JPH0349095B2 - - Google Patents
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- JPH0349095B2 JPH0349095B2 JP58006744A JP674483A JPH0349095B2 JP H0349095 B2 JPH0349095 B2 JP H0349095B2 JP 58006744 A JP58006744 A JP 58006744A JP 674483 A JP674483 A JP 674483A JP H0349095 B2 JPH0349095 B2 JP H0349095B2
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- Japan
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- photopolymerizable
- composition
- photopolymer
- elastomeric
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0955—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はオーバーコート層を有する光重合体エ
レメントの製造法に関する。より特別には本発明
は光重合性であるオーバーコートを付した光重合
性エレメントの製造法に関する。
レメントの製造法に関する。より特別には本発明
は光重合性であるオーバーコートを付した光重合
性エレメントの製造法に関する。
フレキソグラフ印刷用プレートは特に軟質のそ
して容易に変形可能な表面例えば包装用材料例え
ば厚紙、プラスチツクフイルムその他の上の凸版
印刷における使用に対して周知である。ゴムプレ
ートはフレキソグラフ印刷に対して広く使用され
ている。しかしながらそのようなプレートは通常
アートワーク、写真陰画、写真凸版、フエノール
性マトリツクスの形成およびゴムプレートの熱プ
レス成型を含む面倒な操作により製造されるが故
に不利である。弾性表面を有するフレキソグラフ
印刷エレメントは米国特許第4323637号明細書記
載の弾性体状光重合体組成物から製造することが
できる。そのような光重合体エレメントは光重合
体層のカバーシートと表面との間に挿入した可撓
性重合体フイルムを有している。活性線放射に像
様露光させた際、光重合体層の不溶化が露光部分
に生ずる。適当な溶媒による処理は重合体フイル
ムおよび未露光部分を除去して印刷レリーフを残
す。
して容易に変形可能な表面例えば包装用材料例え
ば厚紙、プラスチツクフイルムその他の上の凸版
印刷における使用に対して周知である。ゴムプレ
ートはフレキソグラフ印刷に対して広く使用され
ている。しかしながらそのようなプレートは通常
アートワーク、写真陰画、写真凸版、フエノール
性マトリツクスの形成およびゴムプレートの熱プ
レス成型を含む面倒な操作により製造されるが故
に不利である。弾性表面を有するフレキソグラフ
印刷エレメントは米国特許第4323637号明細書記
載の弾性体状光重合体組成物から製造することが
できる。そのような光重合体エレメントは光重合
体層のカバーシートと表面との間に挿入した可撓
性重合体フイルムを有している。活性線放射に像
様露光させた際、光重合体層の不溶化が露光部分
に生ずる。適当な溶媒による処理は重合体フイル
ムおよび未露光部分を除去して印刷レリーフを残
す。
フレキソグラフ光重合体組成物はいくつかの既
知の方法例えば溶媒キヤスチング、熱プレス、カ
レンダー処理および押出しによつてシートまたは
層の形に成形することができる。好ましい方法は
多層または複合フイルムを含む２枚のシートまた
はフイルムの間でのカレンダー処理によるもので
ある。可撓性重合体フイルムの薄層を有するフイ
ルムは複合フイルムの例である。高温でこの複合
フイルムを使用したカレンダー処理の間、比較的
硬い光重合体層に接触している可撓性の重合体層
は溶融するかまたは流れて光重合体層中に粗荒な
またはよごれ部分を生ぜしめる。これら粗荒部分
は最終フレキソグラフ印刷プレート中に出現しう
る。
知の方法例えば溶媒キヤスチング、熱プレス、カ
レンダー処理および押出しによつてシートまたは
層の形に成形することができる。好ましい方法は
多層または複合フイルムを含む２枚のシートまた
はフイルムの間でのカレンダー処理によるもので
ある。可撓性重合体フイルムの薄層を有するフイ
ルムは複合フイルムの例である。高温でこの複合
フイルムを使用したカレンダー処理の間、比較的
硬い光重合体層に接触している可撓性の重合体層
は溶融するかまたは流れて光重合体層中に粗荒な
またはよごれ部分を生ぜしめる。これら粗荒部分
は最終フレキソグラフ印刷プレート中に出現しう
る。
フレキソグラフ印刷エレメントの好ましい製造
法は光重合体組成物を押出し、次いでこの光重合
体組成物を２個の扁平な表面、一般には２枚のフ
イルムの間でカレンダー処理することによるもの
である。往々にして光重合体溶融物をダイを通し
て押出する場合、ダイリツプに沿つての不完全部
分例えば硬化光重合体の小片が回転する重合体バ
ンク中の溝の形成を生ぜしめる。この溝は通常カ
レンダー処理の間に消失するであろう。しかしな
がらカレンダー処理の間に熱光重合体層に接触す
る可撓性重合体フイルムの存在の故に形成された
溝は流動する重合体フイルム物質で満たされる。
印刷エレメントを溶媒現像により処理した場合、
可撓性重合体フイルムは除去されそして以前に満
たされていた溝は再び出現しそして表面ストリー
クとして視認できるようになる。そのようなスト
リークはフレキソグラフ印刷用プレート中では高
度に望ましくないものである。
法は光重合体組成物を押出し、次いでこの光重合
体組成物を２個の扁平な表面、一般には２枚のフ
イルムの間でカレンダー処理することによるもの
である。往々にして光重合体溶融物をダイを通し
て押出する場合、ダイリツプに沿つての不完全部
分例えば硬化光重合体の小片が回転する重合体バ
ンク中の溝の形成を生ぜしめる。この溝は通常カ
レンダー処理の間に消失するであろう。しかしな
がらカレンダー処理の間に熱光重合体層に接触す
る可撓性重合体フイルムの存在の故に形成された
溝は流動する重合体フイルム物質で満たされる。
印刷エレメントを溶媒現像により処理した場合、
可撓性重合体フイルムは除去されそして以前に満
たされていた溝は再び出現しそして表面ストリー
クとして視認できるようになる。そのようなスト
リークはフレキソグラフ印刷用プレート中では高
度に望ましくないものである。
像様露光させそして現像された場合に表面スト
リークのない硬質の実質的に平滑な印刷表面を有
するフレキソグラフ光重合体エレメントを与える
ことが本発明の目的である。その他の目的は改善
された耐溶媒性、リバース深さ（reverse depth）
を有する露光寛容度、インク伝達および磨耗性を
有するような印刷表面を与えることである。
リークのない硬質の実質的に平滑な印刷表面を有
するフレキソグラフ光重合体エレメントを与える
ことが本発明の目的である。その他の目的は改善
された耐溶媒性、リバース深さ（reverse depth）
を有する露光寛容度、インク伝達および磨耗性を
有するような印刷表面を与えることである。
本発明によれば、カレンダーニツプ中に弾性体
状結合剤、少くとも１種の末端エチレン性基を有
するエチレン性不飽和化合物および光開始剤また
は光開始剤系を包含する光重合性組成物塊を送り
こみそしてこの光重合性組成物を支持体と多層カ
バーエレメントとの間でカレンダー処理してその
間で光重合性層を形成させることを包含するフレ
キソグラフ用の光重合性エレメントを製造するた
めの方法において、その多層カバーエレメントが
可撓性カバーフイルム、場合により可撓性重合体
フイルム、および光感受性であるかまたは光重合
性層に接触させることによるカレンダー処理の間
またはその後で光感受性となるような弾性体状組
成物の層より本質的になる改善が提供される。
状結合剤、少くとも１種の末端エチレン性基を有
するエチレン性不飽和化合物および光開始剤また
は光開始剤系を包含する光重合性組成物塊を送り
こみそしてこの光重合性組成物を支持体と多層カ
バーエレメントとの間でカレンダー処理してその
間で光重合性層を形成させることを包含するフレ
キソグラフ用の光重合性エレメントを製造するた
めの方法において、その多層カバーエレメントが
可撓性カバーフイルム、場合により可撓性重合体
フイルム、および光感受性であるかまたは光重合
性層に接触させることによるカレンダー処理の間
またはその後で光感受性となるような弾性体状組
成物の層より本質的になる改善が提供される。
本発明は光重合性組成物を使用するフレキソグ
ラフエレメントの製造のための改善されたカレン
ダー処理方法に関する。この光重合性組成物は弾
性体状結合剤例えばブロツク共重合体、少くとも
１個の末端エチレン基を含有する非気体状のエチ
レン性不飽和化合物、有機放射感受性遊離ラジカ
ル生成性光開始剤または系、好ましくは染料なら
びに以下に論じられるその他の添加剤を包含して
いる。
ラフエレメントの製造のための改善されたカレン
ダー処理方法に関する。この光重合性組成物は弾
性体状結合剤例えばブロツク共重合体、少くとも
１個の末端エチレン基を含有する非気体状のエチ
レン性不飽和化合物、有機放射感受性遊離ラジカ
ル生成性光開始剤または系、好ましくは染料なら
びに以下に論じられるその他の添加剤を包含して
いる。
本明細書中で言及されている重合体分子量は数
平均分子量である。重合体例えばブロツク共重合
体に対する数平均分子量はゲルセロフアン600W
膜（アロ・ラボラトリース社製品）を使用し、溶
媒としてトルエンを使用して29℃で膜浸透により
測定することができる。非弾性体状重合体ブロツ
クおよび弾性体状重合体ブロツクに対するｎは
好ましくは次のようにして測定される。
平均分子量である。重合体例えばブロツク共重合
体に対する数平均分子量はゲルセロフアン600W
膜（アロ・ラボラトリース社製品）を使用し、溶
媒としてトルエンを使用して29℃で膜浸透により
測定することができる。非弾性体状重合体ブロツ
クおよび弾性体状重合体ブロツクに対するｎは
好ましくは次のようにして測定される。
Ａ 第１ブロツク（ポリスチレン）の分子量は重
合直後に取出された反応停止された試料のゲル
透過クロマトグラフイー（GPC）により測定
することができる。クロマトグラフは市場的に
入手可能なポリスチレン分子量標準を使用して
較正される。
合直後に取出された反応停止された試料のゲル
透過クロマトグラフイー（GPC）により測定
することができる。クロマトグラフは市場的に
入手可能なポリスチレン分子量標準を使用して
較正される。
Ｂ 第２ブロツク（ポリイソプレンまたはポリブ
タジエン）のｎは次の方法すなわち(1)適当に
較正したGPCによつて、反応停止させそして
その重合直後に取り出されたポリスチレン−ポ
リイソプレン（またはポリブタジエン）ジブロ
ツク重合体試料のｎを測定しそして(2)前記Ａ
で測定された第１ブロツクのｎ値をこの値か
ら減ずることによつて測定することができる。
タジエン）のｎは次の方法すなわち(1)適当に
較正したGPCによつて、反応停止させそして
その重合直後に取り出されたポリスチレン−ポ
リイソプレン（またはポリブタジエン）ジブロ
ツク重合体試料のｎを測定しそして(2)前記Ａ
で測定された第１ブロツクのｎ値をこの値か
ら減ずることによつて測定することができる。
Ｃ 第３ブロツク（ポリスチレンまたはその他の
重合体）のｎは同一の一般的操作すなわち(1)
適当に目盛づけしたGPCによりポリスチレン
−ポリイソプレン（またはポリブタジエン）−
ポリスチレンのトリブロツク重合体の試料の
ｎを測定しそして(2)この値から前記Ｂで得られ
たジブロツク重合体のｎを減ずることにより
測定できる。
重合体）のｎは同一の一般的操作すなわち(1)
適当に目盛づけしたGPCによりポリスチレン
−ポリイソプレン（またはポリブタジエン）−
ポリスチレンのトリブロツク重合体の試料の
ｎを測定しそして(2)この値から前記Ｂで得られ
たジブロツク重合体のｎを減ずることにより
測定できる。
光重合性組成物の一つの本質的成分は高分子量
弾性体状重合体結合剤好ましくは一般式Ａ−Ｂ−
Ａ（式中各Ａは独立して2000〜100000の数平均分
子量（ｎ）および25℃以上のガラス転移温度を
有する非弾性体状重合体ブロツクから選ばれ、そ
してＢは約25000〜1000000の数平均分子量および
約10℃以下のガラス転移温度を有する弾性体状重
合体ブロツクである）の少くとも１個の単位を有
するブロツク共重合体である。それらの間に弾性
ブロツクＢを有する非弾性体ブロツクＡは一緒に
なつて単位Ａ−Ｂ−Ａを構成するがこれは本発明
の組成物中の光重合性成分と組合せて使用するに
特に適当な共重合体を表わしている。この単位は
共重合体の一般式全体を表わしうるし、それは他
の重合体鎖に懸垂したものでありうるし、または
それは反復するものでありうる。勿論例えば一つ
の末端ブロツクのガラス転移温度が30゜〜＋25℃
の間であるような２種の異つた非弾性体末端ブロ
ツクを使用するかまたはブロツクＡおよびＢ中に
ブロツクまたはグラフト重合体置換を生成させる
ことによつて本発明の範囲内で単位の正確な性質
を変動させることが可能である。好ましくは弾性
体中央部分のブロツクＢは脂肪族共役ジオレフイ
ンの重合体であり、一方非弾性体ブロツクＡはア
ルケニル芳香族炭化水素、好ましくはビニル置換
芳香族炭化水素そして更により好ましくはビニル
単環性芳香族炭化水素の重合により形成されたも
のである。適当なブロツク共重合体は米国特許第
3265765号および対応する英国特許第1000090号明
細書に開示されている。共重合体の特に好ましい
のはポリイソプレンまたはポリブタジエン中央部
分により結合されたポリスチレン末端基のブロツ
ク共重合体、例えばポリスチレン−ポリイソプレ
ン−ポリスチレンまたはポリスチレン−ポリブタ
ジエン−ポリスチレンを包含する。このポリジエ
ンブロツクはブロツク共重合体の70〜90重量％で
ある。本発明に有用なその他の典型的なブロツク
共重合体は米国特許第3431323号および同第
3333024号各明細書の教示により水素化されたポ
リスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンおよ
びポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン
ブロツク共重合体である。この水素化ブロツク共
重合体は改善された熱および酸化抵抗性という別
の利点を有している。しかしながら水素化ブロツ
ク共重合体中にはいくらかの残存不飽和のあるこ
とが望ましい。その理由は活性線放射に露光した
際の溶媒溶解度減少のためには光感受性組成物中
の非常に少量の単量体濃度しか要求されないから
である。本発明に有用な更にその他の典型的ブロ
ツク共重合体は熱ブロツクがポリアルキルスチレ
ンのもの例えばポリ（α−メチルスチレン）−ポ
リイソプレン−ポリ（α−メチルスチレン）、お
よび複数の重合体ブロツクより構成されたもの例
えばポリイソプレン−ポリスチレン−ポリブタジ
エン−ポリスチレン−ポリイソプレンである。こ
の光重合体組成物中に有用なその他の弾性体状結
合剤としては１，３−ブタジエン、炭化水素およ
びハロゲン置換された１，３−ブタジエン、１，
３−ブタジエン単量体とアクリル、アルキルアク
リル酸または相当するエステルおよび／またはニ
トリルとの共重合体、１，３−ブタジエンとアリ
ールオレフイン例えばスチレン、ジビニルベンゼ
ンその他との共重合体があげられる。その他の弾
性体状重合体例えばポリウレタン、炭素化ポリビ
ニルアルコールその他もまた有用である。そのよ
うな弾性体状重合体結合剤の例はここに参照とし
て包含されているカナダ特許第614182号、米国特
許第2948611号、同第4177074号、同第4247624号
および同第4272608号明細書に開示されている。
弾性体状重合体結合剤好ましくは一般式Ａ−Ｂ−
Ａ（式中各Ａは独立して2000〜100000の数平均分
子量（ｎ）および25℃以上のガラス転移温度を
有する非弾性体状重合体ブロツクから選ばれ、そ
してＢは約25000〜1000000の数平均分子量および
約10℃以下のガラス転移温度を有する弾性体状重
合体ブロツクである）の少くとも１個の単位を有
するブロツク共重合体である。それらの間に弾性
ブロツクＢを有する非弾性体ブロツクＡは一緒に
なつて単位Ａ−Ｂ−Ａを構成するがこれは本発明
の組成物中の光重合性成分と組合せて使用するに
特に適当な共重合体を表わしている。この単位は
共重合体の一般式全体を表わしうるし、それは他
の重合体鎖に懸垂したものでありうるし、または
それは反復するものでありうる。勿論例えば一つ
の末端ブロツクのガラス転移温度が30゜〜＋25℃
の間であるような２種の異つた非弾性体末端ブロ
ツクを使用するかまたはブロツクＡおよびＢ中に
ブロツクまたはグラフト重合体置換を生成させる
ことによつて本発明の範囲内で単位の正確な性質
を変動させることが可能である。好ましくは弾性
体中央部分のブロツクＢは脂肪族共役ジオレフイ
ンの重合体であり、一方非弾性体ブロツクＡはア
ルケニル芳香族炭化水素、好ましくはビニル置換
芳香族炭化水素そして更により好ましくはビニル
単環性芳香族炭化水素の重合により形成されたも
のである。適当なブロツク共重合体は米国特許第
3265765号および対応する英国特許第1000090号明
細書に開示されている。共重合体の特に好ましい
のはポリイソプレンまたはポリブタジエン中央部
分により結合されたポリスチレン末端基のブロツ
ク共重合体、例えばポリスチレン−ポリイソプレ
ン−ポリスチレンまたはポリスチレン−ポリブタ
ジエン−ポリスチレンを包含する。このポリジエ
ンブロツクはブロツク共重合体の70〜90重量％で
ある。本発明に有用なその他の典型的なブロツク
共重合体は米国特許第3431323号および同第
3333024号各明細書の教示により水素化されたポ
リスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンおよ
びポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン
ブロツク共重合体である。この水素化ブロツク共
重合体は改善された熱および酸化抵抗性という別
の利点を有している。しかしながら水素化ブロツ
ク共重合体中にはいくらかの残存不飽和のあるこ
とが望ましい。その理由は活性線放射に露光した
際の溶媒溶解度減少のためには光感受性組成物中
の非常に少量の単量体濃度しか要求されないから
である。本発明に有用な更にその他の典型的ブロ
ツク共重合体は熱ブロツクがポリアルキルスチレ
ンのもの例えばポリ（α−メチルスチレン）−ポ
リイソプレン−ポリ（α−メチルスチレン）、お
よび複数の重合体ブロツクより構成されたもの例
えばポリイソプレン−ポリスチレン−ポリブタジ
エン−ポリスチレン−ポリイソプレンである。こ
の光重合体組成物中に有用なその他の弾性体状結
合剤としては１，３−ブタジエン、炭化水素およ
びハロゲン置換された１，３−ブタジエン、１，
３−ブタジエン単量体とアクリル、アルキルアク
リル酸または相当するエステルおよび／またはニ
トリルとの共重合体、１，３−ブタジエンとアリ
ールオレフイン例えばスチレン、ジビニルベンゼ
ンその他との共重合体があげられる。その他の弾
性体状重合体例えばポリウレタン、炭素化ポリビ
ニルアルコールその他もまた有用である。そのよ
うな弾性体状重合体結合剤の例はここに参照とし
て包含されているカナダ特許第614182号、米国特
許第2948611号、同第4177074号、同第4247624号
および同第4272608号明細書に開示されている。
前記熱可塑性弾性体状重合体結合剤と相容性の
混合物を形成する有用な付加重合性エチレン性不
飽和化合物としては第３級ブチルアクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、
１，４−ブタンジオールジアクリレート、ヘキサ
メチレングリコールジアクリレート、デカメチレ
ングリコールジアクリレート、２，２−ジメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキ
シフエニル）プロパンジアクリレート、２，２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフエニル）プロパンジメタク
リレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ（ｐ−
ヒドロキシフエニル）プロパンジメタクリレー
ト、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパン
トリアクリレート（462）、ブチレングリコールジ
メタクリレート、ヘキサメチレングリコールジメ
タクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールメタクリレート、１−フエニ
ルエチレン−１，２−ジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ジアリル
フマレート、スチレン、１，４−ジイソプロペニ
ルベンゼン、１，３，５−トリイソプロペニルベ
ンゼンその他があげられる。
混合物を形成する有用な付加重合性エチレン性不
飽和化合物としては第３級ブチルアクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、
１，４−ブタンジオールジアクリレート、ヘキサ
メチレングリコールジアクリレート、デカメチレ
ングリコールジアクリレート、２，２−ジメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキ
シフエニル）プロパンジアクリレート、２，２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフエニル）プロパンジメタク
リレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ（ｐ−
ヒドロキシフエニル）プロパンジメタクリレー
ト、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパン
トリアクリレート（462）、ブチレングリコールジ
メタクリレート、ヘキサメチレングリコールジメ
タクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールメタクリレート、１−フエニ
ルエチレン−１，２−ジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ジアリル
フマレート、スチレン、１，４−ジイソプロペニ
ルベンゼン、１，３，５−トリイソプロペニルベ
ンゼンその他があげられる。
２個のエチレン性基を含有する化合物が特に好
ましい。
ましい。
本発明の光重合体組成物は例えば約0.0005〜約
0.250インチ（0.013〜約6.35mm）の薄層の形の場
合には本質的に活性線放射を散乱しない。本質的
に透明な混合物すなわち光非散乱性混合物を確実
ならしめるためにはその弾性体状結合剤成分は
99：１〜約１：１の前記比率範囲で使用される場
合にはエチレン性成分と相容性であるべきであ
り、そして好ましくはこの中に可溶性であるべき
である。この比率は使用される弾性体状結合剤の
重量の使用される付加重合性エチレン性不飽和化
合物の重量に対するものである。
0.250インチ（0.013〜約6.35mm）の薄層の形の場
合には本質的に活性線放射を散乱しない。本質的
に透明な混合物すなわち光非散乱性混合物を確実
ならしめるためにはその弾性体状結合剤成分は
99：１〜約１：１の前記比率範囲で使用される場
合にはエチレン性成分と相容性であるべきであ
り、そして好ましくはこの中に可溶性であるべき
である。この比率は使用される弾性体状結合剤の
重量の使用される付加重合性エチレン性不飽和化
合物の重量に対するものである。
相容性とは２種またはそれ以上の成分が相互に
活性線放射の有意の散乱を生ぜしめることなく分
散状態に留まる能力を意味している。相容性は
往々にして成分の相対比により限定され、そして
非相容性は光感受性組成物中のくもり（haze）
の形成により証明される。露光の前または露光の
間にそのような組成物から形成される層のいくら
かのわずかなくもりはそれからの印刷レリーフの
製造においては許容されうる。しかしながら微細
なデイテールが所望される場合にはくもりは除去
されるのが好ましい。従つて使用される単量体の
量は望ましくない光散乱またはくもりを生成させ
る濃度以下の相容性濃度に限定される。前記の相
容性エチレン性不飽和化合物は付加重合開始剤の
存在下には光開始付加重合によつて容易に高分子
量付加重合体を形成する。勿論、開始剤は重合ま
たは交叉結合を開始させるに充分な放射エネルギ
ーを吸収する。
活性線放射の有意の散乱を生ぜしめることなく分
散状態に留まる能力を意味している。相容性は
往々にして成分の相対比により限定され、そして
非相容性は光感受性組成物中のくもり（haze）
の形成により証明される。露光の前または露光の
間にそのような組成物から形成される層のいくら
かのわずかなくもりはそれからの印刷レリーフの
製造においては許容されうる。しかしながら微細
なデイテールが所望される場合にはくもりは除去
されるのが好ましい。従つて使用される単量体の
量は望ましくない光散乱またはくもりを生成させ
る濃度以下の相容性濃度に限定される。前記の相
容性エチレン性不飽和化合物は付加重合開始剤の
存在下には光開始付加重合によつて容易に高分子
量付加重合体を形成する。勿論、開始剤は重合ま
たは交叉結合を開始させるに充分な放射エネルギ
ーを吸収する。
本発明の光重合体組成物のその他の本質的成分
は有機放射感受性遊離ラジカル生成系である。不
飽和化合物の重合を開始させそして重合を過剰に
停止させない実質的にすべての有機放射感受性遊
離ラジカル生成系を本発明の光重合体組成物中に
使用することができる。「有機」の表現は本明細
書では炭素と酸素、水素、窒素、硫黄およびハロ
ゲンの１種またはそれ以上とを含有するがしかし
金属を含有しない化合物を意味して使用されてい
る。プロセス透明画は通常の活性線放射源から由
来する熱を伝達しそして光重合体組成物は通常高
温を生ずるような条件下で製造されるのであるか
ら、好ましい遊離ラジカル生成性化合物は85℃以
下、より好ましくは185℃以下のでは熱的に不活
性のものである。それらは比較的短時間の露光で
吸収された放射量の影響下に所望の重合または交
叉結合を開始させるに必要な程度に組成物中に分
散性であるべきである。これら開始剤は溶媒不含
光重合体組成物の全重量基準で約0.001〜約10重
量％そして好ましくは約0.1〜約５重量％の量で
有用である。
は有機放射感受性遊離ラジカル生成系である。不
飽和化合物の重合を開始させそして重合を過剰に
停止させない実質的にすべての有機放射感受性遊
離ラジカル生成系を本発明の光重合体組成物中に
使用することができる。「有機」の表現は本明細
書では炭素と酸素、水素、窒素、硫黄およびハロ
ゲンの１種またはそれ以上とを含有するがしかし
金属を含有しない化合物を意味して使用されてい
る。プロセス透明画は通常の活性線放射源から由
来する熱を伝達しそして光重合体組成物は通常高
温を生ずるような条件下で製造されるのであるか
ら、好ましい遊離ラジカル生成性化合物は85℃以
下、より好ましくは185℃以下のでは熱的に不活
性のものである。それらは比較的短時間の露光で
吸収された放射量の影響下に所望の重合または交
叉結合を開始させるに必要な程度に組成物中に分
散性であるべきである。これら開始剤は溶媒不含
光重合体組成物の全重量基準で約0.001〜約10重
量％そして好ましくは約0.1〜約５重量％の量で
有用である。
遊離ラジカル生成系は約2000〜約8000Å範囲内
の放射を吸収し、そしてこれは約2500〜約8000
Å、そして好ましくは約2500〜約5000Å範囲内に
少くとも約50の分子吸光系数を有する活性線放射
吸収バンドを有する少くとも１種の成分を有して
いる。「活性線放射吸収バンド」とは不飽和物質
の重合または交叉結合形成を開始させるに必要な
遊離ラジカルを生成させるべく活性な放射バンド
を意味している。
の放射を吸収し、そしてこれは約2500〜約8000
Å、そして好ましくは約2500〜約5000Å範囲内に
少くとも約50の分子吸光系数を有する活性線放射
吸収バンドを有する少くとも１種の成分を有して
いる。「活性線放射吸収バンド」とは不飽和物質
の重合または交叉結合形成を開始させるに必要な
遊離ラジカルを生成させるべく活性な放射バンド
を意味している。
遊離ラジカム生成系は放射により活性化された
際に遊離ラジカルを直接与える１種またはそれ以
上の化合物を包含しうる。それはまたその１種が
放射により活性化された増感剤により増感された
後で遊離ラジカルを生成するものであるような複
数の化合物をも包含しうる。
際に遊離ラジカルを直接与える１種またはそれ以
上の化合物を包含しうる。それはまたその１種が
放射により活性化された増感剤により増感された
後で遊離ラジカルを生成するものであるような複
数の化合物をも包含しうる。
本発明の実施においては多数のかかる遊離ラジ
カル生成化合物を使用しうる。それらとしては芳
香族ケトン例えばベンゾフエノン、ミヒラーのケ
トン〔４，4′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
エノン〕、４，4′−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフエノン、４−アクリルオキシ−4′−ジメチル
アミノベンゾフエノン、４−アクリルオキシ−
4′−ジエチルアミノベンゾフエノン、４−メトキ
シ−4′−ジメチルアミノベンゾフエノン、２−フ
エニル−２，２−ジメトキシアセトフエノン
（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフエニルエタ
ン）、２−エチルアントラキノン、フエナントラ
キノン、２−第３級ブチルアントラキノン、１，
２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアン
トラキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、ベ
ンジルジメチルアセタールおよびその他の芳香族
ケトン、ベンゾイン、ベンゾインエーテル例えば
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテルおよびベ
ンゾインフエニルエーテル、メチルベンゾイン、
エチルベンゾインおよびその他のベンゾインおよ
び２，４，５−トリアリールイミダゾリル二量体
例えば２−（ｏ−クロロフエニル）−４，５−ジフ
エニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−クロロフ
エニル−４，５−ジ（ｍ−メトキシフエニル）−
イミダゾリル二量体、２−（ｏ−フルオロフエニ
ル）−４，５−ジフエニルイミダゾリル二量体、
２−（ｏ−メトキシフエニル）−（４，５−ジフエ
ニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メトキシフ
エニル）−４，５−ジフエニルイミダゾリル二量
体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフエニル）−５−
フエニルイミダゾリル二量体、２−（２，４−ジ
メトキシフエニル）−４，５−ジフエニルイミダ
ゾリル二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフエ
ニル）−４，５−ジフエニルイミダゾリル二量体
その他、米国特許第3479185号および同第3784557
号および英国特許第997396号および同第1047569
号各明細書に開示のものがあげられる。これら特
許はここに参照として包含されている。
カル生成化合物を使用しうる。それらとしては芳
香族ケトン例えばベンゾフエノン、ミヒラーのケ
トン〔４，4′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
エノン〕、４，4′−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフエノン、４−アクリルオキシ−4′−ジメチル
アミノベンゾフエノン、４−アクリルオキシ−
4′−ジエチルアミノベンゾフエノン、４−メトキ
シ−4′−ジメチルアミノベンゾフエノン、２−フ
エニル−２，２−ジメトキシアセトフエノン
（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフエニルエタ
ン）、２−エチルアントラキノン、フエナントラ
キノン、２−第３級ブチルアントラキノン、１，
２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアン
トラキノン、２，３−ジクロロナフトキノン、ベ
ンジルジメチルアセタールおよびその他の芳香族
ケトン、ベンゾイン、ベンゾインエーテル例えば
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテルおよびベ
ンゾインフエニルエーテル、メチルベンゾイン、
エチルベンゾインおよびその他のベンゾインおよ
び２，４，５−トリアリールイミダゾリル二量体
例えば２−（ｏ−クロロフエニル）−４，５−ジフ
エニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−クロロフ
エニル−４，５−ジ（ｍ−メトキシフエニル）−
イミダゾリル二量体、２−（ｏ−フルオロフエニ
ル）−４，５−ジフエニルイミダゾリル二量体、
２−（ｏ−メトキシフエニル）−（４，５−ジフエ
ニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メトキシフ
エニル）−４，５−ジフエニルイミダゾリル二量
体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフエニル）−５−
フエニルイミダゾリル二量体、２−（２，４−ジ
メトキシフエニル）−４，５−ジフエニルイミダ
ゾリル二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフエ
ニル）−４，５−ジフエニルイミダゾリル二量体
その他、米国特許第3479185号および同第3784557
号および英国特許第997396号および同第1047569
号各明細書に開示のものがあげられる。これら特
許はここに参照として包含されている。
イミダゾリル二量体は遊離ラジカル生成性電子
ドナー例えば２−メルカプトベンゾキサゾール、
ロイコクリスタルバイオレツトまたはトリ（４−
ジエチルアミノ−２−メチルフエニル）メタンと
共に使用することができる。ミヒラーのケトンの
ような構成剤を使用することができる。種々のエ
ネルギー伝達性染料例えばローズベンガルおよび
エオジンＹもまた使用しうる。適当な開始剤のそ
の他の例はここに参照として包含される米国特許
第2760863号明細書中に開示されている。
ドナー例えば２−メルカプトベンゾキサゾール、
ロイコクリスタルバイオレツトまたはトリ（４−
ジエチルアミノ−２−メチルフエニル）メタンと
共に使用することができる。ミヒラーのケトンの
ような構成剤を使用することができる。種々のエ
ネルギー伝達性染料例えばローズベンガルおよび
エオジンＹもまた使用しうる。適当な開始剤のそ
の他の例はここに参照として包含される米国特許
第2760863号明細書中に開示されている。
この光重合体組成物はまた少量例えば全溶媒不
含光重合体組成物の重量基準で0.001〜2.0％の熱
付加重合阻害剤を含有しうる。適当な阻害剤とし
てはヒドロキノンおよびアルキルおよびアリール
置換ヒドロキノン、２，６−ジ第３級ブチル−４
−メチルフエノール、ｐ−メトキシフエノール、
第３級ブチルピロカテコール、ピロガロール、β
−ナフトール、２，６−ジ第３級ブチル−ｐ−ク
レゾール、フエノチアジン、ピリジン、ニトロベ
ンゼン、ジニトロベンゼンおよびここに参照とし
て包含されている米国特許第4168982号明細書記
載のニトロソ二量体阻害剤系があげられる。その
他の有用な阻害剤としてはｐ−トルキノン、クロ
ラニルおよびチアジン染料例えばチオニンブルー
Ｇ（CI52025）、メチレンブルーＢ（CI52015）およ
びトルイジンブルー（CI52040）があげられる。
そのような組成物は阻害剤を除去することなしに
光重合または光交叉結合させることができる。好
ましい阻害剤は２，６−ジ第３級ブチル−４−メ
チルフエノールおよびｐ−メトキシフエノールで
ある。
含光重合体組成物の重量基準で0.001〜2.0％の熱
付加重合阻害剤を含有しうる。適当な阻害剤とし
てはヒドロキノンおよびアルキルおよびアリール
置換ヒドロキノン、２，６−ジ第３級ブチル−４
−メチルフエノール、ｐ−メトキシフエノール、
第３級ブチルピロカテコール、ピロガロール、β
−ナフトール、２，６−ジ第３級ブチル−ｐ−ク
レゾール、フエノチアジン、ピリジン、ニトロベ
ンゼン、ジニトロベンゼンおよびここに参照とし
て包含されている米国特許第4168982号明細書記
載のニトロソ二量体阻害剤系があげられる。その
他の有用な阻害剤としてはｐ−トルキノン、クロ
ラニルおよびチアジン染料例えばチオニンブルー
Ｇ（CI52025）、メチレンブルーＢ（CI52015）およ
びトルイジンブルー（CI52040）があげられる。
そのような組成物は阻害剤を除去することなしに
光重合または光交叉結合させることができる。好
ましい阻害剤は２，６−ジ第３級ブチル−４−メ
チルフエノールおよびｐ−メトキシフエノールで
ある。
その他の添加剤としては着色剤例えば染料、抗
酸化剤、抗オゾン化剤、充填剤または補強剤、可
塑剤その他があげられる。光重合体組成物中に存
在させる着色剤は像様露光を阻害してはならな
い。適当な着色剤は「ウインドウ染料」と称され
るがこれは組成物中に存在する開始剤が活性化可
能であるようなスペクトル領域中の活性線放射は
吸収しない。着色剤としてはCI109レツド染料、
メチレンバイオレツト（CIベーシツクバイオレ
ツト５）、「ルクソール」フアーストブルー
MBBN（CIソルベルトブルー38）、「ポンタシル」
ウールブルーBL（CIアツシドブルー59または
CI50315）、「ポンタシル」ウールブルーGL（CIア
ツシドブルー102またはCI50320）、ビクトリアピ
ユアブルーBO（CIベーシツクブルー７または
CI42595）、ローダミン3GO（CIベーシツクレツド
４）、ローダミン6GDN（CIベーシツクレツド１ま
たはCI45／60）、１，1′−ジエチル−２，2′−シ
アニンヨーデイド、フクシン染料（CI42510）、
カルコシドグリーンＳ（CI44090）およびアント
ラキノンブルー2GA（CIアツシドブルー58）その
他があげられる。
酸化剤、抗オゾン化剤、充填剤または補強剤、可
塑剤その他があげられる。光重合体組成物中に存
在させる着色剤は像様露光を阻害してはならな
い。適当な着色剤は「ウインドウ染料」と称され
るがこれは組成物中に存在する開始剤が活性化可
能であるようなスペクトル領域中の活性線放射は
吸収しない。着色剤としてはCI109レツド染料、
メチレンバイオレツト（CIベーシツクバイオレ
ツト５）、「ルクソール」フアーストブルー
MBBN（CIソルベルトブルー38）、「ポンタシル」
ウールブルーBL（CIアツシドブルー59または
CI50315）、「ポンタシル」ウールブルーGL（CIア
ツシドブルー102またはCI50320）、ビクトリアピ
ユアブルーBO（CIベーシツクブルー７または
CI42595）、ローダミン3GO（CIベーシツクレツド
４）、ローダミン6GDN（CIベーシツクレツド１ま
たはCI45／60）、１，1′−ジエチル−２，2′−シ
アニンヨーデイド、フクシン染料（CI42510）、
カルコシドグリーンＳ（CI44090）およびアント
ラキノンブルー2GA（CIアツシドブルー58）その
他があげられる。
本発明に有用な抗酸化剤としてはアルキル化フ
エノール例えば２，６−ジ第３級ブチル−４−メ
チルフエノール、アルキル化ビスフエノール例え
ば２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−
第３級ブチルフエノール）、１，３，５−トリメ
チル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２−
（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルアニ
リノ）−４，６−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−１，
３，５−トリアジン、重合トリメチルジヒドロキ
ノンおよびジラウリルチオプロピオネートがあが
られる。
エノール例えば２，６−ジ第３級ブチル−４−メ
チルフエノール、アルキル化ビスフエノール例え
ば２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−
第３級ブチルフエノール）、１，３，５−トリメ
チル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２−
（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルアニ
リノ）−４，６−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−１，
３，５−トリアジン、重合トリメチルジヒドロキ
ノンおよびジラウリルチオプロピオネートがあが
られる。
本発明に有用な抗オゾン剤としては、微晶性ワ
ツクスおよびパラフインワツクス、ジブチルチオ
尿素、１，１，３，３−テトラメチル−２−チオ
尿素、アンチオゾナントAFD（ナフトン社製品）、
ノルボルネン例えばジ−５−ノルボルネン−２−
メチルアジペート、ジ−５−ノルボルネン−２−
メチルテレフタレート、オゾンプロテクター80
（ラインホールドケミカル社製品）、Ｎ−フエニル
−２−ナフチルアミン、不飽和植物油例えばなた
ね油、あまに油、サフラワー油、重合体および樹
脂例えばエチレン／ビニルアセテート共重合体樹
脂、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン化ポリ
エチレン、塩素化エチレン／メタクリル酸共重合
体、ポリウレタン、ポリペンタジエン、ポリブタ
ジエン、フルフラール誘導樹脂、エチレン／プロ
ピレン／ジエンゴム、ロジンのジエチレングリコ
ールエステルおよびα−メチルスチレン／ビニル
トルエン共重合体があげられる。生成された印刷
レリーフのオゾン耐性はまた、それを使用前に高
温にやきなましすることによつて改善させること
ができる。
ツクスおよびパラフインワツクス、ジブチルチオ
尿素、１，１，３，３−テトラメチル−２−チオ
尿素、アンチオゾナントAFD（ナフトン社製品）、
ノルボルネン例えばジ−５−ノルボルネン−２−
メチルアジペート、ジ−５−ノルボルネン−２−
メチルテレフタレート、オゾンプロテクター80
（ラインホールドケミカル社製品）、Ｎ−フエニル
−２−ナフチルアミン、不飽和植物油例えばなた
ね油、あまに油、サフラワー油、重合体および樹
脂例えばエチレン／ビニルアセテート共重合体樹
脂、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン化ポリ
エチレン、塩素化エチレン／メタクリル酸共重合
体、ポリウレタン、ポリペンタジエン、ポリブタ
ジエン、フルフラール誘導樹脂、エチレン／プロ
ピレン／ジエンゴム、ロジンのジエチレングリコ
ールエステルおよびα−メチルスチレン／ビニル
トルエン共重合体があげられる。生成された印刷
レリーフのオゾン耐性はまた、それを使用前に高
温にやきなましすることによつて改善させること
ができる。
所望により光重合体組成物は光重合体物質の露
光に対して使用される波長において本質的に透明
なそして活性線放射を散乱させない非混和性の重
合体状または非重合体状有機または無機充填剤ま
たは補強剤例えばポリスチレン、親有機性シリ
カ、ベントナイト、シリカ、粉末ガラス、コロイ
ドカーボンならびに種々のタイプの染料および顔
料を含有させることができる。そのような物質は
弾性体状組成物の所望の性質により変動された量
で使用される。充填剤は弾性体層の強度の改善、
タツクの減少のため、そして更に着色剤として有
用である。
光に対して使用される波長において本質的に透明
なそして活性線放射を散乱させない非混和性の重
合体状または非重合体状有機または無機充填剤ま
たは補強剤例えばポリスチレン、親有機性シリ
カ、ベントナイト、シリカ、粉末ガラス、コロイ
ドカーボンならびに種々のタイプの染料および顔
料を含有させることができる。そのような物質は
弾性体状組成物の所望の性質により変動された量
で使用される。充填剤は弾性体層の強度の改善、
タツクの減少のため、そして更に着色剤として有
用である。
好ましくは光重合体には相容性可塑剤を含有せ
しめて結合剤のガラス転移温度を低下させそして
選択的現像を容易ならしめる。この可瞼剤は重合
体結合剤と相容性の任意の一般的可塑剤でありう
る。一般的可塑剤の中にはジアルキルフタレー
ト、アルキルホスフエート、ポリエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコールエステルおよびポ
リエチレングリコールエーテルがある。その他の
有用な可塑剤としてはオレイン酸、ラウリン酸そ
の他があげられる。ポリエステル例えばポリエチ
レンセバケートその他は好ましい可塑剤である。
可塑剤は一般に光重合体組成物の全固体分の重量
基準で１〜15重量％量で存在せしめられる。
しめて結合剤のガラス転移温度を低下させそして
選択的現像を容易ならしめる。この可瞼剤は重合
体結合剤と相容性の任意の一般的可塑剤でありう
る。一般的可塑剤の中にはジアルキルフタレー
ト、アルキルホスフエート、ポリエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコールエステルおよびポ
リエチレングリコールエーテルがある。その他の
有用な可塑剤としてはオレイン酸、ラウリン酸そ
の他があげられる。ポリエステル例えばポリエチ
レンセバケートその他は好ましい可塑剤である。
可塑剤は一般に光重合体組成物の全固体分の重量
基準で１〜15重量％量で存在せしめられる。
本発明の光重合体組成物は多くの方法で前記し
た３種の本質的成分すなわち(A)前記された相容性
溶媒に可溶性の弾性体状結合剤化合物、(B)少くと
も１種の末端ビニリデン基を含有しそして均一に
全体にわたつて分散された付加重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物、および(C)活性線放射により活
性化されうる付加重合開始剤を混合することによ
り製造することができる。例えば流動可能または
押出可能な組成物はそれらおよびその他の所望の
添加剤を任意の順序でそして所望により溶媒例え
ば塩素化炭化水素例えばクロロホルム、四塩化炭
素、トリクロロエチレンおよびクロロトルエン、
ケトン例えばメチルエチルケトン、ジエチルケト
ンおよびメチルイソブチルケトン、芳香族炭化水
素例えばベンゼン、トルエンおよびキシレン、お
よびテトラヒドロフランの助けをかりて混合する
ことにより製造することができる。前記溶媒は希
釈剤として少量のアセトン、低分子量アルコール
例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、脂肪族炭化水素例えば石油エ
ーテルおよびソルベントナフサ、およびエステル
例えばメチル、エチルおよびブチルアセテートを
含有しうる。溶媒は後にこの混合物を加熱するか
または層の押出しにより除去することができる。
た３種の本質的成分すなわち(A)前記された相容性
溶媒に可溶性の弾性体状結合剤化合物、(B)少くと
も１種の末端ビニリデン基を含有しそして均一に
全体にわたつて分散された付加重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物、および(C)活性線放射により活
性化されうる付加重合開始剤を混合することによ
り製造することができる。例えば流動可能または
押出可能な組成物はそれらおよびその他の所望の
添加剤を任意の順序でそして所望により溶媒例え
ば塩素化炭化水素例えばクロロホルム、四塩化炭
素、トリクロロエチレンおよびクロロトルエン、
ケトン例えばメチルエチルケトン、ジエチルケト
ンおよびメチルイソブチルケトン、芳香族炭化水
素例えばベンゼン、トルエンおよびキシレン、お
よびテトラヒドロフランの助けをかりて混合する
ことにより製造することができる。前記溶媒は希
釈剤として少量のアセトン、低分子量アルコール
例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、脂肪族炭化水素例えば石油エ
ーテルおよびソルベントナフサ、およびエステル
例えばメチル、エチルおよびブチルアセテートを
含有しうる。溶媒は後にこの混合物を加熱するか
または層の押出しにより除去することができる。
光重合体組成物は組成物を混合装置例えばカレ
ンダー装置の一部でありうるラバーミル中に入れ
るかまたは溶融、混合、脱気および過の機能を
果す押出機中に入れることによつて熱溶融物に形
成することができる。適当な押出機はツインスク
リユー押出機であるがしかしその他の既知の市販
の押出機を使用することができる。押出機中の溶
融物の温度は約130〜200℃の範囲であり、そして
組成物が押出機中に留まる時間は約１〜５分の範
囲である。
ンダー装置の一部でありうるラバーミル中に入れ
るかまたは溶融、混合、脱気および過の機能を
果す押出機中に入れることによつて熱溶融物に形
成することができる。適当な押出機はツインスク
リユー押出機であるがしかしその他の既知の市販
の押出機を使用することができる。押出機中の溶
融物の温度は約130〜200℃の範囲であり、そして
組成物が押出機中に留まる時間は約１〜５分の範
囲である。
次いでこの組成物を混合装置または押出機から
カレンダーニツプに送り、そしてこの組成物を熱
いうちに２個の平滑な扁平な表面の間でカレンダ
ー処理する。カレンダー処理は多層または複合支
持体を含む２個の可撓性支持体の間で実施するこ
とができる。好ましくは一方の支持体は多層カバ
ーエレメントである。支持体は好ましくは可撓性
フイルムまたはシート例えば場合により接着剤ま
たはプライマーの下塗り層または例えばシリコー
ンの離型層を有するポリエチレンテレフタレート
フイルムである。その他の適当な支持体として
は、ここに参照として包含されている米国特許第
3179634号明細書に開示の炎処理または電子処理
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミドフイル
ム、可撓性金属シートおよび箔例えばスチール、
アルミニウム、複合支持体例えば弾性体状組成物
またはゴムその他の裏張り層を有する前記シート
支持体があげられる。多層カバーエレメントは本
質的に可撓性カバーフイルム、場合により可撓性
重合体フイルムおよび光感受性であるかまたは好
ましくは光重合体組成物との接触によりカレンダ
ー処理の間またはその後で光感受性となるような
弾性体状組成物の層よりなつている。重合された
状態のエレメントの弾性体層の弾性モジユラスは
露光された状態の光重合体層の弾性モジユラスよ
り実質的に小さいものであるべきではない。弾性
体層の弾性モジユラスの有用な範囲は両者が露光
または重合された状態にある場合の光重合体層の
ものの0.5〜15倍である。弾性モジユラスは200％
伸長でとつたASTMD−638により測定される。
カレンダーニツプに送り、そしてこの組成物を熱
いうちに２個の平滑な扁平な表面の間でカレンダ
ー処理する。カレンダー処理は多層または複合支
持体を含む２個の可撓性支持体の間で実施するこ
とができる。好ましくは一方の支持体は多層カバ
ーエレメントである。支持体は好ましくは可撓性
フイルムまたはシート例えば場合により接着剤ま
たはプライマーの下塗り層または例えばシリコー
ンの離型層を有するポリエチレンテレフタレート
フイルムである。その他の適当な支持体として
は、ここに参照として包含されている米国特許第
3179634号明細書に開示の炎処理または電子処理
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミドフイル
ム、可撓性金属シートおよび箔例えばスチール、
アルミニウム、複合支持体例えば弾性体状組成物
またはゴムその他の裏張り層を有する前記シート
支持体があげられる。多層カバーエレメントは本
質的に可撓性カバーフイルム、場合により可撓性
重合体フイルムおよび光感受性であるかまたは好
ましくは光重合体組成物との接触によりカレンダ
ー処理の間またはその後で光感受性となるような
弾性体状組成物の層よりなつている。重合された
状態のエレメントの弾性体層の弾性モジユラスは
露光された状態の光重合体層の弾性モジユラスよ
り実質的に小さいものであるべきではない。弾性
体層の弾性モジユラスの有用な範囲は両者が露光
または重合された状態にある場合の光重合体層の
ものの0.5〜15倍である。弾性モジユラスは200％
伸長でとつたASTMD−638により測定される。
多層カバーエレメントの有用な可撓性カバーフ
イルムとしては好ましくは下塗りなしのしかし場
合により薄いシリコーン層でサブコートされたも
のでありうるポリエチレンテレフタレート、ポリ
スチレン、ポリエチレン、ポリプロピレンまたは
その他の剥離性フイルムがあげられる。可撓性重
合体フイルム層はカバーフイルムに隣接して存在
せしめる。この層はレリーフ像を形成するための
露光エレメントの処理の間溶媒可溶性または剥離
可能であつてそしてこれは好ましくはポリアミ
ド、エチレンとビニルアセテートの共重合体その
他である。可撓性重合体フイルムの厚さは約
0.0001〜0.0015インチ（0.0025〜0.038mm）の範囲
にある。
イルムとしては好ましくは下塗りなしのしかし場
合により薄いシリコーン層でサブコートされたも
のでありうるポリエチレンテレフタレート、ポリ
スチレン、ポリエチレン、ポリプロピレンまたは
その他の剥離性フイルムがあげられる。可撓性重
合体フイルム層はカバーフイルムに隣接して存在
せしめる。この層はレリーフ像を形成するための
露光エレメントの処理の間溶媒可溶性または剥離
可能であつてそしてこれは好ましくはポリアミ
ド、エチレンとビニルアセテートの共重合体その
他である。可撓性重合体フイルムの厚さは約
0.0001〜0.0015インチ（0.0025〜0.038mm）の範囲
にある。
可撓性重合体フイルムに隣接して前記弾性体状
組成物の層（オーバーコート層）がある。弾性体
状組成物は一般に弾性体状物質を含有しているが
これは光重合体層中に存在する弾性体状結合剤と
同一またはこれと同様のものである。弾性体状組
成物の層と光重合体層が前記弾性モジユラスを有
している限りは、弾性組成物および光重合体層中
に異つたタイプの弾性体状結合剤を使用すること
ができる。適当な弾性体状重合体は光重合体組成
物に関して前記されている。弾性体状コーテイン
グ組成物中に存在させるその他の成分としては、
コーテイング溶媒、場合により非弾性体状重合体
でありうる第２の結合剤、場合によりしかし好ま
しくは光重合体層中に存在する任意の着色剤例え
ば染料とコントラストを形成する色を与える非移
行性染料または顔料、および場合により１種また
はそれ以上の前記のエチレン性不飽和単量体化合
物、そして／またはこれまた前記の弾性体状組成
物が光重合性である場合の光開始剤または開始剤
系、および場合によりブロツク形成防止剤があげ
られる。第２の結合剤はメチルメタクリレート／
アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン、スチ
レン／メチルメタクリレート、アクリロニトリ
ル／ブタジエン／スチレン、ブタジエン、イソプ
レン、クロロプレン、スチレン／ブタジエン、ス
チレン／イソプレンまたはその組合せその他の重
合体または共重合体でありうる。コントラスト色
染料はアシツドブルー92（CI13390）、またはここ
に参照として包含されている米国特許第3218167
号明細書第５欄第35〜44行に開示のいずれかのそ
の他の染料でありうる。有用な溶媒は弾性体状コ
ーテイング組成物を溶解または分散させる物質で
ある。メチレンクロリドが好ましい。その他の有
用な溶媒としてはアセトン、メチレンクロリド／
メタノール、パークロロエチレン、トリクロロエ
チレン、ベンゼン、トルエン、エチルセロソルブ
その他があげられる。有用なブロツク形成防止剤
としてはポリオレフイン粒子またはビーズ、ワツ
クス、ポリエチレン、硬質粒子またはビーズ例え
ばガラス（二酸化珪素）その他があげられる。ジ
オクチルナトリウムスルホサクシネートまたはそ
の他の既知のスリツプ剤を使用することができ
る。ブロツク形成防止剤はカレンダー処理操作の
前にロール形態の多層カバーエレメントが粘着す
るのを阻止する。弾性体状コーテイング組成物は
次の重量部の記載の成分を含有している。
組成物の層（オーバーコート層）がある。弾性体
状組成物は一般に弾性体状物質を含有しているが
これは光重合体層中に存在する弾性体状結合剤と
同一またはこれと同様のものである。弾性体状組
成物の層と光重合体層が前記弾性モジユラスを有
している限りは、弾性組成物および光重合体層中
に異つたタイプの弾性体状結合剤を使用すること
ができる。適当な弾性体状重合体は光重合体組成
物に関して前記されている。弾性体状コーテイン
グ組成物中に存在させるその他の成分としては、
コーテイング溶媒、場合により非弾性体状重合体
でありうる第２の結合剤、場合によりしかし好ま
しくは光重合体層中に存在する任意の着色剤例え
ば染料とコントラストを形成する色を与える非移
行性染料または顔料、および場合により１種また
はそれ以上の前記のエチレン性不飽和単量体化合
物、そして／またはこれまた前記の弾性体状組成
物が光重合性である場合の光開始剤または開始剤
系、および場合によりブロツク形成防止剤があげ
られる。第２の結合剤はメチルメタクリレート／
アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン、スチ
レン／メチルメタクリレート、アクリロニトリ
ル／ブタジエン／スチレン、ブタジエン、イソプ
レン、クロロプレン、スチレン／ブタジエン、ス
チレン／イソプレンまたはその組合せその他の重
合体または共重合体でありうる。コントラスト色
染料はアシツドブルー92（CI13390）、またはここ
に参照として包含されている米国特許第3218167
号明細書第５欄第35〜44行に開示のいずれかのそ
の他の染料でありうる。有用な溶媒は弾性体状コ
ーテイング組成物を溶解または分散させる物質で
ある。メチレンクロリドが好ましい。その他の有
用な溶媒としてはアセトン、メチレンクロリド／
メタノール、パークロロエチレン、トリクロロエ
チレン、ベンゼン、トルエン、エチルセロソルブ
その他があげられる。有用なブロツク形成防止剤
としてはポリオレフイン粒子またはビーズ、ワツ
クス、ポリエチレン、硬質粒子またはビーズ例え
ばガラス（二酸化珪素）その他があげられる。ジ
オクチルナトリウムスルホサクシネートまたはそ
の他の既知のスリツプ剤を使用することができ
る。ブロツク形成防止剤はカレンダー処理操作の
前にロール形態の多層カバーエレメントが粘着す
るのを阻止する。弾性体状コーテイング組成物は
次の重量部の記載の成分を含有している。
弾性体状結合剤 60〜100部
第２の結合剤 ０〜40部
染 料 ０〜５部
単量体（随意） ０〜20部
光開始剤（随意） ０〜10部
溶 媒 50〜95部
好ましい弾性体状コーテイング組成物の製造に
当つては、染料およびテトラポリマーを一般には
約240゜〜300〓（約116〜149℃）の高温でミキサ
ー中でブレンドする。しかしながらこのブレンド
温度は結合剤の融点およびレオロジーにより変動
させうる。次いでこのブレンドを細断し、顆粒化
させそして次いで他の成分と混合する。コーテイ
ング組成物を好ましくは押出しダイコーターによ
りコーテイングする。乾燥層厚さは約0.0005〜
0.020インチ（約0.013〜0.51mm）、好ましくは
0.001〜0.005インチ（0.025〜0.127mm）である。
当つては、染料およびテトラポリマーを一般には
約240゜〜300〓（約116〜149℃）の高温でミキサ
ー中でブレンドする。しかしながらこのブレンド
温度は結合剤の融点およびレオロジーにより変動
させうる。次いでこのブレンドを細断し、顆粒化
させそして次いで他の成分と混合する。コーテイ
ング組成物を好ましくは押出しダイコーターによ
りコーテイングする。乾燥層厚さは約0.0005〜
0.020インチ（約0.013〜0.51mm）、好ましくは
0.001〜0.005インチ（0.025〜0.127mm）である。
前記のように光重合体のカレンダーは２個の支
持体の間で実施されうる。支持体が前述したよう
に可撓性フイルムまたはシートの場合にはそれに
損傷を与えることなく光重合体層の表面から一方
を次いで除去し、そしてこれまた前記のようにし
て多層カバーエレメントを20〜180℃の範囲の温
度で光重合体層に積層させるかまたは多層カバー
エレメントと光重合体層を20゜〜180℃の温度で接
触状態でプレスする。本発明は弾性体状オーバー
コート層がフレキソグラフ印刷用プレートの製造
に使用される光重合体エレメント中の光重合体層
に隣接して存在することを要求する。
持体の間で実施されうる。支持体が前述したよう
に可撓性フイルムまたはシートの場合にはそれに
損傷を与えることなく光重合体層の表面から一方
を次いで除去し、そしてこれまた前記のようにし
て多層カバーエレメントを20〜180℃の範囲の温
度で光重合体層に積層させるかまたは多層カバー
エレメントと光重合体層を20゜〜180℃の温度で接
触状態でプレスする。本発明は弾性体状オーバー
コート層がフレキソグラフ印刷用プレートの製造
に使用される光重合体エレメント中の光重合体層
に隣接して存在することを要求する。
光重合体エレメントがカレンダー処理操作によ
り製造された後、例えば吹き付け空気によりそれ
を冷却し、そしてそれを螢光ランプ例えば移動通
路を横切つて置かれた黒色光チユーブのバンクの
下を通過させる。エレメントを連続的に支持体を
介して露光させて支持体に隣接する光重合体層の
前以つて定めた厚さ〔例えば0.112インチ（約
2.85mm）厚さの光重合体層に対しては約0.001〜
0.030インチ（0.025〜0.76mm）を部分重合せしめ
る。このエレメントを適当なサイズのシートに切
断することができる。
り製造された後、例えば吹き付け空気によりそれ
を冷却し、そしてそれを螢光ランプ例えば移動通
路を横切つて置かれた黒色光チユーブのバンクの
下を通過させる。エレメントを連続的に支持体を
介して露光させて支持体に隣接する光重合体層の
前以つて定めた厚さ〔例えば0.112インチ（約
2.85mm）厚さの光重合体層に対しては約0.001〜
0.030インチ（0.025〜0.76mm）を部分重合せしめ
る。このエレメントを適当なサイズのシートに切
断することができる。
以下により完全に記載されている像様露光の前
に、光重合体エレメントをその支持体を通して露
光させて、支持体に隣接する光重合体層の前以つ
て定めた厚さを重合せしめる。この光重合体層の
光重合せしめられた部分はフロア（floor）と称
される。このフロア厚さは露光時間、露光源その
他により変動する。この露光は一般に１〜30分で
ある。
に、光重合体エレメントをその支持体を通して露
光させて、支持体に隣接する光重合体層の前以つ
て定めた厚さを重合せしめる。この光重合体層の
光重合せしめられた部分はフロア（floor）と称
される。このフロア厚さは露光時間、露光源その
他により変動する。この露光は一般に１〜30分で
ある。
重合体フイルム層上に存在するカバーシートを
除去して光重合体エレメント上に重合体状および
弾性体状フイルムを残すことができる。この光重
合体エレメントを次いで例えば活性線放射に透明
なそして実質的に均一な光学濃度の部分および活
性線放射に不透明なそして実質的に均一な光学濃
度の部分を有する像含有透明体またはステンシル
を通して実質的付加重合または光交叉結合形成が
生ずるまで活性線放射に露光させる。かくして層
の放射露光部分は層の未露光部分または領域には
有意の重合または交叉結合形成を生ずることなく
不溶状態に変換される。層の未露光部分を液体例
えば熱可塑性弾性体ブロツク共重合体に対する溶
媒により除去する。付加重合または交叉結合形成
の間、不溶化が生じそして弾性体状結合剤／エチ
レン性不飽和化合物含有組成物は不溶状態に変換
される。重合体フイルムの硬質の表面は像形成段
階の間に透明体が光重合体エレメントの表面に粘
着または接着するのを阻止し、そしてこれは一般
に溶媒処理段階で除去される。
除去して光重合体エレメント上に重合体状および
弾性体状フイルムを残すことができる。この光重
合体エレメントを次いで例えば活性線放射に透明
なそして実質的に均一な光学濃度の部分および活
性線放射に不透明なそして実質的に均一な光学濃
度の部分を有する像含有透明体またはステンシル
を通して実質的付加重合または光交叉結合形成が
生ずるまで活性線放射に露光させる。かくして層
の放射露光部分は層の未露光部分または領域には
有意の重合または交叉結合形成を生ずることなく
不溶状態に変換される。層の未露光部分を液体例
えば熱可塑性弾性体ブロツク共重合体に対する溶
媒により除去する。付加重合または交叉結合形成
の間、不溶化が生じそして弾性体状結合剤／エチ
レン性不飽和化合物含有組成物は不溶状態に変換
される。重合体フイルムの硬質の表面は像形成段
階の間に透明体が光重合体エレメントの表面に粘
着または接着するのを阻止し、そしてこれは一般
に溶媒処理段階で除去される。
実質的にすべての源からのそしてすべてのタイ
プの活性線放射をこれら過程の開始において使用
することができる。この放射は点光源から発生す
るものでありうるしまたはこれは平行光線または
発散ビームの形でありうる。広い放射源を像含有
透明体の比較的近くで使用することによつて、透
明体の透明部分を通つた放射は発散ビームとして
入りそして透明体の透明部分の下の光重合性層中
で連続的に発散部分を照射しその結果光重合した
層の底部においてその最大幅を有するすなわち台
形の重合体レリーフを与える。レリーフの上側表
面は透明部分のジメンシヨンである。活性線放射
により活性化可能な遊離ラジカル生成性付加重合
開始剤が紫外線領域中でその最大感度を示す限
り、放射源はこの放射の有効量を与えるべきであ
る。そのような源としてはカーボンアーク、水銀
蒸気ランプ、特別の紫外線発光螢光体を有する螢
光ランプ、アルゴングローランプおよび写真用フ
ラツドランプがあげられる。これらの中で水銀蒸
気ランプ、特に太陽灯または「ブラツクライト」
タイプのものおよび螢光太陽灯は最も適当であ
る。
プの活性線放射をこれら過程の開始において使用
することができる。この放射は点光源から発生す
るものでありうるしまたはこれは平行光線または
発散ビームの形でありうる。広い放射源を像含有
透明体の比較的近くで使用することによつて、透
明体の透明部分を通つた放射は発散ビームとして
入りそして透明体の透明部分の下の光重合性層中
で連続的に発散部分を照射しその結果光重合した
層の底部においてその最大幅を有するすなわち台
形の重合体レリーフを与える。レリーフの上側表
面は透明部分のジメンシヨンである。活性線放射
により活性化可能な遊離ラジカル生成性付加重合
開始剤が紫外線領域中でその最大感度を示す限
り、放射源はこの放射の有効量を与えるべきであ
る。そのような源としてはカーボンアーク、水銀
蒸気ランプ、特別の紫外線発光螢光体を有する螢
光ランプ、アルゴングローランプおよび写真用フ
ラツドランプがあげられる。これらの中で水銀蒸
気ランプ、特に太陽灯または「ブラツクライト」
タイプのものおよび螢光太陽灯は最も適当であ
る。
放射露光時間は放射の強度およびスペクトルエ
ネルギー分布、その組成物からの距離および利用
可能な組成物の性質および量によつて数分の１秒
から数分まで変動する。通常水銀蒸気アーク、太
陽灯または高紫外線出力螢光チユーブが光重合体
組成物から約1.5〜約60インチ（3.8〜152cm）の
距離で使用される。露光温度は特に臨界的ではな
い。しかしながら大約通常の室温またはわずかに
より高い温度すなわち約20゜〜約35℃で操作する
ことが好ましい。
ネルギー分布、その組成物からの距離および利用
可能な組成物の性質および量によつて数分の１秒
から数分まで変動する。通常水銀蒸気アーク、太
陽灯または高紫外線出力螢光チユーブが光重合体
組成物から約1.5〜約60インチ（3.8〜152cm）の
距離で使用される。露光温度は特に臨界的ではな
い。しかしながら大約通常の室温またはわずかに
より高い温度すなわち約20゜〜約35℃で操作する
ことが好ましい。
高度に反射性の支持体が使用される場合には、
像含有透明体の透明部分を通る斜行光線はベース
の表面に90゜以上の角度で当りそして反射的に非
像部分に重合を生ぜしめる。この不利点は光重合
体層が放射反射性支持体上にある場合には干渉的
な基層を充分に活性線放射吸収性として入射光の
35％以下しか反射しないようにすることによつて
克服しうる。この反射した放射を吸収する層また
は非放射散乱層またはハレーシヨン防止層は実質
的に活性線放射を吸収する微細分割染料または顔
料を支持体および光不溶化された像の両方に接着
性の樹脂または重合体の溶液または水性分散液中
に分散させ、そしてそれを支持体上にコーテイン
グして係留層を形成させこれを乾燥させることに
より製造することができる。適当なハレーシヨン
防止顔料としてはカーボンブラツク、二酸化マン
ガン、染料例えばアシツドブルーブラツク
（CI20470）およびアシツドマゼンタＯ（CI42685）
があげられる。染色金属プレートもまた有用であ
る。
像含有透明体の透明部分を通る斜行光線はベース
の表面に90゜以上の角度で当りそして反射的に非
像部分に重合を生ぜしめる。この不利点は光重合
体層が放射反射性支持体上にある場合には干渉的
な基層を充分に活性線放射吸収性として入射光の
35％以下しか反射しないようにすることによつて
克服しうる。この反射した放射を吸収する層また
は非放射散乱層またはハレーシヨン防止層は実質
的に活性線放射を吸収する微細分割染料または顔
料を支持体および光不溶化された像の両方に接着
性の樹脂または重合体の溶液または水性分散液中
に分散させ、そしてそれを支持体上にコーテイン
グして係留層を形成させこれを乾燥させることに
より製造することができる。適当なハレーシヨン
防止顔料としてはカーボンブラツク、二酸化マン
ガン、染料例えばアシツドブルーブラツク
（CI20470）およびアシツドマゼンタＯ（CI42685）
があげられる。染色金属プレートもまた有用であ
る。
使用される場合には光重合体層と補強支持体と
の中間のハレーシヨン防止層は補強支持体および
光重合体層に充分な接着性を有していなくてはな
らず、そして放射吸収性物質と反応してはならな
い。使用しうる放射吸収性染料または顔料に対す
る適当な重合体または樹脂キヤリアとしてはポリ
ビニル化合物例えばポリ塩化ビニルホモ重合体お
よび例えばビニルアセテート、ジエチルフマレー
トまたはエチルアクリレートとの塩化ビニルの共
重合体があげられる。アクリルおよびメタクリル
酸の共重合体もまた使用しうる。
の中間のハレーシヨン防止層は補強支持体および
光重合体層に充分な接着性を有していなくてはな
らず、そして放射吸収性物質と反応してはならな
い。使用しうる放射吸収性染料または顔料に対す
る適当な重合体または樹脂キヤリアとしてはポリ
ビニル化合物例えばポリ塩化ビニルホモ重合体お
よび例えばビニルアセテート、ジエチルフマレー
トまたはエチルアクリレートとの塩化ビニルの共
重合体があげられる。アクリルおよびメタクリル
酸の共重合体もまた使用しうる。
本発明の光重合体組成物からつくられたプレー
トの洗浄または現像のために使用される溶媒液体
は像形成されていないかまたは露光されていない
光重合性および弾性体状層には良好な溶媒または
剥離（ストリツピング）作用を有しているべきで
あり、そして露光された光重合性および弾性体状
層の不溶化された像部分または支持体物質、ハレ
ーシヨン防止層または係留層に対しては非重合ま
たは非交叉結合部分の除去に要求される期間には
ほとんど作用を有していないものであるべきであ
る。メチルエチルケトン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、四塩化炭素、トリクロロエタン、トリ
クロロエチレン、メチルクロロホルム、テトラク
ロロエチレンその他は特に有用な溶媒である。最
良の結果は時に溶媒が例えば30〜50℃に温かい場
合または溶媒が非溶媒との混合物で例えばエタノ
ールとのトリクロロエチレンが使用された場合に
得られる。そのような非溶媒の包含は不溶化画像
の膨潤を減少させる。
トの洗浄または現像のために使用される溶媒液体
は像形成されていないかまたは露光されていない
光重合性および弾性体状層には良好な溶媒または
剥離（ストリツピング）作用を有しているべきで
あり、そして露光された光重合性および弾性体状
層の不溶化された像部分または支持体物質、ハレ
ーシヨン防止層または係留層に対しては非重合ま
たは非交叉結合部分の除去に要求される期間には
ほとんど作用を有していないものであるべきであ
る。メチルエチルケトン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、四塩化炭素、トリクロロエタン、トリ
クロロエチレン、メチルクロロホルム、テトラク
ロロエチレンその他は特に有用な溶媒である。最
良の結果は時に溶媒が例えば30〜50℃に温かい場
合または溶媒が非溶媒との混合物で例えばエタノ
ールとのトリクロロエチレンが使用された場合に
得られる。そのような非溶媒の包含は不溶化画像
の膨潤を減少させる。
レリーフの形成される現像段階においては、溶
媒はいずれかの便利な方法で、例えば注加、含
浸、スプレーまたはローラー適用により適用する
ことができる。ブラツシングは組成物の未重合ま
たは未交叉結合部分の除去を助ける。
媒はいずれかの便利な方法で、例えば注加、含
浸、スプレーまたはローラー適用により適用する
ことができる。ブラツシングは組成物の未重合ま
たは未交叉結合部分の除去を助ける。
現像の後、印刷プレートを約40〜75℃好ましく
は60℃までの範囲の温度でプレートがその本来の
厚さを保持するまで乾燥させる。この目的のため
には強制熱風ドライヤーまたはその他の適当なド
ライヤーを使用することができる。この乾燥プレ
ートに次いで後露光処理を与えることができるし
または粘着性除去させることができるし、または
両方の処理を与えることができる。一般にこの乾
燥プレートは１〜３分間溶液例えば水性酸性次亜
塩素酸または例えば0.01〜3.5重量％濃度の遊離
臭素を有しそして0.7〜6.5のPHを有する水性溶液
中で15秒〜20分間粘着性除去せしめられる。後露
光は、この現像印刷プレートを活性線放射源、好
ましくは像様露光に使用された活性線放射源に露
光させることにより達成される。この後露光は粘
着性除去の前または後であることができ、そして
一般に５〜15分間持続のものである。
は60℃までの範囲の温度でプレートがその本来の
厚さを保持するまで乾燥させる。この目的のため
には強制熱風ドライヤーまたはその他の適当なド
ライヤーを使用することができる。この乾燥プレ
ートに次いで後露光処理を与えることができるし
または粘着性除去させることができるし、または
両方の処理を与えることができる。一般にこの乾
燥プレートは１〜３分間溶液例えば水性酸性次亜
塩素酸または例えば0.01〜3.5重量％濃度の遊離
臭素を有しそして0.7〜6.5のPHを有する水性溶液
中で15秒〜20分間粘着性除去せしめられる。後露
光は、この現像印刷プレートを活性線放射源、好
ましくは像様露光に使用された活性線放射源に露
光させることにより達成される。この後露光は粘
着性除去の前または後であることができ、そして
一般に５〜15分間持続のものである。
本発明の最良の様式は例１に説明されているが
そこでは最初非光感受性である弾性体状オーバー
コートはカレンダー処理の間に光感受性となつて
いる。
そこでは最初非光感受性である弾性体状オーバー
コートはカレンダー処理の間に光感受性となつて
いる。
本発明に記載のようにして製造された光重合体
エレメントから製造された印刷レリーフは例えば
変形可能な印刷表面に印刷するために弾性ある印
刷部分が要求されるフレキソグラフ印刷に特に有
用である。ドライオフセツト印刷、印刷部分およ
び非印刷部分の間により大なる高さの差を要求す
る通常の凸版印刷におけるようにインクはレリー
フの盛り上つた部分により運ばれる。この印刷プ
レートはまた多色印刷に対しても有用である。
エレメントから製造された印刷レリーフは例えば
変形可能な印刷表面に印刷するために弾性ある印
刷部分が要求されるフレキソグラフ印刷に特に有
用である。ドライオフセツト印刷、印刷部分およ
び非印刷部分の間により大なる高さの差を要求す
る通常の凸版印刷におけるようにインクはレリー
フの盛り上つた部分により運ばれる。この印刷プ
レートはまた多色印刷に対しても有用である。
重合された弾性体状オーバーコート表面を有す
る印刷レリーフは以前の既知のフレキソグラフ印
刷用プレートに比べて多くの利点を与える。この
印刷表面は光重合体層とコントラストを形成する
色を有しうる。印刷表面は硬質であり、これは印
刷明瞭性を改善させ、そして改善されたインク伝
達ならびに改善された溶媒抵抗性および摩耗性を
示す。このエレメントは改善された露光寛容度お
よび改善されたリバース深さを示す。すなわちさ
もなければ実質の画像部分中の細い線は広範囲の
露光条件にわたつて均一に深く留まる。レリーフ
像は、レリーフ表面の斑点でありそして印刷物体
中に出現する「オレンジピール」欠陥を全く示さ
ない。
る印刷レリーフは以前の既知のフレキソグラフ印
刷用プレートに比べて多くの利点を与える。この
印刷表面は光重合体層とコントラストを形成する
色を有しうる。印刷表面は硬質であり、これは印
刷明瞭性を改善させ、そして改善されたインク伝
達ならびに改善された溶媒抵抗性および摩耗性を
示す。このエレメントは改善された露光寛容度お
よび改善されたリバース深さを示す。すなわちさ
もなければ実質の画像部分中の細い線は広範囲の
露光条件にわたつて均一に深く留まる。レリーフ
像は、レリーフ表面の斑点でありそして印刷物体
中に出現する「オレンジピール」欠陥を全く示さ
ない。
本発明を以下の実施例により説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。ここでは部
および％は重量基準である。弾性モジユラス
（secant modulus）は以下の例においては200％
伸長においてASTM Ｄ−638を使用して測定さ
れる。
明はこれに限定されるものではない。ここでは部
および％は重量基準である。弾性モジユラス
（secant modulus）は以下の例においては200％
伸長においてASTM Ｄ−638を使用して測定さ
れる。
例 １
次の弾性体状コーテイング溶液が製造される。 成 分
量（％）
ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレンブ
ロツク共重合体 10.10 メチルメタクリレート（46）／アクリロニトリル
(9)／ブタジエン（14）／スチレン（31）テトラポ
リマー樹脂 4.70 アトランチツクフアーストウツドブルーＲコンク
染料 0.20 メチレンクロリド 85.0 上記のブロツク共重合体は「クラトン」1107ブ
ロツク共重合体であり、シエル・ケミカル社から
入手でき、また染料はCI13390アシツドブルー92
でアトランチツク・ケミカル・インダストリーズ
社から入手できる。
ロツク共重合体 10.10 メチルメタクリレート（46）／アクリロニトリル
(9)／ブタジエン（14）／スチレン（31）テトラポ
リマー樹脂 4.70 アトランチツクフアーストウツドブルーＲコンク
染料 0.20 メチレンクロリド 85.0 上記のブロツク共重合体は「クラトン」1107ブ
ロツク共重合体であり、シエル・ケミカル社から
入手でき、また染料はCI13390アシツドブルー92
でアトランチツク・ケミカル・インダストリーズ
社から入手できる。
コーテイング溶液の製造の前に染料およびテト
ラポリマー樹脂をバンベリーミキサー〔1100ｇバ
ツチ、240〓（116℃）〕でブレンドする。
ラポリマー樹脂をバンベリーミキサー〔1100ｇバ
ツチ、240〓（116℃）〕でブレンドする。
次いでこのブレンドを細断しそして顆粒化させ
る。
る。
前記弾性体状コーテイング溶液を0.015インチ
（0.38mm）スロツトを有する押出しダイコーター
により厚さ0.005インチ（0.127mm）のポリエチレ
ンテレフタレートフイルムにより支持された
0.00017インチ（0.004mm）厚さのポリアミド樹脂
層よりなるエレメント表面にコーテイングする。
乾燥コーテイングの厚さは0.002インチ（約0.051
mm）である。支持体つきポリアミド層は次のよう
に製造される。
（0.38mm）スロツトを有する押出しダイコーター
により厚さ0.005インチ（0.127mm）のポリエチレ
ンテレフタレートフイルムにより支持された
0.00017インチ（0.004mm）厚さのポリアミド樹脂
層よりなるエレメント表面にコーテイングする。
乾燥コーテイングの厚さは0.002インチ（約0.051
mm）である。支持体つきポリアミド層は次のよう
に製造される。
次のコーテイング溶液が製造される。 成 分
量（％）
メチレンクロリド 81.0
メタノール 2.0
Ｎ−メチルピロリドン 10.0
ポリアミド樹脂 7.0
上記のポリアミド樹脂はマクロメルト
（Macromelt）6900（ヘンケル・コーポレーシヨ
ンの製品）であり、MNは本質的に無色であり、
266〜302〓の環球（ボール・アンド・リング）軟
化点、５〜15ｇ／10分の347〓溶融指数、570〓の
フラツシユ点を有しており、その水吸収％は１日
で、0.2、７日では0.5であり、引張り降伏点は
1200psi、引張り破壊点は3500psiそして伸長540
％である。引張り降伏点、引張り破壊点および伸
長は24℃でASTM法Ｄ−1708により測定される。
（Macromelt）6900（ヘンケル・コーポレーシヨ
ンの製品）であり、MNは本質的に無色であり、
266〜302〓の環球（ボール・アンド・リング）軟
化点、５〜15ｇ／10分の347〓溶融指数、570〓の
フラツシユ点を有しており、その水吸収％は１日
で、0.2、７日では0.5であり、引張り降伏点は
1200psi、引張り破壊点は3500psiそして伸長540
％である。引張り降伏点、引張り破壊点および伸
長は24℃でASTM法Ｄ−1708により測定される。
前記ポリアミド樹脂コーテイング溶液を押出し
ダイコーターを使用して0.005インチ（0.127mm）
厚さのポリエチレンテレフタレートフイルム上に
コーテイングしてフイルム上に0.00017インチ
（0.004mm）の乾燥フイルム厚さを生成させる。
ダイコーターを使用して0.005インチ（0.127mm）
厚さのポリエチレンテレフタレートフイルム上に
コーテイングしてフイルム上に0.00017インチ
（0.004mm）の乾燥フイルム厚さを生成させる。
乾燥弾性体状オーバーコート上に63℃で厚さ
0.001インチ（0.025mm）のシリコーン下塗りポリ
エチレンテレフタレートフイルムすなわちレリー
ス「マイラー」フイルム（カスタム・コーテイン
グ・アンド・ラミネート社製品）を積層させる。
これはこのエレメントを広いストツクコアにまき
つけた場合のブロツク形成を防止する。このエレ
メントは上から下に次の構成を有している。(1)シ
リコーン下塗りを有するポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、(2)弾性体状オーバーコート層、(3)
ポリアミド樹脂層および(4)厚さ0.005インチ
（0.127mm）のポリエチレンテレフタレート支持
体。
0.001インチ（0.025mm）のシリコーン下塗りポリ
エチレンテレフタレートフイルムすなわちレリー
ス「マイラー」フイルム（カスタム・コーテイン
グ・アンド・ラミネート社製品）を積層させる。
これはこのエレメントを広いストツクコアにまき
つけた場合のブロツク形成を防止する。このエレ
メントは上から下に次の構成を有している。(1)シ
リコーン下塗りを有するポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、(2)弾性体状オーバーコート層、(3)
ポリアミド樹脂層および(4)厚さ0.005インチ
（0.127mm）のポリエチレンテレフタレート支持
体。
光重合性熱可塑性組成物は次のようにして製造
される。
される。
1.40部の２，２−ジメトキシ−２−フエニルア
セトフエノンを5.30部のヘキサメチレングリコー
ルジアクリレート、3.70部のヘキサメチレングリ
コールジメタクリレート、0.166部の２，６−ジ
第３級ブチル−ｐ−クレゾールおよび0.001部の
ヒドロキノンの混合物中に溶解させる。ヒドロキ
シエチルメタクリレート（0.13部）中のCI109の
レツド染料（0.003部）の溶液をこの混合物に加
える。この溶液をツインスクリユー押出機中で
82.30部のポリスチレン−ポリイソプレン−ポリ
スチレンブロツク共重合体（シエル・ケミカル社
により製造された「クラトン」1107）に加える。
6.0部のα−メチルスチレン／ビニルトルエン樹
脂（軟化点100℃、屈折率1.583、25℃における65
％トルエン溶液中の粘度1.6〜1.9ポイズ、ハーキ
ユレス社製品）と1.0部の粉砕された微晶性炭化
水素ワツクス（融点73〜76℃、発火点113゜、イン
ターナシヨナル・ワツクス・リフアイニング社製
品）の混合物を約100℃で溶融させ、そして押出
機中の光重合体混合物中に計量する。ツインスク
リユー押出機は光重合体組成物の溶融、混合、抜
気および過の機能を果す。
セトフエノンを5.30部のヘキサメチレングリコー
ルジアクリレート、3.70部のヘキサメチレングリ
コールジメタクリレート、0.166部の２，６−ジ
第３級ブチル−ｐ−クレゾールおよび0.001部の
ヒドロキノンの混合物中に溶解させる。ヒドロキ
シエチルメタクリレート（0.13部）中のCI109の
レツド染料（0.003部）の溶液をこの混合物に加
える。この溶液をツインスクリユー押出機中で
82.30部のポリスチレン−ポリイソプレン−ポリ
スチレンブロツク共重合体（シエル・ケミカル社
により製造された「クラトン」1107）に加える。
6.0部のα−メチルスチレン／ビニルトルエン樹
脂（軟化点100℃、屈折率1.583、25℃における65
％トルエン溶液中の粘度1.6〜1.9ポイズ、ハーキ
ユレス社製品）と1.0部の粉砕された微晶性炭化
水素ワツクス（融点73〜76℃、発火点113゜、イン
ターナシヨナル・ワツクス・リフアイニング社製
品）の混合物を約100℃で溶融させ、そして押出
機中の光重合体混合物中に計量する。ツインスク
リユー押出機は光重合体組成物の溶融、混合、抜
気および過の機能を果す。
この光重合体組成物を160℃でダイを通して押
出す。この押出された組成物は２本ロールカレン
ダー中の回転バンクに入り、そして0.005インチ
（0.127mm）の炎処理ポリエチレンテレフタレート
支持体フイルムであるフイルムと、前記のただし
エレメントを巻きほどきそしてカレンダーに供給
する際にそのシリコーン下塗りを有するポリエチ
レンテレフタレートフイルムを除去したエレメン
トとの間でカレンダー処理される。未露光状態の
光重合体層は31ポンド／平方インチ（2.18Kg／
cm2）の弾性モジユラスを有している。弾性体オー
バーコート層は押出された光重合体に接触してお
りそしてそれに積層されている。弾性体オーバー
コート層は未露光状態で約194ポンド／平方イン
チ（13.64Kg／cm2）の弾性モジユラスを有してい
る。カレンダー処理の間に形成されるエレメント
は厚さ0.117インチ（2.98mm）である。
出す。この押出された組成物は２本ロールカレン
ダー中の回転バンクに入り、そして0.005インチ
（0.127mm）の炎処理ポリエチレンテレフタレート
支持体フイルムであるフイルムと、前記のただし
エレメントを巻きほどきそしてカレンダーに供給
する際にそのシリコーン下塗りを有するポリエチ
レンテレフタレートフイルムを除去したエレメン
トとの間でカレンダー処理される。未露光状態の
光重合体層は31ポンド／平方インチ（2.18Kg／
cm2）の弾性モジユラスを有している。弾性体オー
バーコート層は押出された光重合体に接触してお
りそしてそれに積層されている。弾性体オーバー
コート層は未露光状態で約194ポンド／平方イン
チ（13.64Kg／cm2）の弾性モジユラスを有してい
る。カレンダー処理の間に形成されるエレメント
は厚さ0.117インチ（2.98mm）である。
光重合体エレメントを吹き付け空気により冷却
させ、そして移動通路を横切つて置かれた黒色光
螢光チユーブ（シルバニアBLランプ）のバンク
の下を通過させて連続的にその支持体を通してエ
レメントを露光させて支持体に隣接した光重合体
層の前以つて定めた厚さを重合させる。このエレ
メントを18インチ（45.72cm）長さに切る。
させ、そして移動通路を横切つて置かれた黒色光
螢光チユーブ（シルバニアBLランプ）のバンク
の下を通過させて連続的にその支持体を通してエ
レメントを露光させて支持体に隣接した光重合体
層の前以つて定めた厚さを重合させる。このエレ
メントを18インチ（45.72cm）長さに切る。
光重合体エレメントを以下に記載のように露光
ユニツト中に入れ、そして前以つて定めた時間長
さの間支持体を経て空気中で全体的露光を与える
〔例えば層の0.080インチ（2.03mm）部分の重合を
要求する0.112インチ（約2.85mm）厚さの光重合
体層はランプ強度によつて約３分間露光せしめら
れる〕。
ユニツト中に入れ、そして前以つて定めた時間長
さの間支持体を経て空気中で全体的露光を与える
〔例えば層の0.080インチ（2.03mm）部分の重合を
要求する0.112インチ（約2.85mm）厚さの光重合
体層はランプ強度によつて約３分間露光せしめら
れる〕。
ポリアミド層表面上のポリエチレンテレフタレ
ートフイルムをそれから剥離させる。ポリアミド
層は今や光感受性の弾性体オーバーコート層に接
着残留する。硬質の可撓性の平滑なポリアミド表
面を像含有透明画でおおい、そして光重合体層を
真空下にシルバニアBL−VHO螢光燈を付した
「シレル」3040露光ユニツト（デユポン社の登録
商品名）中で６分間像様露光させる。露光された
光重合体層は約109ポンド／平方インチ（7.66
Kg／cm2）の弾性モジユラスを有している。露光さ
れた弾性体オーバーコート層は204ポンド／平方
インチ（14.34Kg／cm2）の弾性モジユラスを有し
ている。
ートフイルムをそれから剥離させる。ポリアミド
層は今や光感受性の弾性体オーバーコート層に接
着残留する。硬質の可撓性の平滑なポリアミド表
面を像含有透明画でおおい、そして光重合体層を
真空下にシルバニアBL−VHO螢光燈を付した
「シレル」3040露光ユニツト（デユポン社の登録
商品名）中で６分間像様露光させる。露光された
光重合体層は約109ポンド／平方インチ（7.66
Kg／cm2）の弾性モジユラスを有している。露光さ
れた弾性体オーバーコート層は204ポンド／平方
インチ（14.34Kg／cm2）の弾性モジユラスを有し
ている。
露光後に透明画を除去し、そして露光エレメン
トをロータリードラムブラシタイプ「シレル」
3040プロセツサー中に置く。このエレメントのポ
リアミド層および未重合部分を75容量％テトラク
ロロエチレン／25容量％ｎ−ブタノール混合物で
洗うことによりプロセツサー中で除去する。現像
したエレメント（印刷プレート）を強制熱風ドラ
イヤー中に置き、そしてプレートがその本来の厚
さとなるまで60℃で乾燥させる。この乾燥プレー
トを次いで１〜３分間水性酸性次亜塩素酸塩溶液
（水900部、「クロロクス」90部、濃HCl10部）中
で粘着性除去せしめる。この濡れたプレートを空
気中で10分間前記の像様露光に使用されたのと同
一の露光源を使用して後露光させる。このプレー
トは50〜55の範囲の「シヨア」Ａ硬度を有してい
る。印刷表面、重合光感受性オーバーコートは深
青コントラスト色を有しておりそしてこれは「オ
レンジピール」および表面ストリークの両方を有
していない。
トをロータリードラムブラシタイプ「シレル」
3040プロセツサー中に置く。このエレメントのポ
リアミド層および未重合部分を75容量％テトラク
ロロエチレン／25容量％ｎ−ブタノール混合物で
洗うことによりプロセツサー中で除去する。現像
したエレメント（印刷プレート）を強制熱風ドラ
イヤー中に置き、そしてプレートがその本来の厚
さとなるまで60℃で乾燥させる。この乾燥プレー
トを次いで１〜３分間水性酸性次亜塩素酸塩溶液
（水900部、「クロロクス」90部、濃HCl10部）中
で粘着性除去せしめる。この濡れたプレートを空
気中で10分間前記の像様露光に使用されたのと同
一の露光源を使用して後露光させる。このプレー
トは50〜55の範囲の「シヨア」Ａ硬度を有してい
る。印刷表面、重合光感受性オーバーコートは深
青コントラスト色を有しておりそしてこれは「オ
レンジピール」および表面ストリークの両方を有
していない。
このプレートをここで市場的に入手可能な両面
接着テープを使用してフレキソグラフプレスシリ
ンダーに載置させそして標準フレキソグラフ用イ
ンクで印刷することができる。この印刷品質は同
一の方法で印刷されたゴムプレートにより製造さ
れたものに等しいかまたはそれより良好である。
接着テープを使用してフレキソグラフプレスシリ
ンダーに載置させそして標準フレキソグラフ用イ
ンクで印刷することができる。この印刷品質は同
一の方法で印刷されたゴムプレートにより製造さ
れたものに等しいかまたはそれより良好である。
例 ２
次の弾性体溶液を製造する。 成 分
量（％）
ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンブ
ロツク共重合体 8.89 メチルメタクリレート／アクリロニトリル／ブタ
ジエン／スチレンテトラポリマー樹脂（例１記
載） 4.46 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート 0.78 １，６−ヘキサンジオールジメタクリレート0.57 ２−フエニル−２，２−ジメトキシアセトフエノ
ン 0.22 デユポンミリングブルーBLベース染料 0.08 メチレンクロリド 85.0 上記におけるブロツク共重合体は「クラトン」
1102ブロツク共重合体（シエル・ケミカル社製
品）であり、そして染料はCIアシツドブルー59
（デユポン社製品）である。
ロツク共重合体 8.89 メチルメタクリレート／アクリロニトリル／ブタ
ジエン／スチレンテトラポリマー樹脂（例１記
載） 4.46 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート 0.78 １，６−ヘキサンジオールジメタクリレート0.57 ２−フエニル−２，２−ジメトキシアセトフエノ
ン 0.22 デユポンミリングブルーBLベース染料 0.08 メチレンクロリド 85.0 上記におけるブロツク共重合体は「クラトン」
1102ブロツク共重合体（シエル・ケミカル社製
品）であり、そして染料はCIアシツドブルー59
（デユポン社製品）である。
前記弾性体コーテイング溶液を例１記載の押出
しダイコーターによつて厚さ0.001インチ（0.025
mm）のシリコーン下塗りポリエチレンテレフタレ
ートフイルム（レリース「マイラー」フイルム）
上にコーテイングする。0.002インチ（0.051mm）
の厚さを有する約４フイート（1.22ｍ）の試料が
製造される。
しダイコーターによつて厚さ0.001インチ（0.025
mm）のシリコーン下塗りポリエチレンテレフタレ
ートフイルム（レリース「マイラー」フイルム）
上にコーテイングする。0.002インチ（0.051mm）
の厚さを有する約４フイート（1.22ｍ）の試料が
製造される。
例１記載のようにして製造された熱可塑性光重
合性組成物を例１記載のようにして２本ロールカ
レンダーの回転バンク中に押出す。この押出され
た光重合体は２個のエレメントの間でカレンダー
処理するが、そのエレメントの一方は0.005イン
チ（0.127mm）の炎処理ポリエチレンテレフタレ
ート支持体フイルムであり、他方のエレメントは
例１記載のようにして製造された厚さ0.005イン
チ（0.127mm）のポリエチレンテレフタレートフ
イルム上に支持されたポリアミド樹脂層よりなつ
ている。前記光感受性弾性体コーテイングを有す
る２フイート長さのエレメントをポリアミド層を
有する移動するポリエチレンテレフタレートフイ
ルムにテープでとめて、光感受性弾性体コーテイ
ングが押出された光重合体層に接触するようにす
る。未露光光重合体層は例１記載の弾性モジユラ
スを有している。弾性体オーバーコート層は未露
光状態で約124ポンド／平方インチ（8.72Kg／cm2）
の弾性モジユラスを有している。最終エレメント
の全体的厚さは0.117インチ（2.98mm）である。
合性組成物を例１記載のようにして２本ロールカ
レンダーの回転バンク中に押出す。この押出され
た光重合体は２個のエレメントの間でカレンダー
処理するが、そのエレメントの一方は0.005イン
チ（0.127mm）の炎処理ポリエチレンテレフタレ
ート支持体フイルムであり、他方のエレメントは
例１記載のようにして製造された厚さ0.005イン
チ（0.127mm）のポリエチレンテレフタレートフ
イルム上に支持されたポリアミド樹脂層よりなつ
ている。前記光感受性弾性体コーテイングを有す
る２フイート長さのエレメントをポリアミド層を
有する移動するポリエチレンテレフタレートフイ
ルムにテープでとめて、光感受性弾性体コーテイ
ングが押出された光重合体層に接触するようにす
る。未露光光重合体層は例１記載の弾性モジユラ
スを有している。弾性体オーバーコート層は未露
光状態で約124ポンド／平方インチ（8.72Kg／cm2）
の弾性モジユラスを有している。最終エレメント
の全体的厚さは0.117インチ（2.98mm）である。
吹き付け空気を使用してこのエレメントを冷却
させ、そして支持体に隣接する光重合体層の前以
つて定めた厚さを例１記載のようにして重合させ
る。このエレメントを次いで切つて２フイート長
さのコーテイングをそのままにする。ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムおよびその結合ポリア
ミド層を除去して上から下に次のエレメント構造
を残す。(1)シリコン下塗りを有するポリエチレン
テレフタレートフイルム、(2)弾性体オーバーコー
ト層、(3)0.107インチ（2.72mm）厚さの光重合体
層および(4)ポリエチレンテレフタレートフイル
ム。
させ、そして支持体に隣接する光重合体層の前以
つて定めた厚さを例１記載のようにして重合させ
る。このエレメントを次いで切つて２フイート長
さのコーテイングをそのままにする。ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムおよびその結合ポリア
ミド層を除去して上から下に次のエレメント構造
を残す。(1)シリコン下塗りを有するポリエチレン
テレフタレートフイルム、(2)弾性体オーバーコー
ト層、(3)0.107インチ（2.72mm）厚さの光重合体
層および(4)ポリエチレンテレフタレートフイル
ム。
光重合体エレメントを以下に記載のように露光
ユニツト中に入れ、そして前以つて定めた時間長
さの間支持体を通して空気中で全体的露光を与え
る〔例えば層の0.080インチ（2.03mm）部分の重
合を要求する0.109インチ（約2.77mm）厚さの光
重合体層プラス光感受性オーバーコーテイングは
ランプ強度によつて約３分間露光させる〕。
ユニツト中に入れ、そして前以つて定めた時間長
さの間支持体を通して空気中で全体的露光を与え
る〔例えば層の0.080インチ（2.03mm）部分の重
合を要求する0.109インチ（約2.77mm）厚さの光
重合体層プラス光感受性オーバーコーテイングは
ランプ強度によつて約３分間露光させる〕。
シリコーン下塗り（シリコーン樹脂はフイルム
に接着している）を含むポリエチレンテレフタレ
ートフイルムをそれから剥離させる。かなり硬質
の可撓性の平滑な光感受性オーバーコート表面を
像含有透明画でおおい、そして光感受性オーバー
コートおよび下にある初めの光重合体層を５分間
真空下にシルバニアBL−VHO螢光燈を付した
「シレル」3040露光ユニツト（デユポン社の商品
名）中で像様露光させる。露光された光重合体層
は例１記載の弾性モジユラスを有している。露光
された弾性体オーバーコート層は304ポンド／平
方インチ（21.37Kg／cm2）の弾性モジユラスを有
している。
に接着している）を含むポリエチレンテレフタレ
ートフイルムをそれから剥離させる。かなり硬質
の可撓性の平滑な光感受性オーバーコート表面を
像含有透明画でおおい、そして光感受性オーバー
コートおよび下にある初めの光重合体層を５分間
真空下にシルバニアBL−VHO螢光燈を付した
「シレル」3040露光ユニツト（デユポン社の商品
名）中で像様露光させる。露光された光重合体層
は例１記載の弾性モジユラスを有している。露光
された弾性体オーバーコート層は304ポンド／平
方インチ（21.37Kg／cm2）の弾性モジユラスを有
している。
露光した後に透明画を除去し、そして露光エレ
メントをロータリードラムブラシタイプ「シレ
ル」3040プロセツサー中に置く。このエレメント
の未重合部を75容量％テトラクロロエチレン／25
容量％ｎ−ブタノール混合物で洗うことによりプ
ロセツサー中で除去する。現像したエレメント
（印刷プレート）を強制熱風ドライヤー中に置き
そしてプレートがその本来の厚さを得るまで60℃
で乾燥させる。この乾燥プレートを次いで１〜３
分間水性酸性次亜塩素酸塩溶液（水900部、「クロ
ロクス」90部、濃HCl10部）中で粘着性除去させ
る。この濡れたプレートを空気中で10分間前記の
像様露光に使用されたものと同一の露光源を使用
して後露光させる。このプレートは50〜55の範囲
のシヨアＡ硬度を有している。印刷性表面たる重
合光感受性オーバーコートは深青コントラスト色
を有しており、そしてこれは「オレンジピール」
および表面ストリークの両方を有していない。
メントをロータリードラムブラシタイプ「シレ
ル」3040プロセツサー中に置く。このエレメント
の未重合部を75容量％テトラクロロエチレン／25
容量％ｎ−ブタノール混合物で洗うことによりプ
ロセツサー中で除去する。現像したエレメント
（印刷プレート）を強制熱風ドライヤー中に置き
そしてプレートがその本来の厚さを得るまで60℃
で乾燥させる。この乾燥プレートを次いで１〜３
分間水性酸性次亜塩素酸塩溶液（水900部、「クロ
ロクス」90部、濃HCl10部）中で粘着性除去させ
る。この濡れたプレートを空気中で10分間前記の
像様露光に使用されたものと同一の露光源を使用
して後露光させる。このプレートは50〜55の範囲
のシヨアＡ硬度を有している。印刷性表面たる重
合光感受性オーバーコートは深青コントラスト色
を有しており、そしてこれは「オレンジピール」
および表面ストリークの両方を有していない。
このプレートをここで市場的に入手可能な両面
接着テープを使用してフレキソグラフ印刷シリン
ダーに載置させそして標準フレキソグラフ印刷イ
ンクで印刷することができる。印刷品質は同一の
方法で印刷されたゴムプレートにより製造された
ものに等しいかまたはそれより良好である。
接着テープを使用してフレキソグラフ印刷シリン
ダーに載置させそして標準フレキソグラフ印刷イ
ンクで印刷することができる。印刷品質は同一の
方法で印刷されたゴムプレートにより製造された
ものに等しいかまたはそれより良好である。
例 ３
次の成分からオーバーコート溶液を製造する。 成 分
量（部）
ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレンブ
ロツク共重合体（例１記載） 66.67 例１記載のテトラポリマー樹脂 32.00 例１記載の染料 1.33 樹脂および染料を10分間250〓（121℃）で1600
c.c.バンベリーミキサー中で混合する。得られるブ
レンドを次いで大約0.125インチ（約0.32cm）直
径の粒子サイズに顆粒化させ、そして次いでメチ
レンクロリドに加えて約5.6％固体分の溶液を生
成させる。この溶液を高速度でジフイー・ミキサ
ー（ジフイー・ミキサー社製品）を使用して16時
間撹拌する。次いでこのブロツク共重合体を加え
そしてこの混合物を更に８時間撹拌する。混合の
間のすべての重量損失はメチレンクロリドの添加
により補償される。
ロツク共重合体（例１記載） 66.67 例１記載のテトラポリマー樹脂 32.00 例１記載の染料 1.33 樹脂および染料を10分間250〓（121℃）で1600
c.c.バンベリーミキサー中で混合する。得られるブ
レンドを次いで大約0.125インチ（約0.32cm）直
径の粒子サイズに顆粒化させ、そして次いでメチ
レンクロリドに加えて約5.6％固体分の溶液を生
成させる。この溶液を高速度でジフイー・ミキサ
ー（ジフイー・ミキサー社製品）を使用して16時
間撹拌する。次いでこのブロツク共重合体を加え
そしてこの混合物を更に８時間撹拌する。混合の
間のすべての重量損失はメチレンクロリドの添加
により補償される。
オーバーコート溶液を0.00017インチ（0.004
mm）の乾燥厚さを有するポリアミド樹脂層でプレ
ーコーテイングした0.005インチ（0.13mm）厚さ
のポリエチレンテレフタレートフイルム支持体上
に押出しコーテイングする。ポリアミド層を有す
るこのフイルムは例１記載のようにして製造され
る。
mm）の乾燥厚さを有するポリアミド樹脂層でプレ
ーコーテイングした0.005インチ（0.13mm）厚さ
のポリエチレンテレフタレートフイルム支持体上
に押出しコーテイングする。ポリアミド層を有す
るこのフイルムは例１記載のようにして製造され
る。
前記のオーバーコート溶液を連続ウエブコータ
ー／ドライヤーを使用して前記のプレコーテイン
グしたポリエチレンテレフタレートフイルム上に
適用して約480mg／ｄm2の乾燥コーテイング重量
とする。ウエブ速度は40フイート／分（12.2ｍ／
分）でありそしてその乾燥温度は160〓（71℃）
である。
ー／ドライヤーを使用して前記のプレコーテイン
グしたポリエチレンテレフタレートフイルム上に
適用して約480mg／ｄm2の乾燥コーテイング重量
とする。ウエブ速度は40フイート／分（12.2ｍ／
分）でありそしてその乾燥温度は160〓（71℃）
である。
0.005インチ（0.127mm）厚さのポリエチレンテ
レフタレート支持体上の光重合性組成物の1.12イ
ンチ（28.5mm）厚さの光重合性組成物の押出しシ
ートを仕上げ印刷プレートの厚さである0.080イ
ンチ（2.03mm）の厚さにダム形成されたアルミニ
ウムプラテン中に支持体側を下にしておく。オー
バーコート含有カバーシートをコート側を下にし
て光重合性層上に置き、そしてアルミニウムプレ
ートでおおう。この光重合性組成物の押出された
シートは例１記載のようにしてただしその組成物
を170℃で押出して製造される。
レフタレート支持体上の光重合性組成物の1.12イ
ンチ（28.5mm）厚さの光重合性組成物の押出しシ
ートを仕上げ印刷プレートの厚さである0.080イ
ンチ（2.03mm）の厚さにダム形成されたアルミニ
ウムプラテン中に支持体側を下にしておく。オー
バーコート含有カバーシートをコート側を下にし
て光重合性層上に置き、そしてアルミニウムプレ
ートでおおう。この光重合性組成物の押出された
シートは例１記載のようにしてただしその組成物
を170℃で押出して製造される。
温度を上昇させそして圧力を徐々に適用する。
このことは光重合性シートをプラテンのダム形成
部分全体に拡げる。シートが均一に分散した後、
その温度を140℃に上昇させそして10000〜
20000psi（703〜1406Kg／cm2）の範囲の圧力を適用
しそして２分保持する。このプレスプラテンに水
を流すことによりこの集成体をプレス中で60℃以
下まで冷却させる。形成された積層エレメントを
プレスから除去しそして黒色螢光チユーブ例えば
シルバニアBLランプのバンクの下に支持体側を
上にして置く。支持体を通してこのエレメントを
２分間露光させて接着した支持体に隣接する光重
合体層の所定の厚さを重合させる。このエレメン
トの重合部分はフロアと称される。
このことは光重合性シートをプラテンのダム形成
部分全体に拡げる。シートが均一に分散した後、
その温度を140℃に上昇させそして10000〜
20000psi（703〜1406Kg／cm2）の範囲の圧力を適用
しそして２分保持する。このプレスプラテンに水
を流すことによりこの集成体をプレス中で60℃以
下まで冷却させる。形成された積層エレメントを
プレスから除去しそして黒色螢光チユーブ例えば
シルバニアBLランプのバンクの下に支持体側を
上にして置く。支持体を通してこのエレメントを
２分間露光させて接着した支持体に隣接する光重
合体層の所定の厚さを重合させる。このエレメン
トの重合部分はフロアと称される。
次いでこのエレメントをシルバニアBL−VHO
螢光ランプを付した「シレル」3040露光ユニツト
（デユポン社の登録商品名）中に置く。光重合性
表面を像含有透明画（陰画）でおおいそしてこの
エレメントを５分間真空下に露光させる。露光の
持続は光重合体シートの厚さ、重合フロアの厚さ
および使用される像含有透明画のタイプの函数で
ある。
螢光ランプを付した「シレル」3040露光ユニツト
（デユポン社の登録商品名）中に置く。光重合性
表面を像含有透明画（陰画）でおおいそしてこの
エレメントを５分間真空下に露光させる。露光の
持続は光重合体シートの厚さ、重合フロアの厚さ
および使用される像含有透明画のタイプの函数で
ある。
露光後、透明画を除去しそして露光エレメント
をロータリードラムブラシタイプ「シレル」3040
プロセツサー中に置く。このエレメントの未重合
部分を５分間パークロロエチレン中25容量％ｎ−
ブタノールで洗うことによりプロセツサー中で除
去する。0.030インチ（0.76mm）レリーフ像が得
られる。現像したエレメント（印刷プレート）を
強制熱風ドライヤーまたはその他の適当なドライ
ヤー中に置き、そして１時間60℃で乾燥させる。
この乾燥プレートを次いで１〜３分間水性次亜塩
素酸塩溶液（水900部、「クロロクス」90部、濃
HCl10部）中で粘着性除去させそして再び乾燥さ
せる。この乾燥プレートを空気中で５分間前記の
像様露光に使用されたものと同一の露光源を使用
して後露光させる。得られたプレートは印刷に有
用である。
をロータリードラムブラシタイプ「シレル」3040
プロセツサー中に置く。このエレメントの未重合
部分を５分間パークロロエチレン中25容量％ｎ−
ブタノールで洗うことによりプロセツサー中で除
去する。0.030インチ（0.76mm）レリーフ像が得
られる。現像したエレメント（印刷プレート）を
強制熱風ドライヤーまたはその他の適当なドライ
ヤー中に置き、そして１時間60℃で乾燥させる。
この乾燥プレートを次いで１〜３分間水性次亜塩
素酸塩溶液（水900部、「クロロクス」90部、濃
HCl10部）中で粘着性除去させそして再び乾燥さ
せる。この乾燥プレートを空気中で５分間前記の
像様露光に使用されたものと同一の露光源を使用
して後露光させる。得られたプレートは印刷に有
用である。
例 ４
例１記載のオーバーコート含有ポリエチレンテ
レフタレートの0.005インチ（0.127mm）厚さのカ
バーシートをコーテイングした側を0.005インチ
（0.127mm）ポリエチレンテレフタレート支持体上
に光重合性組成物（例１記載のようにして製造）
の押出しシートの表面に接触させて置く。この光
重合体シートおよびオーバーコート含有カバーシ
ートを104℃（219〓）ロール温度で「クロマリ
ン」ラミネーター型式2700PIN（デユポン社の登
録商品名）のニツプに通す。得られたプレートを
像様露光させそして例１記載のように現像させ
る。これは印刷のために有用である。
レフタレートの0.005インチ（0.127mm）厚さのカ
バーシートをコーテイングした側を0.005インチ
（0.127mm）ポリエチレンテレフタレート支持体上
に光重合性組成物（例１記載のようにして製造）
の押出しシートの表面に接触させて置く。この光
重合体シートおよびオーバーコート含有カバーシ
ートを104℃（219〓）ロール温度で「クロマリ
ン」ラミネーター型式2700PIN（デユポン社の登
録商品名）のニツプに通す。得られたプレートを
像様露光させそして例１記載のように現像させ
る。これは印刷のために有用である。
例 ５
例１記載の光重合性組成物の製造に使用される
成分をボーリング18インチ×４インチ（0.457×
0.102ｍ）ラバーミル（ロール温度140℃）に入れ
そしてこれを10分間混合して均質光重合体組成物
を生成させる。次いでこの組成物をフアレル４本
ロールインクライドＺカレンダー（ロール温度
140℃）に供給する。光重合体はトツプの２本の
ロールの間のニツプ中に供給される。この光重合
体は炎処理ポリエチレンテレフタレートの厚さ
0.005インチ（0.127mm）支持体と例１記載のオー
バーコート含有0.005インチ（0.127mm）カバーシ
ートとの間でカレンダー処理される。炎処理表面
およびオーバーコートコーテイングは光重合体に
向けられる。得られたプレートを例１記載のよう
にして像様露光させそして現像する。これは印刷
に有用である。
成分をボーリング18インチ×４インチ（0.457×
0.102ｍ）ラバーミル（ロール温度140℃）に入れ
そしてこれを10分間混合して均質光重合体組成物
を生成させる。次いでこの組成物をフアレル４本
ロールインクライドＺカレンダー（ロール温度
140℃）に供給する。光重合体はトツプの２本の
ロールの間のニツプ中に供給される。この光重合
体は炎処理ポリエチレンテレフタレートの厚さ
0.005インチ（0.127mm）支持体と例１記載のオー
バーコート含有0.005インチ（0.127mm）カバーシ
ートとの間でカレンダー処理される。炎処理表面
およびオーバーコートコーテイングは光重合体に
向けられる。得られたプレートを例１記載のよう
にして像様露光させそして現像する。これは印刷
に有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ カレンダーニツプ中に弾性体状結合剤、少く
とも１個の末端エチレン性基を有するエチレン性
不飽和化合物および光開始剤または光開始剤系か
らなる光重合性組成物の塊を送りそしてこの光重
合性組成物を支持体と多層カバーエレメントとの
間でカレンダー処理してその間に光重合性層を生
成させることからなり、そして前記多層カバーエ
レメントが可撓性カバーフイルム、場合により可
撓性重合体フイルム、および弾性体状組成物の層
よりなり、そして該弾性体状組成物の層が光感受
性であるかまたは光重合性層と接触させてカレン
ダー処理する間かまたはその後で光感受性となる
ものであることを特徴とする、フレキソグラフイ
ー光重合性エレメントを製造する方法。 ２ 光重合性組成物の塊を押出機によりカレンダ
ーニツプ中に送る、前記特許請求の範囲第１項記
載の方法。 ３ 光重合性組成物の塊を混合ミルからの熱溶融
物としてカレンダーニツプ中に送る、前記特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ４ カレンダー処理が２個の可撓性支持体の間で
行われ、その支持体の一方は以後光重合性層から
除去されそして多層カバーエレメントが光重合性
層に移層される、前記特許請求の範囲第１項記載
の方法。 ５ カレンダー処理が２個の可撓性シートの間で
行われ、その支持体の一方は以後光重合性層から
除去されそして多層カバーエレメントおよび光重
合性層を加圧して接触させる、前記特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ６ 多層カバーエレメント中の弾性体層が光重合
性弾性体層である、前記特許請求の範囲第１項記
載の方法。 ７ 多層カバーエレメント中の可撓性カバーフイ
ルムがシリコーン下塗り層を有するフイルムであ
る、前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 ８ 可撓性重合体フイルムがポリアミドフイルム
である、前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 ９ 多層カバーエレメント中の弾性体組成物が弾
性ブロツク共重合体を包含している、前記特許請
求の範囲第１項記載の方法。 １０ ブロツク共重合体がポリスチレン−ポリイ
ソプレン−ポリスチレンブロツク共重合体であ
る、前記特許請求の範囲第９項記載の方法。 １１ ブロツク共重合体がポリスチレン−ポリブ
タジエン−ポリスチレンブロツク共重合体であ
る、前記特許請求の範囲第９項記載の方法。 １２ 光重合性組成物を約130〜200℃の範囲の温
度で押出しする、前記特許請求の範囲第１項記載
の方法。 １３ 光重合性組成物の弾性体状結合剤が弾性ブ
ロツク共重合体である、前記特許請求の範囲第１
項記載の方法。 １４ エチレン性不飽和化合物が２個の末端エチ
レン基を有している、前記特許請求の範囲第１３
項記載の方法。 １５ エチレン性不飽和化合物がヘキサメチレン
グリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリ
コールジメタクリレートまたは両者の混合物であ
る、前記特許請求の範囲第１４項記載の方法。 １６ 光重合性層中に着色剤が存在せしめられ
る、前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 １７ 光重合性層中の着色剤とコントラストを形
成する色を与える非移行性染料または顔料を多層
カバーエレメントの弾性体状組成物の層中に存在
せしめる、前記特許請求の範囲第１６項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US341250 | 1982-01-21 | ||
| US06/341,250 US4427759A (en) | 1982-01-21 | 1982-01-21 | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58125042A JPS58125042A (ja) | 1983-07-25 |
| JPH0349095B2 true JPH0349095B2 (ja) | 1991-07-26 |
Family
ID=23336828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58006744A Granted JPS58125042A (ja) | 1982-01-21 | 1983-01-20 | 光重合体印刷プレ−トの製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4427759A (ja) |
| EP (1) | EP0084851B2 (ja) |
| JP (1) | JPS58125042A (ja) |
| CA (1) | CA1184077A (ja) |
| DE (1) | DE3368132D1 (ja) |
Families Citing this family (176)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59226346A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-19 | Fuotopori Ouka Kk | プリント回路の製造方法 |
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| JPH06103391B2 (ja) * | 1985-09-20 | 1994-12-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性記録材料 |
| DE3630474A1 (de) * | 1986-09-06 | 1988-03-10 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von aufzeichnungsschichten und deren verwendung zur herstellung von flexodruckformen |
| NZ223178A (en) * | 1987-01-17 | 1990-01-29 | Nippon Paint Co Ltd | Water-developable photosensitive resin composition capable of being hot melt molded, printing plates therefrom and methods of preparation |
| NZ223177A (en) * | 1987-01-17 | 1990-01-29 | Nippon Paint Co Ltd | Water-developable photosensitive resin composition capable of hot melt molding and printing plate therefrom |
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| DE4022979C1 (ja) * | 1990-07-19 | 1991-08-08 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De | |
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-
1983
- 1983-01-19 DE DE8383100438T patent/DE3368132D1/de not_active Expired
- 1983-01-19 EP EP83100438A patent/EP0084851B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-01-20 JP JP58006744A patent/JPS58125042A/ja active Granted
- 1983-01-20 CA CA000419921A patent/CA1184077A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0084851B1 (en) | 1986-12-03 |
| EP0084851B2 (en) | 1993-07-14 |
| DE3368132D1 (en) | 1987-01-15 |
| CA1184077A (en) | 1985-03-19 |
| JPS58125042A (ja) | 1983-07-25 |
| EP0084851A3 (en) | 1984-09-05 |
| EP0084851A2 (en) | 1983-08-03 |
| US4427759A (en) | 1984-01-24 |
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