JPH034629B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH034629B2 JPH034629B2 JP62034434A JP3443487A JPH034629B2 JP H034629 B2 JPH034629 B2 JP H034629B2 JP 62034434 A JP62034434 A JP 62034434A JP 3443487 A JP3443487 A JP 3443487A JP H034629 B2 JPH034629 B2 JP H034629B2
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- Japan
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- copper
- electrolytic copper
- desilvering
- anode
- electrolytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
発明の技術分野
本発明は高純度電気銅の製造方法に関する。
発明の従来技術
従来、高純度銅の製法としては、例えば、銀が
８〜14ppm、イオウが５〜15ppm含む電気銅を硝
酸浴で電気分解し、イオウ分の少ない電気銅を得
る方法である。 この方法によれば、通常の電気銅中のイオウが
５〜9ppmあるものがかなり低下するのであるが、
最も高い銀については、好ましく除去することが
できない。 更に塩素源を添加し、電解浴温を規制して、銀
含有量を低下させる方法等が行われているが好ま
しく除去することができていない。 発明の構成 そこで発明者等が鋭意検討した結果、以下の発
明をなした。 即ち、本発明は、予め電気分解により得られた
電気銅及び又は相当品を硝酸浴中で再電解する方
法において、陽、陰極室を隔膜で区別し、陽極室
排出液を金属銅を脱銀剤として用いて、脱銀した
後、該処理液を陰極室に給液することを特徴とす
る高純度電気銅の製造方法を提供する。 発明の具体的説明 本発明で用いる電解浴は硝酸酸性浴である。硝
酸の濃度はPHが３以下に保持されるように調整さ
れる。好ましくはPH＝1.5〜2.0に調整される。ア
ノードは電気銅、無酸素銅等を用いる。これらの
品位は、銀が８〜14ppm、イオウが５〜15ppm、
砒素0.2〜1ppm、アンチモン0.1〜0.6ppm、ビス
マス0.1〜0.5ppm、鉛0.3〜1.0ppm含むものが、
通常である。 これらの不純物を効率的に除くためには、陽、
陰極室を隔膜で区分することが不可欠である。即
ち、隔膜の主目的は陽極の溶解によつて生ずる不
純物と陰極との隔離である。上記不純物は沈降す
る固形物、懸濁する固形物及び溶存物とに大別さ
れる。溶存不純物は電気泳動によつて、陰極室に
到達しようとするので、隔膜を通過する陰極室液
で押し戻し排除しなければならない。従つて、隔
膜の選定に当たつては通液性、給液量、溶存不純
物の電気泳動度等を考慮しなければならない。し
かしながら通常の隔膜材の場合、有孔度、孔径と
もに不明の場合が多く、実験結果によつて選定す
る例が多い。隔膜材としてはイオン交換膜、布
地、セラミツク等があるが耐酸性の布地、例えば
テビロン、テトロン等の化繊布が好ましい。 更に、本発明の方法においては陽極排出液の脱
銀が不可欠である。脱銀方法としては、金属銅片
充填等を通過させる方法である。 又、塩素の添加は脱銀効率を高める。 塩素源としては塩酸、塩素ガス、塩化銅等があ
る。これらの塩素量としてはフリーの塩素が20
mg／〜20ｇ／あると好ましく、より好ましく
は、0.1ｇ／〜1.0ｇ／である。 又、脱銀後液を孔径0.1μ〜2μの材（孔径は小
さいほど好ましい）で過することによつて不純
物がより好ましく除去できることを把握した。 電流密度は0.8〜1.5A／ｄm2で実施される。 実施例 １ 電気銅（成分品位 Ag：13.9 Ｓ：11.0 As：
0.5 Sb：0.3 Bi：0.3 Pb：0.7ppm）を陽極とし、
Ti板を陰極として、陽、陰極間にテトロン
（TR84501 商品名、北村製布(株)製）を配し両極
液を区分する隔膜とした。電解浴の流れは、陽極
室より排出された不純電解液が脱銀処理され引き
続き陰極室に給液されるようにした。脱銀処理は
特願（61−262670号）の方法とし、金属銅に接触
する脱銀時間即ち脱銀工程での滞留時間は4.0hと
し、隔膜面当たりの給液量は1.65cm／ｈとした。 電気浴は、銅50ｇ／（10日間電解後は54ｇ／
となつた。）硝酸浴とし、PHは1.7-190.1とした。
電解浴温は特に調整はしなかつた（22〜27℃であ
つた）。 電流密度は1.0A／ｄm2とし、陽、陰極面間距
離40mmで行つた。連続10日間通電後、引き上げ
Ti板から剥がし洗浄乾燥を行つて高純度電気銅
を得た。得られた電気銅の品位は表１の如くであ
つた。
８〜14ppm、イオウが５〜15ppm含む電気銅を硝
酸浴で電気分解し、イオウ分の少ない電気銅を得
る方法である。 この方法によれば、通常の電気銅中のイオウが
５〜9ppmあるものがかなり低下するのであるが、
最も高い銀については、好ましく除去することが
できない。 更に塩素源を添加し、電解浴温を規制して、銀
含有量を低下させる方法等が行われているが好ま
しく除去することができていない。 発明の構成 そこで発明者等が鋭意検討した結果、以下の発
明をなした。 即ち、本発明は、予め電気分解により得られた
電気銅及び又は相当品を硝酸浴中で再電解する方
法において、陽、陰極室を隔膜で区別し、陽極室
排出液を金属銅を脱銀剤として用いて、脱銀した
後、該処理液を陰極室に給液することを特徴とす
る高純度電気銅の製造方法を提供する。 発明の具体的説明 本発明で用いる電解浴は硝酸酸性浴である。硝
酸の濃度はPHが３以下に保持されるように調整さ
れる。好ましくはPH＝1.5〜2.0に調整される。ア
ノードは電気銅、無酸素銅等を用いる。これらの
品位は、銀が８〜14ppm、イオウが５〜15ppm、
砒素0.2〜1ppm、アンチモン0.1〜0.6ppm、ビス
マス0.1〜0.5ppm、鉛0.3〜1.0ppm含むものが、
通常である。 これらの不純物を効率的に除くためには、陽、
陰極室を隔膜で区分することが不可欠である。即
ち、隔膜の主目的は陽極の溶解によつて生ずる不
純物と陰極との隔離である。上記不純物は沈降す
る固形物、懸濁する固形物及び溶存物とに大別さ
れる。溶存不純物は電気泳動によつて、陰極室に
到達しようとするので、隔膜を通過する陰極室液
で押し戻し排除しなければならない。従つて、隔
膜の選定に当たつては通液性、給液量、溶存不純
物の電気泳動度等を考慮しなければならない。し
かしながら通常の隔膜材の場合、有孔度、孔径と
もに不明の場合が多く、実験結果によつて選定す
る例が多い。隔膜材としてはイオン交換膜、布
地、セラミツク等があるが耐酸性の布地、例えば
テビロン、テトロン等の化繊布が好ましい。 更に、本発明の方法においては陽極排出液の脱
銀が不可欠である。脱銀方法としては、金属銅片
充填等を通過させる方法である。 又、塩素の添加は脱銀効率を高める。 塩素源としては塩酸、塩素ガス、塩化銅等があ
る。これらの塩素量としてはフリーの塩素が20
mg／〜20ｇ／あると好ましく、より好ましく
は、0.1ｇ／〜1.0ｇ／である。 又、脱銀後液を孔径0.1μ〜2μの材（孔径は小
さいほど好ましい）で過することによつて不純
物がより好ましく除去できることを把握した。 電流密度は0.8〜1.5A／ｄm2で実施される。 実施例 １ 電気銅（成分品位 Ag：13.9 Ｓ：11.0 As：
0.5 Sb：0.3 Bi：0.3 Pb：0.7ppm）を陽極とし、
Ti板を陰極として、陽、陰極間にテトロン
（TR84501 商品名、北村製布(株)製）を配し両極
液を区分する隔膜とした。電解浴の流れは、陽極
室より排出された不純電解液が脱銀処理され引き
続き陰極室に給液されるようにした。脱銀処理は
特願（61−262670号）の方法とし、金属銅に接触
する脱銀時間即ち脱銀工程での滞留時間は4.0hと
し、隔膜面当たりの給液量は1.65cm／ｈとした。 電気浴は、銅50ｇ／（10日間電解後は54ｇ／
となつた。）硝酸浴とし、PHは1.7-190.1とした。
電解浴温は特に調整はしなかつた（22〜27℃であ
つた）。 電流密度は1.0A／ｄm2とし、陽、陰極面間距
離40mmで行つた。連続10日間通電後、引き上げ
Ti板から剥がし洗浄乾燥を行つて高純度電気銅
を得た。得られた電気銅の品位は表１の如くであ
つた。
【表】
実施例 ２
循環する電解浴中の塩素温度を塩素添加で
100-1910mg／とした以外は全く実施例１同様に
行つて高純度電気銅を得た。銀が実施例１より多
く除去でき0.20ppmであつた。他の成分は変化は
なかつた。 実施例 ３ 実施例２の方法において、脱銀処理後液を孔径
0.2μのミリポアーフイルター（商品名 ミリポア
ー社製）で過し、陰極室に給液する方法を実施
した結果、銀が0.08ppmと極めて低い値を示しよ
り好ましい高純度電気銅が得られた。 発明の効果 以上のように本発明を実施することにより以下
の効果を得る。 (1) 99.9999％以上の高純度の銅が得られる。 (2) これにより得られた銅は、オーデイオ用、ビ
デオ配線用等に用いられ、音色あるいは画像の
美しい映像を可能とし得る。
100-1910mg／とした以外は全く実施例１同様に
行つて高純度電気銅を得た。銀が実施例１より多
く除去でき0.20ppmであつた。他の成分は変化は
なかつた。 実施例 ３ 実施例２の方法において、脱銀処理後液を孔径
0.2μのミリポアーフイルター（商品名 ミリポア
ー社製）で過し、陰極室に給液する方法を実施
した結果、銀が0.08ppmと極めて低い値を示しよ
り好ましい高純度電気銅が得られた。 発明の効果 以上のように本発明を実施することにより以下
の効果を得る。 (1) 99.9999％以上の高純度の銅が得られる。 (2) これにより得られた銅は、オーデイオ用、ビ
デオ配線用等に用いられ、音色あるいは画像の
美しい映像を可能とし得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 予め電気分解により得られた電気銅及び又は
相当品を硝酸浴中で再電解する方法において、
陽、陰極室を隔膜で区別し、陽極室排出液を金属
銅を脱銀剤として用いて、脱銀した後、該処理液
を陰極室に給液することを特徴とする高純度電気
銅の製造方法。 ２ 脱銀後液を孔径0.1μ〜2μの材で過するこ
とを特徴とする第１項記載の高純度銅の製造方
法。 ３ 遊離塩素が20mg／〜20ｇ／溶存する電解
液を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の高純度電気銅の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62034434A JPS63203784A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 高純度電気銅の製造方法 |
| US07/080,336 US4792369A (en) | 1987-02-19 | 1987-07-30 | Copper wires used for transmitting sounds or images |
| US07/237,492 US4874436A (en) | 1987-02-19 | 1988-08-26 | Method for producing high purity electrolytic copper |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62034434A JPS63203784A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 高純度電気銅の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63203784A JPS63203784A (ja) | 1988-08-23 |
| JPH034629B2 true JPH034629B2 (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=12414115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62034434A Granted JPS63203784A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 高純度電気銅の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63203784A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9783904B2 (en) | 2012-06-14 | 2017-10-10 | Mitsubishi Materials Corporation | High-purity electrolytic copper and electrolytic refining method thereof |
| KR20210023678A (ko) * | 2019-08-23 | 2021-03-04 | 광저우 인스티튜트 오브 에너지 콘버전, 차이니즈 아카데미 오브 사이언시즈 | 새로운 유기고형폐기물 열분해 가스화로 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101006035B1 (ko) * | 2005-06-15 | 2011-01-06 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 초고순도 구리 및 그 제조 방법 그리고 초고순도 구리로이루어지는 본딩 와이어 |
| JP5016410B2 (ja) * | 2007-08-03 | 2012-09-05 | Ｄｏｗａメタルマイン株式会社 | 銅溶解液の浄液方法及び銅の製造方法 |
| WO2018221734A1 (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅の製造方法 |
| TWI787275B (zh) | 2017-06-01 | 2022-12-21 | 日商三菱綜合材料股份有限公司 | 高純度電解銅之製造方法 |
| JP2023029573A (ja) * | 2017-06-01 | 2023-03-03 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅 |
| JP7454329B2 (ja) * | 2017-06-01 | 2024-03-22 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅板 |
| CN114293227A (zh) * | 2021-12-16 | 2022-04-08 | 虹华科技股份有限公司 | 一种航天航空用高纯铜产品的加工工艺 |
-
1987
- 1987-02-19 JP JP62034434A patent/JPS63203784A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9783904B2 (en) | 2012-06-14 | 2017-10-10 | Mitsubishi Materials Corporation | High-purity electrolytic copper and electrolytic refining method thereof |
| KR20210023678A (ko) * | 2019-08-23 | 2021-03-04 | 광저우 인스티튜트 오브 에너지 콘버전, 차이니즈 아카데미 오브 사이언시즈 | 새로운 유기고형폐기물 열분해 가스화로 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63203784A (ja) | 1988-08-23 |
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Legal Events
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
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