蓋
を有し、これらにより前記基板を略密閉状態に収
納する防塵カセツトが複数装填されるカセツトキ
ヤリアと、前記カセツトキヤリアに対して進退自在に移動
し、前記防塵カセツトの上蓋を前記カセツトキヤ
リアに残した状態で、前記基板を前記防塵カセツ
トの下蓋と一緒に前記カセツトキヤリアから取出
すフオークを有するフオークユニツトと、前記フオークによつて前記防塵カセツトの下蓋
を取出した後、前記カセツトキヤリア内で複数の
前記防塵カセツトが積層される方向に、前記フオ
ークユニツトを前記カセツトキヤリアに対して相
対的に移動するエレベータユニツトと、前記エレベータユニツトによつて前記フオーク
ユニツトが前記カセツトキヤリアに対して所定の
位置関係まで移動された後、前記防塵カセツトの
下蓋内の前記基板を吸着保持し、前記防塵カセツ
トの下蓋から前記基板を取出すハンドを有するハ
ンドユニツトと、前記ハンドによつて取出された前記基板が載置
され、前記基板を吸着保持する基板ステージと、前記基板ステージに吸着保持された前記基板上
のマークを光電的に検出する光電検出系を有し、
この光電検出系を用いた前記マークの検出結果に
応じて前記基板ステージの移動を制御し、前記基
板を所定の位置に位置合せする位置合わせユニツ
トと、前記位置合わせユニツトによる前記基板の位置
合わせが終了した後、前記基板を基板設定位置に
搬送する搬送ユニツトとを、有することを特徴とするマスクまたはレチクル基
板の搬送装置。２前記マスクまたはレチクル基板が、そのパタ
ーン面を下に向けて前記下蓋に載置されている特
許請求の範囲第１項記載のマスクまたはレチクル
基板の搬送装置。３前記位置合わせユニツトの光電検出系が、前
記基板上のマークによる反射光を受光する光学系
と、該光学系による前記マークの像を検出する光
電検出素子とを含む特許請求の範囲第１項または
第２項記載のマスクまたはレチクル基板の搬送装
置。