JPH035123A - 射出成形機の集中管理制御装置 - Google Patents
射出成形機の集中管理制御装置Info
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- JPH035123A JPH035123A JP13741589A JP13741589A JPH035123A JP H035123 A JPH035123 A JP H035123A JP 13741589 A JP13741589 A JP 13741589A JP 13741589 A JP13741589 A JP 13741589A JP H035123 A JPH035123 A JP H035123A
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- Japan
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- injection
- data
- injection molding
- normal
- process data
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/76—Measuring, controlling or regulating
- B29C45/768—Detecting defective moulding conditions
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野］
本発明は射出成形機の集中管理制御装置に関する。
［従来の技術］
従来の、射出成形機の集中管理制御装置では、ト記のよ
うな機能を有するものか知られている。
うな機能を有するものか知られている。
■ホストコンピュータからフィールドの射出成形機の成
形条件コントローラへ８−金型毎の成形条件データを転
送するダウンローｌく機能。
形条件コントローラへ８−金型毎の成形条件データを転
送するダウンローｌく機能。
■射出成形機の実際のプロセス変動計測値を、成形条件
コントローラからポストコンビ、：Ｌ−タへ射出成形機
の休止時間を利用して吸トげ、各ショッ１〜毎の傾向を
表示するヒストリカル・トレンド機能。
コントローラからポストコンビ、：Ｌ−タへ射出成形機
の休止時間を利用して吸トげ、各ショッ１〜毎の傾向を
表示するヒストリカル・トレンド機能。
■」エイのヒストリカル・トレンドデータをもとに正規
分布図を描画したり、又−Ｒ管理図のプロットおよび工
程能力指数の計算などを行なう統計的品質解析機能。
分布図を描画したり、又−Ｒ管理図のプロットおよび工
程能力指数の計算などを行なう統計的品質解析機能。
■各ショｊットのプロセス１ｊ↑（特に射出圧力、射出
速度、スクリュ回転数およびキャビデイ圧力）をサンプ
リング時間毎にデータをサンプリング収集して描画する
波形解析機能。
速度、スクリュ回転数およびキャビデイ圧力）をサンプ
リング時間毎にデータをサンプリング収集して描画する
波形解析機能。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、ト・記従来技術ては、射出動作時の射出
成形機のプロセス量を収集しているが、収集したプロセ
ス着を射ＩＪ号プロセス対応のプロセス波形として表示
するのみであるので、プロセス波形変動か大幅に穴なっ
た場合、監視している人間の注意力によフて変動を認識
しなければならず、さらに、波形変動が許容範囲外であ
っても報知されないため、そのまま、成形が続行される
可能性かあり成形不良品の発生につながるという欠点が
ある。
成形機のプロセス量を収集しているが、収集したプロセ
ス着を射ＩＪ号プロセス対応のプロセス波形として表示
するのみであるので、プロセス波形変動か大幅に穴なっ
た場合、監視している人間の注意力によフて変動を認識
しなければならず、さらに、波形変動が許容範囲外であ
っても報知されないため、そのまま、成形が続行される
可能性かあり成形不良品の発生につながるという欠点が
ある。
本発明は、上記従来の技Ｊ＋Ｆｒの有する欠点に鑑みて
なされたもので、射出成形機のプロセス異常を自動的に
認識し、信頼性の高い射出成形を行なわせる、射出成形
機の集中管理制御装置を提供することを目的とする。
なされたもので、射出成形機のプロセス異常を自動的に
認識し、信頼性の高い射出成形を行なわせる、射出成形
機の集中管理制御装置を提供することを目的とする。
「課題を解決するだめの手段］
本発明の射出成形機の集中＋１！（・埋制御装置は、射
出成形機が、予め射出条件設定データが設定されるプロ
セスコントローラを備えており、前記射出条件設定デー
タに基ついた射出成形機の正常射出動作時における、前
記射出条件設定データに対応する正常プロセスデータを
記憶するプロセスデータ記憶部と、 射出成形機の射出動作時に、前記射出条件設定データに
対応する実プロセスデータを所定のサンプリング間隔で
検出する検出部と、 該検出部が検出した実プロセスデータを前記正常プロセ
スデータと比較し、実プロセスデータか、予め設定され
る正常プロセスデータの許容範囲外であれば、許容範囲
外となる回数をカウントし、その回数が所定の設定回数
に達した場合、警報を発して射出動作を停車させる解析
部とを有するものてあり、 また、射１］４条件設定テータと実プロセスデータとが
描画される表示装置を有するものがある。
出成形機が、予め射出条件設定データが設定されるプロ
セスコントローラを備えており、前記射出条件設定デー
タに基ついた射出成形機の正常射出動作時における、前
記射出条件設定データに対応する正常プロセスデータを
記憶するプロセスデータ記憶部と、 射出成形機の射出動作時に、前記射出条件設定データに
対応する実プロセスデータを所定のサンプリング間隔で
検出する検出部と、 該検出部が検出した実プロセスデータを前記正常プロセ
スデータと比較し、実プロセスデータか、予め設定され
る正常プロセスデータの許容範囲外であれば、許容範囲
外となる回数をカウントし、その回数が所定の設定回数
に達した場合、警報を発して射出動作を停車させる解析
部とを有するものてあり、 また、射１］４条件設定テータと実プロセスデータとが
描画される表示装置を有するものがある。
［作用］
射出動作中の射出成形機の射出プロセスに関る実プロセ
スデータを所定のサンプリング間隔で検出し、検出した
実プロセスデータを、正常射出動作時の正常プロセスデ
ータと比較する。この比較の結果、検出した実プロセス
データが、予め設定される１営プロセスデータの許容範
囲外となっていれば、許容範囲外となった回数をカウン
トし、その回数が所定の設定回数に達した場合、射出成
形機の異常と判断して、警報を発するとともに、射出動
作を停止トさせる。したがって、射出動作において、検
出した実プロセスデータが正常プロセスデータの許容範
囲であるときのみ、射出成形か続行されるごとになる。
スデータを所定のサンプリング間隔で検出し、検出した
実プロセスデータを、正常射出動作時の正常プロセスデ
ータと比較する。この比較の結果、検出した実プロセス
データが、予め設定される１営プロセスデータの許容範
囲外となっていれば、許容範囲外となった回数をカウン
トし、その回数が所定の設定回数に達した場合、射出成
形機の異常と判断して、警報を発するとともに、射出動
作を停止トさせる。したがって、射出動作において、検
出した実プロセスデータが正常プロセスデータの許容範
囲であるときのみ、射出成形か続行されるごとになる。
また、射出成形機のプロセスコントローラて設定される
。射出動作の基準となる射出条件設定データと実際の射
出動作時に検出した実プロセスデータとを表示装置に描
画することにより、射出動作におＧづるプロセスデータ
の変動をＵ１視によって確認することができる。
。射出動作の基準となる射出条件設定データと実際の射
出動作時に検出した実プロセスデータとを表示装置に描
画することにより、射出動作におＧづるプロセスデータ
の変動をＵ１視によって確認することができる。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例をブロック図である。
本実施例は、解析部１１０と検出部１２０とフィールド
側マイクロコンビニＬ−夕１３０とを有する集中管理制
御装置１００が射出成形機２００の監視、制御を行なう
構成となっている。
側マイクロコンビニＬ−夕１３０とを有する集中管理制
御装置１００が射出成形機２００の監視、制御を行なう
構成となっている。
集中管理制御装置１００の解析部１１０は、ホストコン
ピュータ１１１と、射出条件設定データと実プロセスデ
ータとが描画される表示装置であるＣＲＴティスプレィ
１１２と、プリンタ１１３と、キーボード１１４と、記
憶装置であるハードディスク１１５およびフロッピーデ
ィスク１１６とて構成されて、集中中央管理室等のホス
トサイトに設置されている。
ピュータ１１１と、射出条件設定データと実プロセスデ
ータとが描画される表示装置であるＣＲＴティスプレィ
１１２と、プリンタ１１３と、キーボード１１４と、記
憶装置であるハードディスク１１５およびフロッピーデ
ィスク１１６とて構成されて、集中中央管理室等のホス
トサイトに設置されている。
ホストコンピュータ】１１はフロッピーディスク１１６
に格納されているブロクラム（または、フロッピーディ
スク１１６からハードティスフ１１５ヘブロクラムを移
殖してもよい。）に沿って動作し、射出成形機２００の
プロセスコントローラ２１０に設定された割出条件設定
データに基づいた射出成形機２００の正常動作時におけ
る正常プロセスデータを収集し、該正常プロセスデータ
に対して許容範囲を設定して内部記憶域に記憶するとと
もに、前記屯営プロセスデータを、射出プロセス対応で
正常プロセス波形としてプロセスデータ記憶部であるハ
ードディスク１１５に格納する。さらに、ホストコンピ
ュータ１１１は、プロセスコントローラ２１０に設定さ
れた射出条件設定データを、フィールド側マイクロコン
ピュータ１３０を介して取込んでｎ４出プロセス対応て
設定プロセス波形としてＣＲＴデイスプレィ１１２に描
画する。また、ホストコンピュータ１１１は、射出成形
機２００の射出動作時に、検出部１２０が検出する、前
記射出条件設定データに対応する実プロセスデータをフ
ィールド側マイクロコンビＪＪ−−タ１３０を介して所
定のサンフリンク間隔で取込んでその実プロセスデータ
を、前記ＣＲＴデイスプレィ１１２に描画されている設
定プロセス波形上に、実プロセス波形として重ね書きす
るとともに、実プロセス波形を、ハードディスク１１５
に格納されている正常プロセス波形と比較する。そして
、その比較の結果、実プロセスデータが正常プロセスデ
ータの許容範囲外となれば、動作中の射出ショットにお
いて連続してｄ「容範囲外となる回数をカウントし、そ
の回数か、予め設定されてホストコンピュータ１１１内
の記憶域に格納されている、所定の設定回数に達した場
合、警報を発して射出成形機２００の射出動作を停止」
二させる。
に格納されているブロクラム（または、フロッピーディ
スク１１６からハードティスフ１１５ヘブロクラムを移
殖してもよい。）に沿って動作し、射出成形機２００の
プロセスコントローラ２１０に設定された割出条件設定
データに基づいた射出成形機２００の正常動作時におけ
る正常プロセスデータを収集し、該正常プロセスデータ
に対して許容範囲を設定して内部記憶域に記憶するとと
もに、前記屯営プロセスデータを、射出プロセス対応で
正常プロセス波形としてプロセスデータ記憶部であるハ
ードディスク１１５に格納する。さらに、ホストコンピ
ュータ１１１は、プロセスコントローラ２１０に設定さ
れた射出条件設定データを、フィールド側マイクロコン
ピュータ１３０を介して取込んでｎ４出プロセス対応て
設定プロセス波形としてＣＲＴデイスプレィ１１２に描
画する。また、ホストコンピュータ１１１は、射出成形
機２００の射出動作時に、検出部１２０が検出する、前
記射出条件設定データに対応する実プロセスデータをフ
ィールド側マイクロコンビＪＪ−−タ１３０を介して所
定のサンフリンク間隔で取込んでその実プロセスデータ
を、前記ＣＲＴデイスプレィ１１２に描画されている設
定プロセス波形上に、実プロセス波形として重ね書きす
るとともに、実プロセス波形を、ハードディスク１１５
に格納されている正常プロセス波形と比較する。そして
、その比較の結果、実プロセスデータが正常プロセスデ
ータの許容範囲外となれば、動作中の射出ショットにお
いて連続してｄ「容範囲外となる回数をカウントし、そ
の回数か、予め設定されてホストコンピュータ１１１内
の記憶域に格納されている、所定の設定回数に達した場
合、警報を発して射出成形機２００の射出動作を停止」
二させる。
集中管理制御装置１００の検出部１２０は、商運Ａ／Ｄ
変換器１２１とセンサアンプ１２２〜１２６とて構成さ
れており、射出成形機２００ｈ）設置されている二り場
智のフィールドサイドに設置されている。
変換器１２１とセンサアンプ１２２〜１２６とて構成さ
れており、射出成形機２００ｈ）設置されている二り場
智のフィールドサイドに設置されている。
センサアンプ１２２〜１２６は、射出動作中の射出成形
機２００の実プロセスデータを検出して、０〜ｌ０ＶＤ
Ｃのアナロク：Ｉ：に変換して高速Ａ／Ｄ変換器１２１
へ出力する。本実施例では、実プロセスデータとして、
センサアンプ１２２〜１２６かそれぞれ射出圧力、射）
１１速度、スクリュイ１″ｉ置、スクリュ回転数、金型
キャヒディ圧力を検出している。
機２００の実プロセスデータを検出して、０〜ｌ０ＶＤ
Ｃのアナロク：Ｉ：に変換して高速Ａ／Ｄ変換器１２１
へ出力する。本実施例では、実プロセスデータとして、
センサアンプ１２２〜１２６かそれぞれ射出圧力、射）
１１速度、スクリュイ１″ｉ置、スクリュ回転数、金型
キャヒディ圧力を検出している。
高速Ａ／Ｄ変換器１２１は、センサアンプ１２２〜１２
６からの実プロセスデータを示ずアナロク量をデジタル
量に変換してフィールド側マーｒクロコンピユータ−３
０を介して解析部１１０のホストコンビ−ｌ−夕１１１
へ転送する。
６からの実プロセスデータを示ずアナロク量をデジタル
量に変換してフィールド側マーｒクロコンピユータ−３
０を介して解析部１１０のホストコンビ−ｌ−夕１１１
へ転送する。
集中危“理制御装置１００のフイールド側マイクロコノ
ヒーり一夕１３０は、フィ−ルドサイドに設置されてお
り、解析部１１０と射出成形機２００との間のデータ伝
送、および解析部ｊ１０と検出部１２０との間のデータ
伝送におりるインクフェース機能を有するものである。
ヒーり一夕１３０は、フィ−ルドサイドに設置されてお
り、解析部１１０と射出成形機２００との間のデータ伝
送、および解析部ｊ１０と検出部１２０との間のデータ
伝送におりるインクフェース機能を有するものである。
射出成形機２００では、今までの経験で培われた良品を
得るために必要なデータを基に、予めプロセスコントロ
ーラ２１０に射出プロセスにおりるプロセスｊＩｉに対
応する射出条（’ｌ設定データを設定する。本実ｈｈ例
では、射出条件設定データとして温度、射出速度、射出
圧力、スクリュ回転数を設定しており、これらの割出条
件設定データはシリンダ温調旧２２０、金型温調計２３
０、および電磁比例式制御弁アンプ２４０にタウンロー
１・されて、成形材料、金型毎に射出条件か決定され、
その射出条件に基づいてシリンタヒータ２２１、金型温
調器２３１および電磁比例式制御弁２４１を制御して適
切な射出成形を行なう。
得るために必要なデータを基に、予めプロセスコントロ
ーラ２１０に射出プロセスにおりるプロセスｊＩｉに対
応する射出条（’ｌ設定データを設定する。本実ｈｈ例
では、射出条件設定データとして温度、射出速度、射出
圧力、スクリュ回転数を設定しており、これらの割出条
件設定データはシリンダ温調旧２２０、金型温調計２３
０、および電磁比例式制御弁アンプ２４０にタウンロー
１・されて、成形材料、金型毎に射出条件か決定され、
その射出条件に基づいてシリンタヒータ２２１、金型温
調器２３１および電磁比例式制御弁２４１を制御して適
切な射出成形を行なう。
次に、本実施例の動作について説ｌリレ）−る。１ここ
ては、射出成形機２００のプロセスコントローラ２１０
て設定される射出条件設定データにおいて、射出速度設
定データ（Ｖ Ｓ）と射出月力設定データ（ｐｓ）を考
える。
ては、射出成形機２００のプロセスコントローラ２１０
て設定される射出条件設定データにおいて、射出速度設
定データ（Ｖ Ｓ）と射出月力設定データ（ｐｓ）を考
える。
このプロセスコントローラ２１０にお（づる身１０
出速度設定データ（Ｖ８）と射出圧力設定データ（Ｐ
Ｓ）の設定は、射出プロセスにおいて、射出開始点から
保圧切換点までの速度制御工程と、保圧切換点から、射
出・保圧完了点まての圧力制御工程とについて行なわれ
る。
Ｓ）の設定は、射出プロセスにおいて、射出開始点から
保圧切換点までの速度制御工程と、保圧切換点から、射
出・保圧完了点まての圧力制御工程とについて行なわれ
る。
まず、第２図において、射出開始位置Ｓ。から保圧切換
点Ｓ４までの間は速度制御工程であり、射出速度および
射出圧力は、不図示の射出スクリュの前進移動による射
出ストローク位置に対応して、射出速度設定データ（Ｖ
Ｓ）および射出圧力設定データ（ｐｓ ）が設定され
ている。本実施例では、第２図に示すように、射出スト
ロークの変化（Ｓ＋〜Ｓ４）に対して、射出速度設定デ
ータ（Ｖ Ｓ）は速度Ｖ＋ 、Ｖ２ 、Ｖ３．Ｖ４と変
化するように設定され、射出圧力設定テーク（Ｐ８）は
、射出ストロークＳ３までは圧力Ｐ、一定で、射出スト
ロークＳ３からＳ４の間では圧力Ｐ２に設定されている
。
点Ｓ４までの間は速度制御工程であり、射出速度および
射出圧力は、不図示の射出スクリュの前進移動による射
出ストローク位置に対応して、射出速度設定データ（Ｖ
Ｓ）および射出圧力設定データ（ｐｓ ）が設定され
ている。本実施例では、第２図に示すように、射出スト
ロークの変化（Ｓ＋〜Ｓ４）に対して、射出速度設定デ
ータ（Ｖ Ｓ）は速度Ｖ＋ 、Ｖ２ 、Ｖ３．Ｖ４と変
化するように設定され、射出圧力設定テーク（Ｐ８）は
、射出ストロークＳ３までは圧力Ｐ、一定で、射出スト
ロークＳ３からＳ４の間では圧力Ｐ２に設定されている
。
また、第２図において、保圧切換点Ｓ４以降は、圧力制
御工程に切換り、時間の経過に対応し１ て、射出速度設定データ（ＶＳ）および射出圧力設定デ
ータ（ｐ ｓ）が設定されている。本実施例ては、第２
図に示すように、射出速度は、保圧切換後、速度ｖ５て
一定となっており、射１１コ圧力は、時間の経過（時刻
ｔ、〜ｔ４）に対してＰ。
御工程に切換り、時間の経過に対応し１ て、射出速度設定データ（ＶＳ）および射出圧力設定デ
ータ（ｐ ｓ）が設定されている。本実施例ては、第２
図に示すように、射出速度は、保圧切換後、速度ｖ５て
一定となっており、射１１コ圧力は、時間の経過（時刻
ｔ、〜ｔ４）に対してＰ。
ｐ４．ｐ６．ｐ６と変化するように設定されている。
上述のように設定された射出条件設定テークＶｓ、Ｐｓ
は、集中管理制御装置１００の解析部１１０によって、
ＣＲＴデイスプレィ１１２上に、第２図に示すように、
射出プロセス対応、すなわち、射出開始位置Ｓ０から保
圧切換点Ｓ４までは射出ストローク対応で、また、保圧
切換点Ｓ４以降は時間対応て、設定プロセス波形として
描画される。さらに、集中管理制御装置１００の解Ｎ部
ｔ １０は、プロセスコントローラ２１０て設定された
射出条件設定データに基づいた射出成形機２００の正常
動作時における、前記射出条件設定データに対応する実
プロセスデータを収集し、その実プロセスデータに対し
て許容範囲を設置 ２ 定して、前記設定口プロセス波形と同様な射出プロセス
対応で、正常プロセス波形としてハードディスク！１５
に格納する。
は、集中管理制御装置１００の解析部１１０によって、
ＣＲＴデイスプレィ１１２上に、第２図に示すように、
射出プロセス対応、すなわち、射出開始位置Ｓ０から保
圧切換点Ｓ４までは射出ストローク対応で、また、保圧
切換点Ｓ４以降は時間対応て、設定プロセス波形として
描画される。さらに、集中管理制御装置１００の解Ｎ部
ｔ １０は、プロセスコントローラ２１０て設定された
射出条件設定データに基づいた射出成形機２００の正常
動作時における、前記射出条件設定データに対応する実
プロセスデータを収集し、その実プロセスデータに対し
て許容範囲を設置 ２ 定して、前記設定口プロセス波形と同様な射出プロセス
対応で、正常プロセス波形としてハードディスク！１５
に格納する。
そして、射出成形機２００が射出動作を開始すると、集
中管理制御装置１００の検出部１２０によって、射出成
形機２００の実プロセスデータが検出される。この場合
、検出部１２０では、センサアンプ１２２，１２３が、
それぞれ、実プロセスデータである、実射出速度Ｖ８と
実射出圧力Ｐ、、を検出してＯ〜ＩＯＶのアナログ量と
して高速Ａ／Ｄ変換器１２１へ出力し、高速Ａ／Ｄ変換
器１２１でデジタル量に変換する。デジタル量に変換さ
れた実射出速度■８と実射出圧力Ｐａは、所定のサンプ
リンク間隔で解析部１１０に取込まれて、その都度、Ｃ
ＲＴデイスプレィ１１２に描画されている設定プロセス
波形上に実プロセス波形として重ね描画されるとともに
、ハードディスク１１５に格納されている正常プロセス
波形と比較される。この比較により、実射出速度Ｖａあ
るいは実射出圧力Ｐ８が正常プロセス波形の許容範囲外
となりだ場合、それぞれについて連続してπ「容範囲外
となる回数をカウントし、その回数が、何わか一方でも
、所定の設定回数に達したとき、警報を発して射出成形
機２００の異常を通報するとともに、射出成形機２００
の射出動作を停止させる。
中管理制御装置１００の検出部１２０によって、射出成
形機２００の実プロセスデータが検出される。この場合
、検出部１２０では、センサアンプ１２２，１２３が、
それぞれ、実プロセスデータである、実射出速度Ｖ８と
実射出圧力Ｐ、、を検出してＯ〜ＩＯＶのアナログ量と
して高速Ａ／Ｄ変換器１２１へ出力し、高速Ａ／Ｄ変換
器１２１でデジタル量に変換する。デジタル量に変換さ
れた実射出速度■８と実射出圧力Ｐａは、所定のサンプ
リンク間隔で解析部１１０に取込まれて、その都度、Ｃ
ＲＴデイスプレィ１１２に描画されている設定プロセス
波形上に実プロセス波形として重ね描画されるとともに
、ハードディスク１１５に格納されている正常プロセス
波形と比較される。この比較により、実射出速度Ｖａあ
るいは実射出圧力Ｐ８が正常プロセス波形の許容範囲外
となりだ場合、それぞれについて連続してπ「容範囲外
となる回数をカウントし、その回数が、何わか一方でも
、所定の設定回数に達したとき、警報を発して射出成形
機２００の異常を通報するとともに、射出成形機２００
の射出動作を停止させる。
また、本実施例では、ハードディスク１１５に格納した
正常プロセス波形は、実プロセス波形との比較のみに使
用されたが、設定プロセス波形とともに、予めＣＲＴテ
゛イスプレイ１１２Ｆに描画してもよい。この場合、正
常プロセス波形に対する、実際に動作中の実プロセス波
形の変動状況を目視により確認でき、異常光イ１−の予
測も可能となる。
正常プロセス波形は、実プロセス波形との比較のみに使
用されたが、設定プロセス波形とともに、予めＣＲＴテ
゛イスプレイ１１２Ｆに描画してもよい。この場合、正
常プロセス波形に対する、実際に動作中の実プロセス波
形の変動状況を目視により確認でき、異常光イ１−の予
測も可能となる。
［発明の効果］
以」二説明したように本発明は、射出動作時の実プロセ
スデータを検出して正常プロセスデータと比較し、動作
中の射出プロセスが正常と判断された場合のみ射出成形
を行なわせるので、成形不良品の発生か防止可能となっ
て、信頼性の高い射出成形動作を行なわせることができ
、安定して高品質の成形品を４Ｂ−）ることが可能とな
る。また、実プロセスデータと設定プロセスデータとを
表示装置トに描画することにより、動作中の射出プロセ
スデータの設定条件の変動を目視によって認識てきるこ
とになり、射出成形機の異常を未然に防ぐことが可能と
なる。
スデータを検出して正常プロセスデータと比較し、動作
中の射出プロセスが正常と判断された場合のみ射出成形
を行なわせるので、成形不良品の発生か防止可能となっ
て、信頼性の高い射出成形動作を行なわせることができ
、安定して高品質の成形品を４Ｂ−）ることが可能とな
る。また、実プロセスデータと設定プロセスデータとを
表示装置トに描画することにより、動作中の射出プロセ
スデータの設定条件の変動を目視によって認識てきるこ
とになり、射出成形機の異常を未然に防ぐことが可能と
なる。
第１図は本発明の射出成形機の集中管理制御装置の一実
施例を示すフロック図、第２図はプロセス波形の描画形
態の一例を示す図である。 １００・・・集中管理制御装置、 １１０・・・解析部、 １１１・・・ホストコンピュータ、 １１２・・・ＣＲＴデイスプレィ、 １１３・・・プリンタ、 １１４・・・キーホ゛−ド、 １１５・・・ハートティスフ、 １１６・・・フロッピーディスク、 １２０・・・検出部、 １２１・・・高速Ａ ／’ Ｄ変換器、１２２〜１２６
・・・センザアンフ、 １３０・・・フィールド側マイクロコンピュータ、２０
０・・・射出成形機、 ２１０・・・フロセスコントローラ、 ２２０・・・シリンタ温調計、 ２２１・・・シリンダヒーター ２３０・・・金型７□υ調」、 ２３１・・・金型温調器、 ２４０・・・電磁比例式制御弁アンプ、２４１・・・電
磁比例式制御弁。
施例を示すフロック図、第２図はプロセス波形の描画形
態の一例を示す図である。 １００・・・集中管理制御装置、 １１０・・・解析部、 １１１・・・ホストコンピュータ、 １１２・・・ＣＲＴデイスプレィ、 １１３・・・プリンタ、 １１４・・・キーホ゛−ド、 １１５・・・ハートティスフ、 １１６・・・フロッピーディスク、 １２０・・・検出部、 １２１・・・高速Ａ ／’ Ｄ変換器、１２２〜１２６
・・・センザアンフ、 １３０・・・フィールド側マイクロコンピュータ、２０
０・・・射出成形機、 ２１０・・・フロセスコントローラ、 ２２０・・・シリンタ温調計、 ２２１・・・シリンダヒーター ２３０・・・金型７□υ調」、 ２３１・・・金型温調器、 ２４０・・・電磁比例式制御弁アンプ、２４１・・・電
磁比例式制御弁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、射出成形機（２００）が、予め射出条件設定データ
が設定されるプロセスコントローラ（２１０）を備えて
おり、 前記射出条件設定データに基づいた射出成形機（２００
）の正常射出動作時における、前記射出条件設定データ
に対応する正常プロセスデータを記憶するプロセスデー
タ記憶部（１１５）と、 射出成形機（２００）の射出動作時に、前記射出条件設
定データに対応する実プロセスデータを所定のサンプリ
ング間隔で検出する検出部（１２０）と、該検出部（１
２０）が検出した実プロセスデータを前記正常プロセス
データと比較し、実プロセスデータが、予め設定される
正常プロセスデータの許容範囲外であれば、許容範囲外
となる回数をカウントし、その回数が所定の設定回数に
達した場合、警報を発して射出動作を停止させる解析部
（１１０）とを有することを特徴とする射出成形機の集
中管理制御装置。 ２、射出条件設定データと実プロセスデータとが描画さ
れる表示装置（１１２）を備えたことを特徴とする請求
項１記載の射出成形機の集中管理制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13741589A JPH035123A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | 射出成形機の集中管理制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13741589A JPH035123A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | 射出成形機の集中管理制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035123A true JPH035123A (ja) | 1991-01-10 |
Family
ID=15198102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13741589A Pending JPH035123A (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | 射出成形機の集中管理制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH035123A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0528281A (ja) * | 1991-07-23 | 1993-02-05 | Nissei Plastics Ind Co | 射出成形機群のデータ収集方法及び装置 |
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| JP2007253118A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | ピペットチップ収納具 |
| US20190236823A1 (en) * | 2018-01-30 | 2019-08-01 | Fanuc Corporation | Display unit and machine tool |
-
1989
- 1989-06-01 JP JP13741589A patent/JPH035123A/ja active Pending
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| US6604854B1 (en) | 1998-12-28 | 2003-08-12 | Randy Martin Limburg | Thin film thermometer with sensors that appear and disappear from respective concealing features according to temperature |
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| CN110096025A (zh) * | 2018-01-30 | 2019-08-06 | 发那科株式会社 | 显示装置以及机床 |
| CN110096025B (zh) * | 2018-01-30 | 2021-06-15 | 发那科株式会社 | 显示装置以及机床 |
| US11222450B2 (en) * | 2018-01-30 | 2022-01-11 | Fanuc Corporation | System and method for monitoring machine tool operations with superimposed chronological information |
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