JPH0349111A - シース電線及びその製法 - Google Patents
シース電線及びその製法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
この発明は複合電線に関し、特に真空機器の配線や信号
線に適した複合電線に関するものである。
線に適した複合電線に関するものである。
［従来の技術］
真空環境下で使用される電線には、導体及び絶縁被覆層
からのガス放出量をできるだけ小さくすること、あるい
は、真空機器のベーキング処理に対する耐熱性を有する
こと等の特性が要求される。
からのガス放出量をできるだけ小さくすること、あるい
は、真空機器のベーキング処理に対する耐熱性を有する
こと等の特性が要求される。
このため、従来からの導体をセラミックス管に挿入した
電線、ガラス編組体を被覆した電線、ステンレス管に挿
入した導体をセラミックス粉末の充填により絶縁したＭ
ｌ 旧ｎｅｒａｌ Ｉｎ５ｕｌａｔｅｄ）ケーブル、ア
ルマイト処理電線、銅線の周りにＰＴＦＥ （ポリ・テ
トラ・フルオロ・エチレン）チューブをかぶせ、更に鋼
パイプをかぶせて被覆したもの等が用いられている。こ
れらの電線を真空容器中に設置した可動設備の電線とし
て、特に、交流電流や直流微少電流の伝送に用いる場合
、交流損失が増加したり、電気的な相互干渉が大きくな
ったりするのを避ける為に、必ず中心導体を絶縁体で覆
い、更にアース電位にした導電性物質で全体をくまなく
覆わなければならない。
電線、ガラス編組体を被覆した電線、ステンレス管に挿
入した導体をセラミックス粉末の充填により絶縁したＭ
ｌ 旧ｎｅｒａｌ Ｉｎ５ｕｌａｔｅｄ）ケーブル、ア
ルマイト処理電線、銅線の周りにＰＴＦＥ （ポリ・テ
トラ・フルオロ・エチレン）チューブをかぶせ、更に鋼
パイプをかぶせて被覆したもの等が用いられている。こ
れらの電線を真空容器中に設置した可動設備の電線とし
て、特に、交流電流や直流微少電流の伝送に用いる場合
、交流損失が増加したり、電気的な相互干渉が大きくな
ったりするのを避ける為に、必ず中心導体を絶縁体で覆
い、更にアース電位にした導電性物質で全体をくまなく
覆わなければならない。
［発明が解決しようとする課Ｉｌｌ］
しかしながら、導体をセラミックス管に挿入した電線は
、可撓性に乏しい上に、導体とセラミックス管に間隙が
あるためスペース効率が悪く、また、接続のための作業
性も悪い。
、可撓性に乏しい上に、導体とセラミックス管に間隙が
あるためスペース効率が悪く、また、接続のための作業
性も悪い。
ガラス編組体を被覆した電線もスペース効率が悪く、こ
れを導電性円管等に入れても中心導体と導電性円管等と
の間隔を均一に保つことが難しいので、電線としての特
性インピーダンスが不均一となり交流損失が増える間ｇ
がある。Ｍｌケーブルも絶縁部分の割合が大きいためス
ペース効率が悪く、ステンレス管の可撓性に乏しい、ま
た、高温での使用は可能で、耐環境性には優れているも
のの、粉末の均一な詰め方、芯線の位置を決定する芯出
し等に多大の労力を費いやし、コストの面での問題を有
していた。更に、絶縁層として有機＃料であるＰＴＦＥ
を用いるものは高温での使用は困難であり、せいぜい３
００°Ｃが限界である。
れを導電性円管等に入れても中心導体と導電性円管等と
の間隔を均一に保つことが難しいので、電線としての特
性インピーダンスが不均一となり交流損失が増える間ｇ
がある。Ｍｌケーブルも絶縁部分の割合が大きいためス
ペース効率が悪く、ステンレス管の可撓性に乏しい、ま
た、高温での使用は可能で、耐環境性には優れているも
のの、粉末の均一な詰め方、芯線の位置を決定する芯出
し等に多大の労力を費いやし、コストの面での問題を有
していた。更に、絶縁層として有機＃料であるＰＴＦＥ
を用いるものは高温での使用は困難であり、せいぜい３
００°Ｃが限界である。
これらの電線はいずれも電線自体のスペース効率が悪い
ため、複数本を束にして用いると太くなり、可撓性が著
しく低下すると共に、端末処理２接続等の作業性に劣る
問題がある。
ため、複数本を束にして用いると太くなり、可撓性が著
しく低下すると共に、端末処理２接続等の作業性に劣る
問題がある。
アルマイト処Ｆ！！電線は、を線自体のスペース効率は
良いが、二のｔａの外周に導電性ｍ線の編組体でなる外
部導体を被覆した電線は、これまでなかった。
良いが、二のｔａの外周に導電性ｍ線の編組体でなる外
部導体を被覆した電線は、これまでなかった。
そこで、本発明は真空中での使用に適し、耐熱性及び可
撓性に富み、コンパクトでかつ接続作業の容易な複合ｔ
ａを提供することを目的とする。
撓性に富み、コンパクトでかつ接続作業の容易な複合ｔ
ａを提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するために、本発明は第１図に示すよ
うに 内部導体１の表面に厚さ’５０μｍ以上のセラミ
ックス被覆層２を種々のコーティング方法を用いて形成
し、これに金属パイプの導体３を嵌合・被覆したもので
ある。
うに 内部導体１の表面に厚さ’５０μｍ以上のセラミ
ックス被覆層２を種々のコーティング方法を用いて形成
し、これに金属パイプの導体３を嵌合・被覆したもので
ある。
上記絶縁導体１としては、軟銅線や軟アルミニウム線を
用い、セラミックス質との一体化を良好にするため外周
面に下地処理を施したものを用いる。また、銅線にアル
ミニウムをクラッド層としても良い。
用い、セラミックス質との一体化を良好にするため外周
面に下地処理を施したものを用いる。また、銅線にアル
ミニウムをクラッド層としても良い。
セラミックス被覆層２としては例えばＡｌ２Ｏ，。
５ｉ０２、ＺｒＯ□、１４ｇｏ等の一種以上の金属酸化
物特に５ｉ０２を主成分としたものを用いる。内部導体
１がアルミニウムである場合は、アルマイト処理等の電
気化学的処理により金属酸化物層を形成することもでき
る。
物特に５ｉ０２を主成分としたものを用いる。内部導体
１がアルミニウムである場合は、アルマイト処理等の電
気化学的処理により金属酸化物層を形成することもでき
る。
導体３は例えば銅パイプに嵌合するか、または、銅テー
プをパイプ状にフォーミングして両端部の付き合わせ箇
所を溶接すると共に、導体３を伸管することが行われる
。この伸管は透き間が生じてもよい、なお、銅パイプに
限定されることはなく、種々の材料を用いてもよく、ま
た、テープの表面をメツキしたものを用いてもよい。
プをパイプ状にフォーミングして両端部の付き合わせ箇
所を溶接すると共に、導体３を伸管することが行われる
。この伸管は透き間が生じてもよい、なお、銅パイプに
限定されることはなく、種々の材料を用いてもよく、ま
た、テープの表面をメツキしたものを用いてもよい。
［作用コ
上述の通り、本願発明は内部導体１と導体３との間に無
機質のセラミックス質２を介在させたものであるから、
４００’Ｃの高温での使用が可能にしたものである。ま
た、ＭＴケーブルのような製造上の問題点例えば、芯だ
ししながら粉末を充填する点が解消されると共に、絶縁
層の均一なセラミックス絶縁電線が得られる。ここで、
伸線を繰り返し細線化してする為には、あらかじめ無機
絶縁層の厚さを大きくしておくのが望ましい。
機質のセラミックス質２を介在させたものであるから、
４００’Ｃの高温での使用が可能にしたものである。ま
た、ＭＴケーブルのような製造上の問題点例えば、芯だ
ししながら粉末を充填する点が解消されると共に、絶縁
層の均一なセラミックス絶縁電線が得られる。ここで、
伸線を繰り返し細線化してする為には、あらかじめ無機
絶縁層の厚さを大きくしておくのが望ましい。
また、上記の内部導体１と導体３とにより一対の電線路
を構成し、電源の供給丈なは信号の伝達を行う。
を構成し、電源の供給丈なは信号の伝達を行う。
［実施例１コ
３．２ｍｍφのアルミニウム線材を次の条件で５０μの
陽極酸化層を生成した。即ち、電解液 硫 酸 ２
０％ 硫酸アルミ ２５ ｇ ／ ｄ ｍ ２溶温 ｉｏ’
ｃ 時間 ３０分 電流密度 ２ＯＡ／ｄｍ２ この上に更にトリプトキシアルミニウム・トリエタノー
ルアミン：水：イソプロビルアルコール＝５：１０：５
：８０のモル比で混合した溶液を温度５０°Ｃで１時間
加熱攪拌した液を塗布、４００’Ｃ１０分加熱する工程
を繰り返し、最後に５００°Ｃで１０分加熱した。これ
により形成された無機絶縁層の厚さは１５０μｍであっ
た。
陽極酸化層を生成した。即ち、電解液 硫 酸 ２
０％ 硫酸アルミ ２５ ｇ ／ ｄ ｍ ２溶温 ｉｏ’
ｃ 時間 ３０分 電流密度 ２ＯＡ／ｄｍ２ この上に更にトリプトキシアルミニウム・トリエタノー
ルアミン：水：イソプロビルアルコール＝５：１０：５
：８０のモル比で混合した溶液を温度５０°Ｃで１時間
加熱攪拌した液を塗布、４００’Ｃ１０分加熱する工程
を繰り返し、最後に５００°Ｃで１０分加熱した。これ
により形成された無機絶縁層の厚さは１５０μｍであっ
た。
かくて得られた線に外径６．０ｍｍφ、厚さ０．２５ｍ
ｍｔのアルミニウムパイプをかぶせ。
ｍｔのアルミニウムパイプをかぶせ。
嵌合・伸線して２．３ｍｍφにした。このシース電線の
芯線をシース間の絶縁破壊電圧は２００ｖであった。
芯線をシース間の絶縁破壊電圧は２００ｖであった。
［実施例２］
０．８ｍｍφの銅線にテトラブチルオルトシリケイト：
水：イソプ口ビルアルコール−８：３２：６０のモル比
で混合された溶液に、硝酸をテトラブチルオルトシリケ
イトに対し、１００分の３モルの割合で添加し、その後
、温度８０″Ｃで２時間、加熱・攪拌した。さらにこの
溶液に粒径０．１μｍ以下のマイカ粉末を入れ、均一に
攪拌した。この液を塗布し、４００°Ｃで１０分加熱を
繰り返して最後に６５０°Ｃで１０分加熱した。
水：イソプ口ビルアルコール−８：３２：６０のモル比
で混合された溶液に、硝酸をテトラブチルオルトシリケ
イトに対し、１００分の３モルの割合で添加し、その後
、温度８０″Ｃで２時間、加熱・攪拌した。さらにこの
溶液に粒径０．１μｍ以下のマイカ粉末を入れ、均一に
攪拌した。この液を塗布し、４００°Ｃで１０分加熱を
繰り返して最後に６５０°Ｃで１０分加熱した。
これによって得られた層の厚さは１００μｍであった。
これにテープ溶接法にて０．２５ｍｍｔの銅テープをパ
イプ状にかぶせて、１．６ｍｍφとした。この時の絶縁
被覆電圧は３５０Ｖであった。
イプ状にかぶせて、１．６ｍｍφとした。この時の絶縁
被覆電圧は３５０Ｖであった。
［実施例３］
被覆率３８％、線径３．２ｍｍφのＡ ｌ ／ Ｃｕウ
ララド線を実施例１と同じ条件でｗＩｌｆ！＃化処理を
し、陽極酸化層の厚さを１２０μｍとした。これに実施
例２と同じ液を塗布し、４００°Ｃ×１０分で加熱を繰
り返し、最後に５００°ＣＩＯ分加熱した。これにより
得られた全厚さは８５０μｍであった。これに６．０ｍ
ｍφｘＱ、２５ｍｍｔの銅パイプを嵌合・伸線し、外径
２．３ｍｍφとした。この時の絶縁層＊を圧は５００Ｖ
であった。
ララド線を実施例１と同じ条件でｗＩｌｆ！＃化処理を
し、陽極酸化層の厚さを１２０μｍとした。これに実施
例２と同じ液を塗布し、４００°Ｃ×１０分で加熱を繰
り返し、最後に５００°ＣＩＯ分加熱した。これにより
得られた全厚さは８５０μｍであった。これに６．０ｍ
ｍφｘＱ、２５ｍｍｔの銅パイプを嵌合・伸線し、外径
２．３ｍｍφとした。この時の絶縁層＊を圧は５００Ｖ
であった。
［発明の効果〕
以上のように、この発明は内部導体の外周面にセラミッ
クス質を設け、これによって絶縁被覆層を形成し、その
上に電気導体のパイプを形成したものであるから、低ガ
ス放出性、耐熱性に優れたものであるから、例えば４０
０°Ｃ以上の温度で連続使用しても何ら間ｇが生じるこ
とはない、ｉた、内部導体と外部導体と対をなすもので
あるから、配線スペースが効率的で、配線接続作業も容
易である効果をも奏するものである。更に、Ｍｌケーブ
ルのような表金時の複雑な芯出し作業が不要であるばか
りでなく、これによって安価に出来る効果は極めて大き
い、また、セラミックス被覆厚が均一で必要最小限にす
ることが出来、小径で図面はこの発明の実施例を示す断
面図である。
クス質を設け、これによって絶縁被覆層を形成し、その
上に電気導体のパイプを形成したものであるから、低ガ
ス放出性、耐熱性に優れたものであるから、例えば４０
０°Ｃ以上の温度で連続使用しても何ら間ｇが生じるこ
とはない、ｉた、内部導体と外部導体と対をなすもので
あるから、配線スペースが効率的で、配線接続作業も容
易である効果をも奏するものである。更に、Ｍｌケーブ
ルのような表金時の複雑な芯出し作業が不要であるばか
りでなく、これによって安価に出来る効果は極めて大き
い、また、セラミックス被覆厚が均一で必要最小限にす
ることが出来、小径で図面はこの発明の実施例を示す断
面図である。
図中の番号は
１ は 内部導体、
２ は セラミックス被覆層、
３ は 導体 を示す。
Claims (5)
- （１）導体表面に厚さ５０μｍ以上の無機絶縁被覆層を
形成してなり、更にその上に導体を嵌着させてなること
を特徴とするシース電線。 - （２）無機絶縁被覆層がＡｌ＿２Ｏ＿３、ＳｉＯ＿２、
ＺｒＯ＿２の中から選ばれた１種以上である請求項１記
載のシース電線。 - （３）導体表面に厚さ５０μｍ以上の無機絶縁被覆層を
形成する工程と、更にその上に導体を被覆する工程から
なることを特徴とするシース電線の製造方法。 - （４）無機絶縁被覆層がＡｌ＿２Ｏ＿３、ＳｉＯ＿２、
ＺｒＯ＿２の中から選ばれた１種以上である請求項２記
載のシース電線の製造方法。 - （５）導体表面を陽極酸化処理した後にゾル・ゲル法に
より無機絶縁非覆層を形成する請求項３または４記載の
のシース電線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1185146A JPH0349111A (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 | シース電線及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1185146A JPH0349111A (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 | シース電線及びその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0349111A true JPH0349111A (ja) | 1991-03-01 |
Family
ID=16165672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1185146A Pending JPH0349111A (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 | シース電線及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0349111A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5264962A (en) * | 1991-08-22 | 1993-11-23 | Kho Myung D | Sideview mirror for vehicles |
| US5749600A (en) * | 1994-08-31 | 1998-05-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Door trim energy absorbing structure |
| US5857702A (en) * | 1996-01-31 | 1999-01-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Impact energy absorbing member suitable for a vehicle door |
| US5925435A (en) * | 1994-10-04 | 1999-07-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Impact energy absorptive structures |
| US6218847B1 (en) * | 1997-07-04 | 2001-04-17 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Test pattern for use in measuring thickness of insulating layer and method for using the same |
-
1989
- 1989-07-17 JP JP1185146A patent/JPH0349111A/ja active Pending
Cited By (6)
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