JPH0344249B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0344249B2 JPH0344249B2 JP58055445A JP5544583A JPH0344249B2 JP H0344249 B2 JPH0344249 B2 JP H0344249B2 JP 58055445 A JP58055445 A JP 58055445A JP 5544583 A JP5544583 A JP 5544583A JP H0344249 B2 JPH0344249 B2 JP H0344249B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- alloy
- thickness
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D15/00—Component parts of recorders for measuring arrangements not specially adapted for a specific variable
- G01D15/34—Recording surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
Description
本発明は磁気スケールに係わる。
従来の磁気スケールは記録媒体の酸化等による
磁気特性の劣化を避けるため、記媒体上に汚れが
付着しないように箱型の容器で覆つたりしてい
た。しかしながら湿気等の影響は避けられず、充
分管理された環境で使用することが必要である。 最近、磁気スケールの応用が広がり、悪環境で
磁気特性の劣化が生じない磁気スケールの要請が
強まつている。 本発明の目的は上記欠点を解決し、悪環境でも
記録媒体は酸化することなく、良好な磁気特性を
保持することのできる磁気スケールを提供するも
のである。 本発明は、非磁性基体の側面の長手方向に沿つ
て形成された溝に記録媒体として、磁気的に硬い
Fe−Co−Mn−Ｃ−Si−Ｖ係合金の磁性金属線材
が埋込まれている構造磁気スケールであつて、そ
の表面の前記記録媒を含む一部あるいは全面に第
１層として厚さが0.7μｍ以上から2μｍを越えない
Znを形成し、該Zn層上に第２層として厚さが1μ
ｍ以上から1.5μｍを越えない非磁性Ni−Ｐの合
金の層が形成されていることを特徴とする磁気ス
ケールが得られる。 本発明の要点の１つは磁気スケールの記録媒体
が酸化し、磁気特性の劣化および磁束分布の不均
一が起ることを防止することにある。従つて、耐
食性が優れている金属あるいは合金が用いられな
ければならないが、その金属あるいは合金が磁性
を示すものであつては、記録媒体から湧き出る磁
束が空間に分布しなくなるため、非磁性体である
ことが必要である。具体的にはZnあるいは非磁
性Ni−Ｐ合金が望ましい。 本発明の要点の他の１つは、センサが接触する
場合は当然摩擦が起るが、非接触式の場合でも、
センサと記録媒体の間隔を安定して一定に保つた
めには、センサ保持台が磁気スケールと接触して
いることが望ましく、この場合も摩擦が問題とな
るため、耐摩耗性に優れた金属あるいは合金を用
いることが必要である。具体的には非磁性のNi
−Ｐ合金が望ましい。 金属あるいは合金層の形成は、基体にステンレ
スを使用する場合は磁気スケールの外周面の記録
媒体に含む一部あるいは全面のどちらでもかまわ
ない。 本発明の磁気スケールの外周面に第１層として
厚さが0.7μｍ以上から2μｍを越えないZnを形成
し、その外側に第２層として厚さが1μｍ以上か
ら1.5μｍを越えない非磁性Ni−Ｐ合金を形成す
ることによつて全体として被膜層の厚さを薄くす
ることができた。第１層として厚さが0.7μｍを下
回るZnおよび第２層として厚さが1μｍを下回る
Ni−Ｐを形成しても本発明の効果は得られない。
また、第１層として厚さが2μｍを上回るZnおよ
び第２層として厚さが1.5μｍを上回るNi−Ｐを
形成すると被膜層が厚くなり、本発明の目的が達
成されない。第１層としてのZnメツキおよび第
２層としての非磁性Ni−Ｐ合金メツキは以下の
工程で行なつた。 （Znメツキ） 脱脂→酸洗→脱脂→中和→
Znメツキ （非磁性Ni−Ｐ合金メツキ） 脱脂→酸洗→水洗→メツキ液に浸漬→
水洗→乾燥 上記工程でZnおよび非磁性Ni−Ｐ合金メツキ
を施したところ、耐食性の良好な磁気スケールが
得られた。 次に本発明の磁気スケールについて実施例によ
つて説明する。 上記磁気スケールは第１表に示すようなメツキ
条件および金属（Zn）および合金（Ni−Ｐ）層
厚さになるように耐食性合金層を形成した。 直径６mm、長さ1000mmのSUS303材の丸棒に巾
0.5mm、深さ0.5mmの溝を一直線に掘つた。その溝
に直径0.5mmの重量比で38.025％Co−19.512％Mn
−0.585％Ｃ−1.366％Si−0.488％Ｖ−残りFeから
成る冷間伸線加工された合金線材を埋込み、スエ
ージ加工を施して直径59.7mmの複合体とした。そ
の複合体を450℃で30分間、水素雰囲気中で熱処
理した。熱処理された複合体は、溝の部分を上方
に向けて固定され、液体冷却しながら精密研削用
グラインダーで線材埋込み面を平面に研削した。
埋込まれた磁性金属線材は、溝から遊離すること
なく、良好な磁性材料の平面が得られた。 以上の方法で得られた磁気スケールについて第
１表に示すような６種類の試料を作製した。非磁
性Ni−Ｐ合金メツキには無電解ニツケルメツキ
液としてカニゼンシユーマメツキ液（商品名）を
用いた。
磁気特性の劣化を避けるため、記媒体上に汚れが
付着しないように箱型の容器で覆つたりしてい
た。しかしながら湿気等の影響は避けられず、充
分管理された環境で使用することが必要である。 最近、磁気スケールの応用が広がり、悪環境で
磁気特性の劣化が生じない磁気スケールの要請が
強まつている。 本発明の目的は上記欠点を解決し、悪環境でも
記録媒体は酸化することなく、良好な磁気特性を
保持することのできる磁気スケールを提供するも
のである。 本発明は、非磁性基体の側面の長手方向に沿つ
て形成された溝に記録媒体として、磁気的に硬い
Fe−Co−Mn−Ｃ−Si−Ｖ係合金の磁性金属線材
が埋込まれている構造磁気スケールであつて、そ
の表面の前記記録媒を含む一部あるいは全面に第
１層として厚さが0.7μｍ以上から2μｍを越えない
Znを形成し、該Zn層上に第２層として厚さが1μ
ｍ以上から1.5μｍを越えない非磁性Ni−Ｐの合
金の層が形成されていることを特徴とする磁気ス
ケールが得られる。 本発明の要点の１つは磁気スケールの記録媒体
が酸化し、磁気特性の劣化および磁束分布の不均
一が起ることを防止することにある。従つて、耐
食性が優れている金属あるいは合金が用いられな
ければならないが、その金属あるいは合金が磁性
を示すものであつては、記録媒体から湧き出る磁
束が空間に分布しなくなるため、非磁性体である
ことが必要である。具体的にはZnあるいは非磁
性Ni−Ｐ合金が望ましい。 本発明の要点の他の１つは、センサが接触する
場合は当然摩擦が起るが、非接触式の場合でも、
センサと記録媒体の間隔を安定して一定に保つた
めには、センサ保持台が磁気スケールと接触して
いることが望ましく、この場合も摩擦が問題とな
るため、耐摩耗性に優れた金属あるいは合金を用
いることが必要である。具体的には非磁性のNi
−Ｐ合金が望ましい。 金属あるいは合金層の形成は、基体にステンレ
スを使用する場合は磁気スケールの外周面の記録
媒体に含む一部あるいは全面のどちらでもかまわ
ない。 本発明の磁気スケールの外周面に第１層として
厚さが0.7μｍ以上から2μｍを越えないZnを形成
し、その外側に第２層として厚さが1μｍ以上か
ら1.5μｍを越えない非磁性Ni−Ｐ合金を形成す
ることによつて全体として被膜層の厚さを薄くす
ることができた。第１層として厚さが0.7μｍを下
回るZnおよび第２層として厚さが1μｍを下回る
Ni−Ｐを形成しても本発明の効果は得られない。
また、第１層として厚さが2μｍを上回るZnおよ
び第２層として厚さが1.5μｍを上回るNi−Ｐを
形成すると被膜層が厚くなり、本発明の目的が達
成されない。第１層としてのZnメツキおよび第
２層としての非磁性Ni−Ｐ合金メツキは以下の
工程で行なつた。 （Znメツキ） 脱脂→酸洗→脱脂→中和→
Znメツキ （非磁性Ni−Ｐ合金メツキ） 脱脂→酸洗→水洗→メツキ液に浸漬→
水洗→乾燥 上記工程でZnおよび非磁性Ni−Ｐ合金メツキ
を施したところ、耐食性の良好な磁気スケールが
得られた。 次に本発明の磁気スケールについて実施例によ
つて説明する。 上記磁気スケールは第１表に示すようなメツキ
条件および金属（Zn）および合金（Ni−Ｐ）層
厚さになるように耐食性合金層を形成した。 直径６mm、長さ1000mmのSUS303材の丸棒に巾
0.5mm、深さ0.5mmの溝を一直線に掘つた。その溝
に直径0.5mmの重量比で38.025％Co−19.512％Mn
−0.585％Ｃ−1.366％Si−0.488％Ｖ−残りFeから
成る冷間伸線加工された合金線材を埋込み、スエ
ージ加工を施して直径59.7mmの複合体とした。そ
の複合体を450℃で30分間、水素雰囲気中で熱処
理した。熱処理された複合体は、溝の部分を上方
に向けて固定され、液体冷却しながら精密研削用
グラインダーで線材埋込み面を平面に研削した。
埋込まれた磁性金属線材は、溝から遊離すること
なく、良好な磁性材料の平面が得られた。 以上の方法で得られた磁気スケールについて第
１表に示すような６種類の試料を作製した。非磁
性Ni−Ｐ合金メツキには無電解ニツケルメツキ
液としてカニゼンシユーマメツキ液（商品名）を
用いた。
【表】
第１表のような耐食性合金層を形成した６種類
の磁気スケールは85℃−100％湿度の環境で試験
を行つたところ第２表のに示す結果となつた。 尚、第２表のNo.７は第１表のNo.１でNi−Ｐ合
金の形成厚さを3μｍとし、Zn層は形成しなかつ
たものである。第２表のNo.８は第１表のNo.４で
Znの形成厚さを2μｍとし、Ni−Ｐ合金層は形成
しなかつたものである。第２表のNo.９は第１表の
No.５でNi−Ｐ合金の形成厚さを4μｍとし、Zn層
は形成しなかつたものである。
の磁気スケールは85℃−100％湿度の環境で試験
を行つたところ第２表のに示す結果となつた。 尚、第２表のNo.７は第１表のNo.１でNi−Ｐ合
金の形成厚さを3μｍとし、Zn層は形成しなかつ
たものである。第２表のNo.８は第１表のNo.４で
Znの形成厚さを2μｍとし、Ni−Ｐ合金層は形成
しなかつたものである。第２表のNo.９は第１表の
No.５でNi−Ｐ合金の形成厚さを4μｍとし、Zn層
は形成しなかつたものである。
【表】
○：記録媒体部が酸化しなかつた。
×：記録媒体部が酸化した。
以上のように、本発明の耐食性磁気スケールお
よびその製造方法は磁気スケールの応用範囲が広
がり、しかも悪環境での用途が広がる最近の状況
で、その工業的価値が大きい。
×：記録媒体部が酸化した。
以上のように、本発明の耐食性磁気スケールお
よびその製造方法は磁気スケールの応用範囲が広
がり、しかも悪環境での用途が広がる最近の状況
で、その工業的価値が大きい。
Claims (1)
- １ 非磁性基体の側面の長手方向に沿つて形成さ
れた溝に、記録媒体として磁気的に硬いFe−Co
−Mn−Ｃ−Si−Ｖ系合金の磁性金属線材が埋め
込まれている構造の磁気スケールであつて、その
表面の前記磁性金属記録媒体を含む一部あるいは
全面に第１層として厚さが0.7μｍ以上から2μｍを
越えないZnを形成し、該Zn層上に第２層として
厚さが1μｍ以上から1.5μｍを越えない非磁性Ni
−Ｐの合金の層が形成されていることを特徴とす
る磁気スケール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5544583A JPS59180424A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 磁気スケール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5544583A JPS59180424A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 磁気スケール |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59180424A JPS59180424A (ja) | 1984-10-13 |
| JPH0344249B2 true JPH0344249B2 (ja) | 1991-07-05 |
Family
ID=12998788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5544583A Granted JPS59180424A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 磁気スケール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59180424A (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4963973U (ja) * | 1972-09-15 | 1974-06-05 | ||
| JPS51109224A (ja) * | 1975-03-20 | 1976-09-28 | Satosen Co Ltd | Tainetsuseichokogokinhifukuojusuru kozotai |
| DE2933557C2 (de) * | 1979-08-18 | 1982-11-04 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Meßumformer zur berührungslosen Weg- oder Geschwindigkeitsmessung |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP5544583A patent/JPS59180424A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59180424A (ja) | 1984-10-13 |
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