JPH0343423A - ポリシロキサンおよびポリシロキサンからなる光学素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光集積回路用導波路およびプラスチック光フ
ァイバなどのような光学材料および電気絶縁材料等のよ
うに電子部品材料として使用する、ハロゲン元素および
重水素を含むポリシロキサンに関するものである。

［従来の技術］ 光学部品および光ファイバの基材とし′Ｃは、光伝送損
失ｂｙ小さくかつ伝送イＩＦ域が広いことから、一般に
石英ガラスおよび多成分ガラス等のような無機系のもの
が使用されている。

一方、プラスチックを基材とする光学材料も開発されて
いる。これらのプラスチック光学材料は、無機系の材料
に比べて加工性がよく、取り扱い易い等の特１数を持つ
ことからン主目されている。

例えば光ファイバにおいては、ポリメチルメタクリレー
ト（ＰＭＭ八）あるいはポリスチレンのように透明性に
優れたプラスチックを芯（コア）とし、その芯成分より
も屈折率の低いプラスデックを鞘（クラッド）成分とし
た同心のコアークラッド構造からなるものが知られてい
る。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、これらのプラスチック光ファイバは、無
機系のファイバに比べて内部を伝達する光の減衰度合が
大きいという問題点がある。

光の伝達は光回路あるいはファイバの一端に入射した光
を長さ方向に沿って内部で全反射させることにより行な
うが、プラスチックの内部を光が伝達するときに、光が
吸収あるいは散乱されることＣよって光の減衰を強める
ような要因を最小にすることが重要である。

光回路部品においては現状の光フアイバ通信に用いられ
ている、波長が６５０〜１６００ｎｍの光を用いている
ので、光ファイバの材料としてプラスチックを用いる場
合、上述の波長領域における低損失化はより切実である
。

プラスチックの光伝送損失の最も大きな要因は、プラス
チックを構成する分子における炭素−水素間の赤外振動
吸収の高調波である。この炭素−水素結合に起因する高
調波を小さくし、また長波長シフトさせるために、プラ
スチック分子中の水素原子を弗素等のハロゲン原子ある
いは重水素原子で置換することが提案されている。

例えば、水素を弗素でｒａ換したプラスチックとしては
、エステル側鎖の水素の一部を弗素置換したポリメタク
リレート がＰＭＭＡより低損失となることが示された（例えば「
戒能俊邦、高分子論文集、４２巻、　１９８５年２５７
−２６４頁、高分子学会」参照）。

しかしながら、エステル側鎖あるいは主鎖のメチル基に
炭素−水素結合が残っているために低損失化は充分では
ない、エステル側鎖の水素をすべて重水素置換あるいは
弗素置換することは低損失化に有用と考えられる。しか
しながら、原料アルコールの安定性が悪い等の合成上の
問題があり、上述のような完全な置換体のモノマを得る
ことは非常に困難であった。

また、コア材料として用いられる重水素化ポリメチルメ
タクリレート −ＣＤ２−　Ｃ（ＣＤ３）− ０ＯＣＤ３ はポリメチルメタクリレートに比べると低損失化が図れ
るが、小さいながらもＣ’−Ｄ結合に起因する高調波吸
収があり、光集積回路のように１３００〜１６００ｎｎ
＋付近の光を用いる場合、光損失を無視することはでき
ない、さらにポリスチレン等に比べ吸湿性が高く、２を
程度の飽和吸湿率を持つ。

従って、湿度が高い環境では、水分子の０１１の振動吸
収が光損失に影響を与える。０１１振動吸収の高調波に
よって、特に近赤外域の光伝送損失は低下する（例えば
「戒能俊邦、　ｐｏｌｙｍｅｒ　ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ。

Ｊａｐａｎ、３２巻、４号、　１９８３年２５２５頁」
参照）。すなわち使用環境条件の湿度変化により光伝送
損失が変動するという問題点があった。

また、有機系ポリマ、特にポリメチルメタクリレート系
ポリマのガラス転移温度は一般に１００℃前後である。

そのため耐熱温度の上限は７０℃程度であり、実用的な
ものとしては使用することができなかった。そこで、こ
れらのような耐熱性に関する問題点を解決するものとし
て、ゴム状ポリシロキサンを用いた先導波路および光フ
ァイバが提案されている（例えば、特願昭６３−９８６
０３号）。これらは１憂れた耐熱性と安定した伝送特性
を示すが、側ｉｎにＣ−１１結合が存在するため光伝送
損失が高いという問題点がある。

本発明はこのような現状に鑑みてなされたものであり、
その目的は可視光〜近赤外光域において低損失であり、
しかも耐熱性に優れ、かつ吸湿に伴うＯＨ振動吸収の影
響の少ないプラスチック光学材料、撥水材等の表面ＩＡ
埋剤および酸素富化膜等の機能膜として使用可能なポリ
シロキサンを提供することにある。

［課題を解決するための手段］ このような目的を達成するために、本発明は、−数式 ＲＩ ５ｉ−０− ２ ［式中Ｒ３およびＲ２はそれぞれＣｎＹ２．、、　（Ｙ
は重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５以下の正の整数
）で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロ
ゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣｏＹｓ（Ｙは重
水素あるいはハロゲン元素）で表わされる同一または異
なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基］ で表わされる繰り返し単位からなる重合体であることを
特徴とする。

また、本発明は、−数式 ％式％ ［式中Ｒ１およびＲ２はそれぞれＣＩＩＹ２ｏ−１（Ｙ
は重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５以下の正の整数
）で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロ
ゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ，Ｙ５（Ｙは重
水素あるいはハロゲン元素）で表わされる同一または異
なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基］で表わさ
れる繰り返し単位からなる重合体であることを特徴とす
る。

さらに、本発明は、−数式 ％式％ ［式中ｎ１およびＲ２はそれぞれＣｎＹ２ｎ＋Ｉ（Ｙは
重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５以下の正の整数）
で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロゲ
ン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ，Ｙ、　（Ｙは重
水素あるいはハロゲン元素）で表わされる同一または異
なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基］はン で表わされる繰り返し単位＃＃≠ 一般式 ％式％ ［式中Ｒ１およびＲ２はそれぞれＣ１Ｙ２ｎや＋　　（
Ｙは重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５以下の正の整
数）で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハ
ロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ，Ｙ５（Ｙは
重水素あるいはハロゲン元素）で表わされる同一または
異なる重ことを特徴とする。

さらにまた、本発明の光学素子は、下記−数式（１）ま
たは（ｌりで表わされる繰り返し単位からなるポリシロ
キサンもしくは一般式（１）と（ＩＩ）のそれぞれの繰
り返し単位を含むポリシロキサンからなる光伝送媒体を
有することを特徴とする。

１２ １ ５ｆ−０− Ｒま ただし、式中Ｒ，およびＲ２はそれぞれｃｎＹ２□１〈
Ｙは重水素あるいはハロゲン元１ｈ、ｎは５以下の正の
整数）で表わされる同一または異なる重水素化あるいは
ハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ６Ｙｓ（Ｙ
は重水素あるいはハロゲン元素）で表わされる同一また
は異なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基である
。

［作　用］ 本発明においては、ポリシロキサン側鎖の水素をハロゲ
ン化あるいは重水素化することによりＣ−１１結合に起
因する高調波吸収を小さく、かつ長波長シフトさせるこ
とにより低損失の光学材料を得ることができる。また主
鎖構造がシロキサンであることから高い耐湿性を示すが
、ざらに側頭のハロゲン化によりポリマの吸湿性は大幅
に低下し、吸湿に基づく０−Ｈ振動吸収強度は極めて小
さくなる。ＰＭＭＡ系のポリマが吸湿性が大きいために
吸湿あるいは脱湿によって０１１基に基づく吸収強度が
大きく変動し、安定した導光特性が得られなかったのに
比べ、本発明は極めて安定した光特性を維持し得るとい
う特徴がある。

本発明のポリマは一般式（Ｉｌｌ）、（ＩＶ）あるいは
（Ｖ） Ｒ３ ＣＩ Ｃｌ−５ｔ−Ｃ１ （ｒＶ） ＣＩ ＣＩ で表わされるクロロシランの加水分解で得られるシラノ
ールや環状ポリシロキサンの単独重合あるいは共重合に
より得ることができる［式中Ｒ１＋Ｒ２は同一または異
なり、ＣＩ、Ｙ２゜、（Ｙは重水素あるいはハロゲン元
素、ｎは５以下の正の整数）で表わされる重水素化ある
いはハロゲン化アルキル裁、あるいはＣ，Ｙ、（Ｙは重
水素あるいはハロゲン元素）で表わされる重水素あるい
はハロゲン化フェニル基］、また、−数式（ＩＩＩ）、
（ＩＶ）あるいは（Ｖ）で表わされるクロロシランとア
ルコールを反応して得られる各種のアルコキシシランの
重合やハロゲノシランとアルコキシシランの縮重合によ
ってもポリマを得ることができる。

なお、ｎが６以上ではポリマのガラス転移温度が低くな
るので取り扱いに問題があり、ｎは５以下が望ましい。

本発明におけるポリマの製造法は、一般のボッシロキチ
ン製造法と同様であり、クロロシランをトルエンあるい
はキシレン等の有機６９１にｍ　解し、ＫＯｌｌ　、望
むらくはＫＯＤ等のアルカリで加水分解および重合を行
なわせるものである。

［実施例］ 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

■　１互のステンレス製オートクレーブに０５ｉＣ１゜
を２４４　ｇ　、　Ｃ６Ｄ６をｔ４ｏｇおよび触媒とし
てＢＣｌ３を仕込み、温度２７０℃のもとで最大圧力６
５ｋｇ／ｃｍ２で１０時間反応させた。冷却後、３４０
ｇの生成液を得た。

この生成液を常圧蒸留し、２００〜２０１　ｔの留分の
Ｃ６ＤｓＳｉＣ１３１３０ｇを得た。

■　３７．４ｇの５ｒＣ１ａを２００ｍ１のへブタンに
熔解したものを５００ｍ１のフラスコに入れた。次に滴
下ロートからフェニ、ルマグネシウムクロライドｄ−５
のテトラヒドロフラン溶液を５００ｒｎｌ／ｈの割合で
滴下し、かつ攪拌しつつ温度は４０−５０℃に保った。

滴下後２時間還流し、その後沈澱を濾過した。濾液を蒸
留し、常圧蒸留で２００〜２０１　’Ｃの留分のＣ６Ｄ
５ＳｉＣＩ＋を２０ｇ得た。

ｌＩＬのステンレス製オートクレーブに、Ｓｉ粉末４５
ｇ　、　Ｃｕ（：ｌ　ａｇおよびＺｎＣｌ２０．２５ｇ
をよく混合して充填した。この混合物を窒素気流中で４
３０℃に加熱し、ＣｕＨを還元した。冷却後、モノクロ
ロベンゼンｄ−５４０ｇを入れ、４３０℃で１５時間反
応させると約２０ｇのクロロシランが得られた。このク
ロロシランを蒸留塔で蒸留し、蒸気圧３０ｎ＋ｍ！Ｉｇ
で１８４〜１８６℃の留分のジフェニルジクロロシラン
ｄ−１０を１３ｇ得た。

管状電気炉中の石英製反応管に、Ｓｉ粉末４５ｇ。

ＣｕＣ１８ｇおよびＺｎＣｌ２０．２５ｇをよく混合し
て充填した。この混合物を窒素気流中において３００　
”Ｃに加熱し、ＣｕＣ１を還元した。さらに温度を３２
０℃に保ち、クロロメタンｄ−３を０．８１／ｈｒの割
合で反応管に流すと、　１５時間の反応で約２０ｇのク
ロロシランが得られた。このクロロシランを精留塔にお
いて精留し、６９〜７０℃の留分のジメチルジクロロシ
ランｄ−６を１２ｇ得た。

管状電気炉中の石英製反応管に、Ｓｉ粉末４５８゜Ｃｕ
Ｃ１８ｇおよびＺｎＣｌ２０．２５ｇをよくン毘合して
充填した。この混合物を窒素気流中において３００℃に
加熱し、ＣｕＣ１を還元した。さらに温度を３２０℃に
保ち、クロロメタンｄ−３を０．４１／ｈｒの割合で反
応管に流すと、１５時間の反応で約２０ｇのクロロシラ
ンが得られた。このクロロシランを精留塔において精留
し、６４〜６５℃の留分のメチルトリクロロシランｄ−
３を１４ｇ得た。

モノマ製造例４においてクロロメタンｄ−３の代わりに
クロロペンタンｄ−１１を用いることにより沸点！６６
〜１８８℃のペンチルトリクロロシランｄ−１１を１０
ｇ得た。

還流冷却器、温度計およびガス吹き込み管を備えた５（
１０ｍｌの４つ目フラスコの中央部に１００Ｗの水冷式
高圧水銀灯を設置し、新しく蒸留した（ＣＤ３）　ＤＳ
ｉＣｈ　８６ｇおよびＣａＯ２１３６ｇを仕込んだ。

マグネチックスターラにより仕込物を攪拌し、還流器内
を窒素ガスで置換した後、高圧水銀灯を点灯し、室温に
おいて塩素ガスを７０ｇ／ｈｒの割合で７時間吹き込み
反応させた。反応液的２２０ｇを減圧蒸留することによ
り、２０３〜２０５℃のフェニルメチルジクロロシラン
ｄ−８を５８ｇ得た。

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートな備えた２
００ｍ１のフラスコに、四塩化炭素１００ｍ１　、モノ
マ製造例１で得られたフェニルトリクロロシランｄ−５
２０ｇおよ“び鉄触媒０．２ｇを入れ、冷浴で冷却しつ
つ臭素５．３ｇを滴下した。１０時間反応させ、得られ
た反応液を蒸留し、蒸気圧１！１１０）１ｇで１２０〜
１２５℃の留分１５ｇを得た。

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートを備えた２
００ｍ１のフラスコに、四塩化炭素１００ｍ１　、千ツ
マ製造例１で得られたフェニルトリクロロシランｄ−５
２０ｇ、塩化第２鉄０１ｇおよび沃素０．１ｇを入れ、
塩素ガスを５０ｇ吹き込んだ、得られた反応液を蒸留し
、蒸気圧７ｍｍ１１ｇで８７〜８８℃の留分を１８ｇ得
た。

モノマ製造例１の工程■において、フェニルマグネシウ
ムクロライドｄ−５の代わりにフルオロフヱニルマグネ
シウムクロライドｄ−４を使用し、同様の条件により、
蒸気圧６　ｍ　ｍ　）Ｉ　ｇで１９４〜１９６℃の留分
のフルオロフェニルトリクロロシランｄ−４を得た。

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートを備えた２
００ｍ１のフラスコに、四塩化炭素１００ｍ１．モノマ
製造例１で得られたジメチルジクロルシランｄ−６２０
ｇ、塩化第２鉄０．３ｇおよび沃素０．１ｇを入れ、塩
素ガスを５０ｇ吹き込んだ。得られた反応液を蒸留し、
クロロメチルメチルジクロロシランｄ−５を１２ｇ得た
。

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートを備えた２
００ｍ１のフラスコに、四塩化炭素１００ｎ＋１．モノ
マ製造例２で得られたジフェニルジクロロシランｄ−１
０３０ｇ、塩化第２鉄０．３ｇおよび沃素０．１ｇを入
れ、塩素ガスを５０ｇ吹き込んだ、得られた反応液を蒸
留し、蒸気圧７ｎｕｅｌ１ｇで１７５〜１７９℃の留分
を１３ｇ得た。

ポリマ製造例１ 容積約５０ｍ１のフラスコに、モノマ製造例１で得られ
たフェニルトリクロルシランｄ−５１０ｇおよびＫＯＤ
　１００ｍｇを入れ、トルエン１５ｒＡｌと混合した。

そして、この混合液を１６時間還流した。反応終了後冷
却し、少量の沈澱物を濾過した後、溶液をメタノールに
流し込むことにより再沈澱を行なった。

得られたポリフェニルシルセスキオキサンの分子量はＭ
ｗ−１５０００，Ｍｗ／Ｍｎ・２．１であった。赤外線
吸収スペクトルにより、シルセスキオキサン特有の、５
ｉ−０に起因するダブルピークが１０４１０４Ｏ’およ
び１１６０ｃｍ−’に見られた。またこのポリマは高い
耐熱性を示し、３００℃で１時間熱処理しても何らの変
化も見られなかった。

韮±二旦童北１ モノマ製造例２で得られたジフェニルジクロロシランｄ
−１０を重水と反応させることにより得たジフェニルシ
ランジオール３０ｇをクロロホルム５００ｍ１　ｋｌ：
溶解し、ＣＦ、ＳＯ，Ｈを触媒として、５℃で２０時間
反応させた。反応波をメタノール中に注ぎ込み、白色固
体のポリマを得た。このポリマの分子量はＭｗ−１００
００，Ｍｗ／Ｍｎ−１，６であった。

ヱ４鮭１ 七ツマ製造例３で得られたジメチルジクロロシランｄ−
８１０ｇに１００ｍｇのＫｏｊｉを添加し、１５ｍ１の
トルエンと混合した。以下ポリマ製造例１と同様の処理
を行ない、ポリマを得た。得られたポリマの分子量はＭ
ｗ”１８（１００，ＭＷ／Ｍｒ＋−２，５であった。

ヱ立１」もＬ代ユ 容積約５０ｆｆｉｌのフラスコに、千ツマ製造例４で得
られたメチルトリクロルシランｄ−３１０ｇおよびＫＯ
Ｄ　１００ｍｇを入れ、１５ｍＪのトルエンと混合した
。

そして、この混合液を１６時間還流した。反応終了後冷
却し、少量の沈澱物を濾過した後、メタノールに溶液を
流し込むことにより再沈澱を行なった。得られたポリメ
チルシルセスキオキサンの分子量はＭ＋ｙ−２００００
，Ｍｗ／Ｍｎ−３，１であった。

ポリマ製造例５ モノマ製造例６で得られたフェユルメチルジクａｏシラ
ンｄ−８１（ＩｇにＫＯＤ　Ｉ（ＪＱｍｇを添加し、１
５ｍ１のトルエンと混合した。以下ポリマ製造例１と同
様の処理を行ない、ポリマを得た。得られたポリマノ分
子量はＭｗ−５３０００，Ｍｗ／Ｍｎ−２，８１’　ア
ｖ　タ。

ポリマ製造例６ モノマ製造例１で得られたフェニルトリクロルシランｄ
−５５ｇおよび七ツマ製造例５で得られたペンチルトリ
クｏ　ｏ　シランｄ−１１４，５ｇ　ＩｃＫＯＤ　１０
０Ｂを添加し、１５ｍ１のトルエンと混合した。そして
、この混合液を１６時間還流した０反応終了後冷却し、
少量の沈澱物を濾過した後、メタノールに溶液を流し込
むことにより再沈澱を行なった。得られたポリマの分子
量はＭＷ−２１０００であった。

韮しヱ盟亘里ユ 千ツマ製造例１で得られたフェニルトリクロルシランｄ
−５１０ｇおよびモノマ製造例３で得られたジメチルジ
クｏ　ｏ　シランｄ−６２３ニＫＯＤ　１００ｏ＋ｇ　
’ｒ添加し、１５ｍ１のトルエンと混合した。そして、
この混合液を１６時間還流した。反応終了後冷却し、少
量の沈澱物を濾過した後、メタノールに溶液を流し込む
ことにより再沈澱を行なった。得られたポリマの分子量
はＭｙ−１８０００であった。

以上、ポリマの製造例について説明したが、上述の製造
例において製造した他に、モノマ製造例に挙げたモノマ
を用いて同様な方法によりポリマを得ることができた。

以下、製造したポリマを用いて作製した光部品について
説明する。

哀直里ユ ポリマ製造例１で得たポリマを板状に加工し、板状のポ
リマの両面を光学研磨し、分光器で近赤外〜可視光域に
おける吸収を測定した。その結果、波長６６０，８５０
．１３００および１５５Ｏｎｍにおけるオプティカルデ
ンシティ（ＯＤ）はそれぞれ０．００７，０．００３゜
０．００２および０．０２３　（ｃａ−’）であり、き
わめて高い透光性を示した。同様にして他のポリマにつ
いても吸収を測定した。表１にその結果をまとめた。

表１ 製造したポリマの透光１生 主用構造 １； １（２ 実施例２ ポリマ製造例１で得たポリマをコア成分、ポリマ製造例
４で得たポリマをクラッド成分とする先導波路を作製し
た。

上述の２種のポリマをメチルイソブチルケトンに溶解し
溶液とした。まず、クラッド成分ポリマをシリコン基板
上に約２０μｍの厚さに塗布した。

焼成および乾燥処理後、クラッド成分ポリマ上にコア成
分ポリマを約８μｍの厚さに、塗布した。次に、ホトリ
ソグラフィおよびドライエツチングにより、コア成分ポ
リマを長さ５０ｍｍ、幅８μｍ、高さ８μｍの直線矩形
パタンに加工した。加工後クラッド成分をコア成分ポリ
マ上に塗布し先導波路を得た。

波長１３００ｎｍの光を導波路の一端から照射し、他端
から出てくる光量を測定することにより導波路の損失を
計算した。この導波路の損失は０．１ｄ［１７ｃｍであ
り充分に種々の光回路に供し得ると考えられる。

Ｌ凰里旦 コア成分としてポリマ製造例４で得たポリマを５クラッ
ド成分としてポリマ製造例３で得たポリマを用いて光フ
ァイバを作製した。

コア成分ポリマを加熱しつつ押し出し機にてファイバ化
し、これを溶融化したクラッド成分ポリマ中に通すこと
によりコーティングを行なった。

この工程を経てコア直径０．７５ｍｍクラッド膜厚０．
０５ｍｍの光ファイバを得た。このファイバは波長ａｓ
ｏｎｍで７０ｄＢ／ｋｍ、波長８５０ｎｍで４０ｄ［ｌ
／に＋ｎ以下の低損失窓が銭察された。

このプラスチック光ファイバを、温度６０℃、湿度９０
ｋＲＨの条件下で２昼夜静置してから取り出し、光伝送
特性を測定した。吸湿に基づく損失増は波長８５０ｎｍ
で５０ｄ［ｌ／ｋｍ以下であった。同し条件下でバーデ
ユーテロポリメチルメタクリレートの、吸湿に基づく損
失増は３００ｄ８／ｋｍであり、光損失が大幅に改善さ
れた。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によるポリシロキサンは、
従来のプラスチック光学材料に比べ、可視〜近赤外光域
において極めて優れた光伝送特性を有すると共に、高温
多湿条件下にさらされても損失増が著しく少ない。その
ため、近赤外光域における光集積回路用材料および可視
光域あるいは近赤外光域用光源を用いる数１００ｍの距
離間における光信号伝送媒体として安定して使用し得る
という利点がある。

また、従来光フアイバ通信に用いられている、８５０〜
１８００ｎｍの波長域において低損失であるので、多成
分系ガラスおよび石英系光ファイバと、光／電気変換あ
るいは電気／光変換なしに接続して使用することができ
る。すなわち、これらの光学材料を使って作製した光部
品により経済性に優れたローカルエリアネットワークな
どのような光信号伝送システムを構成できるというイ１
」点がある。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｒ＿１およびＲ＿２はそれぞれＣ＿ｎＹ＿２＿ｎ
   ＿＋＿１（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５以
   下の正の整数）で表わされる同一または異なる重水素化
   あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ＿
   ６Ｙ＿５（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素）で表わさ
   れる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フェ
   ニル基］ で表わされる繰り返し単位からなる重合体であることを
   特徴とするポリシロキサン。 ２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｒ＿１およびＲ＿２はそれぞれＣ＿ｎＹ＿２＿ｎ
   ＿＋＿１（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５以
   下の正の整数）で表わされる同一または異なる重水素化
   あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ＿
   ６Ｙ＿５（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素）で表わさ
   れる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フェ
   ニル基］ で表わされる繰り返し単位からなる重合体であることを
   特徴とするポリシロキサン。 ３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｒ＿１およびＲ＿２はそれぞれＣ＿ｎＹ＿２＿ｎ
   ＿＋＿１（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５以
   下の正の整数）で表わされる同一または異なる重水素化
   あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ＿
   ６Ｙ＿５（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素）で表わさ
   れる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フェ
   ニル基］ で表わされる繰り返し単位と 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｒ＿１、およびＲ＿２はそれぞれＣ＿ｎＹ＿２＿
   ｎ＿＋＿１（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素、ｎは５
   以下の正の整数）で表わされる同一または異なる重水素
   化あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれＣ
   ＿６Ｙ＿３（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素）で表わ
   される同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フ
   ェニル基］ で表わされる繰り返し単位の共重合体であることを特徴
   とするポリシロキサン。 ４）下記一般式（ I ）または（II）で表わされる繰り
   返し単位からなるポリシロキサンもしくは一般式（ I
   ）と（II）のそれぞれの繰り返し単位を含むポリシロキ
   サンからなる光伝送媒体を有することを特徴とする光学
   素子； ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（II） ただし、式中Ｒ＿１およびＲ＿２はそれぞれＣ＿ｎＹ＿
   ２＿ｎ＿＋＿１（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素、ｎ
   は５以下の正の整数）で表わされる同一または異なる重
   水素化あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞ
   れＣ＿６Ｙ＿５（Ｙは重水素あるいはハロゲン元素）で
   表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン
   化フェニル基である。