JPH0346945B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、米国特許出願第23548号に開示され
るようなフイルム上における荷電粒子ビーム記録
技術に関し、特定すると電子感知性フイルム上に
電子ビームで正確に作像するための改良されたフ
イルムゲートおよび装置に関する。この種の装置
は、グラフイツク記録工業において特定の実用性
が見出され、正確で高解像度の作像を可能にす
る。それゆえ、電子ビーム記録は、コンピユータ
出力マイクロフイルム（COM）を作成、大容量
データ記憶、広帯域幅信号記録、人工衛生写真、
自動化地図作成、ならびにコンピユータ利用のマ
イクログラフイツクおよび地震記録に特に有用で
ある。

電子ビームレーコーダ（EBR）の必須の要素
は、電子銃、電磁集束・偏向装置、電子感知性フ
イルムおよびフイルムゲートを含む。動作につい
て述べると、電子ビームは、フイルムゲートに正
確に位置づけられた固定の電子感知性フイルムの
乳剤側の記録領域に、電子ビームで像をトレース
またはプロツトする。空気は電子ビームを散乱ま
たは分散させるから、電子ビーム記録は真空雰囲
気内で行なわれる。特定の具体例においては、電
子ビーム記録装置内に３段階真空系が使用されて
おり、最高の真空度をもつ領域に電子銃が配置さ
れ、それよりも低い真空度をもつ領域に記録フイ
ルムの乳剤側に至るビーム路が含まれ、最低の真
空度をもつ領域にフイルム供給移送機構が含まれ
る。この３段階真空系は、フイルムへの迅速なア
クセスを可能にし、その容易な変更または交替を
可能にする。しかしながら、ときどきフイルム上
の像に小さな歪が生じ、本発明のある応用におい
ては、これらの歪のためその価値が制限されるも
のがあることが分つた。３段階真空によりフイル
ムに加わる圧力差は、フイルムゲートにあるフイ
ルムに予測し得ない変わりやすいそりを生じさせ
るため、フイルムの形状に悪影響を与えることが
あると思われる。さらに、フイルムは、フイルム
中に含まれる水蒸気やその他の大気成分の蒸発か
ら生じてフイルムの背後に捕えられる空気や、新
しいフイルムを被曝させるためフイルムが送られ
るときフイルムにより真空度の低い領域からフイ
ルムゲートに移送された空気によりさらに歪まさ
れることがときどきある。

ビームに関する記録フイルムの位置の不安定や
不確定は、像が高性能電子ビームレコーダにより
フイルム上に記録される幾何学的精度に及ぼされ
る主たる限定要因であることが認められている。

米国特許第23548号開示されるように、EBRの
フイルムゲートは、予定された連続彎曲に沿つて
記録用フイルムを精確に位置づけるため、予定さ
れた形態に賦形されたフイルム接触面を有するよ
うに作ることができる。連続彎曲フイルムゲート
はまた、記録フイルムをフイルムゲートの予定さ
れた連続彎曲に一致させるため、フイルムを連続
的かつ均一に引張る手段を備えることができる。
このようにして、これまで記録フイルムの位置に
不安定さと不確定さをもたらす原因となつていた
歪は除去され、フイルムは、これらの歪が既知の
幾何形状に一致し予測可能となるように制御され
た。動作に際して、電子ビームは、これらの予測
可能で既知の幾何学的歪を補償し、記録フイルム
上に本質的に幾何的歪のない像を生ずるように電
子的に制御された。

上述の出願における幾何的に歪んだフイルムゲ
ートは、EBR記録の幾何的精度を相当に改良し
たが、このフイルムゲートは、フイルムを幾何的
に歪ませるフイルムゲートにより修正されないよ
うなフイルム歪を完全に除去できなかつた。詳述
すると、荷電粒子記録フイルムは、フイルムゲー
トプラテンのフイルム接続ないし受容面と必ずし
も接触せず、すなわち該表面に対して平坦でな
く、フイルムとフイルム接触プラテン間に捕えら
れて気泡状突部を形成する空気または気体により
離間されるため歪まされることがときどきある。
気泡は、フイルムの電子受入れ面が、フイルム移
送機構が占める領域に存する低レベルの真空と接
触するフイルムの後面よりも高レベルの真空に曝
されるという事実に起因する。気泡状効果を惹き
起こすことがある捕捉空気や気体は、例えばフイ
ルムのたわみやフイルムのガス発生よりも相当低
いフイルム歪発生源であるが、この泡状効果を減
少除去することが望ましい。

本発明は、フイルムがフイルムゲートプラテン
のフイルム接触面上にあるときフイルムの背後の
領域を通気して、フイルムとフイルム接触面間に
空気が捕捉されるのを防ぐことにより、従来の
EBRフイルムゲートに採用されるフイルムと関
連される気泡状歪の問題を克服するものである。
詳述すると、好ましい具体例において、フイルム
の後面と接触するフイルプラテン部分は、フイル
ムの前側に存する高真空と通気され、フイルムの
前面および後面にかゝる圧力を等化し、フイルム
にかゝる差圧を除去するのである。差圧がある
と、フイルムをプラテン間に空気または気体が捕
捉され、予測できない不規則なフイルムの歪が生
ずることがある。

このように、本発明では、フイルムを、ゲート
内にかつ荷電粒子ビームに関してフイルムをより
精確に位置づける通気され圧力が等化されたフイ
ルムゲートが提供される。本発明ではまた、通気
等圧ゲートを使用して、荷電粒子感知性フイルム
上に情報をより正確に作像することを可能にした
改良されたEBR記録装置が提供される。

それゆえ、本発明の目的は、フイルムの歪をさ
らに除去し、フイルムをビームに関してより精確
に位置づけるフイルムゲートおよび記録装置を提
供することである。

本発明は、フイルムに種々の予定された彎曲を
賦与するプラテンと組み合わせにおいて使用でき
る。しかして、この彎曲は、フイルムの長さまた
は幅に沿つて存し、単純なものでも複合的なもの
でもよく、固定半径より成るものでも可変半径よ
り成るものでもよく、凹面でも凸面でもよく、あ
るいは任意の他の連続形態より成るものでもよ
い。本発明のフイルムゲートは、フイルムの予め
特定された長さに沿つて予定された彎曲の通気プ
ラテンを備え、フイルムをこの通気フイルムプラ
テンと接所状態に保持するため予定された力をフ
イルムに賦与するようにするのが都合がよい。

さらに、本発明の他の目的は、フイルム接触プ
ラテンの予定された彎曲と、該プラテンのフイル
ムに対する十分の支持能力を損なうことなく、プ
ラテンに十分の通気表面積を与えることである。

本発明のさらに他の目的は、フイルムが予定さ
れた張力によりフイルムゲートと接触状態に保持
される、荷電粒子ビームレコーダに対するフイル
ムゲート装置を提供することである。

本発明の他の目的は、フイルムの新しい部分を
荷電粒子ビームに曝らすためにフイルムがフイル
ムゲートを通つて間欠的に移送される、荷電粒子
ビームレコーダに対するフイルムゲー装置を提供
することである。

本発明のこれらおよびその他の目的、利点、特
徴は、図面を参照して行なつた以下の好ましい具
体例についての説明から明らかとなろう。

第１図は、荷電粒子ビームレコーダの好ましい
具体例で、１０で総括的に指示されている。電子
ビームレコーダ（EBR）は、４つの領域１４，
１６，１８および２０に分割できる真空ハウジン
グを備えている。領域１４は、真空段Ａにより高
真空雰囲気に減圧され（例えば10^-7Torr）、領域
１６および１８は、真空段Ｂによりこれよりも低
度の真空雰囲気に減圧され（例えば10^-5Torr）、
そして領域２０は、真空段Ｃによりさらに低度の
真空雰囲気に減ぜられる（例えば10^-1Torr）。真
空段Ａ，Ｂ，Ｃにより発生される真空雰囲気は、
例えば従来形式の真空ポンプにより設定できる。

高真空領域においては、直熱式熱電子放射器を
備える従来形式の高解像度三極電子銃２２のよう
な荷電粒子放射器２２により記録用荷電粒子ビー
ムが発生される。高真空領域１４は、例えば貫通
ビーム孔を備える仕切り壁２４により低真空領域
１６から分離されている。真空領域１６は、例え
ば３つの電磁コイル２６，２８および３０による
ビームの電磁制御装置を備えている。しかして、
この電磁コイルは、好ましい具体例においては、
真空領域１６中を走るビーム路を少なくとも部分
的に取り囲んでいる。電磁コイル２６および２８
は、ビームを中心設定して集束し、他方電磁コイ
ル３０は、ビームを偏向し、ビームによる像のプ
ロツトまたはトレースを行なわせる。従来の電子
的方法を利用して、コイル３０に印加される制御
信号を偏向し、ビームの偏向を修正して、彎曲さ
れた電子感知性フイルム３２のような記録面の既
知の幾何的歪を補償し、それによつてフイルム上
に所望の情報像を作ることができる。

段階Ｂにより作られる真空領域１８は、銃２２
により発生される偏向粒子ビームを受け入れる追
加の真空空間を形成する。段階Ｃにより作られる
真空領域２０は、３１で総括的に指示されるフイ
ルム移送ゲート機構と、３４で総括的に指示され
るフイルムゲートを備えている。これらは、第２
図ないし第５図により詳細に例示されている。フ
イルムゲート３４は、高・低真空領域１８，２０
間に配置されており、電子感知性乳剤被覆フイル
ム３２のような荷電粒子感知性記録手段を粒子銃
２２に関して正確に位置づけるように構成、配置
されている。フイルム３２は、イーストマンコダ
ツク社からSO219なる表示で入手されるような従
来形式のものとし得る。フイルムゲートの移送手
段３１は、追つて説明するように、フイルムを低
真空領域２０からフイルムゲート３４中へ、した
がつて高真空領域１８中へ送り込む。

フイルム３２を打つ電子ビームは、フイルムに
化学的変化を生じさせ、そしてこのフイルムはそ
の後の従来の処理で現像され、所望の情報像を生
ずることができる。

技術に精通したものにより認められるように、
電子ビーム記録は、多数の高品質の画像が電子的
速度で発生される人工衛星またはスキヤナデータ
表示装置のような高解像度写真に特に適当であ
る。コンピユータ制御EBR記録装置は、水文学、
地質学、生態学、農業、気象学、地図作成、土地
利用の研究や調査に特に利益をもたらす。特定の
EBR装置は、(1)高速像処理、(2)センサや人工衛
星の位置により惹起される幾何的誤差や放射線測
定誤差のオンライン修正、(3)連続流れセンサデー
タのオンラインによるフレーミングおよび注釈付
け、(4)高解像およびダイナミツクレンジ、および
(5)放射線測定および幾何的修正像を得るために各
像に対する原センサデータを再配列し、コンピユ
ータ処理する（オフライン）必要を除去すること
と関連する著しい時間およびコストの低減を可能
にする優れたデータ処理容量を提供する。EBR
装置は、ベクトルプロツテイング、名前ないし名
称および文章の組立て（植字）またはラスタスキ
ヤニングのような種々の記録技術により地図を作
成する自動化地図作成技術に有用である。像形式
は、使用されるフイルム寸法およびフイルム移送
装置に依存して変更できる。さらに、EBR記録
装置は、線画、アルフアベツトおよび数字組合
せ、シンボル／トレードマーク、またはグラフイ
ツクアート形式のもののごとき高エネルギ品質の
グラフイツクの作成を可能にする要素の任意のも
のまたはその混合物と適合し得る全体的な組立て
およびプロテイング能力を提供する。殆んどどの
ような形式のフイルムでも、マイクロ出版物、ビ
ジネスデータコンピユータ出力マイクログラフイ
ツク（COM）、工学図面および地震データ表示の
ようなフイルム記録を可能にするマイクログラフ
イツクEBRで利用できる。

マイクログラフイツクEBR装置の現在の性能
レベルは、この種の装置が、教科書や雑誌やマニ
ユアルのフイルム上における電子的組立て、記録
に容易に適合し得ることを示している。文章、ハ
ーフトンおよびグラフイツクはフイルムシート上
で電子的に混合できる。フイルムシートは、従来
の印刷装置で使用するための印刷版を作成するよ
うに拡大できる。

EBR１０の種々の記録および作成能力は、フ
イルムゲート３４および電子銃２２により発生さ
れる荷電粒子に関するフイルム３２の既知の関係
における正確かつ安定で限定された位置づけに大
きく依存する。荷電粒子ビームは、分子粒子散乱
に敏感であり、したがつて、このような散乱を避
けるため記録フイルム３２のビーム衝撃面を真空
雰囲器内に配することが非常に望ましい。

しかしながら、最近、高・低真空雰囲気１８お
よび２０間のフイルムゲート３４に記録フイルム
３２を配置すると、フイルムがゲート中を送給さ
れるときフイルムゲート中に持ち込まれてフイル
ムとフイルムゲート間に捕えられる空気に起因し
て、フイルム表面に小さな気泡状歪を生じること
があることが分つた。この気泡状歪は、ある種の
応用においては、ビーム作像の精度、したがつて
EBRの実用性を損なうことがあり得る。

第２図を参照すると、本発明の通気、等圧フイ
ルムゲート３４の好ましい具体例が、フイルムフ
レーム３６およびフイルムプラテン３８を含むも
のとして傾斜図で示されている。フイルムフレー
ム３６は、該フレーム３６、ゲート３４、および
その中に支持されるフイルム３２を荷電粒子銃２
２に関して位置づけるための前部基準面４０を有
している。フレーム３６はまた、フレーム３６お
よびプラテン３８間にフイルム通路を形成する後
面４２を有している。フレーム３６は、前部基準
面４０から後面４２に通ずる露出孔４４を備えて
いる。プラテン３８は、フイルム非接触面４８で
縁どりされ４６で総括的に指示されたフイルム接
触ないし受容面を有している。非接触面４８は、
段階Ｃに起因する高圧力領域１８と段階Ｂに起因
する低圧力領域２０間の主たる障壁として働く。
プラテン３８のフイルム接触面４６は、フイルム
フレーム３６の後面４２から約フイルム２枚分の
厚さだけ分離されており、フイルム入口５０とフ
イルム出口５２を有するフイルム通路を形成して
いる。

フイルム入口５０は、フイルムプラテン３８と
フレーム３６の前縁により形成され、他方フイル
ム出口５２は、プラテン３８とフレーム３６の後
縁により形成されている。したがつて、新しいフ
イルム３２がフイルムゲート３４を通つて送給さ
れるとき、フイルムは、フイルムゲート３４内に
おいてフレーム孔４４を介して真空領域１８の高
真空に曝される。それゆえ、フイルムゲート３４
内においては、フイルム３２の表面は真空領域２
０におけるよりも高真空に曝される。この状態の
効果は、新しいフイムがゲート３４中に送給され
て作像位置に係止されるとき、真空領域２０の空
気が、フイルム接触面４６と障壁面４８の間のと
ころでフイルムゲート３４内のフイルム３２と背
後には搬入される。フイルムゲート３４内のフイ
ルム３２の背後のこの空気は、通気されなけれ
ば、フイルムにビームに向う気泡状突部を生じさ
せることがある。

したがつて、本発明のプラテン３８は、プラテ
ンのフイルム接触面の圧力を緩和する手段が設け
られており、フイルム３２にかゝる圧力が等化さ
れ、フイルム３２背面とプラテン３８間において
空気またはガスが捕捉され得るプラテン３８の表
面積が減ぜられるようになされている。

しかしながら、プラテン３８の圧力緩和手段
は、プラテン上に支持されるフイルム３２に予定
の連続的彎曲を賦与するプラテンの能力を減じて
もいけないし、それと干渉してもいけない。好ま
しい具体例においては、フイルムゲート３４は、
フイルム接触面４６を通気する手段５４を備えて
いるが、これはプラテン３８の表面に穿たれ、圧
力を緩和するようにフイルム前面に加わる雰囲気
に接続されている。

好ましい具体例においては、通気手段は、第２
図および第３図に示されるように、プラテン３８
のフイルム非接触面４８まで延びているプラテン
３８のフイルム接触面４６に配置された複数のみ
ぞと、プラテン３８のフイルム非接触面４８に配
置されたみぞ５４の延長部分５６に隣接するフレ
ーム３６中のオリフイス５８より成り、それによ
りプラテン３８上に存するフイルムの前面と後面
に加わる圧力雰囲気間の接続が行なわれている。

他の好ましい具体例においては、複数の平行な
みぞ５４が、フイルムゲート３４中におけるフイ
ルム移送方向に垂直な方向にプラテン３８のフイ
ルム接触面４６に配置されている。実際の具体例
においては、フイルムプラテン３８は、１インチ
当り２本の1/4インチ幅のみぞを有している。プ
ラテン３８のフイルム接触面４６の通気手段は、
プラテン３８の全フイルム接触面４６の表面積を
減じる。かくして、フイルム３２の両側で圧力差
が起こつたとすれば、フイルム３２は圧力勾配の
方向にたわむことになろう。それゆえ、本発明の
ゲート３４は、フイルムにかゝる圧力勾配を除去
するように圧力が等化される態様でフイルム３２
を位置づけることが重要である。したがつて、プ
ラテンのフイルム接触面４６は、フイルム３２の
ビーム面に加わる雰囲気に通気されるのが好まし
い。

さらに、技術に精通したものにより認められる
ように、本発明のEBR１０のフイルム供給領域
２０は、フイルム交換のためフイルム３２へのア
クセスを容易にするため、ほんの10^-1Torrの部
分真空を維持し、他方、ビーム路領域および偏向
領域１６および１８は、粒子ビームの分子散乱を
避けるため、比較的安全な真空（10^-5Torr）を
維持することが望ましい。

フイルムの乳剤面上に存するガスは、フイルム
３２の乳剤面と接触する高真空領域により容易に
消散される。他方、フイルム３２の後面上支持さ
れるガスは、気泡としてフイルム３２とプラテン
３８の間に捕捉されることがしばしばあり、これ
がフイルム３２の配置に歪を導入し、ビーム作像
の精度を損なう。それゆえ、プラテン３８のフイ
ルム接触面４６をフイルム面に接触する高真空領
域１８に通気させることが望ましい。

第３図において、フイルム３２は、彎曲フレー
ム３６と並置された彎曲プラテン３８間の通路中
のフイルムゲート３４に入る。彎曲フレーム３６
および彎曲プラテン３８のフイルム対向表面４２
および４６は、電子感知性フイルム３２が、その
長さ方向に沿つて比較的自由に動くが、電子銃２
２に対する実質的な接近・離間運動は阻止される
ように離間されている。

第４図を参照すると、電子感知性フイルム３２
は、フイルム供給シヤフト６８上に装着されたフ
イルム供給リール６４により供給される。電子感
知性フイルム３２は、ローラ７０、フイルムセン
サ７２およびローラ７４を経てフイルムゲート３
４に入る。真空形の動作を容易にするため、電子
感知性フイルム３２の厚さの約２倍の間隔が適当
と考えられる。

フイルムゲート３４はまた、第４図に詳細に示
されるように、フイルム３２を、入口５０および
出口５２を通つて領域２０から領域１８に移動さ
せる移送手段３１を備えている。この移送手段
は、フイルム３２に張力を与えて、フイルム３２
をフイルム接触面４６上に保持し、それによりフ
イルムがフイルムゲート３４内にある間フイルム
にプラテン３８の予定された彎曲を賦与する。電
子感知性フイルム３２に予定されたレベルの張力
を加えることによつて、電子感知性フイルム３２
が彎曲プラテン３８のフイルム摺動表面との接触
を維持することが保証され、面４６の予定された
彎曲が電子感知性フイルム３２に賦与されること
が保証される。電子ビームの位置は、例えば電磁
偏向コイル３０により容易に修正され、フイルム
ゲート３４の予定された彎曲と予定されたフイル
ム張力により設定される記録フイルム３２内の予
測可能な歪を補償する。

動作において、フイルム３２はフイルムゲート
３４において静止し、電子銃２２は、フイルム３
２上に予め特定された像を連続的または間欠的に
プロツトまたはトレースする。従来形式の電子感
知性フイルム３２を使用する場合、彎曲プラテン
３８のフイルム接触面４６に対して約130インチ
の曲率半径を使用するのが適当であることが分つ
た。

フイルムゲート３４を出るフイルム３２は、出
口５２を通つて領域１８から領域２０に戻り、ロ
ーラ７８を経、測定ローラ８０およびロー８２間
を通り、巻取りスプール８４上に巻き取られる。
巻取りスプール８４は、巻取りスピンドル８６上
に装着されている。

第５図を参照すると、記録フイルム３２に張力
を加える手段と、フイルム３２を送給するための
手段が例示されている。従来形のトルクモータ８
８がフイルム供給シヤフト９０に連結されてお
り、予定されたトルクをフイルム供給スプール９
２に賦与する。この予定されたトルクは、巻取り
スプール９６に連結された従来形式のロツクされ
た送給モータ９４により固定された電子感知性フ
イルム３２に作用し、これに予定された張力をも
たらす。この張力は、供給スプール上のフイルム
半径９８に逆比例的に変わる。前述のように、こ
の予定された張力は、電子感知性フイルム３２が
彎曲プラテン３８のフイルム接触面４６と十分の
接触を維持することを保証する。５ 1/2インチ幅
４ミル厚の従来フイルムが使用される場合、約20
オンスの張力が適当である。

ブレーキを備える従来形式の前進ギヤモータ９
４が巻取りシヤフト１００に連結されており、電
子感知性フイルム３２をフイルムゲート３４中に
引込むように間欠態様で動作する。電子への露出
中、記録フイルム３２は静止される。

技術に精通したものにより認められるように、
フレームのオリフイス５８は、プラテンの通気手
段５４をフイルム３２の前面すなわちビーム面に
面する真空領域１８に平行に接続するフレーム３
６中の単一の開口より構成することができる。

こゝに説明される好ましい具体例は、本発明の
単なる例示を意図するものであることを理解され
たい。本発明は、改良されたフイルムゲート、し
たがつて改良された実際的な荷電粒子ビーム記録
装置を提供するものであることが認められよう。
装置は特に電子ビーム記録と関連して説明した
が、本発明の改良されたゲートおよび装置は、プ
ロトンおよびイオンを発生する装置を含めて種々
の異なる荷電粒子発生装置と組合せて使用できる
ことは容器に明らかであろう。さらに、技術に精
通したものに認められるように、フイルムゲート
の彎曲は、任意の連続形式のもとし得、また本発
明はフイルムに引張りを加えても加えなくても実
施できる。

さらに、上には、本発明をある程度特定された
好ましい形式について説明したが、好ましい具体
例についてのこの開示は例示としてなされたもの
であり、構造の詳細は特許請求の範囲から逸脱す
ることなく変更し得るものであることを理解され
たい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の改良された電子ビームレコー
ダ装置の一部断面の上面図、第２図は第１図に示
される本発明の改良されたフイルムゲートの好ま
しい具体例の一部断面の拡大斜視図、第３図は第
１図に示されるフイルムゲートの好ましい具体例
の側面図、第４図は第１図に示されるフイルムゲ
ートの好ましい具体例の上面図、第５図は第１図
のフイルムゲートと組み合わせて使用されるフイ
ルム送りおよび引張り手段の平面図である。 １０：荷電粒子ビームレコーダ、１４，１６，
１８，２０：真空領域、２２：電子銃、２４：仕
切壁、２６，２８，３０：電磁コイル、３１：フ
イルム移送機構、３２：電子感知性フイルム、３
４：フイルムゲート、３８：プラテン、４４：フ
レームの露出孔、５４：みぞ、５６：みぞの延長
部、５８：オリフイス。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 荷電粒子ビームによりフイルム上に正確に作
   像する荷電粒子記録装置において、高真空度を有
   し、荷電粒子ビームが貫通投射される第１の領域
   を形成する手段と、該第１領域より低圧の部分真
   空を有する第２の領域を形成する手段と、前記荷
   電粒子ビームを横切るように位置づけられて前記
   両領域間に障壁を形成するフイルム位置付け用プ
   ラテンを有し、かつ高真空領域および該プラテン
   のビーム面に前記フイルムを出入れするための入
   口および出口手段を備えるフイルムゲートと、前
   記フイルムを前記第１領域において荷電粒子ビー
   ムに曝すため、フイルムを前記第２領域から前記
   入口および出口手段を通り前記プラテンを横切つ
   て移動させるための移送手段と、フイルムの歪み
   を避けるため、フイルム背後の前記プラテンのビ
   ーム面を前記第１領域に通気させるプラテン内の
   通気手段とを含む荷電粒子記録装置。 ２ 前記プラテンの通気手段が、前記プラテンの
   フイルム接触面に配置された少なくとも１つのみ
   ぞを含む特許請求の範囲第１項記載の荷電粒子記
   録装置。 ３ 前記少なくとも１つのみぞが、前記ゲート中
   におけるフイルムの送り方向に交叉方向に配置さ
   れた特許請求の範囲第２項記載の荷電粒子記録装
   置。 ４ 前記少なくとも１つのみぞが、フイルムフレ
   ームを通してフイルムのビーム面に加わる雰囲気
   に接続される特許請求の範囲第１項記載の荷電粒
   子記録装置。 ５ 前記プラテンが共通の通気手段に接続された
   複数のみぞを含む特許請求の範囲第１項記載の荷
   電粒子記録装置。 ６ フイルムを前記プラテンと密接状態に保持す
   るため前記フイルムに所定の長手方向張力を賦与
   する引張り手段を含む特許請求の範囲第１項記載
   の荷電粒子記録装置。 ７ 前記の所定の張力が約20オンスである特許請
   求の範囲第６項記載の荷電粒子記録装置。 ８ 前記プラテンが所定の連続的彎曲を備える特
   許請求の範囲第１項記載の荷電粒子記録装置。 ９ 前記の所定の連続的彎曲が荷電ビームの方向
   に関して凹面状である特許請求の範囲第８項記載
   の荷電粒子記録装置。 １０ 前記荷電粒子ビームが電子ビームである特
   許請求の範囲第１項記載の荷電粒子記録装置。