JPS60166946A - 感光性樹脂組成物およびそれを用いる屈折率差を有するパタ−ンの作成方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物およびそれを用いる屈折率差を有するパタ−ンの作成方法Info
- Publication number
- JPS60166946A JPS60166946A JP19206283A JP19206283A JPS60166946A JP S60166946 A JPS60166946 A JP S60166946A JP 19206283 A JP19206283 A JP 19206283A JP 19206283 A JP19206283 A JP 19206283A JP S60166946 A JPS60166946 A JP S60166946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- group
- photosensitive resin
- resin composition
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性樹脂組成物およびそれを応用したパター
ンの作成方法に関するものである。
ンの作成方法に関するものである。
従来、感光性樹脂組成物としては種々の型のものが提案
されており、写真製版、集積回路、塗料等に応用され、
産業上各種方面に活用されている。
されており、写真製版、集積回路、塗料等に応用され、
産業上各種方面に活用されている。
従来知られている感光性高分子をその組成によって分類
すると、 （１） 感光性化合物＋高分子型 （２） 感光基をもつ高分子型 （３） 光重合組成型 に大きく分けられる。
すると、 （１） 感光性化合物＋高分子型 （２） 感光基をもつ高分子型 （３） 光重合組成型 に大きく分けられる。
（１１に属するものとしては、例えば、重クロム酸塩＋
高分子化合物、ジアゾまたはアジド化合物十高分子化合
物などがあり、感光性化合物が光により活性化されて高
分子化合物と反応し、光照射前と性質を異にする組成物
となることを利用するものである。
高分子化合物、ジアゾまたはアジド化合物十高分子化合
物などがあり、感光性化合物が光により活性化されて高
分子化合物と反応し、光照射前と性質を異にする組成物
となることを利用するものである。
（２）に属するものとしては例えばポリケイ皮酸ビニル
または類似化合物あるいはジアゾ基や７：）ド基を有す
る高分子等があり、光による高分子間の架橋や高分子の
崩壊を利用する。
または類似化合物あるいはジアゾ基や７：）ド基を有す
る高分子等があり、光による高分子間の架橋や高分子の
崩壊を利用する。
（３） Ｖｃｉするものとしては光重合開始剤と重合性
モノマーとの混合物の系が多く知られている〇しかし乍
ら、前記の感光性樹脂の多くは感光することによって溶
解性などの性質を変えることを主なねらいとしたもので
あり、感光により塗膜が強固になることを利用したり、
感光により感光部が難溶化あるいは易溶化する事を利用
し溶剤を用いて未感光部分あるいは感光部分を除去する
などの方法により凹凸のパターンを形成することがよく
行なわれる。
モノマーとの混合物の系が多く知られている〇しかし乍
ら、前記の感光性樹脂の多くは感光することによって溶
解性などの性質を変えることを主なねらいとしたもので
あり、感光により塗膜が強固になることを利用したり、
感光により感光部が難溶化あるいは易溶化する事を利用
し溶剤を用いて未感光部分あるいは感光部分を除去する
などの方法により凹凸のパターンを形成することがよく
行なわれる。
我々発明者は従来技術で主として利用されていた溶解性
の変化の他Ｋ、光学的性質の変化、とくに屈折率の変化
をもたらす感光性樹脂組成物を探索した結果本発明を完
成するに至ったものである。
の変化の他Ｋ、光学的性質の変化、とくに屈折率の変化
をもたらす感光性樹脂組成物を探索した結果本発明を完
成するに至ったものである。
即ち１本発明の目的は新規な感光性樹脂組成物を提供す
ることにあり、他の目的は前記の感光性樹脂組成物を用
いるパターン形成方法を提供することにある。
ることにあり、他の目的は前記の感光性樹脂組成物を用
いるパターン形成方法を提供することにある。
これ等の賭目的は本発明によれば、
（イ）（メタ）アクリル酸の３．３−ジメチルアリルエ
ステルの単独重合体または（メタ）アクリル酸の３．３
−ジメチル７リルエステルを５重量％以上含む他のビニ
ルモノマーとの共重合体であって、実質的に重合体中［
３，３−ジメチルアリル基の二重結合が残存している（
共）重合体。
ステルの単独重合体または（メタ）アクリル酸の３．３
−ジメチル７リルエステルを５重量％以上含む他のビニ
ルモノマーとの共重合体であって、実質的に重合体中［
３，３−ジメチルアリル基の二重結合が残存している（
共）重合体。
および
（ロ）非置換または置換基を有するベンズアルデヒドま
たはペンシフ−ノンの一種以上を含有する感光性樹脂組
成物。
たはペンシフ−ノンの一種以上を含有する感光性樹脂組
成物。
および（イ）（メタ）アクリル酸の３．３−ジメチル７
リルエステルの単独重合体または（メタ）アクリル酸の
３，３−ジメチルアリルエステルを５重量％以上含む他
のビニルモノマーとの共重合体であって、実質的罠重合
体中１ｃ３，３−ジメチル７リル基の二重結合が残存し
ている（共）重合体、および （ロ）非置換または置換基を有するベンズアルデヒドま
た°はべ／シフエノンの一種以上を含有する感光性樹脂
組成物からなるフィルムまたは表面が該感光性樹脂の膜
である透明性物質の特定の位置に選択的忙紫外線を照射
し、しかる後に常圧または減圧下に加熱処理して露光し
なかった部分より（ロ）の化合物を除去することを特徴
とするパターンの作成方法により達成される。
リルエステルの単独重合体または（メタ）アクリル酸の
３，３−ジメチルアリルエステルを５重量％以上含む他
のビニルモノマーとの共重合体であって、実質的罠重合
体中１ｃ３，３−ジメチル７リル基の二重結合が残存し
ている（共）重合体、および （ロ）非置換または置換基を有するベンズアルデヒドま
た°はべ／シフエノンの一種以上を含有する感光性樹脂
組成物からなるフィルムまたは表面が該感光性樹脂の膜
である透明性物質の特定の位置に選択的忙紫外線を照射
し、しかる後に常圧または減圧下に加熱処理して露光し
なかった部分より（ロ）の化合物を除去することを特徴
とするパターンの作成方法により達成される。
本発明の組成物の（イ）の（共）重合体はアクリル酸ま
たはメタクリル酸のジメチル７リルエステル（以下ブン
ニルエステルと略記する）をモノマー中に５重量％以上
含み、かつポリマー中において、プレニル基が実質上重
合に関与しておらず、実質上はとんどすべてのプレニル
基の二重結合が、残存しているようなホモポリマーまた
はコポリマーである。コモノマーとして用いられる七ツ
マ−としてはメタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸７ミル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル
酸２ヒドロキシプ ビル、メタクリル酸２−メトキシエ
チル、ツタクリル酸２リル酸ベンジル、メタクリル酸２
−ジメチル７ミノエチル、メタクリル酸２−ジエチル７
ミノエチル等のメタクリル酸エステル、アクリル酸、ア
クリル酸メチル、７クリル酸エチル、アクリル酸プμピ
ル、アクリル酸メチル、７クリル酸２−エチルヘキシル
、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル
、メタクリル酸７ミド、アクリル酸アミド、ジアセトン
アクリル７ミド、スチンン、α−メチルスチレン、ビニ
ルトルエン、７クリｐニトリル、メタクリレートリル等
がある。
たはメタクリル酸のジメチル７リルエステル（以下ブン
ニルエステルと略記する）をモノマー中に５重量％以上
含み、かつポリマー中において、プレニル基が実質上重
合に関与しておらず、実質上はとんどすべてのプレニル
基の二重結合が、残存しているようなホモポリマーまた
はコポリマーである。コモノマーとして用いられる七ツ
マ−としてはメタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸７ミル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル
酸２ヒドロキシプ ビル、メタクリル酸２−メトキシエ
チル、ツタクリル酸２リル酸ベンジル、メタクリル酸２
−ジメチル７ミノエチル、メタクリル酸２−ジエチル７
ミノエチル等のメタクリル酸エステル、アクリル酸、ア
クリル酸メチル、７クリル酸エチル、アクリル酸プμピ
ル、アクリル酸メチル、７クリル酸２−エチルヘキシル
、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル
、メタクリル酸７ミド、アクリル酸アミド、ジアセトン
アクリル７ミド、スチンン、α−メチルスチレン、ビニ
ルトルエン、７クリｐニトリル、メタクリレートリル等
がある。
コモノマーの選択にあたっては、プレニルメタクリレー
トとラジカル共重合しうるものであれば何でもよく、コ
ポリマーおよび感光後のコポリマー反応物の物性を考慮
して、所望のものを用いることができる◇プレニル（メ
タ）７クリレートが七ツマー中に５重量％以下しか含ま
れない場合圧は前述の如き、感光性化合物との反応紀よ
る物性変化が顕著でないので、本発明の目的は達せられ
ない。このようなプレニル基の二重結合を残したコポリ
マーの合成は通常のラジカル重合により容易に合成しう
る。これはプレニル基のラジカル重合性がきわめて低い
事による。但し、プレニル基の二重結合に隣接したメチ
ル基またはメチレン基上の水素はラジカルにより引き抜
かれやすいので、これらの位置への連鎖移動反応が起り
、元のプレニル基の構造が変化することがあるが、その
ような反応に由来するプレニル基の損失はさしつかえな
い。本発明において、実質的に３．３−ジメチルアリル
基の二重結合が残存しているという意味は二重結合を残
しており、重合反応あるいは架橋反応等により、不飽和
結合が、飽和結合に変化していないということであり、
また仮にわずがな部分が重合あるいは架橋によって失な
われているとしても、大部分のものが残存していて、物
性上大巾な差異を生じていなければさしつかえない。
トとラジカル共重合しうるものであれば何でもよく、コ
ポリマーおよび感光後のコポリマー反応物の物性を考慮
して、所望のものを用いることができる◇プレニル（メ
タ）７クリレートが七ツマー中に５重量％以下しか含ま
れない場合圧は前述の如き、感光性化合物との反応紀よ
る物性変化が顕著でないので、本発明の目的は達せられ
ない。このようなプレニル基の二重結合を残したコポリ
マーの合成は通常のラジカル重合により容易に合成しう
る。これはプレニル基のラジカル重合性がきわめて低い
事による。但し、プレニル基の二重結合に隣接したメチ
ル基またはメチレン基上の水素はラジカルにより引き抜
かれやすいので、これらの位置への連鎖移動反応が起り
、元のプレニル基の構造が変化することがあるが、その
ような反応に由来するプレニル基の損失はさしつかえな
い。本発明において、実質的に３．３−ジメチルアリル
基の二重結合が残存しているという意味は二重結合を残
しており、重合反応あるいは架橋反応等により、不飽和
結合が、飽和結合に変化していないということであり、
また仮にわずがな部分が重合あるいは架橋によって失な
われているとしても、大部分のものが残存していて、物
性上大巾な差異を生じていなければさしつかえない。
本発明の感光性樹脂組成物の（ロ）の成分に用いられる
感光性化合物は置換または非置換のベンズアルデヒドま
たはベンゾフェノンである。
感光性化合物は置換または非置換のベンズアルデヒドま
たはベンゾフェノンである。
例えばベンゾ７−ノン、２＞ −１または４−クールベ
ンゾフェノン、２−、ａ−または４−ブロムベンゾフェ
ノン、４．４’−ジクロルベンゾフェノン、２．４−ま
たは３．４−ジクロルベンゾフェノン、４−メチルベン
ゾフェノン、４−エチルベンゾフェノン、４−プロピル
ベンゾフェノン、４− ｔ ７’チルベンゾフエノン、
４−シフμへキシルベンゾフェノン、４−トリフルオｐ
メチルベンゾ７＆ノン、４．４’−ジメチルベンゾフェ
ノン、４−ノドキシベンゾフェノン、３．４−ジメトキ
シベンゾフェノン、３，４．５−トリメトキシベンゾフ
ェノ二／、３，４．５− ）ジメトキシ３′−クロルベ
ンゾフエノン等のベンゾフェノン類、ベンズアルデヒド
。
ンゾフェノン、２−、ａ−または４−ブロムベンゾフェ
ノン、４．４’−ジクロルベンゾフェノン、２．４−ま
たは３．４−ジクロルベンゾフェノン、４−メチルベン
ゾフェノン、４−エチルベンゾフェノン、４−プロピル
ベンゾフェノン、４− ｔ ７’チルベンゾフエノン、
４−シフμへキシルベンゾフェノン、４−トリフルオｐ
メチルベンゾ７＆ノン、４．４’−ジメチルベンゾフェ
ノン、４−ノドキシベンゾフェノン、３．４−ジメトキ
シベンゾフェノン、３，４．５−トリメトキシベンゾフ
ェノ二／、３，４．５− ）ジメトキシ３′−クロルベ
ンゾフエノン等のベンゾフェノン類、ベンズアルデヒド
。
２−１３−または４−クロルベンズアルデヒド。
２．４−＞３．４−または３．５−ジクロルベンズアル
デヒド、２−シ３−または４−ブームベンズアルデヒド
、４−メチルベンズアルデヒド、４−ｔ−ブチルベンズ
アルデヒド、４−シクロヘキシルベンズアルデヒド、２
−７３−また番ま４−メトキシベンズアルデヒド、３，
４−ジメトキシベンズフルデヒド＋、 ３，４．５−
）リメトキシベンズアルデヒド、４−トリフルオロメチ
ルベンズアルデヒド、３−フェノキシベンズアルデヒド
、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−シアノベンズ
アルデヒド等のベンズアルデヒド類、フタルアルデヒド
、イソフタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、４．
５−ジメチルフタルアルデヒド、４，５−ジクロルフタ
ルアルデヒド等の７タルアルデヒド類、３−ベンゾイル
ベンゾフェノン、４−ベンゾイルベンゾフェノン、４−
クロル４′−ベンゾイルベンゾフェノン等のベンゾイル
ベンゾフェノン類が用いうる。
デヒド、２−シ３−または４−ブームベンズアルデヒド
、４−メチルベンズアルデヒド、４−ｔ−ブチルベンズ
アルデヒド、４−シクロヘキシルベンズアルデヒド、２
−７３−また番ま４−メトキシベンズアルデヒド、３，
４−ジメトキシベンズフルデヒド＋、 ３，４．５−
）リメトキシベンズアルデヒド、４−トリフルオロメチ
ルベンズアルデヒド、３−フェノキシベンズアルデヒド
、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−シアノベンズ
アルデヒド等のベンズアルデヒド類、フタルアルデヒド
、イソフタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、４．
５−ジメチルフタルアルデヒド、４，５−ジクロルフタ
ルアルデヒド等の７タルアルデヒド類、３−ベンゾイル
ベンゾフェノン、４−ベンゾイルベンゾフェノン、４−
クロル４′−ベンゾイルベンゾフェノン等のベンゾイル
ベンゾフェノン類が用いうる。
これらのベンズアルデヒドまたはベンシフ−ノン類のう
ちでも下記一般式（Ｉ）〜（■）（ＩＩ） ＣＮ） （但し式（１） 〜（ＩＶ） ＫおいてＸ１〜Ｘ６は水
素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコ
キシ基、アリルオキシ基、炭素数１〜６のハロアルキル
基またはハロゲン元素を表わし、（Ｉ）においてＸｌま
たはＸ２が水素以外の基である場合にはそのＸとＣＨＯ
基が隣接しない位置にあるものとする）で表わされるよ
うなアルデヒド基またはケトン基の隣接位置にＨ、アル
デヒドまたはケトン基以外の基を有しない化合物は比較
的感光性が高く有利である。中でもこれらの化合物群の
中で最も単純な化春物であるベンズアルデヒドおよびベ
ンゾフェンは入手の容易さ、精製のしやすさ、感光性等
の種々の観点からみて好ましい化合物である。
ちでも下記一般式（Ｉ）〜（■）（ＩＩ） ＣＮ） （但し式（１） 〜（ＩＶ） ＫおいてＸ１〜Ｘ６は水
素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコ
キシ基、アリルオキシ基、炭素数１〜６のハロアルキル
基またはハロゲン元素を表わし、（Ｉ）においてＸｌま
たはＸ２が水素以外の基である場合にはそのＸとＣＨＯ
基が隣接しない位置にあるものとする）で表わされるよ
うなアルデヒド基またはケトン基の隣接位置にＨ、アル
デヒドまたはケトン基以外の基を有しない化合物は比較
的感光性が高く有利である。中でもこれらの化合物群の
中で最も単純な化春物であるベンズアルデヒドおよびベ
ンゾフェンは入手の容易さ、精製のしやすさ、感光性等
の種々の観点からみて好ましい化合物である。
本発明の組成物は前述の成分（イ）と成分（ロ）の組み
あわせからなる感光性樹脂組成物であり、この組成物に
紫外線を照射することにより、高分子化合物と感光性化
合物とが反応により結合することにより、露光前と性質
が変化するものと推定される。
あわせからなる感光性樹脂組成物であり、この組成物に
紫外線を照射することにより、高分子化合物と感光性化
合物とが反応により結合することにより、露光前と性質
が変化するものと推定される。
本発明における感光性化合物と高分子化合物の光化学反
応圧ついては明確ではないがペンシフ−ノンに例をとっ
て説明すると 七 の如く、芳香族ケトンまたはアルデヒドと高分子化合物
中の、プレニル基との、１：１の環化反応が光によって
起るのが主たる反応であると推定される。芳香族ケトン
またはアルデヒドとプレニル基に由来する二重結合との
割合は１：１を中心として１対３ないし３対１が適当な
範囲である０感光性化合物があまり多すぎても無法であ
り、また少なすぎると効果が少ない。
応圧ついては明確ではないがペンシフ−ノンに例をとっ
て説明すると 七 の如く、芳香族ケトンまたはアルデヒドと高分子化合物
中の、プレニル基との、１：１の環化反応が光によって
起るのが主たる反応であると推定される。芳香族ケトン
またはアルデヒドとプレニル基に由来する二重結合との
割合は１：１を中心として１対３ないし３対１が適当な
範囲である０感光性化合物があまり多すぎても無法であ
り、また少なすぎると効果が少ない。
組成物は例えば感光性化合物および高分子化合物を溶解
する溶媒に両者を溶解し、溶媒を除去すること罠より得
られる・例えば溶液を塗布して乾燥すれば、本発明の組
成物の塗膜が得られる。
する溶媒に両者を溶解し、溶媒を除去すること罠より得
られる・例えば溶液を塗布して乾燥すれば、本発明の組
成物の塗膜が得られる。
本発明の組成物の露光には紫外線、殊に波長が３００
ｎｍないし４００ ｎｍの紫外線が有効であり、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、Ｎ２ガスレーザー等が適宜用いら
れる。
ｎｍないし４００ ｎｍの紫外線が有効であり、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、Ｎ２ガスレーザー等が適宜用いら
れる。
本発明はさらに光学的用途に有用な素子の製造法を提供
する。従来感光性樹脂が種々開発されてきているが前述
の如くその多くは感光によって溶解性等の性質を変える
事を主たるねらいとしている。本発明はこのような性格
をも有しているが、大きな特徴はその光学的な性質であ
り、特に屈折率差を有するパターンの作成が容易にでき
る事にある。このような屈折率変化をねらいとした方法
として例えば高（または低）屈折率ポリマー中に低（ま
たは高）屈折率モノマーを光増感剤と弁圧混合しておき
、低（または高）屈折重上ツマ−を光増感重合した後に
未反応上ツマ−を除去する方法があるが、この方法は一
般にはポリマー間の相溶性が悪く、相分離、白化等を起
しやすいので光学的用途に用いるには問題がある。本発
明の方法は相溶性等の問題が少なく、容易に透明なフィ
ルム等を作成することができる方法である。
する。従来感光性樹脂が種々開発されてきているが前述
の如くその多くは感光によって溶解性等の性質を変える
事を主たるねらいとしている。本発明はこのような性格
をも有しているが、大きな特徴はその光学的な性質であ
り、特に屈折率差を有するパターンの作成が容易にでき
る事にある。このような屈折率変化をねらいとした方法
として例えば高（または低）屈折率ポリマー中に低（ま
たは高）屈折率モノマーを光増感剤と弁圧混合しておき
、低（または高）屈折重上ツマ−を光増感重合した後に
未反応上ツマ−を除去する方法があるが、この方法は一
般にはポリマー間の相溶性が悪く、相分離、白化等を起
しやすいので光学的用途に用いるには問題がある。本発
明の方法は相溶性等の問題が少なく、容易に透明なフィ
ルム等を作成することができる方法である。
本発明は前述の感光性樹脂組成物のフィルムまたは表面
が該感光性樹脂組成物の膜であるような物体に所望の形
状に紫外線を照射し、しかる後に該フィルムまたは物体
を加熱して紫外線の照射されなかった部分に存在する未
反応の゛感光性化合物を除去することにより所望の形状
の屈折率の異なるパターンを作成する方法である。
が該感光性樹脂組成物の膜であるような物体に所望の形
状に紫外線を照射し、しかる後に該フィルムまたは物体
を加熱して紫外線の照射されなかった部分に存在する未
反応の゛感光性化合物を除去することにより所望の形状
の屈折率の異なるパターンを作成する方法である。
本発明の感光性樹脂組成物は紫外線の照射により各種溶
剤に対する溶解性、あるいは色等に変化を生ずるのでそ
れらを利用する用途も可能であるが、屈折率の変化を利
用する事は特に有用な応用である。但し、ただ単に紫外
線を照射するのみではあまり大きな屈折率の変化を達成
することはできない。本発明者らは未反応の感光性化合
物を膜から除去するための方法について種々検討した結
果、常圧または減圧下に加熱する事により、膜の透明性
を損なう事なく未反応の感光性樹脂化合物を除去しうる
事および、フィルムの耐溶剤性等の性質が改善されるこ
とを見だした。加熱処理条件は除去すべき感光性化合物
の物性および感光性化合物の濃度、フィルムの膜厚、フ
ィルムの耐熱性等を考慮してきめられ、一般的な表現は
困難であるが、例えばベンゾフェノンを４０ ＰＩ（Ｒ
含む膜厚１００μｍのフィルムを処理するのＶｃＮ２雰
囲気で常圧下１００℃で２時間加熱し、さらに１００’
Ｃで３ｒｒＬｍＨｇまで減圧にして４時間放置すること
により、十分に未反応の感光性化合物が除去された。紫
外線の照射は高圧水銀灯、超高圧水銀灯あるいはＮ２−
レーザー等の紫外線レーザーを用いる事によって行なえ
る。この際マスクとしてレンズ状、プリズム状あるいは
回路状のパターンを有するものを用いればそれぞれの形
状の屈折率差を有するパターンが作成される。中でも所
望の線状のパターンを有するマスクを用いることにより
、近年著しい進展をみせている光通信用の各種素子の作
成九有用な素材となる。本発明の方法を用いれば光の伝
搬に対して有害な相分離等が起りにくいので、光の伝送
損失が少なくなる。この際共重合体としてプレニルメタ
クリレートとＭＭＡの共重合体の如く比較的屈折率の低
いものを用い、感光性化合物としてベンゾフェノン等の
比較的屈折率の高い化合物を用いた場合、感光部分が未
感光部分よりも屈折率の高いパターンが得られ、逆圧共
重合体としてプレニルメタクリレートとスチレンの共重
合体の如く比較的屈折率の高いものを用し・、感光性化
合物として４−トリフルオロメチルベンズアルデヒドの
如く比較的屈折率の低い化合物を用いた場合、感光部分
が未感光部分よりも屈折率の低いパターンが得られる。
剤に対する溶解性、あるいは色等に変化を生ずるのでそ
れらを利用する用途も可能であるが、屈折率の変化を利
用する事は特に有用な応用である。但し、ただ単に紫外
線を照射するのみではあまり大きな屈折率の変化を達成
することはできない。本発明者らは未反応の感光性化合
物を膜から除去するための方法について種々検討した結
果、常圧または減圧下に加熱する事により、膜の透明性
を損なう事なく未反応の感光性樹脂化合物を除去しうる
事および、フィルムの耐溶剤性等の性質が改善されるこ
とを見だした。加熱処理条件は除去すべき感光性化合物
の物性および感光性化合物の濃度、フィルムの膜厚、フ
ィルムの耐熱性等を考慮してきめられ、一般的な表現は
困難であるが、例えばベンゾフェノンを４０ ＰＩ（Ｒ
含む膜厚１００μｍのフィルムを処理するのＶｃＮ２雰
囲気で常圧下１００℃で２時間加熱し、さらに１００’
Ｃで３ｒｒＬｍＨｇまで減圧にして４時間放置すること
により、十分に未反応の感光性化合物が除去された。紫
外線の照射は高圧水銀灯、超高圧水銀灯あるいはＮ２−
レーザー等の紫外線レーザーを用いる事によって行なえ
る。この際マスクとしてレンズ状、プリズム状あるいは
回路状のパターンを有するものを用いればそれぞれの形
状の屈折率差を有するパターンが作成される。中でも所
望の線状のパターンを有するマスクを用いることにより
、近年著しい進展をみせている光通信用の各種素子の作
成九有用な素材となる。本発明の方法を用いれば光の伝
搬に対して有害な相分離等が起りにくいので、光の伝送
損失が少なくなる。この際共重合体としてプレニルメタ
クリレートとＭＭＡの共重合体の如く比較的屈折率の低
いものを用い、感光性化合物としてベンゾフェノン等の
比較的屈折率の高い化合物を用いた場合、感光部分が未
感光部分よりも屈折率の高いパターンが得られ、逆圧共
重合体としてプレニルメタクリレートとスチレンの共重
合体の如く比較的屈折率の高いものを用し・、感光性化
合物として４−トリフルオロメチルベンズアルデヒドの
如く比較的屈折率の低い化合物を用いた場合、感光部分
が未感光部分よりも屈折率の低いパターンが得られる。
合成例１゜
試験管にメチルメタクリレート５ｇ、プレニルメタクリ
レート１０ｇ、７ゾビスイソブチロニトリル１５１１ｇ
およびジオキサン４５ｇを仕込み試験管内をＮ２で置換
した後封管して５８℃のオイルバス中で２３時間加熱し
た。反応後の七ツマー残存率がガスクｐにて測定して各
モノマー変化率をめたところ、ＭＭＡの変化率は４７．
１％プレニルメタクリレートの変化率は５３．５チであ
り、はぼ同程度の重合反応性を示していた。重合反応終
了後の状態は均一であり、不溶分の析出は認められなか
った。このポリマー溶液に７七トン１２０＋／を添加し
、さらにこの７七トン添加液を２５０ｍ／のメタノール
中に攪拌しながら除々に滴下して、ポリマーを沈殿させ
た。乾燥後固体状ポリマーが８、 ＯＦ ｍられた。こ
のポリマーの赤外線スペクトルは１６８０７ｍ−’にプ
レニル基のＣ＝ｃ伸縮振動に基くと推定される吸収を示
し、このポリマーが溶媒可溶性であることとあわせ、プ
レニル基は実質的に架橋反応に消費されることなくポリ
マー中に残存していることが推定される。このポリマー
をクロルホルムに溶解し、極限粘度を測定したところ〔
η） ＝ ０．５８３５であった。
レート１０ｇ、７ゾビスイソブチロニトリル１５１１ｇ
およびジオキサン４５ｇを仕込み試験管内をＮ２で置換
した後封管して５８℃のオイルバス中で２３時間加熱し
た。反応後の七ツマー残存率がガスクｐにて測定して各
モノマー変化率をめたところ、ＭＭＡの変化率は４７．
１％プレニルメタクリレートの変化率は５３．５チであ
り、はぼ同程度の重合反応性を示していた。重合反応終
了後の状態は均一であり、不溶分の析出は認められなか
った。このポリマー溶液に７七トン１２０＋／を添加し
、さらにこの７七トン添加液を２５０ｍ／のメタノール
中に攪拌しながら除々に滴下して、ポリマーを沈殿させ
た。乾燥後固体状ポリマーが８、 ＯＦ ｍられた。こ
のポリマーの赤外線スペクトルは１６８０７ｍ−’にプ
レニル基のＣ＝ｃ伸縮振動に基くと推定される吸収を示
し、このポリマーが溶媒可溶性であることとあわせ、プ
レニル基は実質的に架橋反応に消費されることなくポリ
マー中に残存していることが推定される。このポリマー
をクロルホルムに溶解し、極限粘度を測定したところ〔
η） ＝ ０．５８３５であった。
合成例２゜
試験管にプレニルメタクリレート５ｇ、２．２．３゜３
−テトラフルオｐプｐピルメタクリンート５ｇ、アゾビ
スインブチロニトリルＬＯ１ｎ９およびジオキサン２４
．ｌｉ＋を仕込みＮ２置換しセ・封管し７０ ’Ｃで２
２時間重合した。各モノマーのポリマーへの転化車はプ
レニルメタクリレート９０．３チ、２．２．３．３−テ
トラフルオロプルピルメタクリｖ−）９６．４チであっ
た。
−テトラフルオｐプｐピルメタクリンート５ｇ、アゾビ
スインブチロニトリルＬＯ１ｎ９およびジオキサン２４
．ｌｉ＋を仕込みＮ２置換しセ・封管し７０ ’Ｃで２
２時間重合した。各モノマーのポリマーへの転化車はプ
レニルメタクリレート９０．３チ、２．２．３．３−テ
トラフルオロプルピルメタクリｖ−）９６．４チであっ
た。
以下に配合組成物の例をあげ、併せて組成物の感光性を
示すデータを示す。
示すデータを示す。
実施例１゜
合成例１のポリマー５１！９を１５．９のジオキサンに
溶解して均一な溶液を得た。この溶液２ｇにベンゾフェ
ノン０．２１６ｇを溶解して、感光性樹脂組成物の溶液
を得た。この溶液を水平に保った平滑なガラス上に塗布
し、室温で乾燥した。−夜乾燥後厚さ約１００μｍの塗
膜がガラス板上に形成されていた。この塗膜の一部を紫
外線をとおさないフィルムでおおい、９素雰囲気で１０
０Ｗの高圧水＃ｆｆ１（発光長５儂）より４工はなして
おいて紫外線を照射した。６時間の照射の後、おおいを
とり、Ｎ２パージした真空乾燥器に入れ、１００℃で１
時間保ち、さらに１００℃３ ｆｆｌｍＨｇで４時間保
持した。放冷してからとりだし、フィルムをガラス板よ
りはがし一７ツペ屈折計にて屈折率を測定したところ、
紫外線を通さないフィルムでおおった部分の屈折率は１
．５０６２であったのに対し、紫外線を照射した部分の
屈折率は１．５３４４でありだ。これは紫外線を照射し
ない部分では減圧加熱時にベンゾフェノンがフィルム内
から昇華によってフィルム外へ追い出されるのに対し、
紫外線を照射した部分ではベンゾフェノンは光反応によ
って高分子化合物と結合したために、フィルム内に残さ
れるためであると考えられる。したがって、照射部分と
未照射部分の屈折率を比較することにより、感光性の比
較の目安を得ることができる。
溶解して均一な溶液を得た。この溶液２ｇにベンゾフェ
ノン０．２１６ｇを溶解して、感光性樹脂組成物の溶液
を得た。この溶液を水平に保った平滑なガラス上に塗布
し、室温で乾燥した。−夜乾燥後厚さ約１００μｍの塗
膜がガラス板上に形成されていた。この塗膜の一部を紫
外線をとおさないフィルムでおおい、９素雰囲気で１０
０Ｗの高圧水＃ｆｆ１（発光長５儂）より４工はなして
おいて紫外線を照射した。６時間の照射の後、おおいを
とり、Ｎ２パージした真空乾燥器に入れ、１００℃で１
時間保ち、さらに１００℃３ ｆｆｌｍＨｇで４時間保
持した。放冷してからとりだし、フィルムをガラス板よ
りはがし一７ツペ屈折計にて屈折率を測定したところ、
紫外線を通さないフィルムでおおった部分の屈折率は１
．５０６２であったのに対し、紫外線を照射した部分の
屈折率は１．５３４４でありだ。これは紫外線を照射し
ない部分では減圧加熱時にベンゾフェノンがフィルム内
から昇華によってフィルム外へ追い出されるのに対し、
紫外線を照射した部分ではベンゾフェノンは光反応によ
って高分子化合物と結合したために、フィルム内に残さ
れるためであると考えられる。したがって、照射部分と
未照射部分の屈折率を比較することにより、感光性の比
較の目安を得ることができる。
実施例２−１８
実施例１におけるベンゾフェノンの替りに各種の感光性
化合物を用いて実施例と同様のテストを行なりた０露光
した部分と露光したかりた部分の加熱後の屈折率を表ｉ
ｃ示す。
化合物を用いて実施例と同様のテストを行なりた０露光
した部分と露光したかりた部分の加熱後の屈折率を表ｉ
ｃ示す。
実施例３０
実施例１において露光後、膜を７七トンとエタノールの
混合液に浸漬したところ未露光部は膜が溶解したが、露
光部は溶解しなかった。
混合液に浸漬したところ未露光部は膜が溶解したが、露
光部は溶解しなかった。
実施例３１
実施例１の方法でガラス板上に形成された１００μｍの
厚さの感光性樹脂フィルムの上に第１図に示す巾１００
μｍの直線部と曲率半径１ｃＩｎの曲線部からなるパタ
ーンを有するり′ロムメッキのパターンマスクをおき、
高圧水銀灯で紫外線を照射した。
厚さの感光性樹脂フィルムの上に第１図に示す巾１００
μｍの直線部と曲率半径１ｃＩｎの曲線部からなるパタ
ーンを有するり′ロムメッキのパターンマスクをおき、
高圧水銀灯で紫外線を照射した。
照射終了後、ガラスとフィルムを（つつけたまま減圧乾
燥器に入れ、１００℃常圧で１時間、１００’ｃ ３７
ｒＬｍ）Ｉｇで４時間乾燥した。乾燥後のフィルムをガ
ラスよりはがしてパターンの端面よりレンズでしぼった
ヘリウム−ネオンレーザ−の光を照射したところ、光が
パターンの形にそって曲がる様子が観測された。またパ
ターンの一端（図−１の（ａｌ）の端面より導入した光
を直線部の他端（Ｂ）および直線部を切断して得た端面
（ｂ′）、（ｂ′）等で検知することにより導波路内の
光の減衰を測定したところ波長８００ ｎｍにおいて０
．２ｄＢ／ｃｒＩＬであった。
燥器に入れ、１００℃常圧で１時間、１００’ｃ ３７
ｒＬｍ）Ｉｇで４時間乾燥した。乾燥後のフィルムをガ
ラスよりはがしてパターンの端面よりレンズでしぼった
ヘリウム−ネオンレーザ−の光を照射したところ、光が
パターンの形にそって曲がる様子が観測された。またパ
ターンの一端（図−１の（ａｌ）の端面より導入した光
を直線部の他端（Ｂ）および直線部を切断して得た端面
（ｂ′）、（ｂ′）等で検知することにより導波路内の
光の減衰を測定したところ波長８００ ｎｍにおいて０
．２ｄＢ／ｃｒＩＬであった。
実施例３２
実施例３１と同様の操作で第２図の如き分岐回路のパタ
ーンを作成したところ、（ｃｌから入射した光が（ｄｉ
、（ｅｌより出てくるのが観測された。
ーンを作成したところ、（ｃｌから入射した光が（ｄｉ
、（ｅｌより出てくるのが観測された。
第１図はパターンマスクの説明図であり、第２図はこの
発明の一実施態様の分岐回路のパターンの説明図である
。 特許出願人 協和ガス化学工業株式会社 第１図 第２図
発明の一実施態様の分岐回路のパターンの説明図である
。 特許出願人 協和ガス化学工業株式会社 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） （イ）（メタ）アクリル酸の３，３−ジメチル
７＃リルエステルの単独重合体または（メタ）アクリル
酸の３．３−ジメチル７＃リルエステルを５重４１％以
上含む他のビニルモノマーとの共重合体であって、実質
的に重合体中に３．３−ジメチル７リル基の二重結合が
残存している（共）重合体、および （ロ）非置換または置換基を有するベンズアルデヒドま
たはベンゾフェノンの一種以上を含有する感光性樹脂組
成物。 ＋２１ ＋０１の化合物が下記一般式（Ｉ）ないしくＩ
Ｉ／）で表わされる化合物の少くとも一種である特許請
求の範囲第１項に記載の感光性樹脂組成物。 （但し式（Ｉ）〜（ｆｆ）においてＸ１〜Ｘ６は水素、
炭素数１〜６のフルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ
基、７リルオキシ基、炭素数１〜６のへロフルキル基ま
たはハｐゲン元素を表わし、（１）においてＸ工または
Ｘ２が水素以外の基である場合にはそのＸとＣＨＯ基が
隣接しない位置にあるものとする。） （３）１口）の化合物がベンズアルデヒドまたはベンゾ
フェノンである特許請求の範囲第１項または第２項に記
載の感光性樹脂組成物。 （４） （イ）の（共）重合体が３，３−ジメチル７リ
ルメタクリレートとメチルメタクリレートの（共）重合
体である特許請求の範囲第１項ないし第３項に記載の感
光性樹脂組成物。 （５） （イ）（メタ）アクリル酸の３・３−ジメチル
アリルエステルの単独重合体または（メタ）アクリル酸
ｆ） ３．３−ジメチル７リルエステルをｓ重ｆｔ％以
上含む他のビニルモノマーとの共重合体であって、実質
的に重合体中に３．３−ジメチルアリル基の二重結合が
残存している（共）重合体、および （ロ）非置換または置換基を有するベンズアルデヒドま
たはベンゾフェノンの一種以上を含有する感光性樹脂組
成物からなるフィルムまたは表面が該感光性樹脂の膜で
ある透明性物質の特定の位置に選択的に紫外線を照射し
、しかる後に常圧または減圧下に加熱処理して露光しな
かった部分より（ロ）の化合物を除去することを特徴と
するパターンの作成方法。 （６） パターンが膜状光導波路である特許請求の範囲
第５項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19206283A JPS60166946A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 感光性樹脂組成物およびそれを用いる屈折率差を有するパタ−ンの作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19206283A JPS60166946A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 感光性樹脂組成物およびそれを用いる屈折率差を有するパタ−ンの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60166946A true JPS60166946A (ja) | 1985-08-30 |
| JPH0371705B2 JPH0371705B2 (ja) | 1991-11-14 |
Family
ID=16284984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19206283A Granted JPS60166946A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 感光性樹脂組成物およびそれを用いる屈折率差を有するパタ−ンの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60166946A (ja) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6295526A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-05-02 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびそれを用いたパタ−ンの作製法 |
| JPS62174703A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-07-31 | Kuraray Co Ltd | 形態屈折率双変調型位相格子の作製方法 |
| JPS63218906A (ja) * | 1987-03-07 | 1988-09-12 | Kuraray Co Ltd | 形態屈折率双変調型導波路レンズ |
| JPS649448A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Kuraray Co | Pattern forming process |
| JPS649447A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Kuraray Co | Pattern forming process |
| JPH01302307A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 屈折率差のあるパターン作成方法及びそれに供するパターン転写体と像形成体 |
| JPH031145A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-07 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
| JPH0315070A (ja) * | 1989-03-08 | 1991-01-23 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
| US5161042A (en) * | 1990-06-28 | 1992-11-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color liquid crystal display device using dichroic mirrors for focusing different colors in different directions |
| WO2008138732A1 (en) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2402315A1 (en) | 2007-05-11 | 2012-01-04 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2012045736A1 (en) | 2010-10-05 | 2012-04-12 | Basf Se | Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions |
| WO2013083505A1 (en) | 2011-12-07 | 2013-06-13 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2013167515A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2015004565A1 (en) | 2013-07-08 | 2015-01-15 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2015036910A1 (en) | 2013-09-10 | 2015-03-19 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9051397B2 (en) | 2010-10-05 | 2015-06-09 | Basf Se | Oxime ester |
| WO2020152120A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-30 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore |
| WO2021175855A1 (en) | 2020-03-04 | 2021-09-10 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2026057274A1 (en) | 2024-09-13 | 2026-03-19 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
-
1983
- 1983-10-14 JP JP19206283A patent/JPS60166946A/ja active Granted
Cited By (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6295526A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-05-02 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびそれを用いたパタ−ンの作製法 |
| JPS62174703A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-07-31 | Kuraray Co Ltd | 形態屈折率双変調型位相格子の作製方法 |
| JPS63218906A (ja) * | 1987-03-07 | 1988-09-12 | Kuraray Co Ltd | 形態屈折率双変調型導波路レンズ |
| JPS649448A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Kuraray Co | Pattern forming process |
| JPS649447A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Kuraray Co | Pattern forming process |
| JPH01302307A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 屈折率差のあるパターン作成方法及びそれに供するパターン転写体と像形成体 |
| JPH0315070A (ja) * | 1989-03-08 | 1991-01-23 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
| JPH031145A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-07 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
| US5161042A (en) * | 1990-06-28 | 1992-11-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color liquid crystal display device using dichroic mirrors for focusing different colors in different directions |
| WO2008138732A1 (en) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2402315A1 (en) | 2007-05-11 | 2012-01-04 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9051397B2 (en) | 2010-10-05 | 2015-06-09 | Basf Se | Oxime ester |
| WO2012045736A1 (en) | 2010-10-05 | 2012-04-12 | Basf Se | Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions |
| WO2013083505A1 (en) | 2011-12-07 | 2013-06-13 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9365515B2 (en) | 2011-12-07 | 2016-06-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2963014A1 (en) | 2012-05-09 | 2016-01-06 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US11209734B2 (en) | 2012-05-09 | 2021-12-28 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2963015A1 (en) | 2012-05-09 | 2016-01-06 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US11204554B2 (en) | 2012-05-09 | 2021-12-21 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2963016A1 (en) | 2012-05-09 | 2016-01-06 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9864273B2 (en) | 2012-05-09 | 2018-01-09 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2013167515A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP3354641A1 (en) | 2012-05-09 | 2018-08-01 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US10488756B2 (en) | 2012-05-09 | 2019-11-26 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US11209733B2 (en) | 2012-05-09 | 2021-12-28 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2015004565A1 (en) | 2013-07-08 | 2015-01-15 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9957258B2 (en) | 2013-09-10 | 2018-05-01 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US10793555B2 (en) | 2013-09-10 | 2020-10-06 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2015036910A1 (en) | 2013-09-10 | 2015-03-19 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2020152120A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-30 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore |
| WO2021175855A1 (en) | 2020-03-04 | 2021-09-10 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2026057274A1 (en) | 2024-09-13 | 2026-03-19 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0371705B2 (ja) | 1991-11-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0371705B2 (ja) | ||
| JP4791433B2 (ja) | 反射防止膜用組成物、反射防止膜の製造方法、および半導体素子の製造方法 | |
| JP2004046217A5 (ja) | ||
| TWI311567B (en) | Cross-linking polymer for organic anti-reflective coating, organic anti-reflective coating composition comprising the same and method for forming photoresist pattern using the same | |
| US2892716A (en) | Photopolymerizable composition comprising an unsaturated vinyl polymer and a sheet support coated therewith | |
| JPH07281426A (ja) | 屈折率変調画像形成用感光性樹脂組成物 | |
| WO2005033153A1 (ja) | 光屈折率変調重合体、光屈折率変調重合体組成物および屈折率制御方法 | |
| JPH0551894B2 (ja) | ||
| JP4276359B2 (ja) | 有機反射防止重合体を含む反射防止膜用組成物およびそれを用いた反射防止膜の製造方法ならびに反射防止膜用組成物を含む半導体素子 | |
| CN1942508B (zh) | 调整光学折射率的聚合物组合物、全息图记录材料以及控制折射率的方法 | |
| JP2002311588A5 (ja) | ||
| JPS58192035A (ja) | ネガテイブ型レジストとして有用な重合体組成物の製造方法 | |
| Blomquist et al. | Fluorinated acrylates in making low-loss, low-birefringence, and single-mode optical waveguides with exceptional thermo-optic properties | |
| JPH0315070A (ja) | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 | |
| JPS6295526A (ja) | 感光性樹脂組成物およびそれを用いたパタ−ンの作製法 | |
| JP2002318319A (ja) | 屈折率分布を有するフィルムの製造法 | |
| JP2721572B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 | |
| JP3221117B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JPS60112035A (ja) | 感光性ソルダ−レジスト | |
| JPH0442411B2 (ja) | ||
| JPH0153772B2 (ja) | ||
| JP2931436B2 (ja) | パターン作製法 | |
| JPH0348202A (ja) | パターン作製法 | |
| JPH031145A (ja) | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 | |
| JPH03113449A (ja) | 感可視光樹脂組成物 |