JPH0348202A - パターン作製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は大きな屈折率差を有する感光性樹脂組成物のレ
リーフパターンの作製法に関する。

［従来の技術］ 従来、感光性樹脂の露光部では架橋反応や分子の崩壊反
応が生起し、その露光部が難溶化または易溶化すること
から、溶剤を用いて該露光部または非露光部の感光性樹
脂を除去する方法［従来法（２）］によりレリーフパタ
ーンを作製していた。

また、樹脂に該樹脂より高い屈折率を有する比較的揮発
性の光反応性物質をドーブしてなる感光性樹脂組或物よ
りｓ　ｌｌｉを形或し、ついで該薄膜に紫外線を照射し
、露光部のドープ物質をロッキングし、非露光部のドー
ブ物質を蒸発除去することにより、露光部と非露光部と
に屈折率差を有するパターンを形成する方注、いわゆる
フォトロッキング法Ｃ従来法（２）１が知られている［
アブラ゜イド・フイジクス・レターズ（Ａｐｐｌｉｅｄ
　ＰｈｙｓｉｃｓＬｅｔｔｅｒｓ）　、第２６巻、第６
号、第３０３　〜３０６頁（　１９７５年）参照］。こ
の方法によれば、露光部では非露光部に比べて膜厚が約
ｌθ％増加することが報告されている。

さら１こ、エステルのアルコール残基に光反応性の二重
結合を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステル系
重合体または共重合体と芳香族ケトンまたは芳香族アル
デヒドとからなる感光性樹脂組戊物より薄膜を形威し、
ついで該薄膜に紫外線を照射し、ついで未反応の該芳香
族ケトンまたは芳香族アルデヒドを除去することにより
露光部と非露光部との間に児折率差と凹凸差とを併せも
つパターンの作製方法［従来法（３）コが知られている
（特開昭６２−９５５２５号公報および特開昭６２−９
５５２６号公報参照）。

〔発明が解決しよう辷する課題ヨ 従来法（１）により作製した感光性附脂のレリーフパタ
ーンにおいては露光部と非露光部との凪折率差はほとん
どないか極めて小さい。従来法（２）により作製したパ
ターンは露光部と非露光部との屈折率差および凹凸部分
の厚み変化が十分ではない。

従来法（３）によれば感光性樹脂組成物における露光部
が非露光郎よりも高い尼折率を有し、かつ厚みが大きい
鮮明なパターンが作製できるが、得られたパターンの耐
有礪溶剤性および耐熱性か必ずしも十分ではない。

本発明の目的は感光性樹指の露光部が非露光部よりも屈
折率が高く、かつ厚みが大きい表面レリーフ構造を有し
、耐有機溶剤性および耐熱性に侵れｒこ形状安定性の高
いパターンの作製方法を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明によれば、上記の目的は、下記の（イ）、（Ｇ）
、（ハ）および（二）の工徨からムリ、必要１こ応じて
該（ハ）工程と（二）工程との間１こ下３己の（′本）
工程を設けてべることを特徴とするパターン作製法を提
洪することにより達成される。

（イ）下記一般式で示される構造単位（１）Ｘ１ （　［　’）　　　＋ＣＨ．−　Ｃｌ−ｃｏｏ−　ｙ’ 〔式中、ｘ１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ１
はシクロアルケニル基または下記一般式で示される基を
表す。ここでＺｌは２１ａ５の炭化水素基を表し、Ｒｌ
、Ｒ！およびＲ３はそれぞれ水素原子、アルキル基また
はアルケニル基を表す。コを２〜ｌＯＯモル％、および
下記一般式で示される構造単に（ＩＩ） ｛１ Ｙ２ ［式中、Ｘ″：よ水素京子また｛よアルキル基を表し、
Ｙ″はフエニル基、アルコキンカルボニル基またはカル
バモイル基会表し、構這坦位（ＩＩ）における水素原子
はフッ素原子によって置換されていてもよい。コ をＯ〜９８モル％有する重合体（λ）と、置換基を有し
ていてもよい芳香族アルデヒドおよび芳香族ケトンから
なる群より選ばれる化合物（Ｂ）とからなる感光性尉脂
組成鞠の薄膜を形成する工程。

（口）庫膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線を
照射する工程。

（ハ）薄膜から未反応の化合物（Ｂ）を除去する工程。

（二）薄膜を熱処理する工程。

（ネ）薄膜の全面に紫外線を照射する工程。

本発明に用いられる感光性樹指組成物を構成する重合体
（Ａ）は構造単位（Ｔ）を５〜１００モル％含む場合か
好ましい。重合体（Ａ）はさらに下記一般式で示される
ＩＩＩ造単α（ＩＩＩ） ［式中、ｘ５は水素原子またはアルキル基を表し、ｚ７
は２価の炭化水素基を表し、Ｒ４、ＲＳおよびＲ＠はそ
れぞれ水素原子またはアルキル基を表す。］を１〜９８
モル％、好ましくは５〜９８モル％含んでいてもよい。

上記の構造単位（Ｔ）におけるＸＩおよび構造単位（Ｉ
Ｉ［）におけるｘ３がそれぞれ表すアルキル基としては
、メチル基、エチル基、プロビル基、イソプロピル基、
ブチル基などの炭素数が４以下の低級アルキル基が好ま
しい。また構造単位（１）におけるＲ１、Ｒ１およびＲ
３ならびに構造単位（１）におけるＲ′″、Ｒｌ１およ
びＲ＠がそれぞれ表すアルキル基は分岐または任意の置
換基を有していてもよく、メチル基、エチル基、プロビ
ル基、イソブロビル基、ブチル基、アミル基ユヘキシル
基、ヘブチル基、オクチル基などの炭素数が８以下の低
級アルキル基が好ましい。上記のＲＩ　Ｒ！およびＲ３
がそれぞれ表すアルケニル基は２−ブテニル基、３−メ
チル−２−ブテニル基、３−ペンテニル基、４−メチル
−３−ペンテニル基が好ましい。構造単位（１）におけ
るｚ１および構造単泣（ＩＩＩ）におけるｚ８がそれぞ
れ表す２価の炭化水素基としては炭素数が２〜８の分岐
を有してもよいアルキレン基が好ましい。構造単位（１
）におけるＹｌの好適例として、アリル基・２−プテニ
ル基、３−ブテニル基、２−メチル−２−プロペニル基
＝２−へプテニル基、３−へプテニル基、４−へプテニ
ル基、２−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−２−
ブテニル基、２−エチル−２ープロペニル基、２−メチ
ル−３−ブテニル基、ｌ．２−ジメチル−２−プロペニ
ル基＝２−ヘキセニル基、３−へキセニル基、４−へキ
セニル基、５−へキセニル基、１．１−ジメチル−２−
ブテニル基、１．２−ジメチル−２−ブテニル基、１．
３−ジメチル−２−ブテニル基、２．３−ジメチル−２
−ブテニル基、３ーメチル−２−へブテニル基、２−メ
チル−２−へブテニル基；２−メチル−２−シクロヘキ
セニル基、３−メチル−２−シクロヘキセニル基、ゲラ
ニル基、イソゲラニル基、ネリル基、ラバンジュリル基
、６−メチルゲラニル基、ｌ−メチルゲラニル基、６一
エチルゲラニル基、ペリリル基、ファルネソル基、ゲラ
ニルゲラニル基、β−シクロゲラニルゲライル基などを
挙げることができる。

また構造単位（Ｉ［［）における基 しては、２．３−エポキゞ、・プロビル基、２．３−エ
ボキシブチル基、：Ｊ　．　４−１，ポキシブチル基、
２．３−エボキシ−２−メチルプロビル基、２−メチル
−２．３ーエボキシブチル基、３−メチル−２．３−エ
ボキシブチル基、２．３−エボキシヘプチル基、５．６
−エボキシへブチル基、３−メチル−２．３−エボキシ
ブチル基、４−メチル−２．３−エボキシへブチル基、
４一メチル’−５．６−エボキシヘプチル基などが挙げ
られる。

重合体（＾）はα位がアルキル基によって置換されてい
てもよいアクリル酸またはそのエステルの単独重合また
は構造単位（ＩＩ）を形成するコモノマーとの共重合に
より重合体を得、ついで該重合体と基Ｙ１を有するアル
コール、さらに必要に応じ基Ｙ３を有するアルコールと
を反応させるか、または構造単位（１）を形成するアク
リル酸誘導体の単独重合または該アクリル酸誘導体と上
記コモノマーさらに必要に応じ構造単位（ｔＩ［）を形
威するアクリル酸誘導体との共重合により製造すること
ができる。

構造単位（１）を形成するアクリル酸誘導体としては、
アリルメタクリレート、アリルアクリレート、２（また
は３）一ブテニルメタクリレート、２（または３）一ブ
テニルアクリレート、２−メチル−２−プロベニルメタ
クリレート、２−メチル−２−プロペニルアクリレート
、２（または３または４）へプテニルメタクリレート、
２（または３または４）一へブテニルアクリレート、２
−メチル−２（または３）一ブテニルメタクリレート、
２−メチル−２（または３）一ブテニルアクリレート、
２ーエチル−２−プロベニルメタクリレート、２−エチ
ル−２−プロペニルアクリレート、１．２−ジメチル２
−プロペニルメタクリレート、１．２−ジメチル２−プ
ロペニルアクリレート、２（または３または４または５
）一へキセニルメタクリレート、２（または３または４
または５）一へキセニルアクリレート、１．１（または
１．２または１．３または２．３）ジメチル−２−ブテ
ニルメタクリレート、ｌ，ｌ（または１．２または１．
３または２．３）一ジメチル−２−ブテニルアクリレー
ト、２（または３）一メチル−２一へプテニルメタクリ
レート、２（または３）一メチル−２−ヘブテニルアク
リレートなどのアルコール残基が鎖状になっているアク
リル酸誘導体；２（または３）一メチル−２−シクロヘ
キセニルメタクリレート、２（または３）一メチル−２
−シクロヘキセニルアクリレートなどのアルコール残基
が環状になっているアクリル酸誘導体；ゲラニルメタク
リレート、ゲラニルアクリレート、ネリルメタクリレー
ト、ネリルアクリレート、イソゲラニルメタクリレート
、イソゲラニルアクリレート、ラバンジュリルメタクリ
レート、ラバンジュリルアクリレート、６−メチルゲラ
ニルメタクリレート、６−メチルゲラニルアクリレート
、ｌ−メチルゲラニルメタクリレート、ｌ−メチルゲラ
ニルアクリレート、６−エチルゲラニルメタクリレート
、６−エチルゲラニルアクリレート、ベリリルメタクリ
レート、ペリリルアクリレート等の非共役二重結合を２
個有する鎖状または環状テルペン系アルコールとアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエステル：ファルネソルメ
タクリレート、ファルネソルアクリレート、ゲラニルゲ
ラニルメタクリレート、ゲラニルゲラニルアクリレート
、β−シクロゲラニルゲラニルメタクリレート、β−シ
クロ結合を３ｇ以上有する鎖状または環状テルペン系ア
ルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステル
が挙げられる。これらの中で、アリルメタクリレート、
２−メチル−２−プロペニルメタクリレート、２−プテ
ニルメタクリレート、２−メチル−２−ブテニルメタク
リレート、２−へキセニルメタクリレート、３−へキセ
ニルメタクリレート、ゲラニルメタクリレートが、原料
となろアル５ールの入手のし易さ、エステル合威のし易
さの点か与好ましい。

また構造単位（ＩＩＩ）を形威するアクリル酸誘導体と
しては、２．３−エボキンプロビルメタクリレート、２
．３−エボキシプ口ピルアクリレート、２．３−エポキ
シブチルメタクリレート、２．３−エボキシプチルアク
リレート、３．４−エボキシブチルメタクリレート、３
．４−エポキンブチルアクリレート、２−メチル−２．
３−エボキシブロビルメタクリレート、２−メチル−２
．３−エポキシプロビルアクリレー｝、２．３−エポキ
シへプチルメタクリレート、５．６−エボキシへプチル
メタクリレート、２．３−エポキシへプチルアクリレー
ト、５．６−エボキシへプチルアクリレート、２（また
は３）一メチルー２．３−エボキシブチルメタクリレー
ト、２（または３）一メチル−２．３−エボキシブチル
アクリレート、４−メチル−２，３−エボキシへプチル
メタクリレート、４−メチル−５．６−エボキシへプチ
ルメタクリレート、４−メチル−２．３−エポキシへプ
チルアクリレート、４−メチル−５．６−エポキシへプ
チルアクリレートが挙げられる。これらの中で、２．３
エボキシプロビルメタクリレート、２．３−エポキシプ
チルメタクリレート、３．４−エボキシブチルメタクリ
レートがエステルの合成のし易さの点から好ましい。

構造単位（Ｉｆ）を形成するコモノマーとしてはメタク
リル酸：メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロビル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ペンチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸アミ
ル、メタクリル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸ア
ルキルエステル：アクリル酸：アクリル酸メチル、アク
リル酸エチリル酸アミル、アクリル酸シクロヘキシルな
どのアクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アミド
、アクリル酸アミド、スチレン、α−メチルスチレンは
どの置換スチレンなどが挙げられる。構造単位（ｎ）に
おける水素原子はフッ素原子によって置換されていても
よい。

重合体（Ａ）はゲルパーミエーションクロマトグラフイ
に上り求めた敗平均分子量が１，０００〜１，０００，
０００の梶囲にあるものである。重合体（Ａ）の敗平均
分子量は１００．０００〜８１１０．０００の範囲にあ
ることが好ましい。

化合物（Ｂ）としては例えば置換基を有してもよいベン
ズアルデヒド、ペンゾフェノンまたはその誘導体が挙げ
られ、具体的には下記の一般式（ｆｆ）、一般式（Ｖ）
または一般式（ＶＩ）で示される。

１−　　　Ｘ’“ Ｘ＠ ｃ式中、ｘ′、ＸＳ，　Ｘ＠、Ｘ７、ＸＩ，　ＸＩ、Ｘ
ＩＯ　　Ｘｌｌおよびｘｔｓはそれぞれ水素原子、炭素
数７以下のアルキル基もくしはアルコキシ基、またはハ
ロゲン原子を表し、ｘ目、Ｘｌ４　　ＸＩＳ，　，Ｘｔ
●　ＸＩ？およびｘｌｌはそれぞれ水素原子またはハロ
ゲン原子を表す。ｎはＯ％　ｌまたは２である。］ 好ましい化合物（Ｂ）としてはペンゾフェノン：３（ま
たは４〉−メチルベンゾフエノン、３（または４）一メ
トキシベンゾフエ７ノ、３，３゜（または４．４゜）一
ジメチルベンゾフエノン、３，３゜（または４．　４’
　）一ジメトキシベンゾフエノン、２．３（または２，
４）一クロルベンゾフエノン、３，４．５−｝リメトキ
シベンゾフエノンなどの置換ペンゾフエノン、３−ペン
ゾイルベンゾフエノン：３（また！ｉ４）−メチノレベ
ンゾイノレ−３゜（または４゜）一メチノレベンゾフエ
ノン、３（または４）一メト牛シベンゾイル−３゜（マ
たは４゛）一メトキシベンゾフェノン、３，３゜−ジベ
ンゾイルベンゾフエノン、ｔ．ａ．ｓ−トリベンゾイル
ベンゾフエノンなどのメタ置換型のべ冫ゾフエノン、べ
冫ズアルデヒド；３（または４）一メチルベンズアルデ
ヒド、３（または４）一メト牛シベンズアルデヒド、３
．４−ジメチルベンズアルデヒド、３．４−ジメトキシ
ベンズアルデヒドなどの置換ベンズアルデヒドを挙げる
ことができる。これらの中でべ冫ズアルデヒド、ペンゾ
フエノン、３−べ冫ゾノルベンゾフエノン、３．３゜ー
ジベンゾイルベンゾフエ／ンおよＣｌ’　１，　３．　
５　−　｝リベンゾイルベンゼンが合或のし易さから好
ましく、また特に３−ペンゾイノレベンゾフエノンおよ
び１．３．５−｝リベンゾイルベンゼンが、光反応性が
良好であり、露光部と非露光部との凹凸差および屈折率
差を大きくすることが可能であり作製されたパターンの
耐溶剤性および耐熱性が高い点で特に好ましい。

重合体（Ａ）と化合物（Ｂ）との組或割合は１Ｇ＝１〜
ｌ：ｌＯ（重量比）の範囲が好ましい。重合体（Ａ）が
有する構造単位（１）と化合物（Ｂ）との割合はｌｏ：
１〜Ｌ：２０（モル比）の範囲であり、好ましくは５：
ｌ−１：１０（モル比〉の範囲である。

上記（イ）工程では重合体（Ａ）と化合物（Ｂ）とを溶
解する溶媒に両者を溶解し、キャスティング法、バーコ
ート法、ス・ピンコート法などによって漏膜を形成する
。必要に応じて、薄膜を減圧処理または加熱処理するこ
とにより該薄膜から溶剤を除去する。薄膜の形或法は所
望の薄膜の厚さの程度または形態によって選択される。

一般に厚さが大きい場合には、キャスティング法、小さ
い場合にはパーコート法またはスビンコート法が採用さ
れる。

（イ）工程に続く（ａ）工程では、漏膜に所望のパター
ンに応じて部分的に波長が２００〜４５０■の紫外線を
照射する。光源には高圧水銀ランプ、！ｌ，ガスレーザ
、Ｈｅ−Ｃｄレーザなどが用いられる。所望のパターン
を形成する方法としてフォトマスクを用いるマスク露光
法、二光束干渉露光法、レーザピーム直接描画法などが
採用される。

（０工程に続く（ハ）工程における未反応の化合物（Ｂ
）の除去は、通富減圧下または常圧下で熱処理すること
により行う。熱処理のａ度としては５０〜ｌ００℃の範
囲であるのが好ましい。これによって所望の屈折率差と
凹凸差を有するパターンを得る。

所望のパターンが形成された惑光性樹脂組或物の薄膜に
上記（ハ）工程の熱処理温度よりも高温の熱処理を施す
（二）工程を設けると、上記パターンの耐有機溶剤性お
よび耐熱性が向上する。（二）工程の熱処理は１０５〜
２　３　０　’Ｃの範囲の温度でｌ５分間〜４０時間行
うことが好適な結果を与え、る。１５０〜２００゜Ｃの
範囲の温度で１〜５時間熱処理するか、１１０〜１４０
゜Ｃの範囲の晶度で１０〜２５時間熱処理することがよ
り好適である。

上記（ハ）工程と（二）工陛との間に、ａ膜の全面に紫
外線を照射する（０工程を設けろと耐有機溶剤性および
耐熟性はさらに向上する。紫外線の強度としては１０　
〜４０＋Ｗ／　ｃ１、波長としては２００　〜４５０ｎ
　ＩＩＩ　Ｓ紫外線鳳射の時間としては３０秒間〜５分
間が好ましい。

本発明によれば、例えば光導波路、回折格子、グレーテ
イングレンズ、フレネルレンズ、ホログラムレンズなど
のパターンを作製することができろ。それらのパターン
は光学的透明性、耐有機溶剤性および耐熱性に極めてす
ぐれている。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。

実施到ｌ 試験管に２−ブテニルメタクリレート２６ｇ１メチルメ
タクリレート５６ｇ１　アゾビスイソブチロニトリル９
０ｍｇおよびジオキサン３００ｇをＮ，Ｒ換して仕込み
、封管して５５〜６０℃のウォーターバス中で２４時間
加熱し重合した。その後、ｌＱのメタノール中ヘ反応液
をあ｛十、生成した１合体（＾）を沈澱させ、乾燥させ
ると５０ｇ得られた。この重合体（Ａ）の組成比をＮ　
Ｍ　Ｒで測定すると、２−ブテニルメタクリレート：メ
チルメタクリレート＝Ｉ：３（モル比）の共重合体であ
ることが確認された。またこのポ１マーの分子量はゲル
パーミエーションクロマトグラフイ法て測定すると数平
均分子量か２２０．０００であった。上３２重合体（＼
）１郎と、３−ペンゾイルベンゾフエノン０．８部とか
らなる感光性樹脂組成物をトルエンに溶解し、ガラス基
板上にスピンコート法によって薄＠（厚さｌ．５Ｌｔｍ
）を形蚊した。

この薄膜を６０゜Ｃで３０分間熱処理の後、２０ａｍ周
期のラインアンドスペースを有するフォトマスクを通し
て３５０ｎｍ、２５ＩＩＩＷ／ｃａ＋”の紫外線を５分
間照射した。

紫外線照射後フォトマスクをはずし、真空乾燥機中で９
８９Ｃ，　０．２ｍｌｎＨｇの条件でｌ７時間熱処理し
、非露光部の化合物（Ｂ）を除去して屈折率差と凹凸差
とを有する回折格子のパターンを作製した。さ与にこの
回折格子のパターンに１２０℃（常圧）で２４時間の（
二）工程の熱処理を施した。この回折格子の回折効率は
７ｇＯｎＩ＋＋の光に対して１２％であった。

（二）工程の熱処理を施した回折格子をメチルメタクリ
レートの飽和蒸気中に７０℃で１００時間放置したが、
回折効率は変化しＣかった。これより、回折格子の形状
および屈折率が変化しないことを判定した。また、この
回折格子を１８０°Ｃ（ｆ圧）で２時間加熟したか回折
効率は変化しなかっｆコ。

実施例２ 実施例ｌと同じ組成の感光性樹脂組成物を用いて、実８
＠例１と同様の方法で回折格子のパターンを作製した。

この回折格子のパターンに１　８　０　’Ｃ（常圧）で
２時間の（二）工程の熱処理を施しｆ二。

上記の熱処理した回折格子会用いて、実施列ｌと同様に
して耐有機溶剤性および耐熱性の試験を行ったが、回折
格子の回折効率は変化しなかった。

実施例３〜８ 実施例１におけると同様の方法で、第１表に示す重合体
（Ａ）および化合物（Ｂ）からなる感光性樹脂組成物を
作り、回折格子のパターンを作製した。

その後、３０ｓｌ／ａｍ”の紫外線を２分間照射し、さ
らに１２０℃（常圧）で２４時間の（＝）工程の熱処理
を施した。各実施例において作製した回折洛子を用いて
実施例１と同様にして耐有機溶剤性および耐熱性の試験
を行ったところ、回折効率はいずれも変化しなかった。

また（二）工程の熱処理条件を１８０℃（常圧）、２時
間に変えた回折格子においても、耐有機溶剤性および耐
熱性は高かった。

以下余白 実施例９ 試験管に２−ブテニルメタ ク リレー ｝２６ｇ， ２，３ −エポキシプロビルメタクリレート２６ｇ１メチルメタ
クリレート３８ｇ１アゾビスイソブチロニトリル９０ｍ
ｇ，およびジオキサン３００ｇをｈ置換して仕込み、封
管して５５℃〜６０℃のウォーターバス中で２４時間加
熱し重合した。実施例１と同様にして、この重合体の組
成比をＮＭＲで測定すると、２−ブテニルメタクリレー
ト＝２．３−エボキシプロビルメタクリレート：メチル
メタクリレート＝１：１：２（モル比）の共重合体であ
ることが確認された。分子量はゲルパーミエーションク
ロマトグラフイー法で測定すると数平均分子量が２２０
，０００であった。上記重合．体（Ａ）１部と、３−ペ
ンゾイルベンゾフエノン０．８部とからなる感光性樹脂
組戊物をトルエンに溶解し、実施例ｌと同じくスピンコ
ート法によって薄ＩＩ（厚さ１．５μｍ）を形威した。

この薄嘆を６０℃で３０分間熱処理の後、上記フォトマ
スクを通して２５ａＷ／ｃ−の紫外線を５分間照射した
。紫外線照射後フォトマスクをはずし、真空乾燥機中で
９８℃、０．２ｓｎＨｇの条件で１７時間熱処理し、回
折洛子のパターンを作製した。さらにこの回折格子に１
４０’Ｃ（常圧）で２０時間の（二）工手呈の熱処理を
施した。（二）工程の熱処理した回折格子を用いて、実
施例１と同じ条件で耐有機溶剤性および耐熱性の試験を
行ったところ、回折格子の回折効率は変化しなかった。

また（二）工程の熱処理条件を１８０℃（常圧）、２時
間に変えた回折格子においても、耐有機溶剤性および耐
熱性は高かった。

実施ｔ＠Ｉｔ　ｏ　−　ｔ　７ 実施ｖＡＩ　２におけると同様の方法で、第１表に示す
重合体（Ａ）および化合物（Ｂ）か占なる感光性樹脂組
成物を作り、回折格子のパターンを作製した。

その後、３ｈＴ／ａｍ”の紫外線を２分間照射し、さら
に１２０゜Ｃ（常圧）で２４時間の（＝）工程の熱処理
ｆ−施した。各実施例において作製した回折格子を用い
て実施例１と同じ条件で、耐有機溶剤性および耐熱性の
試験を行ったところ、回折効率はいずれも変化しなかっ
た。

また、（二）工程の熱処理条件を１８０℃（常圧）２時
間に変えた回折格子のパターンにおいても、耐有機溶剤
性および耐熱性は高かった。

実施例ｌ８ 試験管にゲラニルメタクリレート３９ｇ，　２．３−エ
ボキシブロビルメタクリレート２６ｇ１メチルメタクリ
レート３８ｇ，アゾビスイソブチロニトリル９０ｍｇお
よびジオキサン３００ｇをＮｔ置換して仕込み、封管し
て５５〜６０℃のウォーターバス中で２４時間加熱し重
合した。その後、１１２のメタノール中へ反応液をあけ
、生成した重合体（Ａ）を沈澱させ、乾燥させろと４５
ｇ得られた。この重合体（　Ａ　’）の組成比をＮＭＲ
で測定すると、ゲラニルメタクリレート：２．３−エボ
キシプ口ピルメタクリレート：メチルメタクリレート＝
１：ｌ：２（モル比）の共重合体であることが確認され
た。またこのボリマーの分子量はゲルパーミエーション
クロマトグラフイー法で測定すると敗平均分子量が１９
０，０００であった。上記重合体（Ａ）　１部と、１，
３．５−トリベンゾイルベンゼン０．８部とからなる感
光性樹脂組成物をトルエンに溶解し、ガラス基板上にス
ビンコート法によってｉｌｌ［（厚さ１．５μｍ）を形
成した。この薄膜を６０℃で３０分間加熱処理の後、２
０ｕｍ周期のラインアンドスペースを有するフォトマス
クを通して２５１１１／Ｃ−の紫外線を５分間照゜射し
た。照射後フォトマスクをはずし、真空乾燥機中で９８
℃、０．２ｍａＨｇの条件で１７時間熱処理し、未反応
の化合物（Ｂ）を除去して、屈折率差と凹凸差とを有す
る回折格子のパターンを作製した。この回折格子に１８
０℃（常圧）で２時間の（＝）工程の熱処理を施した。

（二）工程の熱処理した回折格子を用いて、実施例１と
同じ条件で耐有機溶剤性および耐熱性の試験を行ったと
ころ、回折格子の回折効率は変化したかった。また、（
＝）工程の熱処理条件を１２０℃（常圧）、２４時間に
変えた回折格子を用いて同様に耐有機溶剤性および耐熱
性の試験を行ったところ、回折格子の回折効率は変化し
なかった。

実施例ｌ９〜２６、比較例Ａ−Ｃ 実施例ｌまたは実施例２と同じ組成の感光性樹脂組戒物
を用いて同様の方法で回折格子のパターンを作製した。

そして第３表に示す条件で、（二）工程の熱処理または
（二）工程の熱処理および（ネ）工程の紫外線照射を行
った。その後、この回折格子を種々の温度のメチルメタ
クリレート飽和蒸気中にｌＯＯ時間放置した。いずれの
実施例についても回折効率は変化しなかった。上記実施
例の回折格子を１８０℃（常圧）で２時間加熱したが回
折効率は変化しなかった。

さらに本発明のパターン作製法の比較例Ａ−Ｃとして、
実施例ｌまたは実施例２と同じ組戊の感光性ｌＭ脂組成
物を用いて同様の方法で回折賂子のパターンを作製し、
上記（二）工程の熱処理を施さない場合を第３表に示し
た。この回折格子を５０℃または７０℃のメチルメタク
リレート飽和蒸気中に放置したところ、ｌＯ時間後には
格子のパターンが膨潤して変形し、回折効率が変化した
。また１８０℃（常圧）で２時間加熱すると回折効率が
変化した。

なお、第ｌ表ないし第３表における部とは重量部を示す
。

［発明の効果〕 本発明によれば、感光性樹指の露光部が非露光部よりも
屈折率が高く、かつ厚みが大きい表面レリーフ構造を有
し、耐有機溶剤性および耐熱性に優れたパターンが作製
できろ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （イ）下記一般式で示される構造単位（ I ）（ I ）▲
   数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾１はシクロアルケニル基または下記一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ で示される基を表す。ここでＺ＾１は２価の炭化水素基
   を表し、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ水素原
   子、アルキル基またはアルケニル基を表す。］ を２〜１００モル％、および下記一般式で示される構造
   単位（II） （II）▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ＾２は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾２はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカル
   バモイル基を表し、構造単位（II）における水素原子は
   フッ素原子によつて置換されていてもよい。］ を０〜９８モル％有する重合体（Ａ）と、置換基を有し
   ていてもよい芳香族アルデヒドおよび芳香族ケトンから
   なる群より選ばれる化合物（Ｂ）とからなる感光性樹脂
   組成物の薄膜を形成する工程、 （ロ）薄膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線を
   照射する工程、 （ハ）薄膜から未反応の化合物（Ｂ）を除去する工程、
   および （ニ）薄膜を熱処理する工程、 からなり、必要に応じて上記（ハ）工程と（ニ）工程と
   の間に、 （ホ）薄膜の全面に紫外線を照射する工程、を設けてな
   ることを特徴とするパターン作製法。