JPH0344026A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
- Publication number
- JPH0344026A JPH0344026A JP17962089A JP17962089A JPH0344026A JP H0344026 A JPH0344026 A JP H0344026A JP 17962089 A JP17962089 A JP 17962089A JP 17962089 A JP17962089 A JP 17962089A JP H0344026 A JPH0344026 A JP H0344026A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz
- furnace
- heat treatment
- cap
- diffusion board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 36
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 36
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体基板を熱処理する熱処理装置、詳しく
は同半導体基板をこの熱処理装置へ投入ならびに取り出
す際に使用する。カンチレバーもしくは、ソフトランデ
ィング用のレバーに取付けられる蓋の構造に関するもの
である。
は同半導体基板をこの熱処理装置へ投入ならびに取り出
す際に使用する。カンチレバーもしくは、ソフトランデ
ィング用のレバーに取付けられる蓋の構造に関するもの
である。
従来の技術
従来、半導体基板の熱処理装置としては、拡散ボートの
投入形式として、カンチレバ一方式がある。
投入形式として、カンチレバ一方式がある。
従来の技術として、このカンチレバ一方式の例を第２図
に側断面図で示す。第２図において、ヒータ−１内部に
セットされた石英チューブ２の中に半導体基板３を投入
することにより、熱処理を行う。半導体基板３は、石英
もしくはＳｉＣ製の拡散ボート４にセットし、それを石
英キャップ５に支えられたカンチレバー６に乗せ、この
カンデルバー６の移動により熱処理を行う。カンチレバ
ー６の移動は、カンチレバー保持部８をレール７に沿っ
て移動することで制御するものであった。
に側断面図で示す。第２図において、ヒータ−１内部に
セットされた石英チューブ２の中に半導体基板３を投入
することにより、熱処理を行う。半導体基板３は、石英
もしくはＳｉＣ製の拡散ボート４にセットし、それを石
英キャップ５に支えられたカンチレバー６に乗せ、この
カンデルバー６の移動により熱処理を行う。カンチレバ
ー６の移動は、カンチレバー保持部８をレール７に沿っ
て移動することで制御するものであった。
カンチレバー保持部８には、キャップ保持軸９につづく
石英キャップ５が固定されており、拡散ボート４が、石
英チューブ２の中央部にセットされた時、石英キャップ
５が石英チューブ２の人出口（炉口）にちょうど蓋をす
る構成てあった。
石英キャップ５が固定されており、拡散ボート４が、石
英チューブ２の中央部にセットされた時、石英キャップ
５が石英チューブ２の人出口（炉口）にちょうど蓋をす
る構成てあった。
発明が解決しようとする課題
このような従来の構成では、拡散ボートが石英チューブ
の中央にセットされ、石英キャップが炉口に蓋をするま
でに要する時間は、ボートの速度が５ ｃｍ ／分程度
と遅いため、３０分近くかかる。
の中央にセットされ、石英キャップが炉口に蓋をするま
でに要する時間は、ボートの速度が５ ｃｍ ／分程度
と遅いため、３０分近くかかる。
このため、熱処理炉の炉口側は、熱放出か大きくなり、
拡散ボートの投入と共に免激に温度が低下するという問
題があった。さらに、もっと重要なことは、蓋のない状
態で半導体基板が熱処理炉中に投入されるため、たとえ
石英チ。−ブ内に大量の不活性カスを流していても、炉
口からの空気の巻き込みが発生し、膜厚の不均一性なら
びにデバイス特性への悪影響をｂえるという大きな問題
があった。
拡散ボートの投入と共に免激に温度が低下するという問
題があった。さらに、もっと重要なことは、蓋のない状
態で半導体基板が熱処理炉中に投入されるため、たとえ
石英チ。−ブ内に大量の不活性カスを流していても、炉
口からの空気の巻き込みが発生し、膜厚の不均一性なら
びにデバイス特性への悪影響をｂえるという大きな問題
があった。
本発明はこのような問題点を解決するもので、熱処理炉
口からの放熱を防ぎ、石英デユープ内への空気の巻き込
みも最小限に押え、膜厚の均一性の向上酸化膜特性の向
」二を容易に実現することのできる熱処理装置の提供を
目的とするものである。
口からの放熱を防ぎ、石英デユープ内への空気の巻き込
みも最小限に押え、膜厚の均一性の向上酸化膜特性の向
」二を容易に実現することのできる熱処理装置の提供を
目的とするものである。
課題を解決するための手段
この問題点を解決するために本発明は、熱処理炉の蓋と
して、保持軸を有する拡散ボートが、熱処理炉内部で移
動するときには、この蓋が炉口に固定され、同拡散ボー
トか熱処理炉の外部にあるときには、この蓋が拡散ボー
トの直近てその机散ボートと共に移動４るようにしたも
のである。
して、保持軸を有する拡散ボートが、熱処理炉内部で移
動するときには、この蓋が炉口に固定され、同拡散ボー
トか熱処理炉の外部にあるときには、この蓋が拡散ボー
トの直近てその机散ボートと共に移動４るようにしたも
のである。
作用
この構成により、拡散ボートか炉本体の石英デユープに
投入された直後に石英４ニヤツブか同石英チューブの開
［］を寒くため、熱処理炉口からの放熱を防ぎ、同石英
チューブ内への空気の巻き込みも最小限に押えられ、膜
厚の均一性の向上、酸化膜特性の向上をも容易に実現す
ることとなる。
投入された直後に石英４ニヤツブか同石英チューブの開
［］を寒くため、熱処理炉口からの放熱を防ぎ、同石英
チューブ内への空気の巻き込みも最小限に押えられ、膜
厚の均一性の向上、酸化膜特性の向上をも容易に実現す
ることとなる。
実施例
第１図は、本発明の一実施例による熱処理装置の構成図
で、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、拡散ボートの投入前、
投入途中、投入後の各状態をそれぞれ表わした側断面図
である。第１図（Ａ）において、石英キャップ１５は、
カンチレバー１６を通ず穴を有し、ＳＵＳ製のギャップ
保持軸１９に固定した。キャップ保持軸１９は、ノノン
チレハー保持部１８てスライドベアリングで固定し、そ
のうしろに、ゆるいバネ２０を取イマ１げた。フリーの
状態て、石英ギャップが拡散ボーＩ・１４の直近となる
ように、バネの強さとキャップ保持軸の長さを調節した
。この構成で、カンチレバー保持部１８を移動させ、拡
散ボート１４を石英チューブ１２内に投入したのが（Ｂ
）である。この時、石英キャップ１５は、完全に炉口を
塞いでいる。その後さらに拡散ボート１４を石英チュー
ブ１５の中央部まで投入した状態が同図（Ｃ）である。
で、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、拡散ボートの投入前、
投入途中、投入後の各状態をそれぞれ表わした側断面図
である。第１図（Ａ）において、石英キャップ１５は、
カンチレバー１６を通ず穴を有し、ＳＵＳ製のギャップ
保持軸１９に固定した。キャップ保持軸１９は、ノノン
チレハー保持部１８てスライドベアリングで固定し、そ
のうしろに、ゆるいバネ２０を取イマ１げた。フリーの
状態て、石英ギャップが拡散ボーＩ・１４の直近となる
ように、バネの強さとキャップ保持軸の長さを調節した
。この構成で、カンチレバー保持部１８を移動させ、拡
散ボート１４を石英チューブ１２内に投入したのが（Ｂ
）である。この時、石英キャップ１５は、完全に炉口を
塞いでいる。その後さらに拡散ボート１４を石英チュー
ブ１５の中央部まで投入した状態が同図（Ｃ）である。
拡散ボート１４の移動中には、石英キャップ１５が炉口
を塞いだままで、バネ２０が伸びる。石英キャップ１５
は、カンチレバー１６とカンチレバー保持部１８のスラ
イドへアリングで保持されているため、安定な状態で固
定されている。また、拡散ボート１４の取出しのときに
は、これと逆で、拡散ボートが炉口に出てくるまでは、
石英キャップが炉口を寒いで固定されていることは言う
までもない。
を塞いだままで、バネ２０が伸びる。石英キャップ１５
は、カンチレバー１６とカンチレバー保持部１８のスラ
イドへアリングで保持されているため、安定な状態で固
定されている。また、拡散ボート１４の取出しのときに
は、これと逆で、拡散ボートが炉口に出てくるまでは、
石英キャップが炉口を寒いで固定されていることは言う
までもない。
本実施例では、カンチレバー保持部の後方にバネ２０を
取付けたが、カンチレバー保持部１８と石英キャップ１
５との間にバネを取付けても同様な効果が期待てきる。
取付けたが、カンチレバー保持部１８と石英キャップ１
５との間にバネを取付けても同様な効果が期待てきる。
要望によっては、色々な種類のバネも使用可能である。
さらに、カンチレバー保持部１８を、機構部品もしくは
、電子部品を取付けた制御手段で制御することも可能な
ことは、言うまでもない。
、電子部品を取付けた制御手段で制御することも可能な
ことは、言うまでもない。
発明の効果
以上のように本発明によれば、熱処理装置の炉口からの
放熱を防ぎ、石英チューブ内への空気の巻き込みを最小
限に押さえ、膜厚の均一性の向」二、酸化膜特性の向上
という大きな効果が得られる。
放熱を防ぎ、石英チューブ内への空気の巻き込みを最小
限に押さえ、膜厚の均一性の向」二、酸化膜特性の向上
という大きな効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第１図（Ａ）〜（Ｃ）は本発明の一実施例による熱処理
装置をその動作過程の各状態で示した各側断面図、第２
図は従来の熱処理装置の側断面図である。 １１・・・・・・ヒーター、１２・・・・・・石英チュ
ーブ、１３・・・・・・半導体基板、１４・・・・・・
拡散ボート、１５・・・・・・石英ギャップ、１６・・
・・・・ノノンヂレバー、１７・・・・・・レール、１
８・・・・・・カンチレバー保持部、１９・・・・・キ
ャップ保持軸、２０・・・・・・バネ。
装置をその動作過程の各状態で示した各側断面図、第２
図は従来の熱処理装置の側断面図である。 １１・・・・・・ヒーター、１２・・・・・・石英チュ
ーブ、１３・・・・・・半導体基板、１４・・・・・・
拡散ボート、１５・・・・・・石英ギャップ、１６・・
・・・・ノノンヂレバー、１７・・・・・・レール、１
８・・・・・・カンチレバー保持部、１９・・・・・キ
ャップ保持軸、２０・・・・・・バネ。
Claims (1)
- 熱処理炉の炉口に設置される炉蓋を、保持軸を有する拡
散ボートが前記熱処理炉の内部で移動するときには前記
炉口に固定し、同拡散ボートが前記熱処理炉の外部にあ
るときには、同拡散ボートの直近でその拡散ボートと共
に移動する機構体に結合させたことを特徴とする熱処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17962089A JPH0344026A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17962089A JPH0344026A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0344026A true JPH0344026A (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=16068944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17962089A Pending JPH0344026A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0344026A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5790935A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | Device for drawing quartz boat |
| JPS6355531B2 (ja) * | 1981-12-30 | 1988-11-02 | Union Carbide Corp |
-
1989
- 1989-07-11 JP JP17962089A patent/JPH0344026A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5790935A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | Device for drawing quartz boat |
| JPS6355531B2 (ja) * | 1981-12-30 | 1988-11-02 | Union Carbide Corp |
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