JPH0347743Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0347743Y2 JPH0347743Y2 JP1986043271U JP4327186U JPH0347743Y2 JP H0347743 Y2 JPH0347743 Y2 JP H0347743Y2 JP 1986043271 U JP1986043271 U JP 1986043271U JP 4327186 U JP4327186 U JP 4327186U JP H0347743 Y2 JPH0347743 Y2 JP H0347743Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- tip
- arc
- insert
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Arc Welding In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、プラズマアークにより被加工物を加
工するための、特に小電流用の加工用トーチに用
いられるプラズマ電極に関する。
工するための、特に小電流用の加工用トーチに用
いられるプラズマ電極に関する。
一般に、プラズマアークトーチにおいては、被
加工物又はノズルと電極との間にアーク放電を生
起させ、適宜の作動ガスをノズルから噴射させた
プラズマジエツトにより加工を行なつている。
加工物又はノズルと電極との間にアーク放電を生
起させ、適宜の作動ガスをノズルから噴射させた
プラズマジエツトにより加工を行なつている。
この種の作動ガスとしては、窒素、アルゴン、
水素等の不活性もしくは還元性のガスが用いられ
たり、酸素、空気等の酸化性のガスが用いられた
りしているが、低廉なことおよび入手が容易なこ
となどの理由で、酸化性のガスが作動ガスとして
使用される場合が殆んどである。
水素等の不活性もしくは還元性のガスが用いられ
たり、酸素、空気等の酸化性のガスが用いられた
りしているが、低廉なことおよび入手が容易なこ
となどの理由で、酸化性のガスが作動ガスとして
使用される場合が殆んどである。
従来、この種のトーチにおいては、酸化性のガ
スによる電極の消耗量を抑えて電極を高寿命に使
用するために、電極本体の先端部に高融点の挿入
体を保持させた電極が用いられていた。
スによる電極の消耗量を抑えて電極を高寿命に使
用するために、電極本体の先端部に高融点の挿入
体を保持させた電極が用いられていた。
ところで、第５図に示されるごとく、電極３′
と被加工物５又はノズル４との間に発生されるア
ークに着目した場合、電極側のアーク発生点、即
ち陰極点“イ”は電極３′の下端および側面部分
“Ａ”に不安定な、いわゆるふらついた状態で生
起する。
と被加工物５又はノズル４との間に発生されるア
ークに着目した場合、電極側のアーク発生点、即
ち陰極点“イ”は電極３′の下端および側面部分
“Ａ”に不安定な、いわゆるふらついた状態で生
起する。
この場合、加工用電流が30A程度以上の比較的
大きい場合には、生成するアーク力が大きいた
め、作動ガスによりアークを絞つて、電極の下端
部、例えば側面部に生成した陰極点が電極の略中
央部“ロ”に位置するように移行させた状態で、
ノズルの貫通孔よりプラズマジエツトを噴射させ
て加工を行なうことができる。
大きい場合には、生成するアーク力が大きいた
め、作動ガスによりアークを絞つて、電極の下端
部、例えば側面部に生成した陰極点が電極の略中
央部“ロ”に位置するように移行させた状態で、
ノズルの貫通孔よりプラズマジエツトを噴射させ
て加工を行なうことができる。
しかし、加工用電流が小さい場合、例えば15A
程度以下のときには、生成するアーク力が小さい
ため、例えば、電極３′の下部側面に生成した陰
極点“イ”を電極の略中央部“ロ”に移行させよ
うとして作動ガスを供給すると、陰極点が所望の
位置に移行する前にアークが消失してしまうこと
が多々あつた。このようにアークが消失した場合
は、当然プラズマアーク加工を行なうことができ
ないので、再度プラズマアークのスタート作業を
行なわなければならず、加工作業が非能率的であ
つた。
程度以下のときには、生成するアーク力が小さい
ため、例えば、電極３′の下部側面に生成した陰
極点“イ”を電極の略中央部“ロ”に移行させよ
うとして作動ガスを供給すると、陰極点が所望の
位置に移行する前にアークが消失してしまうこと
が多々あつた。このようにアークが消失した場合
は、当然プラズマアーク加工を行なうことができ
ないので、再度プラズマアークのスタート作業を
行なわなければならず、加工作業が非能率的であ
つた。
本考案は、上記従来の問題点に着目してなされ
たもので、プラズマアーク加工用トーチに用いら
れるプラズマ電極において、電極本体の先端中央
部に高融点の挿入体を保持し、該挿入体および電
極本体の夫々の先端前面部の少なくとも一方に直
線状の溝を配設することにより上記問題点を解決
している。
たもので、プラズマアーク加工用トーチに用いら
れるプラズマ電極において、電極本体の先端中央
部に高融点の挿入体を保持し、該挿入体および電
極本体の夫々の先端前面部の少なくとも一方に直
線状の溝を配設することにより上記問題点を解決
している。
電極本体の先端中央部に高融点の挿入体を保持
し、該挿入体および電極本体の夫々の先端前面部
の少なくとも一方に直線状の溝が配設されている
ため、陰極点がこの溝のエツジ部に発生し、かつ
作動ガスの供給に伴なつて陰極点はこの溝のエツ
ジ部を伝つて電極の略中央部に移行して、プラズ
マジエツトが確実に生成される。
し、該挿入体および電極本体の夫々の先端前面部
の少なくとも一方に直線状の溝が配設されている
ため、陰極点がこの溝のエツジ部に発生し、かつ
作動ガスの供給に伴なつて陰極点はこの溝のエツ
ジ部を伝つて電極の略中央部に移行して、プラズ
マジエツトが確実に生成される。
第１図はプラズマアークトーチの先端要部を概
略的に示す図であつて、１は電極本体で、例え
ば、銅又は銅合金により形成されている。２は電
極本体の先端中央部に保持された高融点の挿入体
で、例えば、ハフニウム、ジルコニウムあるいは
これらを基礎とする合金により形成されている。
この電極本体１および挿入体２によりプラズマ電
極３が構成されている。このプラズマ電極３に
は、先端前面部に直線をなす溝３０１が配設され
ている。図示の場合、溝３０１は交叉して電極本
体１および挿入体２の夫々の先端前面部に配設さ
れてい。４はノズルで、例えば銅又は銅合金によ
り形成されている。
略的に示す図であつて、１は電極本体で、例え
ば、銅又は銅合金により形成されている。２は電
極本体の先端中央部に保持された高融点の挿入体
で、例えば、ハフニウム、ジルコニウムあるいは
これらを基礎とする合金により形成されている。
この電極本体１および挿入体２によりプラズマ電
極３が構成されている。このプラズマ電極３に
は、先端前面部に直線をなす溝３０１が配設され
ている。図示の場合、溝３０１は交叉して電極本
体１および挿入体２の夫々の先端前面部に配設さ
れてい。４はノズルで、例えば銅又は銅合金によ
り形成されている。
上記構成において、例えば電極３とノズル４と
の間に通電して、いわゆるパイロツトアークを発
生させると共に、電極３の周囲に適宜の作動ガス
を供給して、ノズル４の貫通孔４０１からプラズ
マジエツトを噴出させる。この場合、電流の収剣
効果により、パイロツトアークの発生点、即ち陰
極点は溝３０１のエツジ部に生成する。また作動
ガスの供給に伴なつて陰極点はこの溝３０１のエ
ツジ部を伝つて電極３の略中央部“ロ”に容易に
移行する。この後、プラズマジエツトが生成され
る。
の間に通電して、いわゆるパイロツトアークを発
生させると共に、電極３の周囲に適宜の作動ガス
を供給して、ノズル４の貫通孔４０１からプラズ
マジエツトを噴出させる。この場合、電流の収剣
効果により、パイロツトアークの発生点、即ち陰
極点は溝３０１のエツジ部に生成する。また作動
ガスの供給に伴なつて陰極点はこの溝３０１のエ
ツジ部を伝つて電極３の略中央部“ロ”に容易に
移行する。この後、プラズマジエツトが生成され
る。
なお、プラズマジエツトを生成させる場合、電
極３とノズル４又は電極３と被加工物５のいずれ
かに適宜に給電させる。勿論、電極３と被加工物
５との間に給電してアークの発生→プラズマジエ
ツトの生成を行なうこともできる。
極３とノズル４又は電極３と被加工物５のいずれ
かに適宜に給電させる。勿論、電極３と被加工物
５との間に給電してアークの発生→プラズマジエ
ツトの生成を行なうこともできる。
また、第２図に示されるごとく、電極３の先端
部に配設される溝３０１が交叉していれば、アー
クの発生後、作動ガスの供給に伴なつて瞬間に陰
極点が交叉するエツジ部“ロ”に移行した状態で
安定化する。このため、溝３０１の交叉位置を挿
入体２の略軸芯部とすれば極めて有利である。
部に配設される溝３０１が交叉していれば、アー
クの発生後、作動ガスの供給に伴なつて瞬間に陰
極点が交叉するエツジ部“ロ”に移行した状態で
安定化する。このため、溝３０１の交叉位置を挿
入体２の略軸芯部とすれば極めて有利である。
第３図および第４図は、夫々本考案の他の実施
例を示す図であつて、第３図に示されるものにお
いては、電極３の挿入体２の先端前面部に直線状
の溝３０１が配設されている。また、第４図に示
されるものにおいては、電極本体１の先端前面部
に直線状の溝３０１が配設されている。なお、電
極３の先端部に配設される溝３０１の形状は、Ｖ
形、Ｕ状あるいは凹状など適宜の形状とすること
ができる。また溝３０１の条数は１以上であれば
よく、例えば、交叉する３以上の溝とすることが
できる。
例を示す図であつて、第３図に示されるものにお
いては、電極３の挿入体２の先端前面部に直線状
の溝３０１が配設されている。また、第４図に示
されるものにおいては、電極本体１の先端前面部
に直線状の溝３０１が配設されている。なお、電
極３の先端部に配設される溝３０１の形状は、Ｖ
形、Ｕ状あるいは凹状など適宜の形状とすること
ができる。また溝３０１の条数は１以上であれば
よく、例えば、交叉する３以上の溝とすることが
できる。
電極本体の先端中央部に高融点の挿入体を保持
し、該挿入体および電極本体の夫々の先端前面部
の少なくとも一方に直線状の溝が配設されている
ため、陰極点がこの溝のエツジ部に発生し、かつ
作動ガスの供給に伴なつて陰極点はこの溝のエツ
ジ部を伝つて電極の略中央部に移行して、プラズ
マジエツトが確実に生成される。
し、該挿入体および電極本体の夫々の先端前面部
の少なくとも一方に直線状の溝が配設されている
ため、陰極点がこの溝のエツジ部に発生し、かつ
作動ガスの供給に伴なつて陰極点はこの溝のエツ
ジ部を伝つて電極の略中央部に移行して、プラズ
マジエツトが確実に生成される。
即ち、加工用電流が小さい場合でも、アークを
消失することなくプラズマジエツトを確実に生成
することができるので、加工作業を確実に能率よ
く行なうことができる。
消失することなくプラズマジエツトを確実に生成
することができるので、加工作業を確実に能率よ
く行なうことができる。
第１図は、本考案の実施例を示す縦断面図、第
２図は第１図の要部斜視図、第３図ａおよび第４
図ａは夫々本考案の他の実施例を示す図であつ
て、夫々第２図に相当する図、第３図ｂおよび第
４図ｂは夫々第３図ａおよび第４図ａの縦断面を
示す図、第５図は従来例を示す図である。 １……電極本体、２……挿入体、３……電極、
３０１……溝。
２図は第１図の要部斜視図、第３図ａおよび第４
図ａは夫々本考案の他の実施例を示す図であつ
て、夫々第２図に相当する図、第３図ｂおよび第
４図ｂは夫々第３図ａおよび第４図ａの縦断面を
示す図、第５図は従来例を示す図である。 １……電極本体、２……挿入体、３……電極、
３０１……溝。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ プラズマアーク加工用トーチに用いられるプ
ラズマ電極において、電極本体の先端中央部に
高融点の挿入体を保持し、該挿入体および電極
本体の夫々の先端前面部の少なくとも一方に直
線状の溝を配設してなるプラズマ電極。 ２ 前記溝は、少なくとも挿入体の先端前面部に
交叉して配設されてなる実用新案登録請求の範
囲第１項記載のプラズマ電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986043271U JPH0347743Y2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986043271U JPH0347743Y2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62155969U JPS62155969U (ja) | 1987-10-03 |
| JPH0347743Y2 true JPH0347743Y2 (ja) | 1991-10-11 |
Family
ID=30859972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986043271U Expired JPH0347743Y2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0347743Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006158501A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Okamura Corp | 光触媒表面を有するパネル装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5647884B2 (ja) * | 2010-12-21 | 2015-01-07 | 日酸Ｔａｎａｋａ株式会社 | プラズマトーチ用電極及びプラズマトーチ |
| JP5805409B2 (ja) * | 2011-03-17 | 2015-11-04 | 株式会社小松製作所 | プラズマ切断装置用電極及びプラズマトーチ |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD101082A1 (ja) * | 1973-02-05 | 1973-10-12 | ||
| JPS536931B2 (ja) * | 1973-02-28 | 1978-03-13 |
-
1986
- 1986-03-24 JP JP1986043271U patent/JPH0347743Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006158501A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Okamura Corp | 光触媒表面を有するパネル装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62155969U (ja) | 1987-10-03 |
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