JPH0346284A - 狭帯域発振エキシマレーザ - Google Patents
狭帯域発振エキシマレーザInfo
- Publication number
- JPH0346284A JPH0346284A JP18167989A JP18167989A JPH0346284A JP H0346284 A JPH0346284 A JP H0346284A JP 18167989 A JP18167989 A JP 18167989A JP 18167989 A JP18167989 A JP 18167989A JP H0346284 A JPH0346284 A JP H0346284A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etalon
- laser
- excimer laser
- oscillation excimer
- beam expander
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/082—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors defining a plurality of resonators, e.g. for mode selection or suppression
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はステッパー用の光源として使用される狭帯域
発振エキシマレーザに関する。
発振エキシマレーザに関する。
半導体装置製造用の縮小投影露光装置（以下、ステッパ
ーという）の光源としてエキシマレーザの利用が注目さ
れている。これはエキシマレーザの波長が短い（ＫｒＦ
の波長は約２４８．４ｎｍ）ことから光露光の限界を０
．５μｍ以下に延ばせる可能性があること、同じ解像度
なら従来用いていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比較して
焦点深度が深いこと、レンズの開口数（ＮＡ）が小さく
て済み、露光領域を大きくできること、大きなパワーが
得られること等の多くの優れた利点が期待できるからで
ある。
ーという）の光源としてエキシマレーザの利用が注目さ
れている。これはエキシマレーザの波長が短い（ＫｒＦ
の波長は約２４８．４ｎｍ）ことから光露光の限界を０
．５μｍ以下に延ばせる可能性があること、同じ解像度
なら従来用いていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比較して
焦点深度が深いこと、レンズの開口数（ＮＡ）が小さく
て済み、露光領域を大きくできること、大きなパワーが
得られること等の多くの優れた利点が期待できるからで
ある。
ところで、ステッパーの光源として利用されるエキシマ
レーザとしては線幅３ｐｍ以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。
レーザとしては線幅３ｐｍ以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。
エキシマレーザの狭帯域化の技術としては従来インジエ
ンクションロック方式と呼ばれるものがある。このイン
ジエンクションロック方式は、オシレータ段のキャビテ
ィ内に波長選択素子（エタロン、回折格子、プリズム等
）を配置し、ピンホールによって空間モードを制限して
単一モード発振させ、このレーザ光を増幅段によって注
入同期する。この方式によると比較的大きな出力パワー
が得られるが、ミスショットがあったり、ロッキング効
率を１００％とすることが困難であったり、スペクトル
純度が悪くなるという欠点がある。また、この方式の場
合その出力光はコヒーレンス性が高く、これを縮小露光
装置の光源に用いた場合はスペックル・パターンが発生
する。一般にスペックル・パターンの発生はレーザ光に
含まれる空間横モードの数に依存すると考えられている
。すなわち、レーザ光に含まれる空間横モードの数が少
ないというスペックル・パターンが発生し易くなり、逆
に空間モードの数が多くなるとスペックル・パターンは
発生しにくくなることが知られている。上述したインジ
ェクションロック方式は本質的には空間横モードの数を
著しく減らすことによって狭帯域化を行う技術であり、
スペックル・パターンの発生が大きな問題となるため縮
小投影露光装置には採用できない。
ンクションロック方式と呼ばれるものがある。このイン
ジエンクションロック方式は、オシレータ段のキャビテ
ィ内に波長選択素子（エタロン、回折格子、プリズム等
）を配置し、ピンホールによって空間モードを制限して
単一モード発振させ、このレーザ光を増幅段によって注
入同期する。この方式によると比較的大きな出力パワー
が得られるが、ミスショットがあったり、ロッキング効
率を１００％とすることが困難であったり、スペクトル
純度が悪くなるという欠点がある。また、この方式の場
合その出力光はコヒーレンス性が高く、これを縮小露光
装置の光源に用いた場合はスペックル・パターンが発生
する。一般にスペックル・パターンの発生はレーザ光に
含まれる空間横モードの数に依存すると考えられている
。すなわち、レーザ光に含まれる空間横モードの数が少
ないというスペックル・パターンが発生し易くなり、逆
に空間モードの数が多くなるとスペックル・パターンは
発生しにくくなることが知られている。上述したインジ
ェクションロック方式は本質的には空間横モードの数を
著しく減らすことによって狭帯域化を行う技術であり、
スペックル・パターンの発生が大きな問題となるため縮
小投影露光装置には採用できない。
エキシマレーザの狭帯域化の技術として他に有望なもの
は波長選択素子であるエタロンを用いたものがある。こ
のエタロンを用いた従来技術としてはＡＴ＆Ｔベル研究
所によるエキシマレーザのフロントミラーとレーザチャ
ンバとの間にエタロンを配置し、エキシマレーザの狭帯
域化を図ろうとする技術、または本発明者等によるエキ
シマレーザのりアミラーとレーザチャバとの間にエタロ
ンを配置し、エキシマレーザの狭帯域化を図ろうとする
技術が提案されている。
は波長選択素子であるエタロンを用いたものがある。こ
のエタロンを用いた従来技術としてはＡＴ＆Ｔベル研究
所によるエキシマレーザのフロントミラーとレーザチャ
ンバとの間にエタロンを配置し、エキシマレーザの狭帯
域化を図ろうとする技術、または本発明者等によるエキ
シマレーザのりアミラーとレーザチャバとの間にエタロ
ンを配置し、エキシマレーザの狭帯域化を図ろうとする
技術が提案されている。
第６図はエキシマレーザのフロントミラー１とレーザチ
ャンバ４との間に２枚のエタロン２ａ。
ャンバ４との間に２枚のエタロン２ａ。
２ｂを挿入して構成した従来装置を示すものである。な
お、第５図において５はりアミラー ３ａ。
お、第５図において５はりアミラー ３ａ。
３ｂはレーザチャンバ４のウィンドウを示す。
また第７図はエキシマレーザのりアミラー５とレーザチ
ャンバ４との間に２枚のエタロン２ａ。
ャンバ４との間に２枚のエタロン２ａ。
２ｂを挿入して構成した他の従来装置を示すものである
。
。
また、第８図に示すようにレーザチャンバ４とエタロン
２ａとの間に、例えば凸レンズ６と凹レンズ７との組み
合わせからなるコリメータを挿入して有効面積の小さな
エタロンを使用できるようにしたものもある。
２ａとの間に、例えば凸レンズ６と凹レンズ７との組み
合わせからなるコリメータを挿入して有効面積の小さな
エタロンを使用できるようにしたものもある。
ところで、第６図、第７図、第８図に示すようなレーザ
キャビティ内にエタロンを配置して構成した狭帯域発振
エキシマレーザは、エタロンを透過するレーザ光のエネ
ルギー密度は非常に高いためエタロンの反射膜が少ない
ショツト数で劣化してしまい、エタロンの透過率が著し
く減少したり、フィネスが小さくなったりすることがあ
った。
キャビティ内にエタロンを配置して構成した狭帯域発振
エキシマレーザは、エタロンを透過するレーザ光のエネ
ルギー密度は非常に高いためエタロンの反射膜が少ない
ショツト数で劣化してしまい、エタロンの透過率が著し
く減少したり、フィネスが小さくなったりすることがあ
った。
この場合は出力レーザ光のスペクトル純度またはパワー
が著しく低下することになった。これはエキシマレーザ
をステッパー用の光源として使用する場合には特に問題
となった。
が著しく低下することになった。これはエキシマレーザ
をステッパー用の光源として使用する場合には特に問題
となった。
また第８図に示すようにコリメータレンズを使用して、
エタロンに入射するレーザビーム面積が出力レーザビー
ム面積より小さくしたものにおいてはこの傾向は更に顕
著となった。
エタロンに入射するレーザビーム面積が出力レーザビー
ム面積より小さくしたものにおいてはこの傾向は更に顕
著となった。
そこで、この発明はエタロンの劣化をできるだけおさえ
るようにした狭帯域発振エキシマレーザを提供すること
を目的とする。
るようにした狭帯域発振エキシマレーザを提供すること
を目的とする。
上記目的を達成するため、この発明においてはレーザチ
ャンバとエタロンとの間にビームエキスパンダを配置し
てエタロンに入射するレーザビームを拡大するように構
成される。
ャンバとエタロンとの間にビームエキスパンダを配置し
てエタロンに入射するレーザビームを拡大するように構
成される。
これによってエタロンを透過するレーザ光のエネルギー
密度は大幅に減少され、エタロンの劣化を飛躍的におさ
えることができる。
密度は大幅に減少され、エタロンの劣化を飛躍的におさ
えることができる。
以下、この発明の実施例を添付図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第１図はこの発明の狭帯域発振エキシマレーザの一実施
例を示したものである。第１図において、フロントミラ
ー１とりアミラー５との間にレーザチャンバ４、ビーム
エキスパンダ８、エタロン２ａ、２ｂが配設される。こ
こでフロントミラー１とりアミラー５とは光共振器を構
成している。
例を示したものである。第１図において、フロントミラ
ー１とりアミラー５との間にレーザチャンバ４、ビーム
エキスパンダ８、エタロン２ａ、２ｂが配設される。こ
こでフロントミラー１とりアミラー５とは光共振器を構
成している。
レーザチャンバ４はその内にＫｒＦ等を含むレーザガス
が循環可能に充填され、またレーザガスを励起させるた
め図示しない放電電極が配置されている。更にレーザチ
ャンバ４の両端には所定の角で配置されたフィンドウ３
ａ、３ｂが設けられている。
が循環可能に充填され、またレーザガスを励起させるた
め図示しない放電電極が配置されている。更にレーザチ
ャンバ４の両端には所定の角で配置されたフィンドウ３
ａ、３ｂが設けられている。
ビームエキスパンダ８はレーザチャンバ４のウィンドウ
３ｂから出力されたレーザ光の面積を拡大するためのも
ので、このビームエキスパンダで拡大されたレーザ光は
エタロン２ａ、２ｂに照射される。
３ｂから出力されたレーザ光の面積を拡大するためのも
ので、このビームエキスパンダで拡大されたレーザ光は
エタロン２ａ、２ｂに照射される。
エタロン２ａ、 ２ｂは狭帯域化素子として機能する
もので、エタロン２ａ、２ｂのうち一方はフリースペク
、トラルレンジの大きいもの、他方は小さいものから構
成され、この２つのエタロン２ａ。
もので、エタロン２ａ、２ｂのうち一方はフリースペク
、トラルレンジの大きいもの、他方は小さいものから構
成され、この２つのエタロン２ａ。
２ｂの透過帯域を重ね合わせることにより狭帯域化がは
かられている。なお、エタロン２ａ、２ｂのそれぞれの
透過特性の制御は、光軸に対する各エタロン２ａ、２ｂ
の角度、各エタロン２ａ、２ｂのギャップ長、ギャップ
空間の圧力等を変化させることにより行うことができる
。
かられている。なお、エタロン２ａ、２ｂのそれぞれの
透過特性の制御は、光軸に対する各エタロン２ａ、２ｂ
の角度、各エタロン２ａ、２ｂのギャップ長、ギャップ
空間の圧力等を変化させることにより行うことができる
。
このような構成によると、レーザチャンバ４からの出力
レーザ光はビームエキスパンダ８により拡大されてエタ
ロン２ａ、２ｂに照射されるので、エタロン２ａ、２ｂ
を透過するレーザ光のエネルギー密度は大幅に小さくな
り、これによりエタロン２ａ、２ｂの劣化は大幅におさ
えられる。
レーザ光はビームエキスパンダ８により拡大されてエタ
ロン２ａ、２ｂに照射されるので、エタロン２ａ、２ｂ
を透過するレーザ光のエネルギー密度は大幅に小さくな
り、これによりエタロン２ａ、２ｂの劣化は大幅におさ
えられる。
第２図はビームエキスパンダとして凹レンズ６と凸レン
ズ７を用いて構成した実施例を示すものである。この実
施例において、レーザチャンバ４のウィンドウ３ｂから
出力されるレーザ光は凹レンズ６凸レンズ７によって拡
大された平行光に変換され、エタロン２ａ、 ２ｂに
照射される。これによってエタロン２ａ、２ｂを透過す
るレーザ光のエネルギー密度は減少される。
ズ７を用いて構成した実施例を示すものである。この実
施例において、レーザチャンバ４のウィンドウ３ｂから
出力されるレーザ光は凹レンズ６凸レンズ７によって拡
大された平行光に変換され、エタロン２ａ、 ２ｂに
照射される。これによってエタロン２ａ、２ｂを透過す
るレーザ光のエネルギー密度は減少される。
なお、第２図に示した実施例において、レーザチャンバ
４のウィンドウ３ｂから出力されるレーザ光は、すべて
の方向に対して一定の比率で拡大するように構成したが
、これを特定の方向のみ拡大するように構成してもよい
。このように構成することによりエタロンの有効径をあ
まり大きくすることなくエタロンの寿命をのばすことが
できる。
４のウィンドウ３ｂから出力されるレーザ光は、すべて
の方向に対して一定の比率で拡大するように構成したが
、これを特定の方向のみ拡大するように構成してもよい
。このように構成することによりエタロンの有効径をあ
まり大きくすることなくエタロンの寿命をのばすことが
できる。
第３図は（ａ）（ｂ）はこのように構成したこの発明の
他の実施例を示したものである。第３図（ａ）はその平
面図、第３図（ｂ）はその側面図を示す。第３図（ａ）
（ｂ）に示す実施例においては２枚のシリンドリカルレ
ンズ１０．１１によってビームエキスパンダが構成され
る。この場合、レーザチャンバ４のウィンドウ３ｂから
出力されるレーザ光はレーザチャンバ４内の電極９によ
る放電方向と直角な方向にのみ拡大されてエタロン２ａ
、２ｂに照射される。
他の実施例を示したものである。第３図（ａ）はその平
面図、第３図（ｂ）はその側面図を示す。第３図（ａ）
（ｂ）に示す実施例においては２枚のシリンドリカルレ
ンズ１０．１１によってビームエキスパンダが構成され
る。この場合、レーザチャンバ４のウィンドウ３ｂから
出力されるレーザ光はレーザチャンバ４内の電極９によ
る放電方向と直角な方向にのみ拡大されてエタロン２ａ
、２ｂに照射される。
第４図（ａ） （ｂ）はビームエキスパンダとして２個
のプリズム１２ａ、１２ｂを用いてｔＲｌ１ｆｆｉした
他の実施例を示したものである。ここで、第４図（ａ）
は平面図、第４図（ｂ）は側面図を示す。この場合もビ
ームエキスパンダのビーム拡大方向は電極９による放電
方向とほぼ垂直となるように構成される。
のプリズム１２ａ、１２ｂを用いてｔＲｌ１ｆｆｉした
他の実施例を示したものである。ここで、第４図（ａ）
は平面図、第４図（ｂ）は側面図を示す。この場合もビ
ームエキスパンダのビーム拡大方向は電極９による放電
方向とほぼ垂直となるように構成される。
なお、第４図の構成において２個のプリズム１２ａ、１
２ｂを用いてビームエキスパンダを構成したが、１個の
プリズムまたは３個以上のプリズムを用いてビームエキ
スパンダを構成するようにしてもよい。
２ｂを用いてビームエキスパンダを構成したが、１個の
プリズムまたは３個以上のプリズムを用いてビームエキ
スパンダを構成するようにしてもよい。
第５図（ａ） （ｂ）はビームエキスパンダ１３として
一方向のみを拡大するものを用い、エタロンに入射する
レーザビームの形状がほぼ正方形となるようにした他の
実施例を示したものである。ここで第５図（ａ）はその
平面図、第５図（ｂ）はその側面図を示す。
一方向のみを拡大するものを用い、エタロンに入射する
レーザビームの形状がほぼ正方形となるようにした他の
実施例を示したものである。ここで第５図（ａ）はその
平面図、第５図（ｂ）はその側面図を示す。
一般にレーザチャンバ４のレーザ発振領域は電極９によ
る放電方向に長い長方形をしている。そこで、この実施
例では電１ｆｔ９による放電方向に垂直な方向のみを拡
大してエタロン２ａ、２ｂに入射するレーザビームの形
状を第５図（Ｃ）に示すようにほぼ正方形となるように
している。
る放電方向に長い長方形をしている。そこで、この実施
例では電１ｆｔ９による放電方向に垂直な方向のみを拡
大してエタロン２ａ、２ｂに入射するレーザビームの形
状を第５図（Ｃ）に示すようにほぼ正方形となるように
している。
なお、この実施例では放電方向に垂直な方向のみを拡大
したが、放電方向とこれに垂直な方向とをそれぞれ異な
る比率で拡大するようにしても、エタロンに入射するビ
ームの形状をほぼ正方形にすることができる。
したが、放電方向とこれに垂直な方向とをそれぞれ異な
る比率で拡大するようにしても、エタロンに入射するビ
ームの形状をほぼ正方形にすることができる。
このように構成するとエタロンの有効径をほとんど大き
くすることなく効率よく狭帯域化することができ、また
エタロンの寿命をのばすことができる。
くすることなく効率よく狭帯域化することができ、また
エタロンの寿命をのばすことができる。
なお、上記実施例ではりアミラーとレーザチャンバとの
間にエタロンを挿入した場合を示したが、フロントミラ
ーとレーザチャンバとの間にエタロンを挿入した場合に
も同様に適用できる。また挿入するエタロンは２枚に限
定されず、１枚でもよいし、また３枚以上でもよい。
間にエタロンを挿入した場合を示したが、フロントミラ
ーとレーザチャンバとの間にエタロンを挿入した場合に
も同様に適用できる。また挿入するエタロンは２枚に限
定されず、１枚でもよいし、また３枚以上でもよい。
以上説明したようにこの発明によれば、以下に示すよう
な効果が得られる。
な効果が得られる。
（１）レーザチャンバとエタロンの間にビームエキスパ
ンダを配置し、エタロンに入射するレーザビームを拡大
することによりエタロンを透過するエネルギ密度を小さ
くしたためエタロンの寿命が飛躍的に延びる。
ンダを配置し、エタロンに入射するレーザビームを拡大
することによりエタロンを透過するエネルギ密度を小さ
くしたためエタロンの寿命が飛躍的に延びる。
（２）さらに、ビーム拡大方向を放電方向と垂直となる
ように配置することにより、エタロンの有効径をあまり
おおきくすることなく効率的に狭帯域化し、かつエタロ
ンの寿命を飛躍的に延ばすことができる。
ように配置することにより、エタロンの有効径をあまり
おおきくすることなく効率的に狭帯域化し、かつエタロ
ンの寿命を飛躍的に延ばすことができる。
（３）また、エタロンに入射すレーザビームを正方形に
することによって、エタロンの有効径をほとんど大きく
することなく、効率的に狭帯域化し、かつエタロンの寿
命を飛躍的にのばすことができる。
することによって、エタロンの有効径をほとんど大きく
することなく、効率的に狭帯域化し、かつエタロンの寿
命を飛躍的にのばすことができる。
第１図はこの発明にかかわる狭帯域発振エキシマレーザ
の一実施例を示す平面図、第２図はビームエキスパンダ
として凹レンズと凸レンズとの組合せを用いた実施例を
示す平面図、第３図（ａ）（ｂ）はビームエキスパンダ
として２枚のシリンドリカルレンズを用いて構成した他
の実施例を示す平面図および側面図、第４図（ａ） （
ｂ）はビームエキスパンダとして２個のプリズムを用い
て構成した他の実施例を示す平面図および側面図、第５
図（ａ） （ｂ）はエタロンへの入射ビームの形状がほ
ぼ正方形となるように構成した更に他の実施例を示す平
面図および側面図、第５図（Ｃ）は第５図（ａ） （ｂ
）に示した実施的におけるビーム形状を示す図、第６図
、第７図、第８図はこの発明の従来例を示す図である。 １・・・フロントミラー ２ａ、２ｂ・・・エタロン、
３ａ、３ｂ・・・ウィンドウ、４・・・レーザチャンバ
、５・・・リアミラー ６・・・凹レンズ、７・・・凸
レンズ、８．１３・・・ビームエキスパンダ、９・・・
電極、１０゜１１・・・シリンドリカルレンズ、１２ａ
、１２ｂ・・・プリズム。 第２図 第３図 （ａ） 第３図（ｂ） 第４ 図（０） 第４ 図（ｂ） 第５図（ｃ）
の一実施例を示す平面図、第２図はビームエキスパンダ
として凹レンズと凸レンズとの組合せを用いた実施例を
示す平面図、第３図（ａ）（ｂ）はビームエキスパンダ
として２枚のシリンドリカルレンズを用いて構成した他
の実施例を示す平面図および側面図、第４図（ａ） （
ｂ）はビームエキスパンダとして２個のプリズムを用い
て構成した他の実施例を示す平面図および側面図、第５
図（ａ） （ｂ）はエタロンへの入射ビームの形状がほ
ぼ正方形となるように構成した更に他の実施例を示す平
面図および側面図、第５図（Ｃ）は第５図（ａ） （ｂ
）に示した実施的におけるビーム形状を示す図、第６図
、第７図、第８図はこの発明の従来例を示す図である。 １・・・フロントミラー ２ａ、２ｂ・・・エタロン、
３ａ、３ｂ・・・ウィンドウ、４・・・レーザチャンバ
、５・・・リアミラー ６・・・凹レンズ、７・・・凸
レンズ、８．１３・・・ビームエキスパンダ、９・・・
電極、１０゜１１・・・シリンドリカルレンズ、１２ａ
、１２ｂ・・・プリズム。 第２図 第３図 （ａ） 第３図（ｂ） 第４ 図（０） 第４ 図（ｂ） 第５図（ｃ）
Claims (5)
- （１）狭帯域化素子としてエタロンを用いた狭帯域発振
エキシマレーザにおいて、 ビームエキスパンダをレーザチャンバとエタロンとの間
に配置し、 前記エタロンに入射するレーザビーム面積が少なくとも
出力レーザビーム面積より大きくしたことを特徴とする
狭帯域発振エキシマレーザ。 - （２）前記ビームエキスパンダは、プリズムまたはシリ
ンドリカルレンズを用いて構成され、レーザ光の一方向
のみを拡大することを特徴とする請求項（１）記載の狭
帯域発振エキシマレーザ。 - （３）前記ビームエキスパンダは、そのビーム拡大方向
が放電電極の放電方向とほぼ垂直となるようにしたこと
を特徴とする請求項（１）記載の狭帯域発振エキシマレ
ーザ。 - （４）前記ビームエキスパンダは、コリメータレンズを
用いて構成されることを特徴とする請求項（１）記載の
狭帯域発振エキシマレーザ。 - （５）前記エタロンに入射するレーザビームの形状がほ
ぼ正方形となるようにしたことを特徴とする請求項（１
）記載の狭帯域発振エキシマレーザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18167989A JPH0346284A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 狭帯域発振エキシマレーザ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18167989A JPH0346284A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 狭帯域発振エキシマレーザ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0346284A true JPH0346284A (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=16104977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18167989A Pending JPH0346284A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 狭帯域発振エキシマレーザ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0346284A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006049839A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | 高出力ガスレーザ装置 |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP18167989A patent/JPH0346284A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006049839A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | 高出力ガスレーザ装置 |
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