JPH0351449B2 - - Google Patents
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- JPH0351449B2 JPH0351449B2 JP57041609A JP4160982A JPH0351449B2 JP H0351449 B2 JPH0351449 B2 JP H0351449B2 JP 57041609 A JP57041609 A JP 57041609A JP 4160982 A JP4160982 A JP 4160982A JP H0351449 B2 JPH0351449 B2 JP H0351449B2
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- Drying Of Gases (AREA)
Description
乾燥剤による乾燥器は多年にわたつて市販され
ており、全世界で広く利用されている。通常の型
式のものは２つの乾燥剤床からなり、その一方は
他方が乾燥サイクルにある間に、再生される。乾
燥されるガスは乾燥サイクルにある一方の乾燥剤
床を一方向に通過され、それから所定の持続時間
後、流出ガスの含湿レベルが要求される低い値に
維持できないように危険状態が生じるような、乾
燥剤の吸湿状態になつた時に、流入ガスは他方の
床へスイツチされて、使用済床は加熱により及
び／又は排出により、及び／又は通常は逆方向に
前記床に乾燥浄化流を通じることにより再生され
る。 今日市販されている乾燥剤による乾燥器は総体
的に２つの型式のものがあり、一つは加熱再生型
で、この場合乾燥サイクルの終了時に、使用済乾
燥剤を再生するために加熱されるようになつてお
り、また一つは無加熱要素型乾燥器で、この場合
乾燥サイクルの終了時に、使用済乾燥剤を再生す
るのに加熱されずに、乾燥ガスの浄化流を利用す
るようになつており、前記浄化流は通常は、乾燥
サイクルにある床からの流出ガスであり、低圧で
使用済床を通過され、使用済床の再生を助けるべ
く、吸着熱を維持するために速い周期で行なわれ
る。しかし、乾燥されるガスの管路圧力により低
圧を再生用ガス圧に利用することは、無加熱要素
型乾燥器に限定されるのではなく、無加熱要素型
の出現前多年にわたつて、加熱再生型乾燥剤乾燥
器にも利用されていた。 両型式の乾燥器は一定の、通常は等しい持続時
間の乾燥及び再生サイクルにおいて作動されてお
り、前記サイクルの長さは可能な乾燥剤の体積
と、流入空気の含湿量により定められる。サイク
ル時間は、流出ガスの含湿量が常に装置の要求を
満たすために、許容されるより非常に少なく一定
に定められる。乾燥サイクルが進行すると、乾燥
剤床は流入側端部から流出側端部へ向けて、次第
に飽和されて行き、且つ流入ガスにより移送され
る湿気の吸着能力は次第に小さくなる。流入ガス
からの湿気の除去は、ガスの流動速度、湿気の吸
着速度、及び吸着剤の含湿量、及び床内のガスの
温度及び圧力に依存する。乾燥剤による吸着速度
は、乾燥剤が負荷を受けるにつれて減少する。流
入ガスの含湿量はほとんど一定でないから、乾燥
剤床に対する要求は変動し、時には非常に速く、
また時には広い範囲にわたる。その結果、一定の
乾燥サイクル時間は流入ガスの最大含湿量におい
て、湿気の除去に安全な余裕を与えるために、常
に短くなければならず、これは、床の湿気吸着能
力が少なくなり過ぎないうちに、サイクル時間を
終わらせるために、しばしば一定のサイクル時間
が短か過ぎることになる、ということを意味す
る。これはもちろん、平均サイクルにおいては、
床の含湿能力は十分に利用されないことを意味し
ている。 再生のために加熱される乾燥剤の寿命は、再生
の回数にかなり依存する。商業上の経験から、乾
燥剤床は何回かの再生には有効であるが、それ以
上では有効でない。それから明らかなように、各
乾燥サイクルにおいて含湿能力が有効に利用され
ない場合は、床の有効寿命は不必要に短縮され
る。更に、加熱再生型及び無加熱要素型の両方に
おいて、各乾燥サイクル時に有効床能力を完全に
利用できないということは、一定時間の乾燥サイ
クル時に、流入ガスの極端ではあるが臨時的に生
じる含湿レベルを吸着するのに必要な能力を保有
するために、乾燥剤床の体積を必要以上に大きく
しなければならないことを意味する。 吸湿能力を完全に利用できないことから、各サ
イクルにおいて浄化ガスがかなり浪費されること
になる。浄化ガスは通常、使用済床の再生のため
に流出ガスから取出され、従つて流出ガス量が減
少される。床が乾燥サイクルから再生サイクルへ
移転される毎に、床容器の開放容積に等しい浄化
ガス量が放棄され、損失となる。短い周期は、長
い周期の場合より、浄化ガスの損失が多い。 このような損失は、より頻繁な周期が要求され
る無加熱要素型乾燥器においては、特に厳しい。
実際、加熱再生型と無加熱要素型乾燥器の間の選
択は、必要な周期の頻度により決められることが
多い。米国特許第2944627号（スカーストロム、
1960、７、12）明細書には、無加熱要素型乾燥器
が記載されており、これはそれより数年早い米国
特許第2800197号（ウインクープ、1957、７、23）
明細書、及び英国特許第633137号及び同第677150
号明細書に記載された装置を改良したものであ
る。前記米国特許第2944627号明細書には、各領
域において吸着と脱着の間に非常に速い周期を与
えることにより、脱着サイクルが使用済乾燥剤の
再生のために、吸着熱を有効に利用できることが
記載されている。従つて、吸着サイクルにおい
て、２〜３分間を越えない時間を、そして好まし
くは１分以下の時間を、そして非常に望ましくは
20秒以下の時間を利用することが示されている。
このサイクル時間は、勿論、前記米国特許第
2800197号明細書に記載された、30分またはそれ
以上のオーダーのものより短く、あるいは英国特
許第633137号明細書に記載された５分〜30分のサ
イクル時間より短い。英国特許第677150号明細書
には、吸着及び脱着サイクルは必ずしも同一であ
る必要はないと示されている。 米国特許第2944627号明細書に示される装置の
欠点は、各サイクルにおいてかなりの量の浄化ガ
スが失なわれることであり、この損失量は前述英
国特許明細書における５〜30分、及び米国特許第
2800197号明細書における30分またはそれ以上と
比較して、例えば10秒間のサイクル時間であつて
非常に多量である。勿論この短時間のサイクルに
おいては乾燥剤床の能力はほとんど利用されない
が、乾燥剤の再生にあたり熱が適用されない場合
は、吸着剤の含湿量が吸着サイクル時にある最小
値を越えることなく、あるいは再生サイクル時
に、吸着剤を有効に再生できないことになる。 乾燥器には流出ガスの露点を測定するために、
流出管路に検湿器が設けられる。しかし、応答が
遅いことと、低露点には敏感でないことから、こ
のような装置は、検湿器が流出ガス内に湿気を検
知する時間までに、湿気前線が床を離れてしまう
ことになるので、低露点の流出ガスまたは相対湿
度が望まれる場合は、乾燥器のサイクル時間を決
定するために利用することはできない。 米国特許第3448561号（セイバート、ペランド、
1969、６、10）明細書には、乾燥剤床の湿気負荷
により再生が必要になつた時だけ、その再生を行
なうようにして、乾燥剤床の含湿能力を有効に利
用すると共に、利用時に最適効率を得る、ガス乾
燥方法及び装置が示されている。各吸着サイクル
において、吸着剤は可能な再生状態で行なえる限
界含湿能力まで利用されるようになつており、こ
の場合、熱を適用するかしないか、また減圧する
かしないかにかかわらない。これは、乾燥される
ガスの含湿量に基づいて、床中の湿気前線の進行
を検知し、前記前線が床中の所定位置に到達し、
床から離れる前に、乾燥サイクルを停止すること
により可能となつている。これは乾燥剤床に乾燥
されるガスの含湿量を検知する装置を設け、含湿
量に応答して、乾燥されるガスの含湿量が所定値
に到達した時に、乾燥サイクルを停止させる装置
を設けることにより、自動的に行なわれる。 乾燥剤床が徐々に湿気を吸着するにつれて、床
中を湿気前線が前進することは、乾燥剤による乾
燥技術において良く知られた現象であり、多くの
特許明細書、例えば米国特許第2944627号明細書
において議論されている。乾燥サイクルの大部分
において、吸着剤はそこを通過するガスから湿気
を有効に吸着する。しかし、乾燥剤の吸着能力が
零に近づくと、それを通過するガスの含湿量は上
昇し、時には非常に急激に上昇してしまう。も
し、ガスの含湿量、露点または相対湿度が測定さ
れ、それが時間に対してプロツトされると、含湿
量の上昇が示されると共に、上昇が急激な場合
は、グラフの傾斜の変化により観察され得る。い
ずれの場合にも、流出ガスの含湿量が増大する
と、所定最小値を越え、流入ガスの含湿量に接近
してしまう。この曲線の、選定された最小含湿量
を越える部分は効果上湿気前線を表わしており、
これは傾斜変化の場合はＳ字または他の形状をな
し、且つこれが床の長さの範囲内で観察される場
合は、吸着サイクルの進行につれて、床の流入側
端部から流出側端部へ進行することが解る。目的
は、湿気前線または曲線の傾斜変化が床の端部に
到達する前にサイクルを終了することで、それは
その後は上昇が急速であり、望ましくない含湿量
を有する流出ガスの配送を防止できなくなるから
である。 米国特許第3448561号明細書においては、これ
は湿気前線が流出側端部に到達する前に乾燥サイ
クルを終了できるように、床内の流出側端部から
十分に隔置された装置において、前記前線の進行
を検知することにより防止されている。 この発明において、水蒸気と第２ガスとの混合
物において、水蒸気の濃度を限界最大濃度以下に
減少させる方法が提供されており、この方法は、
前記混合物を前記水蒸気に対して優先的に親和力
を有する吸着剤床に対して、その一端から他端へ
接触状態で流動させて、前記床に水蒸気を吸着さ
せると共に、前記最大値より低い濃度を有する流
出ガスを形成し、且つ吸着継続中に前記床内に、
前記一端から他端へ向けて次第に減少する水蒸気
濃度勾配を形成すると共に、吸着剤の吸着能力の
減少につれて、第２ガス内の水蒸気の濃度上昇に
より、前記床内にその一端から他端へ次第に前進
する濃度前線を画定させ、前記床内の前記湿気前
線の進行を、コンデンサーの静電容量の関数とし
て、前記吸着剤の水蒸気含有量の変化を決定する
ことにより検知するにあたり、前記吸着剤は誘電
体とし、且つ前記コンデンサーは前記床の端部か
ら十分に離れた位置に配置して、限界最大水蒸気
濃度を有する流出ガスが前記床から流出すること
を防止して、前記流出ガスが前記床から流出する
前に、そして前記第２ガス中の前記水蒸気濃度が
前記最大濃度を越える前に、前記ガス混合物を前
記床に接触した状態で流動させることを停止させ
るようにすると共に、前記床から前記水蒸気を脱
着させる脱着サイクルの脱着時間を濃度前線を検
知するコンデンサーの出力信号に基づき制御する
工程からなつている。 更にこの発明は、水蒸気と第２ガスとの混合物
の水蒸気濃度を、限界最大濃度以下に減少させる
装置を提供しており、この装置は、容器、前記容
器内に設けられて、前記水蒸気に対して優先的に
親和力を有する吸着剤床のための室、前記室の流
入側端部に流入ガスを配送する管路、前記床の流
出側端部から流出ガスを配送する管路、選定され
た表面積を有する２つの導体を備えたコンデンサ
ーであつて、前記導体は誘電体として吸着剤を収
容する空間を画定すべく、相互に十分な距離で隔
置されており、前記吸着剤の含湿量変化を例えば
誘電率の関数として検知し、それにより静電容量
が変化されるコンデンサー、選定された水蒸気含
有量を表示する選定された静電容量に到達または
越えた時、前記静電容量の変化に応答して信号を
発する装置、及び前記信号に応答して前記流入ガ
スの流動を遮断する装置、及び前記水蒸気を脱着
させる脱着サイクルの脱着時間を濃度前線を検知
するコンデンサーの出力信号に基づき制御する装
置、からなつている。 従つて、この発明の方法において、第２ガスと
の混合物における第１ガスの濃度を、第２ガス内
での限界最大濃度より低く減少されることがで
き、そのための工程は、前記混合物を第１ガスと
優先的に親和性を有する吸着剤床に対して、その
一端から他端へ接触させて流動させること、前記
床に第１ガスを吸着して、吸着の継続と共に床内
に一端から他端へ第１ガス濃度勾配を有する流出
ガスを形成すること、そして第２ガス中での第１
ガスの濃度増大により吸着剤の吸着能力の減少と
共に、前記床の一端から他端へ次第に進行する濃
度勾配を画定すること、前記床内の勾配の進行を
前記床内の含湿量の変化の関数として、従つて吸
着剤を誘電体としたコンデンサーの静電容量の関
数として検知すること、そして限界最大第１ガス
含量を有する流出ガスが前記床から流出する前
に、前記床と接触して混合ガスを流動させること
を停止すること、及び前記床から前記第１ガスを
脱着させる脱着サイクルの脱着時間を濃度前線を
検知するコンデンサーの出力信号に基づき制御す
ることからなつている。 この発明は、吸着剤床の一部または全部が再生
のために加熱されるガス吸着分留装置に、再生の
ために熱が適用されない装置に、再生が減圧状態
で行なわれる装置に、浄化ガス流を利用する装置
に、そしてこれらの一つまたはそれ以上を組合わ
せた装置に適用できる。 この発明の別の特徴として、再生時間は乾燥サ
イクルの持続時間と同一にする必要はなく、また
ほとんどの場合は同一ではないから、再生される
床はそれが完了した時、閉鎖することができ、加
熱、浄化、排出、あるいはいかなる再生装置も作
動が停止できる。残りのサイクル時間は、例え
ば、再生床の冷却に利用でき、前記床に対する流
入ガス流が再開された場合は、前述冷却された温
度が吸着には効果的であると共に、便利である。 この発明の乾燥装置は本質的な要素として吸着
剤床を備え、この床は周期的に、そして好ましく
は逆流により再生を行なわれ、一つまたは複数の
コンデンサーが床に設けられて、前記床の流出側
端部から十分な距離の位置において含湿量を検知
して、吸着されるガスが限界最大濃度を越えた流
出ガスが前記床から流出される前に、サイクルを
終了させることができるようにしている。 更に、そしてあるいは床の再生を静電容量の関
数として観察しようとする場合は、一つまたはそ
れ以上のコンデンサーが床内で、吸着ガスの脱着
が選定された低レベルに達するか、完了した時
に、再生を終了させることができる位置に配置さ
れる。 随意的には、この装置は前述再生時に熱を適用
する装置を設けることができる。この種の装置は
床全体に延びるように配置することができ、ある
いは乾燥サイクルの終了時に、含湿能力の20％の
オーダーまたはそれ以上の高含湿量を有する、吸
着剤床部位にのみ、即ち乾燥または吸着サイクル
時、流入流体が最初に接触する部位にのみ限定す
ることもできる。この場合、吸着剤床の残部は再
生時に加熱されず、その結果、その位置に加熱装
置は設けられない。床容積の非加熱部分は、所望
の大きさにすることができる。通常、床容積の1/
４〜3/4、そして好ましくは1/3〜2/3の部分が加熱
される。 効果上は、前述床の非加熱部分は予備床を構成
しており、これは通常の乾燥サイクルにおいて
は、ほとんど必要にならず、いずれの場合にも吸
着剤は比較的少量部分、例えは含湿能力の20％以
下のものを吸着するだけでなく、湿気が加熱装置
を備えた床部分で十分に吸着されない場合がな
く、望ましくない高含湿量の流出ガスが配送され
ることを防止するために設けられる。床の予備部
位の吸湿能力はほとんど利用されないから、浄化
流が加熱されるか否かにかかわらず、予備吸着剤
は浄化流により再生され、浄化ガスによりこの部
位から前方へ送られた湿気は、床の加熱部位を通
過後、床から効果的に除去される。 この発明の装置は一つの乾燥剤床から構成でき
るが、好ましい装置は一対の乾燥剤床を利用して
おり、これら床は適切な容器内に配置されると共
に、乾燥されるべき流入ガスの受容のため、そし
て乾燥流出ガスの配送のための管路に接続され
る。 乾燥装置は更に、再生時に減圧する目的のチエ
ツクの弁または絞り弁、及び流入ガス流を前記床
間へ循環させ、且つそこから流出ガス流を受容す
るための多チヤンネル型バルブを包含できる。更
に、再生される床へ逆流状態で浄化流として、乾
燥流出ガスの一部を転向する量または絞り弁を含
むことができる。 コンデンサーは床内の任意の部位において、静
電容量の関数として含湿量を検知できる。ある種
の乾燥器、例えば乾燥サイクル当りの乾燥剤床の
総含湿量レベルが非常に低い状態で作動する無加
熱要素型乾燥器においては、コンデンサーを床の
流入口に近接して、即ち床の流入口から床の長さ
の1/5の位置から床の半分の位置までに配置する
ことが望ましい。通常、最適な結果を得るため
に、45.8ｍ／分（150ft／分）までの流量にして、
望ましくない高含湿量の流出ガスが流出すること
を防止するようにされており、またコンデンサー
は床の流出側端部から床の長さの2/3〜1/5の範囲
の位置に配置される。しかし、コンデンサーの反
応が十分に速いか、または流出ガスの可能な含湿
量が高い値の場合は、コンデンサーは床の流出側
端部に隣接して配置できる。 床中のコンデンサーの位置はある程度は、床を
通る流出ガス流量により決定され、その場合、限
界最大含湿量を越える流出ガスが床から流出する
前に、その含湿量にコンデンサーが反応できるよ
うにしている。一般に、流量が大きくなれば、コ
ンデンサーは床の流出側端部から離して配置され
て、限界最大含湿量を越える流出ガスが、それが
床から流出して運転中の装置へ流入することを防
止するのに十分な速度で、検知されなければなら
ない。 コンデンサーの型式及び床中の位置は、限界最
大含湿量を越える流出ガスが床から流出する前
に、信号を発することができるように、乾燥され
るガスの含湿レベルを検知するように選択され
る。特定の装置に対して要求される安全余裕（係
数）は、利用される特定の装置に対する含湿量の
データを得て、それをプロツトすることにより、
経験的に容易に決定される。このことは、この発
明によることなく決定できるものである。 通常設計の任意のコンデンサーを利用すること
ができる。最も簡単な形態としては、相互に平行
な一対の平坦な金属シートが、可変または一定距
離で隔置されている。差込まれたシートの積重ね
体を形成すべく、交互のシートを連結することに
より、３枚またはそれ以上の平坦な平行金属シー
トを利用できる。数対のシートを吸着剤床の一つ
のレベルに取付けることができ、また前記対は電
気的に並列に接続される。 円筒形のものはチユーブ状導体を備え、線体、
ロツドまたはチユーブ状導体がその内部に同心状
または偏心して取付けられる。 吸着剤床を包含する容器の全殻体が一方の導体
の作用を有し、他方の導体は乾燥剤中に埋込まれ
た加熱要素または他の装置とすることができる。 プレートのために利用される導体は導電性であ
る限り、任意の形状にすることができ、例えば線
体、ロツド、シート、ストリツプ、網、焼結金属
等にすることができる。シート状導体または円筒
状導体は、それらが相互に電気的に絶縁されてい
るならば、それぞれ平行、または同心状にする必
要はない。導体は、コンデンサーを調整できるよ
うにするため、固定または調整自在にすることが
できる。 コンデンサーの２つの導体間の距離は、前記間
隔に乾燥剤を均一に充填するに要する容積により
決定される。コンデンサーの感度は間隔が増大す
るにつれて減少するから、できるだけ近接しなけ
ればならない。導体は裸金属、あるいは乾燥剤が
望ましくない程の高い導電性を示す場合は、乾燥
剤から絶縁するために電気絶縁層をコーテイング
したものにできる。この種の絶縁層としては非導
電性プラスチツク、例えばポリオレフイン、ポリ
エチレン、及びポリイソブチレン、合成及び天然
ゴム、エポキシ樹脂、セラミツク及びガラスが含
まれる。コンデンサーの２つの導体間の吸着剤
は、吸着剤床の状態を示す典型的なサンプルとし
て利用されるから、その部分が床を通るガス流の
全部または均一部分を受容することが重要であ
る。そのために、導体は流体に対してインライン
状に配置されるべきで、流れの一側に袋小路状に
配置されてはならない。 吸着剤床を含む容器の全殻体がコンデンサーの
一方のプレートの機能を有し、同軸のロツド、線
体、チユーブまたはシリンダーが前記殻体の内部
長さの一部分に延びると共に、他方の導体を構成
する場合は、コンデンサーは床の特定位置の含湿
負荷のサンプル表示を行なうのではなく、乾燥剤
床により吸着された総水量を検知する。 コンデンサーの静電容量の変化を電気的、機械
的、音響的または可視信号に転換する発信状態
は、幾つかの方法により達成される。ナシヨナ
ル・セミコンダクター社により製造された
LM2917N型集積回路が、周波数−電圧変換装置
として利用されるが、適切な外部要素及び接続に
より、静電容量−電圧変換装置としての機能を有
することができる。正弦波により励起されるブリ
ツジ回路もまた静電容量に比例する電圧を発生す
るのに使用出来る。随意的な増幅器、例えばナシ
ヨナル・セミコンダクター社の部品No.LM741N
を組入れた回路により、正弦波が発信され得る。
プローブ（針）がコンデンサーとして、定周波
数、定振幅の正弦波により励起される直列または
並列コンデンサー−導体回路に利用できる。励起
周波数及び誘導子の値を適切に選定することによ
り、この種の回路を、コンデンサーにより検知さ
れる範囲にわたつて、任意の静電容量値において
共鳴するように設計できる。この種の回路の出力
は、静電容量が共鳴を生じるのに必要な値に到達
すると、著しく変化する。再度、励起正弦波は
LM741Nまたは類似の作動増幅器を利用して発
せられる。静電容量は、逆転または非逆転増幅器
としての作動増幅器におけるフイードバツク要素
として、そして定周波数、定振幅の正弦波を増幅
するために利用される。この種の回路は正弦波出
力を有し、その振幅は静電容量の変化により調整
される。 一つまたはそれ以上のコンデンサーが、ガス分
留装置の少なくとも一つの、そして好ましくはす
べての吸着剤床に装着できる。 吸着剤床の選定位置に設けられた２つまたはそ
れ以上のコンデンサーは、床における湿気勾配ま
たは吸着された成分の勾配の進行を検知できる。
コンデンサーは床中で、通常はほとんど水蒸気ま
たは他の吸着成分を吸着しないか、検知できない
ような位置に取付けられて、水分または他の吸着
成分が床の前記部分に現われた時に、警報を発す
るように利用される。床中の異なるレベルに配置
された２つのコンデンサーが、静電容量を比較す
るために利用でき、「基準」コンデンサーは床中
の、常時含湿状態または常時乾燥状態にある部分
に配置され、「検知」コンデンサーは床中の、通
常作動時に乾燥状態から含湿状態へサイクルを形
成し、且つ復帰する部分に配置される。 コンデンサーは、最大静電容量が徐々に減少す
ることにより反映される、乾燥剤の水吸着能力の
損失をモニタリングし、且つ作動サイクルのある
段階において、吸着水により飽和される床部分に
取付けることにより、乾燥器の乾燥剤の状態（即
ち、水吸着能力）を表示するために利用できる。 乾燥剤の含湿量を決定するコンデンサーは吸着
剤床に配置できるが、そうする必要はなく、主乾
燥剤床の含湿量に関連する静電容量の変化をもた
らすに十分な量を有する、吸着剤床の代表的サン
プル内に、そして床から離れた別の位置に設ける
ことができる。後者の場合は、処理または浄化ガ
スの一部が前記部分を通して循環されて、例えば
誘電率の数項によりサンプル吸着剤床の含湿量に
比例的な変化を生じるようにされる。この種のコ
ンデンサーは流動状態にある主吸着剤床の状態に
関連するサンプル床内の吸着剤の状態を検知し、
適切にキヤリブレーシヨンすることにより、流出
ガスの湿気前線が床から流出する前に、応答信号
を発信するようになつている。 以下は、加熱乾燥器及び非加熱乾燥器におい
て、吸着及び／または再生サイクル時間を制御す
るための、コンデンサーの吸着剤床中の好ましい
位置の例を示している。 加熱乾燥器においては、各床は一つのコンデン
サーを有し、このコンデンサーは床が使い尽くさ
れた時に湿気前線が到達する。床中の位置に取付
けられる。湿気前線がコンデンサーを通過した時
の、コンデンサーの導体間の乾燥剤の吸着水量の
変化によりもたらされる、静電容量の比較的大き
い変動が、床を流動状態から非流動状態、即ち再
生のためのサイクルを開始させる信号へ変換され
る。２つの床が設けられた場合は、同時に、再生
された床が流動状態になされる。床が使い尽くさ
れたという基準は、所定の流出ガス露点を維持す
べく選定された床中の位置に、湿気前線が到達す
ることである。 加熱乾燥器の床中の別のコンデンサーが、床が
再生のために非流動状態にある時再生の完了を検
知するために利用される。 無加熱要素型乾燥器のサイクルを最適にする方
法は、この種の乾燥器に必要な一定のサイクル時
間により指示されるから、コンデンサーは再生床
への浄化ガスの配送持続時間を制御するために利
用される。最も直接的で好ましい方法は、コンデ
ンサーを各床の流入側端部付近に取付けて、再生
時に浄化ガスにより前記端部に向けて追われなが
ら、床の前記端部に湿気前線が到達するのを検知
することである。床が流動状態に戻された時に、
最大湿気負荷状態で流出ガスの露点を維持できる
位置まで、湿気前線が到達した場合は、浄化ガス
は遮断される。別のもつと複雑であまり望ましく
ない装置においては、コンデンサーは、湿気前線
が典型的な作動状態にある間に通過する床中の位
置に配置される。乾燥サイクルにおいて、その床
に設けられたコンデンサーを湿気前線が通過した
時間が蓄積され、そしてその床において湿気が乾
燥剤に吸着される速度が関連づけられる。この時
間は、例えばマイクロプロセツサーにより、床が
NEMAサイクルの再生部に入つた時の床の再生
に必要な浄化流量の計算に利用される。 コンデンサーの基本的な利点は、これが乾燥器
の性能をモニタリングするための、他の検知及
び／または計算方法に対して、床の含湿量を直接
表示し、従つて吸着に利用されている床の能力を
直接表示することで、これは湿気前線が通過する
床の深さ、従つて床の使用程度に関連づけられ
る。コンデンサーが乾燥または再生時間中に、湿
気前線の位置を決定するために利用されたとして
も、この情報と実際の関心を有するパラメータ、
例えば流出ガスの露点との間に直接の相関関係が
存する。誘電率として検知される含湿量の量的変
化を利用することにより、乾燥剤の負荷、露点及
び他のパラメータを量的に測定する検知及び制御
回路が設計される。コンデンサーのプレート間の
乾燥剤に吸着された水量の変化に対するコンデン
サーの応答は、瞬間的なものである。 含湿量によるコンデンサーの静電容量の変化に
応答する装置は、電気的、機械的、化学的、ある
いはその任意の組合わせにすることができるが、
静電容量の所定変化または所定静電容量に応答し
て、適切なバルブに信号を与え、あるいは制御し
て、乾燥サイクルまたは再生サイクルを終了さ
せ、且つ流出ガスの含湿レベルが所定最大値に到
達した時、流入及び流出ガスを一方のタンクから
他方のタンクへ移転できるようにすることが好ま
しい。 流出ガスの含湿量が所定レベルに到達するのに
要する時間は、直接吸着剤の吸湿能力及び含湿量
に相関づけられる。ガスが乾燥剤床の長さに沿つ
て進行すると、その含湿量は乾燥剤による湿気の
吸着速度に従つて、次第に減少する。乾燥剤によ
る湿気の吸着速度は吸湿能力、ガス圧力、ガス流
の温度及び流量に依存するから、所定の温度及び
圧力の流入ガスに対して、吸着剤の含湿負荷も所
定レベルに到達した時にのみ、流出ガスが所定含
湿レベルに到達することは明らかであろう。コン
デンサーは吸着剤の含湿負荷に直接応答するか
ら、この発明において、吸着剤の含湿量または負
荷に従つて、正確に乾燥サイクルの長さを調整す
ることができ、従つて突破の危険なく、各乾燥サ
イクルにおいて吸着剤の含湿能力を有効に利用で
きる。 その結果、この発明の乾燥剤による乾燥器は各
乾燥サイクル時、所定の含湿負荷の乾燥剤におい
て作動するように構成できる。これは、流入ガス
の含湿レベルが変化する場合は、それに従つて乾
燥サイクルの長さも自動的に調整されることを意
味している。その結果、乾燥サイクルはそれが必
要になるまで終了することがなく、且つ乾燥剤が
不必要に再生されることも除去される。従つて、
乾燥剤に予備能力を組入れる必要はなく、乾燥サ
イクルが利用される乾燥剤の含湿能力に依存する
から、従来必要とされたものより少量の乾燥剤で
十分てある。同時に、各サイクル時に失われる浄
化ガス量も絶対的少量に保持される。効果上は、
この発明の乾燥剤による乾燥器はその乾燥サイク
ルを、流入ガスの含湿量により与えられる要求に
従つて、自動的に調時することができ、その結
果、この発明の乾燥器は要請サイクル乾燥器と呼
ばれる。 他方、再生サイクルは乾燥サイクルの時間と同
一時間にする必要はなく、自動的に同一にしない
ことが好ましい。乾燥サイクルは要請により非常
に長くすることができるから、たとえ乾燥サイク
ルが継続していても、再生が完了した時終了する
よう時間を制御され得る。これにより、浄化流及
び床の加熱に利用されるエネルギーも、必要以上
に浪費されることはない。再生サイクルは吸着剤
の乾燥が終了した時に終了させるために、別のコ
ンデンサーに接続されており、もしこれを調時さ
れた再生サイクルが完了する前に行なう場合、あ
るいはコンデンサーが再生サイクルに接続できる
ならば、コンデンサーまたはタイマーは再生が完
了するまで、乾燥サイクルを終了させることはな
い。同じコンデンサーが、前述のように再生サイ
クルの制御にも利用できる。 無加熱要素型乾燥器において吸着剤床の処理ガ
スを不必要に放棄することを防止し、処理ガスの
流量が非常に小さい場合に付随する処理ガスの損
失を防止し、且つ重大な流量の浄化ガスを保証す
ることなく（放棄時に失われるガス量は、処理ガ
ス流量が非常に低い状態で、再生に必要な浄化ガ
ス量に比較して非常に大きいから、このような作
動形態は実質的に節約になる）するため、制御機
構にヒステリシスが導入される。静電容量による
検湿器は、再生を開始するのに必要な検知静電容
量より少し低い検知静電容量で、再生を終了させ
ることになる。従つて、完全に再生された床が処
理流量のない状態、そして質量移転領域の下方移
動がなく、且つ静電容量プローブの静電容量が増
大しない状態において、流動状態にスイツチされ
ると、再生半サイクルに入つた時、浄化流は要求
されず、圧力降下がない。これに対して、ヒステ
リシスを導入しない床では、再生が終了される静
電容量レベルも、再生の開始に必要な（最小）静
電容量レベルとして解釈されるから、再生半サイ
クルに入つた時、圧力降下し、非常に短時間浄化
することになる。 ヒステリシスの程度は、全効率を最適化するこ
とにより決定される。ヒステリシスを大きくした
場合は、浄化流が要求される前に実質的な量の水
分を床に蓄積し、圧力降下を生じさせることによ
り、圧力降下時に通常は失われる処理ガスの最大
量を節約する。これは低流量の場合は、多数の
NEMAサイクルに対して浄化流が要求されず、
その結果、吸着熱が失われる可能性のあることを
意味している。他方、ヒステリシスを比較的小さ
くすると、浄化流が要求される前に床には少量の
水を蓄積させることにより、吸着熱を利用でき
る。これは、吸着熱の消散のために少しの時間を
与えることにより、乾燥器が所定流量において、
より頻繁に浄化流を要求することを意味してい
る。その欠点は、頻繁な圧力降下により、多量の
処理ガスが失われることである。これら２つのフ
アクターは最適効率トレード・オフ（trade off）
を意味し、この乾燥器の各寸法に対して異なるヒ
ステリシスとなるトレード・オフは、制御回路設
計の一部である。 必要なヒステリシスは、第７図に示す電子信号
−調節回路に導入できる。抵抗Ｈがヒステリシス
を導入するのに必要な唯一の要素である。抵抗Ｈ
の値がヒステリシス量、即ち回路の出力が高また
は低状態になる２つの静電容量レベル間の差を決
定する。 ヒステリシスは２つのコンデンサーを床の少し
異なるレベルに置いて、上方コンデンサーを再生
の終了を合図するために利用し、下方コンデンサ
ーは下方流動乾燥器に再生を開始する必要性を合
図するために利用することにより利用できる。こ
の場合、ヒステリシス量は２つのプローブの垂直
距離を変えることにより調整できる。 この発明により、サイクルは湿気前線、または
含湿量カーブの傾斜の変化が床の端部に到達する
前に終了されるが、それはその後では上昇が急速
で、望ましくない含湿流出ガスの配送がほとんど
防止できないからである。これは、湿気前線が流
出端まで到達する前に、乾燥サイクルを終了でき
るように、床中の流出端から十分に隔置された位
置で湿気前線の前進を検知することにより、コン
デンサーにより防止される。 以下の比較例は、静電容量制御装置のヒステリ
シスの２つのレベルの処理ガス利用効率に対する
影響を示している：
ており、全世界で広く利用されている。通常の型
式のものは２つの乾燥剤床からなり、その一方は
他方が乾燥サイクルにある間に、再生される。乾
燥されるガスは乾燥サイクルにある一方の乾燥剤
床を一方向に通過され、それから所定の持続時間
後、流出ガスの含湿レベルが要求される低い値に
維持できないように危険状態が生じるような、乾
燥剤の吸湿状態になつた時に、流入ガスは他方の
床へスイツチされて、使用済床は加熱により及
び／又は排出により、及び／又は通常は逆方向に
前記床に乾燥浄化流を通じることにより再生され
る。 今日市販されている乾燥剤による乾燥器は総体
的に２つの型式のものがあり、一つは加熱再生型
で、この場合乾燥サイクルの終了時に、使用済乾
燥剤を再生するために加熱されるようになつてお
り、また一つは無加熱要素型乾燥器で、この場合
乾燥サイクルの終了時に、使用済乾燥剤を再生す
るのに加熱されずに、乾燥ガスの浄化流を利用す
るようになつており、前記浄化流は通常は、乾燥
サイクルにある床からの流出ガスであり、低圧で
使用済床を通過され、使用済床の再生を助けるべ
く、吸着熱を維持するために速い周期で行なわれ
る。しかし、乾燥されるガスの管路圧力により低
圧を再生用ガス圧に利用することは、無加熱要素
型乾燥器に限定されるのではなく、無加熱要素型
の出現前多年にわたつて、加熱再生型乾燥剤乾燥
器にも利用されていた。 両型式の乾燥器は一定の、通常は等しい持続時
間の乾燥及び再生サイクルにおいて作動されてお
り、前記サイクルの長さは可能な乾燥剤の体積
と、流入空気の含湿量により定められる。サイク
ル時間は、流出ガスの含湿量が常に装置の要求を
満たすために、許容されるより非常に少なく一定
に定められる。乾燥サイクルが進行すると、乾燥
剤床は流入側端部から流出側端部へ向けて、次第
に飽和されて行き、且つ流入ガスにより移送され
る湿気の吸着能力は次第に小さくなる。流入ガス
からの湿気の除去は、ガスの流動速度、湿気の吸
着速度、及び吸着剤の含湿量、及び床内のガスの
温度及び圧力に依存する。乾燥剤による吸着速度
は、乾燥剤が負荷を受けるにつれて減少する。流
入ガスの含湿量はほとんど一定でないから、乾燥
剤床に対する要求は変動し、時には非常に速く、
また時には広い範囲にわたる。その結果、一定の
乾燥サイクル時間は流入ガスの最大含湿量におい
て、湿気の除去に安全な余裕を与えるために、常
に短くなければならず、これは、床の湿気吸着能
力が少なくなり過ぎないうちに、サイクル時間を
終わらせるために、しばしば一定のサイクル時間
が短か過ぎることになる、ということを意味す
る。これはもちろん、平均サイクルにおいては、
床の含湿能力は十分に利用されないことを意味し
ている。 再生のために加熱される乾燥剤の寿命は、再生
の回数にかなり依存する。商業上の経験から、乾
燥剤床は何回かの再生には有効であるが、それ以
上では有効でない。それから明らかなように、各
乾燥サイクルにおいて含湿能力が有効に利用され
ない場合は、床の有効寿命は不必要に短縮され
る。更に、加熱再生型及び無加熱要素型の両方に
おいて、各乾燥サイクル時に有効床能力を完全に
利用できないということは、一定時間の乾燥サイ
クル時に、流入ガスの極端ではあるが臨時的に生
じる含湿レベルを吸着するのに必要な能力を保有
するために、乾燥剤床の体積を必要以上に大きく
しなければならないことを意味する。 吸湿能力を完全に利用できないことから、各サ
イクルにおいて浄化ガスがかなり浪費されること
になる。浄化ガスは通常、使用済床の再生のため
に流出ガスから取出され、従つて流出ガス量が減
少される。床が乾燥サイクルから再生サイクルへ
移転される毎に、床容器の開放容積に等しい浄化
ガス量が放棄され、損失となる。短い周期は、長
い周期の場合より、浄化ガスの損失が多い。 このような損失は、より頻繁な周期が要求され
る無加熱要素型乾燥器においては、特に厳しい。
実際、加熱再生型と無加熱要素型乾燥器の間の選
択は、必要な周期の頻度により決められることが
多い。米国特許第2944627号（スカーストロム、
1960、７、12）明細書には、無加熱要素型乾燥器
が記載されており、これはそれより数年早い米国
特許第2800197号（ウインクープ、1957、７、23）
明細書、及び英国特許第633137号及び同第677150
号明細書に記載された装置を改良したものであ
る。前記米国特許第2944627号明細書には、各領
域において吸着と脱着の間に非常に速い周期を与
えることにより、脱着サイクルが使用済乾燥剤の
再生のために、吸着熱を有効に利用できることが
記載されている。従つて、吸着サイクルにおい
て、２〜３分間を越えない時間を、そして好まし
くは１分以下の時間を、そして非常に望ましくは
20秒以下の時間を利用することが示されている。
このサイクル時間は、勿論、前記米国特許第
2800197号明細書に記載された、30分またはそれ
以上のオーダーのものより短く、あるいは英国特
許第633137号明細書に記載された５分〜30分のサ
イクル時間より短い。英国特許第677150号明細書
には、吸着及び脱着サイクルは必ずしも同一であ
る必要はないと示されている。 米国特許第2944627号明細書に示される装置の
欠点は、各サイクルにおいてかなりの量の浄化ガ
スが失なわれることであり、この損失量は前述英
国特許明細書における５〜30分、及び米国特許第
2800197号明細書における30分またはそれ以上と
比較して、例えば10秒間のサイクル時間であつて
非常に多量である。勿論この短時間のサイクルに
おいては乾燥剤床の能力はほとんど利用されない
が、乾燥剤の再生にあたり熱が適用されない場合
は、吸着剤の含湿量が吸着サイクル時にある最小
値を越えることなく、あるいは再生サイクル時
に、吸着剤を有効に再生できないことになる。 乾燥器には流出ガスの露点を測定するために、
流出管路に検湿器が設けられる。しかし、応答が
遅いことと、低露点には敏感でないことから、こ
のような装置は、検湿器が流出ガス内に湿気を検
知する時間までに、湿気前線が床を離れてしまう
ことになるので、低露点の流出ガスまたは相対湿
度が望まれる場合は、乾燥器のサイクル時間を決
定するために利用することはできない。 米国特許第3448561号（セイバート、ペランド、
1969、６、10）明細書には、乾燥剤床の湿気負荷
により再生が必要になつた時だけ、その再生を行
なうようにして、乾燥剤床の含湿能力を有効に利
用すると共に、利用時に最適効率を得る、ガス乾
燥方法及び装置が示されている。各吸着サイクル
において、吸着剤は可能な再生状態で行なえる限
界含湿能力まで利用されるようになつており、こ
の場合、熱を適用するかしないか、また減圧する
かしないかにかかわらない。これは、乾燥される
ガスの含湿量に基づいて、床中の湿気前線の進行
を検知し、前記前線が床中の所定位置に到達し、
床から離れる前に、乾燥サイクルを停止すること
により可能となつている。これは乾燥剤床に乾燥
されるガスの含湿量を検知する装置を設け、含湿
量に応答して、乾燥されるガスの含湿量が所定値
に到達した時に、乾燥サイクルを停止させる装置
を設けることにより、自動的に行なわれる。 乾燥剤床が徐々に湿気を吸着するにつれて、床
中を湿気前線が前進することは、乾燥剤による乾
燥技術において良く知られた現象であり、多くの
特許明細書、例えば米国特許第2944627号明細書
において議論されている。乾燥サイクルの大部分
において、吸着剤はそこを通過するガスから湿気
を有効に吸着する。しかし、乾燥剤の吸着能力が
零に近づくと、それを通過するガスの含湿量は上
昇し、時には非常に急激に上昇してしまう。も
し、ガスの含湿量、露点または相対湿度が測定さ
れ、それが時間に対してプロツトされると、含湿
量の上昇が示されると共に、上昇が急激な場合
は、グラフの傾斜の変化により観察され得る。い
ずれの場合にも、流出ガスの含湿量が増大する
と、所定最小値を越え、流入ガスの含湿量に接近
してしまう。この曲線の、選定された最小含湿量
を越える部分は効果上湿気前線を表わしており、
これは傾斜変化の場合はＳ字または他の形状をな
し、且つこれが床の長さの範囲内で観察される場
合は、吸着サイクルの進行につれて、床の流入側
端部から流出側端部へ進行することが解る。目的
は、湿気前線または曲線の傾斜変化が床の端部に
到達する前にサイクルを終了することで、それは
その後は上昇が急速であり、望ましくない含湿量
を有する流出ガスの配送を防止できなくなるから
である。 米国特許第3448561号明細書においては、これ
は湿気前線が流出側端部に到達する前に乾燥サイ
クルを終了できるように、床内の流出側端部から
十分に隔置された装置において、前記前線の進行
を検知することにより防止されている。 この発明において、水蒸気と第２ガスとの混合
物において、水蒸気の濃度を限界最大濃度以下に
減少させる方法が提供されており、この方法は、
前記混合物を前記水蒸気に対して優先的に親和力
を有する吸着剤床に対して、その一端から他端へ
接触状態で流動させて、前記床に水蒸気を吸着さ
せると共に、前記最大値より低い濃度を有する流
出ガスを形成し、且つ吸着継続中に前記床内に、
前記一端から他端へ向けて次第に減少する水蒸気
濃度勾配を形成すると共に、吸着剤の吸着能力の
減少につれて、第２ガス内の水蒸気の濃度上昇に
より、前記床内にその一端から他端へ次第に前進
する濃度前線を画定させ、前記床内の前記湿気前
線の進行を、コンデンサーの静電容量の関数とし
て、前記吸着剤の水蒸気含有量の変化を決定する
ことにより検知するにあたり、前記吸着剤は誘電
体とし、且つ前記コンデンサーは前記床の端部か
ら十分に離れた位置に配置して、限界最大水蒸気
濃度を有する流出ガスが前記床から流出すること
を防止して、前記流出ガスが前記床から流出する
前に、そして前記第２ガス中の前記水蒸気濃度が
前記最大濃度を越える前に、前記ガス混合物を前
記床に接触した状態で流動させることを停止させ
るようにすると共に、前記床から前記水蒸気を脱
着させる脱着サイクルの脱着時間を濃度前線を検
知するコンデンサーの出力信号に基づき制御する
工程からなつている。 更にこの発明は、水蒸気と第２ガスとの混合物
の水蒸気濃度を、限界最大濃度以下に減少させる
装置を提供しており、この装置は、容器、前記容
器内に設けられて、前記水蒸気に対して優先的に
親和力を有する吸着剤床のための室、前記室の流
入側端部に流入ガスを配送する管路、前記床の流
出側端部から流出ガスを配送する管路、選定され
た表面積を有する２つの導体を備えたコンデンサ
ーであつて、前記導体は誘電体として吸着剤を収
容する空間を画定すべく、相互に十分な距離で隔
置されており、前記吸着剤の含湿量変化を例えば
誘電率の関数として検知し、それにより静電容量
が変化されるコンデンサー、選定された水蒸気含
有量を表示する選定された静電容量に到達または
越えた時、前記静電容量の変化に応答して信号を
発する装置、及び前記信号に応答して前記流入ガ
スの流動を遮断する装置、及び前記水蒸気を脱着
させる脱着サイクルの脱着時間を濃度前線を検知
するコンデンサーの出力信号に基づき制御する装
置、からなつている。 従つて、この発明の方法において、第２ガスと
の混合物における第１ガスの濃度を、第２ガス内
での限界最大濃度より低く減少されることがで
き、そのための工程は、前記混合物を第１ガスと
優先的に親和性を有する吸着剤床に対して、その
一端から他端へ接触させて流動させること、前記
床に第１ガスを吸着して、吸着の継続と共に床内
に一端から他端へ第１ガス濃度勾配を有する流出
ガスを形成すること、そして第２ガス中での第１
ガスの濃度増大により吸着剤の吸着能力の減少と
共に、前記床の一端から他端へ次第に進行する濃
度勾配を画定すること、前記床内の勾配の進行を
前記床内の含湿量の変化の関数として、従つて吸
着剤を誘電体としたコンデンサーの静電容量の関
数として検知すること、そして限界最大第１ガス
含量を有する流出ガスが前記床から流出する前
に、前記床と接触して混合ガスを流動させること
を停止すること、及び前記床から前記第１ガスを
脱着させる脱着サイクルの脱着時間を濃度前線を
検知するコンデンサーの出力信号に基づき制御す
ることからなつている。 この発明は、吸着剤床の一部または全部が再生
のために加熱されるガス吸着分留装置に、再生の
ために熱が適用されない装置に、再生が減圧状態
で行なわれる装置に、浄化ガス流を利用する装置
に、そしてこれらの一つまたはそれ以上を組合わ
せた装置に適用できる。 この発明の別の特徴として、再生時間は乾燥サ
イクルの持続時間と同一にする必要はなく、また
ほとんどの場合は同一ではないから、再生される
床はそれが完了した時、閉鎖することができ、加
熱、浄化、排出、あるいはいかなる再生装置も作
動が停止できる。残りのサイクル時間は、例え
ば、再生床の冷却に利用でき、前記床に対する流
入ガス流が再開された場合は、前述冷却された温
度が吸着には効果的であると共に、便利である。 この発明の乾燥装置は本質的な要素として吸着
剤床を備え、この床は周期的に、そして好ましく
は逆流により再生を行なわれ、一つまたは複数の
コンデンサーが床に設けられて、前記床の流出側
端部から十分な距離の位置において含湿量を検知
して、吸着されるガスが限界最大濃度を越えた流
出ガスが前記床から流出される前に、サイクルを
終了させることができるようにしている。 更に、そしてあるいは床の再生を静電容量の関
数として観察しようとする場合は、一つまたはそ
れ以上のコンデンサーが床内で、吸着ガスの脱着
が選定された低レベルに達するか、完了した時
に、再生を終了させることができる位置に配置さ
れる。 随意的には、この装置は前述再生時に熱を適用
する装置を設けることができる。この種の装置は
床全体に延びるように配置することができ、ある
いは乾燥サイクルの終了時に、含湿能力の20％の
オーダーまたはそれ以上の高含湿量を有する、吸
着剤床部位にのみ、即ち乾燥または吸着サイクル
時、流入流体が最初に接触する部位にのみ限定す
ることもできる。この場合、吸着剤床の残部は再
生時に加熱されず、その結果、その位置に加熱装
置は設けられない。床容積の非加熱部分は、所望
の大きさにすることができる。通常、床容積の1/
４〜3/4、そして好ましくは1/3〜2/3の部分が加熱
される。 効果上は、前述床の非加熱部分は予備床を構成
しており、これは通常の乾燥サイクルにおいて
は、ほとんど必要にならず、いずれの場合にも吸
着剤は比較的少量部分、例えは含湿能力の20％以
下のものを吸着するだけでなく、湿気が加熱装置
を備えた床部分で十分に吸着されない場合がな
く、望ましくない高含湿量の流出ガスが配送され
ることを防止するために設けられる。床の予備部
位の吸湿能力はほとんど利用されないから、浄化
流が加熱されるか否かにかかわらず、予備吸着剤
は浄化流により再生され、浄化ガスによりこの部
位から前方へ送られた湿気は、床の加熱部位を通
過後、床から効果的に除去される。 この発明の装置は一つの乾燥剤床から構成でき
るが、好ましい装置は一対の乾燥剤床を利用して
おり、これら床は適切な容器内に配置されると共
に、乾燥されるべき流入ガスの受容のため、そし
て乾燥流出ガスの配送のための管路に接続され
る。 乾燥装置は更に、再生時に減圧する目的のチエ
ツクの弁または絞り弁、及び流入ガス流を前記床
間へ循環させ、且つそこから流出ガス流を受容す
るための多チヤンネル型バルブを包含できる。更
に、再生される床へ逆流状態で浄化流として、乾
燥流出ガスの一部を転向する量または絞り弁を含
むことができる。 コンデンサーは床内の任意の部位において、静
電容量の関数として含湿量を検知できる。ある種
の乾燥器、例えば乾燥サイクル当りの乾燥剤床の
総含湿量レベルが非常に低い状態で作動する無加
熱要素型乾燥器においては、コンデンサーを床の
流入口に近接して、即ち床の流入口から床の長さ
の1/5の位置から床の半分の位置までに配置する
ことが望ましい。通常、最適な結果を得るため
に、45.8ｍ／分（150ft／分）までの流量にして、
望ましくない高含湿量の流出ガスが流出すること
を防止するようにされており、またコンデンサー
は床の流出側端部から床の長さの2/3〜1/5の範囲
の位置に配置される。しかし、コンデンサーの反
応が十分に速いか、または流出ガスの可能な含湿
量が高い値の場合は、コンデンサーは床の流出側
端部に隣接して配置できる。 床中のコンデンサーの位置はある程度は、床を
通る流出ガス流量により決定され、その場合、限
界最大含湿量を越える流出ガスが床から流出する
前に、その含湿量にコンデンサーが反応できるよ
うにしている。一般に、流量が大きくなれば、コ
ンデンサーは床の流出側端部から離して配置され
て、限界最大含湿量を越える流出ガスが、それが
床から流出して運転中の装置へ流入することを防
止するのに十分な速度で、検知されなければなら
ない。 コンデンサーの型式及び床中の位置は、限界最
大含湿量を越える流出ガスが床から流出する前
に、信号を発することができるように、乾燥され
るガスの含湿レベルを検知するように選択され
る。特定の装置に対して要求される安全余裕（係
数）は、利用される特定の装置に対する含湿量の
データを得て、それをプロツトすることにより、
経験的に容易に決定される。このことは、この発
明によることなく決定できるものである。 通常設計の任意のコンデンサーを利用すること
ができる。最も簡単な形態としては、相互に平行
な一対の平坦な金属シートが、可変または一定距
離で隔置されている。差込まれたシートの積重ね
体を形成すべく、交互のシートを連結することに
より、３枚またはそれ以上の平坦な平行金属シー
トを利用できる。数対のシートを吸着剤床の一つ
のレベルに取付けることができ、また前記対は電
気的に並列に接続される。 円筒形のものはチユーブ状導体を備え、線体、
ロツドまたはチユーブ状導体がその内部に同心状
または偏心して取付けられる。 吸着剤床を包含する容器の全殻体が一方の導体
の作用を有し、他方の導体は乾燥剤中に埋込まれ
た加熱要素または他の装置とすることができる。 プレートのために利用される導体は導電性であ
る限り、任意の形状にすることができ、例えば線
体、ロツド、シート、ストリツプ、網、焼結金属
等にすることができる。シート状導体または円筒
状導体は、それらが相互に電気的に絶縁されてい
るならば、それぞれ平行、または同心状にする必
要はない。導体は、コンデンサーを調整できるよ
うにするため、固定または調整自在にすることが
できる。 コンデンサーの２つの導体間の距離は、前記間
隔に乾燥剤を均一に充填するに要する容積により
決定される。コンデンサーの感度は間隔が増大す
るにつれて減少するから、できるだけ近接しなけ
ればならない。導体は裸金属、あるいは乾燥剤が
望ましくない程の高い導電性を示す場合は、乾燥
剤から絶縁するために電気絶縁層をコーテイング
したものにできる。この種の絶縁層としては非導
電性プラスチツク、例えばポリオレフイン、ポリ
エチレン、及びポリイソブチレン、合成及び天然
ゴム、エポキシ樹脂、セラミツク及びガラスが含
まれる。コンデンサーの２つの導体間の吸着剤
は、吸着剤床の状態を示す典型的なサンプルとし
て利用されるから、その部分が床を通るガス流の
全部または均一部分を受容することが重要であ
る。そのために、導体は流体に対してインライン
状に配置されるべきで、流れの一側に袋小路状に
配置されてはならない。 吸着剤床を含む容器の全殻体がコンデンサーの
一方のプレートの機能を有し、同軸のロツド、線
体、チユーブまたはシリンダーが前記殻体の内部
長さの一部分に延びると共に、他方の導体を構成
する場合は、コンデンサーは床の特定位置の含湿
負荷のサンプル表示を行なうのではなく、乾燥剤
床により吸着された総水量を検知する。 コンデンサーの静電容量の変化を電気的、機械
的、音響的または可視信号に転換する発信状態
は、幾つかの方法により達成される。ナシヨナ
ル・セミコンダクター社により製造された
LM2917N型集積回路が、周波数−電圧変換装置
として利用されるが、適切な外部要素及び接続に
より、静電容量−電圧変換装置としての機能を有
することができる。正弦波により励起されるブリ
ツジ回路もまた静電容量に比例する電圧を発生す
るのに使用出来る。随意的な増幅器、例えばナシ
ヨナル・セミコンダクター社の部品No.LM741N
を組入れた回路により、正弦波が発信され得る。
プローブ（針）がコンデンサーとして、定周波
数、定振幅の正弦波により励起される直列または
並列コンデンサー−導体回路に利用できる。励起
周波数及び誘導子の値を適切に選定することによ
り、この種の回路を、コンデンサーにより検知さ
れる範囲にわたつて、任意の静電容量値において
共鳴するように設計できる。この種の回路の出力
は、静電容量が共鳴を生じるのに必要な値に到達
すると、著しく変化する。再度、励起正弦波は
LM741Nまたは類似の作動増幅器を利用して発
せられる。静電容量は、逆転または非逆転増幅器
としての作動増幅器におけるフイードバツク要素
として、そして定周波数、定振幅の正弦波を増幅
するために利用される。この種の回路は正弦波出
力を有し、その振幅は静電容量の変化により調整
される。 一つまたはそれ以上のコンデンサーが、ガス分
留装置の少なくとも一つの、そして好ましくはす
べての吸着剤床に装着できる。 吸着剤床の選定位置に設けられた２つまたはそ
れ以上のコンデンサーは、床における湿気勾配ま
たは吸着された成分の勾配の進行を検知できる。
コンデンサーは床中で、通常はほとんど水蒸気ま
たは他の吸着成分を吸着しないか、検知できない
ような位置に取付けられて、水分または他の吸着
成分が床の前記部分に現われた時に、警報を発す
るように利用される。床中の異なるレベルに配置
された２つのコンデンサーが、静電容量を比較す
るために利用でき、「基準」コンデンサーは床中
の、常時含湿状態または常時乾燥状態にある部分
に配置され、「検知」コンデンサーは床中の、通
常作動時に乾燥状態から含湿状態へサイクルを形
成し、且つ復帰する部分に配置される。 コンデンサーは、最大静電容量が徐々に減少す
ることにより反映される、乾燥剤の水吸着能力の
損失をモニタリングし、且つ作動サイクルのある
段階において、吸着水により飽和される床部分に
取付けることにより、乾燥器の乾燥剤の状態（即
ち、水吸着能力）を表示するために利用できる。 乾燥剤の含湿量を決定するコンデンサーは吸着
剤床に配置できるが、そうする必要はなく、主乾
燥剤床の含湿量に関連する静電容量の変化をもた
らすに十分な量を有する、吸着剤床の代表的サン
プル内に、そして床から離れた別の位置に設ける
ことができる。後者の場合は、処理または浄化ガ
スの一部が前記部分を通して循環されて、例えば
誘電率の数項によりサンプル吸着剤床の含湿量に
比例的な変化を生じるようにされる。この種のコ
ンデンサーは流動状態にある主吸着剤床の状態に
関連するサンプル床内の吸着剤の状態を検知し、
適切にキヤリブレーシヨンすることにより、流出
ガスの湿気前線が床から流出する前に、応答信号
を発信するようになつている。 以下は、加熱乾燥器及び非加熱乾燥器におい
て、吸着及び／または再生サイクル時間を制御す
るための、コンデンサーの吸着剤床中の好ましい
位置の例を示している。 加熱乾燥器においては、各床は一つのコンデン
サーを有し、このコンデンサーは床が使い尽くさ
れた時に湿気前線が到達する。床中の位置に取付
けられる。湿気前線がコンデンサーを通過した時
の、コンデンサーの導体間の乾燥剤の吸着水量の
変化によりもたらされる、静電容量の比較的大き
い変動が、床を流動状態から非流動状態、即ち再
生のためのサイクルを開始させる信号へ変換され
る。２つの床が設けられた場合は、同時に、再生
された床が流動状態になされる。床が使い尽くさ
れたという基準は、所定の流出ガス露点を維持す
べく選定された床中の位置に、湿気前線が到達す
ることである。 加熱乾燥器の床中の別のコンデンサーが、床が
再生のために非流動状態にある時再生の完了を検
知するために利用される。 無加熱要素型乾燥器のサイクルを最適にする方
法は、この種の乾燥器に必要な一定のサイクル時
間により指示されるから、コンデンサーは再生床
への浄化ガスの配送持続時間を制御するために利
用される。最も直接的で好ましい方法は、コンデ
ンサーを各床の流入側端部付近に取付けて、再生
時に浄化ガスにより前記端部に向けて追われなが
ら、床の前記端部に湿気前線が到達するのを検知
することである。床が流動状態に戻された時に、
最大湿気負荷状態で流出ガスの露点を維持できる
位置まで、湿気前線が到達した場合は、浄化ガス
は遮断される。別のもつと複雑であまり望ましく
ない装置においては、コンデンサーは、湿気前線
が典型的な作動状態にある間に通過する床中の位
置に配置される。乾燥サイクルにおいて、その床
に設けられたコンデンサーを湿気前線が通過した
時間が蓄積され、そしてその床において湿気が乾
燥剤に吸着される速度が関連づけられる。この時
間は、例えばマイクロプロセツサーにより、床が
NEMAサイクルの再生部に入つた時の床の再生
に必要な浄化流量の計算に利用される。 コンデンサーの基本的な利点は、これが乾燥器
の性能をモニタリングするための、他の検知及
び／または計算方法に対して、床の含湿量を直接
表示し、従つて吸着に利用されている床の能力を
直接表示することで、これは湿気前線が通過する
床の深さ、従つて床の使用程度に関連づけられ
る。コンデンサーが乾燥または再生時間中に、湿
気前線の位置を決定するために利用されたとして
も、この情報と実際の関心を有するパラメータ、
例えば流出ガスの露点との間に直接の相関関係が
存する。誘電率として検知される含湿量の量的変
化を利用することにより、乾燥剤の負荷、露点及
び他のパラメータを量的に測定する検知及び制御
回路が設計される。コンデンサーのプレート間の
乾燥剤に吸着された水量の変化に対するコンデン
サーの応答は、瞬間的なものである。 含湿量によるコンデンサーの静電容量の変化に
応答する装置は、電気的、機械的、化学的、ある
いはその任意の組合わせにすることができるが、
静電容量の所定変化または所定静電容量に応答し
て、適切なバルブに信号を与え、あるいは制御し
て、乾燥サイクルまたは再生サイクルを終了さ
せ、且つ流出ガスの含湿レベルが所定最大値に到
達した時、流入及び流出ガスを一方のタンクから
他方のタンクへ移転できるようにすることが好ま
しい。 流出ガスの含湿量が所定レベルに到達するのに
要する時間は、直接吸着剤の吸湿能力及び含湿量
に相関づけられる。ガスが乾燥剤床の長さに沿つ
て進行すると、その含湿量は乾燥剤による湿気の
吸着速度に従つて、次第に減少する。乾燥剤によ
る湿気の吸着速度は吸湿能力、ガス圧力、ガス流
の温度及び流量に依存するから、所定の温度及び
圧力の流入ガスに対して、吸着剤の含湿負荷も所
定レベルに到達した時にのみ、流出ガスが所定含
湿レベルに到達することは明らかであろう。コン
デンサーは吸着剤の含湿負荷に直接応答するか
ら、この発明において、吸着剤の含湿量または負
荷に従つて、正確に乾燥サイクルの長さを調整す
ることができ、従つて突破の危険なく、各乾燥サ
イクルにおいて吸着剤の含湿能力を有効に利用で
きる。 その結果、この発明の乾燥剤による乾燥器は各
乾燥サイクル時、所定の含湿負荷の乾燥剤におい
て作動するように構成できる。これは、流入ガス
の含湿レベルが変化する場合は、それに従つて乾
燥サイクルの長さも自動的に調整されることを意
味している。その結果、乾燥サイクルはそれが必
要になるまで終了することがなく、且つ乾燥剤が
不必要に再生されることも除去される。従つて、
乾燥剤に予備能力を組入れる必要はなく、乾燥サ
イクルが利用される乾燥剤の含湿能力に依存する
から、従来必要とされたものより少量の乾燥剤で
十分てある。同時に、各サイクル時に失われる浄
化ガス量も絶対的少量に保持される。効果上は、
この発明の乾燥剤による乾燥器はその乾燥サイク
ルを、流入ガスの含湿量により与えられる要求に
従つて、自動的に調時することができ、その結
果、この発明の乾燥器は要請サイクル乾燥器と呼
ばれる。 他方、再生サイクルは乾燥サイクルの時間と同
一時間にする必要はなく、自動的に同一にしない
ことが好ましい。乾燥サイクルは要請により非常
に長くすることができるから、たとえ乾燥サイク
ルが継続していても、再生が完了した時終了する
よう時間を制御され得る。これにより、浄化流及
び床の加熱に利用されるエネルギーも、必要以上
に浪費されることはない。再生サイクルは吸着剤
の乾燥が終了した時に終了させるために、別のコ
ンデンサーに接続されており、もしこれを調時さ
れた再生サイクルが完了する前に行なう場合、あ
るいはコンデンサーが再生サイクルに接続できる
ならば、コンデンサーまたはタイマーは再生が完
了するまで、乾燥サイクルを終了させることはな
い。同じコンデンサーが、前述のように再生サイ
クルの制御にも利用できる。 無加熱要素型乾燥器において吸着剤床の処理ガ
スを不必要に放棄することを防止し、処理ガスの
流量が非常に小さい場合に付随する処理ガスの損
失を防止し、且つ重大な流量の浄化ガスを保証す
ることなく（放棄時に失われるガス量は、処理ガ
ス流量が非常に低い状態で、再生に必要な浄化ガ
ス量に比較して非常に大きいから、このような作
動形態は実質的に節約になる）するため、制御機
構にヒステリシスが導入される。静電容量による
検湿器は、再生を開始するのに必要な検知静電容
量より少し低い検知静電容量で、再生を終了させ
ることになる。従つて、完全に再生された床が処
理流量のない状態、そして質量移転領域の下方移
動がなく、且つ静電容量プローブの静電容量が増
大しない状態において、流動状態にスイツチされ
ると、再生半サイクルに入つた時、浄化流は要求
されず、圧力降下がない。これに対して、ヒステ
リシスを導入しない床では、再生が終了される静
電容量レベルも、再生の開始に必要な（最小）静
電容量レベルとして解釈されるから、再生半サイ
クルに入つた時、圧力降下し、非常に短時間浄化
することになる。 ヒステリシスの程度は、全効率を最適化するこ
とにより決定される。ヒステリシスを大きくした
場合は、浄化流が要求される前に実質的な量の水
分を床に蓄積し、圧力降下を生じさせることによ
り、圧力降下時に通常は失われる処理ガスの最大
量を節約する。これは低流量の場合は、多数の
NEMAサイクルに対して浄化流が要求されず、
その結果、吸着熱が失われる可能性のあることを
意味している。他方、ヒステリシスを比較的小さ
くすると、浄化流が要求される前に床には少量の
水を蓄積させることにより、吸着熱を利用でき
る。これは、吸着熱の消散のために少しの時間を
与えることにより、乾燥器が所定流量において、
より頻繁に浄化流を要求することを意味してい
る。その欠点は、頻繁な圧力降下により、多量の
処理ガスが失われることである。これら２つのフ
アクターは最適効率トレード・オフ（trade off）
を意味し、この乾燥器の各寸法に対して異なるヒ
ステリシスとなるトレード・オフは、制御回路設
計の一部である。 必要なヒステリシスは、第７図に示す電子信号
−調節回路に導入できる。抵抗Ｈがヒステリシス
を導入するのに必要な唯一の要素である。抵抗Ｈ
の値がヒステリシス量、即ち回路の出力が高また
は低状態になる２つの静電容量レベル間の差を決
定する。 ヒステリシスは２つのコンデンサーを床の少し
異なるレベルに置いて、上方コンデンサーを再生
の終了を合図するために利用し、下方コンデンサ
ーは下方流動乾燥器に再生を開始する必要性を合
図するために利用することにより利用できる。こ
の場合、ヒステリシス量は２つのプローブの垂直
距離を変えることにより調整できる。 この発明により、サイクルは湿気前線、または
含湿量カーブの傾斜の変化が床の端部に到達する
前に終了されるが、それはその後では上昇が急速
で、望ましくない含湿流出ガスの配送がほとんど
防止できないからである。これは、湿気前線が流
出端まで到達する前に、乾燥サイクルを終了でき
るように、床中の流出端から十分に隔置された位
置で湿気前線の前進を検知することにより、コン
デンサーにより防止される。 以下の比較例は、静電容量制御装置のヒステリ
シスの２つのレベルの処理ガス利用効率に対する
影響を示している：
【表】
平均浄化時間
利用された150DHAに対する流入状態はほとん
ど同一である： 高テストに対しては、4.7Kg／cm2（67.5psig）の
圧力で流入量は125.8scfmであり、低テストに対
しては、4.76Kg／cm2（68psig）の圧力で流入量は
124.5scfmである。低ヒステリシス・テストは各
サイクルに浄化流が要求された。高ヒステリシ
ス・テストは総計66の放棄を節約した。 一回の放棄当りの損失ガス量は、利用される浄
化流量の約11秒に等しく、高ヒステリシス運転で
は726秒の浄化流量に等しい処理ガスが節約され
ることになる。201回の半サイクルに対して平均
すると、半サイクル当り約3.6秒の浄化流量に等
しい平均的な節約が得られる。 これにより半サイクル当り、186.4秒間の浄化
流に等しいガス消費が減少される。従つて、高ヒ
ステリシス・テストは放棄を節約できるが、流出
口状態を維持するために低ヒステリシス・テスト
より多量のガスを消費する。 この実施状態は第１図に示されている。 第１図は、コンデンサーを床の流出側端部から
76.2cm（30in）の一連のＸ点と、床の流出側端部
から61cm（24in）の一連のＹ点に配置して検知し
て、床の静電容量の関数として決定された吸着剤
床の含湿量を、ガスが乾燥される時間に対してプ
ロツトした、37.8℃（100〓）〜21.1℃（70〓）
の温度で80％の相対湿度を有する含湿ガスを乾燥
する場合の一連の曲線を示している。 これらの曲線は、空気の管路圧が6.44Kg／cm2
（92psig）、表面流動速度が19.9mpm（65.1fpm）、
1.52ｍ（60in）の長さと、31.4cm（123／8in）の
径を有する床６０に、乾燥剤としてシリカゲル
80.4Kg（177lb）を利用した例１におけるのと同
様な装置に対するものである。しかしデータは、
任意の吸着条件で任意の乾燥剤を利用して得られ
る典型的なものである。 この発明の方法の原理は、湿気前線の傾斜Ｓの
変化が流出口へ到達する前にそれを検知し、サイ
クルを停止させることで、即ち第１図において、
曲線に対しては約2.4時間のサイクル時間前、
曲線に対しては約3.3時間のサイクル時間前、
曲線に対しては約4.5時間のサイクル時間前、
曲線に対しては約6.3時間のサイクル時間前と
なる。第１図の曲線は、これが、吸着剤床の点Ｘ
及びＹにおける含湿量が２％を越えない間にサイ
クルを終了することにより得られることを示して
いる。この含湿量は通常のコンデンサーにより検
知可能な量である。 コンデンサーが第１図に示されるように、各乾
燥サイクルにおいて点ＸとＹに置かれると、コン
デンサーが作動された時の吸着剤床の含湿量を曲
線が示している。すべての場合に、曲線，，
及びにおいて、コンデンサーＸは点Ａ，Ｃ，
Ｅ及びＧにおいて作動され、コンデンサーＹは点
Ｂ，Ｄ，Ｆ及びＨにおいて作動され、すべて傾斜
S2，S3，S4の変化前であり、湿気前線が床から離
れることが防止されている。 第３図の乾燥器は一対の乾燥剤タンク１，２か
ら成る。これらのタンクは垂直に配置されてい
る。各タンクはシリカゲルのような乾燥剤床
（層）１０を含む。タンク１，２には更に、乾燥
剤をタンクに充填及び排出するための乾燥剤充填
及び排出ベント９，９が設けられている。 管路３，４は２つのタンクを連結して、除去さ
れるべき湿気を有する流入ガスを管路６から導入
し、また管路７，８は乾燥器を通過後、湿気を除
去された乾燥流出ガスを、チエツクバルブＧ，Ｈ
を介して流出管路５へ配送するようになつてい
る。一度に一方だけが開放される流入スイツチバ
ルブＡ，Ｂは流入ガス流を、各タンクの頂部へ流
入ガスを導入する流入管路３，４の一方へ向け
る。 各タンクの底部には焼結ステンレススチール製
メツシユからなる乾燥剤スクリーン支持体１１が
設けられて、タンク１，２内に乾燥剤床１０を保
持している。タンク１，２の底部からの流出管路
７，８はそれぞれ流出管路５へ通じている。 管路１２は管路７，８を連結し、且つ再生用浄
化流を一方向に制御するためのチエツクバルブ
Ｅ，Ｆを設けられている。管路１２はバルブ及
びオリフイス１４を介して、管路１３により流出
管路５へ連結されている。 チエツクバルブＧ，Ｈにより、管路７，８内に
おいて流出管路５に向かう一方向のみの流動が可
能となり、またチエツクバルブＥ，Ｆにより、流
出管路５からオリフイス１４及びバルブを介し
て管路１２へ反対方向において一方向流動が可能
になり、更に管路７，８の他方を介して反対方向
にタンク１，２の底部へ流動されて、乾燥剤１０
を浄化及び再生するようになつている。 バルブは再生中にある流動を受けていない床
への、配送浄化流量を制御するために利用され
る。管路１３には浄化流圧力計Ｐが設けられてい
る。 各タンクの内部で支持体１１の上方の位置に、
一対の感湿コンデンサー２０，２１のそれぞれが
配置されて、コンデンサーの静電容量の関数とし
て、乾燥剤の含湿量を測定（決定）するようにな
つており、ここで吸着剤は誘電体となつている。 管路１５が管路３，４にプリツジ配置されると
共に、排出バルブＣ，Ｄが設けられて，タンク
１，２から排出管路１６への流量を制御するよう
になつている。タンク１，２の吸着剤床１０の再
生時、一度にバルブＣ，Ｄの一方のみが開放され
る。 コンデンサー２０，２１はプレート型のもの
で、含湿レベルに対応する静電容量に応答するよ
うにセツトされた検知器（図示しない）に接続さ
れて、湿気前線が床から離れないようにしてい
る。例えば、流出ガスに許容され得る最大大気露
天が−62℃（−80〓）の場合、検知器は−40℃
（−40〓）〜−17.8℃（０〓）の露点に対応する
静電容量に応答するように調整される。図示の検
知器は、LM2907N周波数−電圧変換型のもので
あるが、他の任意の型式の検知器を利用すること
ができる。 各床１０の流入側端部に配置されると共に、ほ
ぼ床の全長に延びるように、列をなす長い加熱要
素２２が配置されており、この場合は10本の加熱
要素が配置されている。これらの加熱要素は床を
通して均一の間隔で配置されている。しかし、そ
の熱容量により、それより多いか少ない数の加熱
要素を設けることができる。加熱要素の流入側端
部には電気接続部２３が設けられ、タンク１，２
の壁を通して延びて電気装置に接続されて、床が
再生サイクルにある時に加熱要素のスイツチが入
れられ、また乾燥剤の有効再生に十分な所定時間
の終了時にスイツチが切られるようにされてお
り、前記所定時間はコンデンサー２０，２１を活
性化するのに要する時間に依り、乾燥サイクルの
時間より少なく、あるいは等しくされる。 ここで、タンク１が乾燥サイクルにあり、タン
ク２が再生サイクルにあり、且つバルブＡ，Ｄが
開放され、バルブＢ，Ｃが閉鎖された状態にある
場合、乾燥器の作動は下記の通りである： 1.75〜24.5Kg／cm2（25〜350psig）の管路圧力で
管路６を介して流入する含湿ガスは、バルブＡ，
Ｂにより管路３からタンク１へ配送され、床１０
を介して下方へ流動して、コンデンサー２０を通
過して流出口へ送られ、管路７を介してバルブＧ
を通り、流出管路５へ送られる。バルブＥ及びＨ
はそれぞれ、管路１２及び８内の流動を防止す
る。浄化バルブに制御された流出流の一部は管
路１３を通り、且つオリフイス１４を通過し、そ
こで開放排出バルブＤによりほぼ大気圧に圧力が
減じられ、次いでチエツクバルブＦ（バルブＥは
管路１３の流動を防止している）を介して管路１
２を流れ、再生サイクル状態にある第２タンク２
の底部へ流入し、床１０を通して上方へ流入口の
方へ流れ、バルブＤを介して管路１５を流れ、浄
化排出管路１６を介して大気中へ排出される。 再生中のタンク２の列をなす加熱要素２２が付
勢され、乾燥床が浄化流を受けながら、乾燥剤が
完全に再生されるのに必要な時間、ベーキングさ
れる。この時間は乾燥サイクルの時間よりかなり
少なく、もちろん一定のサイクル時間により決定
されるのではなく、床中の湿気レベルにより決定
されるものである。その結果、加熱要素２２は、
乾燥剤の完全な再生に必要な時間だけ付勢される
ように調時され、この時間が経過した場合に、加
熱要素とタイマーが自動的に遮断されるようにな
つている。浄化ガスの流動は、乾燥剤床を室温ま
で冷却するのに十分な時間だけ継続されるように
なつており、前記温度は吸着がより効果的に行な
われる温度であり、また前記流動も浄化排出バル
ブＤを閉鎖することにより自動的に遮断されるよ
うになつており、使用済床が再加圧されて、次の
サイクルの準備が終わつたことになる。通常、床
が加熱要素により100〜250℃の温度に加熱される
場合は、完全な再生のためには、30分から２時間
で十分である。しかし、利用される乾燥剤に依
り、他の温度及び時間を利用することができるこ
とは明らかであろう。 コンデンサー２０がタンク１の床１０の所定含
湿量を検知した時は、タイマーが付勢され、バル
ブＡ，Ｂ，Ｃが切り替えられて、バルブＡは閉鎖
され、バルブＢは開放されて、流入ガスが管路４
へ転向されて、乾燥サイクル状態の第２タンク２
の頂部へ配送されると共に、排出バルブＣが開放
される。そこで浄化流は管路１３、オリフイス１
４及び管路１２、バルブＥを介して、再生サイク
ル状態にされるタンク１の底部へ流動する。バル
ブＡが切り替えられた時、床１０の加熱要素２２
のスイツチが入れられて、乾燥剤を活性化するた
めに床が加熱される。このサイクルは、コンデン
サー２１がタンク２内に所定の吸着剤含湿レベル
を検知するまで継続され、それからバルブＡ，
Ｂ，Ｃ，Ｄが再度切り替えられて、サイクルが繰
返される。 第４図の乾燥器においては、使用済乾燥剤の再
生にあたつて熱は利用されず、またコンデンサー
５０，５１が、脱着時の脱着水蒸気フロントの進
行を検知するために利用されている。 乾燥器は２つのタンク３１，３２から成り、含
湿流入ガスをバルブＡ，Ｂを介して管路３６から
配送する適当な管路接続部３３，３４と、各タン
クから管路３７，３８、チエツクバルブＧ，Ｈを
介して流出管路３５へ配送する接続部と、乾燥剤
充填及び排出ポート４７，４８が設けられてい
る。乾燥剤４０は各タンク内のスクリーン支持体
４９上に支持されている。 横断管路４２が流出管路３７，３８にブリツジ
配置されると共に、流出管路３５へ延びる管路４
３の各側部に、２つのチエツクバルブＥ，Ｆを備
えている。管路４３には減圧オリフイス４４が設
けられ、それを越えた圧力は、浄化排出バルブＣ
またはＤが開放されている時、ほぼ大気圧となつ
ており、また管路４３を通る流量を計量する浄化
調整バルブＩが配置されている。前記バルブＩは
使用済タンクの再生のために、流出ガスから取出
された浄化流量を制御しており、浄化流量表示器
Ｐから読み取られる。 別の管路４５が管路３３と３４の間に延びると
共に、それぞれ浄化排出バルブＣ，Ｄが設けら
れ、開放された時は排出管路４６を介して、浄化
流体は大気中へ排出される。 各タンクの床の長さのほぼ1/3下方の位置に、
一対のコンデンサー５０，５１が設けられ、これ
は第３図におけるのと同様に、吸着剤床の含湿レ
ベルを静電容量により検知し、床の含湿レベルが
所定の低値に達して再生が完了すると、その含湿
レベルに応答するようになつており、その際、バ
ルブＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ及び両加圧バルブＩの作動が
制御される。 タンク３１が乾燥サイクルにあり、またタンク
３２が再生サイクルにあり、バルブＡ，Ｄが開放
し、バルブＢ，Ｃが閉鎖されている場合、乾燥器
の作動は以下のように行なわれる： 例えば７Kg／cm2（100psig）の圧力で、305s.c.f.
m.の流量で、26.7℃（80〓）で飽和された含湿流
入ガスが流入管路３６を介して管路３３へ流入
し、バルブＡを通り、第１タンクの頂部へ流入
し、それから例えばアルミナの乾燥剤床４０を介
して流出口へ流れ、それからフイルター４９を介
して管路３７（チエツク弁Ｅが管路４２への流入
を防止している）、そしてチエツクバルブＧを介
して乾燥ガス流出管路３５へ流動する。流出ガス
は6.35Kg／cm2（95psig）の圧力及び265s.c.f.m.の
流量で配送され、露点は−73.3℃（−100〓）で
ある。チエツクバルブＨは乾燥ガスが管路３８へ
流入することを防止する。乾燥流出ガスの残り、
この例では40s.c.f.m.が流出口において、管路３
５の端部から管路４３を介して取出され、バルブ
Ｉ及びオリフイス４４を通過させられて、圧力が
ほぼ大気圧に減圧され、それから管路４２を介し
てチエツクバルブＦを通過して、再生サイクル状
態にある第２タンク３２の底部へ送られる。浄化
流は乾燥剤床４０を通り、管路３４へ流出し、そ
れから浄化排出バルブＤを通過し、そこから管路
４６を介して大気中へ排出される。 このサイクルは、乾燥剤４０から脱着された湿
潤蒸気の湿気前線が床３２を通過して上方へ進行
し、コンデンサー５１を通過する間、継続され
る。湿気前線が通過して、コンデンサーの下方の
床から水分が脱着されたことが表示されると、信
号が発せられ、バルブＤが閉鎖され、タンク３２
が再加圧されて浄化流動が停止される。 各床が、含湿流出ガスが床から流出する前に、
乾燥サイクル状態におかれる時間は、通常使用済
床の再生に必要な時間より長いから、流入バルブ
Ａ，Ｂは、完全な再生及び再生乾燥剤の再加圧に
十分な一定時間後に作動されるように調時され
る。この時間が経過すると、バルブＡ，Ｂは自動
的に切り替えられて、流入ガス流は再生された床
へ転向される。 コンデンサー５１がタンク３２内の所定の含湿
レベルを検知して、脱着の完了を表示すると、バ
ルブＤが閉鎖されて、床３２が再加圧される。タ
ンク３１において吸着のための一定時間が経過す
ると、タイマーによりバルブＡが閉鎖され、バル
ブＢが開放されて、流入口３６を介して流入する
含湿流入ガスは、管路３４を介してタンク３２へ
送られ、また乾燥流出ガスはタンク３２から管路
３８を介して、乾燥ガス配送管路３５へ送られ
る。そして、横断管路４２内の浄化ガス流動は逆
転されて、浄化流は管路４３内をバルブＩ、オリ
フイス４４を介して管路４２へ流動し、バルブＥ
を通過して管路３７を介して、再生サイクルにあ
るタンク３１へ流入し、床４０を介して管路３３
へ流動し、管路４５を介してバルブＣを通り管路
４６へ送られ、大気中へ排出される。このサイク
ルは、コンデンサー５０により決定されて、床３
１の再生が完了するまで継続され、それからコン
デンサーが浄化排出バルブＣを閉鎖し、タンク３
１が再加圧される。乾燥サイクルにあるタンク３
２における作動は、タイマーがバルブＡ，Ｂを逆
転するまで継続し、それからサイクルが再度開始
される。 通常、乾燥サイクルは超大気圧、即ち1.05〜
24.5Kg／cm2（15〜350psig）のオーダーの圧力の
ガスに対して実施される。横断管路４３のオリフ
イス４４と、浄化排出バルブＣ，Ｄとの組合わせ
により、再生サイクルは、吸着サイクルが行なわ
れる圧力よりかなり低圧において行なわれる。 この装置には安全装置が含まれ、所定の
NEMA半サイクルの時間を計数する無効化タイ
マーを設けることにより、床の分解時及び再生に
失敗した場合に損害を生じること防止するように
なつている。もし、脱着された湿潤蒸気に対する
湿気前線が、浄化用NEMA半サイクルに可能な
最大時間内にコンデンサーに到達しない場合は、
バルブＣ，Ｄがとにかく閉鎖されて、再加圧が行
なわれて、警報が発せられる。いずれの場合にも
NEMA半サイクルの終了時には、バルブＡが閉
鎖され、バルブＢ，Ｃが開放されて、バルブＥ，
Ｆ，Ｇ及びＨは、流動されていない再加圧再生床
を流動状態にして、流入ガスを下方へ流動させる
と共に、流動状態の床を減圧し、再生を開始する
ように操作される。 この作動により、最大浄化流が、一定の、そし
て通常は過度の回数のサイクルで行なわれるので
はなく、必要な時間だけ要求されるだけであるか
ら、無加熱要素型乾燥器の始動時の浄化ガスの消
費量を最少にできる、特別の利点がもたらされ
る。 無加熱要素型乾燥器に対する別の制御装置に
は、複雑な制御回路が含まれる。床の吸着半サイ
クル時に湿気前線が通過するようにされた各床の
領域に設けられたコンデンサーが、前記前線がコ
ンデンサー領域を通過する吸着半サイクル中の時
期を決定するために利用される。コンデンサーの
位置を適切に選択することにより、湿気前線がコ
ンデンサー位置を通過する時期が、吸着半サイク
ル時の湿気前線の移動速度の関数、及び湿気が吸
着される速度の関数になる。そして湿気前線がコ
ンデンサー位置を通過する時期が、床が再生半サ
イクルに入るまで蓄積される。この時期は電圧と
して蓄積され、またはデジタル情報に変換され
る。床が再生半サイクルに入ると、蓄積された前
記時期は、前記床の再生を行なうのに必要な浄化
流動の時間を計算するのに利用される。 前述の制御形態を備えた乾燥器が、サイクル変
更段階に入ると、制御装置は、前記床の完全な再
生のために継続すべき浄化流の流動時間を決定す
るために、前の半サイクル時に蓄積された、前記
前線が通過するのに必要な経過時間を利用する。
もし必要な浄化時間が、可能な最大浄化時間を超
過した場合は、最大浄化流が配送されて、警報が
鳴らされる。正常な作動状態においては、再生完
了後は排出バルブは閉鎖され、再生された室内は
再加圧が許容される。新しい床において湿気前線
がコンデンサーを通過して移動する時間が、再生
半サイクルに入つた時に前記床を再生するのに必
要な浄化流動時間を計算するために、引続き利用
するために蓄積される。図示のNEMA半サイク
ルの終了時、バルブが作動されて、流入ガスが再
生床を流動させられ、浄化ガスが使用済床を流動
され、再生床が減圧され、浄化が開始される。 この装置により、乾燥器の始動時に要求される
最大浄化サイクルの数が最少にできる。 第５図に示される乾燥器はこの装置を利用して
いる。 乾燥器は２つのタンク６１，６２からなり、各
タンクへ含湿流入ガスを送り、且つ乾燥流出ガス
を各タンクから配送する適当な管路接続部と、乾
燥剤充填及び排出ポート６３，６４が設けられて
いる。乾燥剤６０は各タンクのスクリーン支持体
６５上に支持されている。流入管路６６からの含
湿流入ガスの流動はバルブＡ，Ｂにより制御さ
れ、流入ガスは管路６７又は管路６８へ、そして
タンク６１，６２へ向けられる。 乾燥流出ガスはタンクから管路６９または７０
の一方を介して流出するようになつており、前記
両管路６９，７０は共に乾燥ガス流出口７４へ接
続されている。各管路にはチエツクバルブＧ，Ｈ
が設けられている。横断管路７１が流出管路６
９，７０にブリツジ配置されると共に、流出管路
７４へ延びる平行管路７２の各側に、２つのチエ
ツクバルブＥ，Ｆが設けられている。管路７２に
は減圧オリフイス７３が設けられ、それを越えた
位置では圧力は、浄化排出バルブＣまたはＤが開
放している時は、ほぼ大気圧以下まで減圧される
ようになつており、また管路７２を通る流量を計
量する浄化調整バルブＩが設けられている。これ
により、使用済タンクの再生のために流出ガスか
ら取出される浄化流量が制御されると共に、浄化
流量表示器Ｐにより読取られる。 管路７５は管路６７，６８間に延び、且つそれ
ぞれ管路７６を介して大気中へ排出される浄化流
量を制御する浄化排出バルブＣ，Ｄが設けられて
いる。 各タンクのほぼ中央位置に一対のコンデンサー
８０，８１が設けられ、これは床６０が所定の含
湿レベルになつた時に信号を発し、且つタイマー
を制御するようになつており、前記タイマーはバ
ルブＡ，Ｂ及び浄化排出バルブＣ，Ｄ及び再加圧
バルブＩを制御するようになつている。 もしタンク６１が乾燥サイクルで、タンク６２
が再生サイクルにあり、バルブＡ，Ｄが開放し、
Ｂ，Ｃが閉鎖されている場合は、乾燥器の作動は
下記の通りである：例えば1.75Kg／cm2（25psig）
の圧力で、305s.c.f.m.の流量の含湿流入ガスが流
入口６６を介して管路６７へ送られ、バルブＡを
通過して第１タンク６１へ流入し、その内部の乾
燥剤例えばシリカゲル床６０を通り、コンデンサ
ー８０を通過して流出口へ送られ、管路６９を介
してチエツクバルブＧを通り、乾燥ガス配送管路
７４へ送られる。流出ガスは、1.4Kg／cm2
（20psig）の圧力及び267s.c.f.m.の流量で配送さ
れる。チエツクバルブＨは乾燥ガスが管路７０へ
流入することを防止する。乾燥流出ガスの残り、
即ち、この例において38s.c.f.m.の流量のガスは
管路７２を介して流出口から取出されて、バルブ
Ｉ及びオリフイス７３を通過させられて、その圧
力は、排出バルブが開放していることからほぼ大
気圧まで減圧され、それから管路７０，７１を介
してバルブＦを通り、再生サイクルにある第２タ
ンク６２へ送られる。浄化流は乾燥剤床６０を通
り、管路６８，７５へ流出し、更に浄化排出バル
ブＤを介して管路７６へ流動して、大気中へ排出
される。 タイマーにより制御された所定時間後、浄化バ
ルブＤは閉鎖される。それから、再加圧が完了す
ると、タイマーがバルブＡ，Ｂを切り替えて、タ
ンク６２を流動状態にし、タンク６１を再生状態
にする。 吸着サイクルは、コンデンサー８０がタンク６
１の吸着剤に所定の含湿レベルを検知するまで継
続される。コンデンサー８０により吸着剤床６０
に所定含湿レベルが検知されると、信号が発せら
れ、このレベルに到達するのに要する時間が、電
子記憶装置に蓄積される。タンク６２が再生状態
にある間、浄化流動は記憶装置に蓄積された時間
が経過するまで継続され、それからバルブＤを閉
鎖することにより排出が停止されて、タンク６２
が再加圧される。タイマーが再付勢され、タンク
６２の床が再加圧される時、バルブＤは閉鎖さ
れ、浄化流動は遮断される。それから、タンク６
１は、そのための一定時間が経過するまで吸着を
継続し、それからタイマーがバルブＡを閉鎖し、
流動をタンク６１からタンク６２へ管路６８を介
してスイツチし、それからバルブＣを開放して、
乾燥流出ガスを乾燥ガス配送管路６６からタンク
６２へ送る。そして横断管路７２内の浄化ガス流
は逆転され、浄化流は管路７２を介してバルブＩ
を通り、管路７１を介しバルブＥを通り、再生サ
イクルにあるタンク６１へ送られ、床を通り管路
６７を介して、管路７５を介して開放浄化排出バ
ルブＣ及び管路７６を介して、大気中へ排出され
る。このサイクルは前述と同様に継続され、その
後バルブが逆転されて、サイクルが再度開始され
る。 通常、乾燥サイクルは大気圧またはそれより高
い、1.05〜24.5Kg／cm2（15〜350p.s.i.g）のオーダ
ーの圧力のガスで行なわれる。横断管路７２のオ
リフイス７３と排出バルブＣ，Ｄにより、再生サ
イクルは吸着サイクルが行なわれる圧力よりかな
り減圧された、ほぼ大気圧状態で行なわれる。 使用済床の再生が、再生サイクル用の時間内に
行なわれるために、それに割当てられる時間は、
乾燥剤の体積及び吸着が行なわれる圧力に依り、
浄化流の流量と共に調整される。無加熱要素型乾
燥器は平衡状態で作動し、平衡状態は乾燥器がそ
の使用中に受けるあらゆる条件下で、維持されな
ければならない。 コンデンサーの利用は、発振器及び２進計算機
を含むデジタル集積回路を備える、電子シーケン
ス・タイマーを利用するガス分留装置における特
別の適用例である。コンデンサーは複数のソレノ
イドバルブのための駆動装置に作動的に連結され
ており、前記ソレノイドバルブは許容された位置
の間を移動でき、且つ吸着及び再生時の床を通る
ガス流動を閉鎖し、更に一部タイマーにより規定
され、且つ、一部吸着剤の含湿量により規定され
るサイクル時間に従つて、吸着ガス分留装置を通
るガス流量を制御するようになつている。 電子シーケンス・タイマーは通常の市販の電子
素子からなり、これら素子はこの発明の一部を構
成するものではないが、組合わされた後述の回路
において、ガス分留装置の作動に必要な一定時間
を規定することができる。 電子装置の心臓部は、選択された時間に電子イ
ンパルスを発信する発振器である。タイマーは効
果上、自己励起電子回路であり、その出力電圧は
時間の周期関数である。発振器は所望の時間を選
択できるように、パルス間に時間遅延をもたらす
ことができなければならず、タイマーまたは発振
器によりもたらされる短時間パルスが基本ブロツ
クであり、長い時間は２進計算機に集められる。 理論的には、タイマーは選択時間にパルスを発
信する。これらパルスは２進デジタル計算機へ送
られ、この計算機はこれらのパルスを計数し、且
つ複数のステージまたはビツトからなり、多数の
時間間隔においてパルス数に情報を蓄積するよう
になつている。論理モジユールに配置された複数
の論理ゲートが計算機の出力状態を判断するのに
利用され、所望の時間間隔に対応するある選択さ
れた出力組合わせに応答し、且つそれに従つてソ
レノイド駆動装置を作動し、それにより各段階に
対して選択された時間間隔が達成される。 一型式のタイマー発振器は、自身をトリガーで
き、且つマルチバイブレータとしてフリーラン
（free−run）する回路を利用する。外部コンデン
サーは一組の抵抗を介して充電され、別の組を介
して放電される。従つて、調時間隔はこれら２組
の抵抗の値を変えることにより、所望の範囲内で
変化させることができ、これは単に必要な抵抗値
の抵抗を選択することにより容易に行なえる。こ
の型式の発振器の例は555である。利用できる別
の型式のものとしては、フリツプ−フロツプ・マ
ルチバイブレータ、正帰還を備えた静電容量遅延
オプ−アンプ（op−amp）、及び静電容量接続
NORゲートがある。 ２進デジタル計算機は調時発振器からのパルス
を受信し、それを計数する。計算機は、決定され
る必要のある調時間隔に必要な、所望数のユニツ
トを含むことができる。図示の装置において、14
ステージまたはビツト型２進計算機が利用されて
おり、それはこれが容易に入手でき、且つ満足で
きる型式のものだからである。図示の計算機にお
いて、各計数ステージは静止マスタースレーブ・
フリツプ−フロツプであり、計算機は各入力パル
スの負遷移に対して１計数進行される。しかし、
他の型式のものも利用できる。 この２進計算機は一連のステージを有し、それ
ぞれ一つの入力と一つの出力を有している。各ス
テージの出力（oo）は次のステージの入力へ接続
される。各ステージの論理出力は、その入力が論
理１から論理０へ変化する時、逆転する。従つ
て、任意のステージの完全サイクルには、前のス
テージの２つのサイクルが必要である。この結
果、この14ステージ型２進計算機において214（ま
たは16，384：１）の周波数減少が生じる。この
減少により、27.3Hz発振器により10分サイクルが
駆動される。一般的に、発振器はより高い周波数
において、より正確なものである。 ステージはQ1−Q14とされる。この計算機の
Q14、即ち最終（または最遅）ステージは、全サ
イクルを２つの半部に分割する。最初の半部にお
いては、論理０にあり、２番目の半部において
は、論理１にある。同様に、Q13はサイクルを４
つに分割し、Q12は８つに、そしてQ11は16に分
割する。これら最後の４ステージの出力をモニタ
リングすることにより、タイマーがサイクルの16
の均一分割またはシーケンスのいずれにあるかが
決定できる。AND，NAND，OR及びNORゲー
トの選定配置により、これら４つの出力が解釈さ
れ、適切な出力トランジスターが駆動され、ソレ
ノイドバルブが作動される。２進計算機（外部に
接続されていない）の最初の10ステージは、周波
数減少の機能のみを有する。しかし、これらはよ
り正確な適用例に必要な場合は、より高度のサイ
クル位置の分析のために利用される。 論理モジユールは多数の論理ゲートを含み、こ
れは組合わされて、各バルブ機能に対して規定さ
れた時間間隔中に、ソレノイド駆動装置を作動す
る出力をもたらすように選択配置される。AND，
NAND，OR及びNORゲートの機能は良く知ら
れており、且つこれらゲートの特別の配置は、も
ちろん選択された時間、及び利用される調時発振
器及び２進計算装置に依存するから、所定回路に
利用できる特別の配置は、当業者にとつては明ら
かなことであろう。図示の配置は可能な組合わせ
のうちの例示的なものである。 回路を少し変更することにより、より高い精度
と、必要な場合に反復性が与えられる。これには
発振器の除去と、電力供給トランスの２次巻きへ
の未フイルタ接続による２進計算機の駆動が含ま
れる。これは本質的には発振器の代りに、電線周
波数を利用している。電線周波数は長時間にわた
つて非常に正確であるが、この周波数を調整でき
ないという欠点を有している。この問題は「ｎ計
算機による分割」を備えることにより、ある程度
緩和される。これは、各ｎ入力パルスに対して一
つの出力パルスをもたらすようにされた集積回路
であり、ここでｎは３〜９の任意の整数にするこ
とができる。正しいｎ及び正しい２進計算機ステ
ージ数を選択することにより、種々の組合わせが
得られ、広範囲のサイクル持続時間を選択でき
る。 第６〜８図の乾燥器は前述のような電子タイマ
ーを利用すると共に、一対の乾燥剤タンクと
からなつている。これらのタンクは垂直に配置さ
れている。各タンクは、シリカゲルまたは活性化
アルミナのような乾燥剤床７１を含む。タンク
，には乾燥剤の充填、排出のために、乾燥剤
充填及び排出ポート７８，７９が設けられてい
る。 それぞれ２つのタンクを頂部と底部で連結する
のにあたり、ただ２つの管路が必要となるだけで
あり、これにより除去される湿気を含む流入ガス
が導入され、また乾燥器を通過して湿気を除去さ
れた乾燥流出ガスが配送されるようになつてお
り、流入ガス及び流出ガスを各タンクへ、及び各
タンクから流動させるべく、流れをスイツチする
ためにバルブＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄが必要である。 ４つのバルブＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄがソレノイドで作
動されるパイロツトバルブAD，BD，CD及び
DDにより空気圧で作動されるようになつてお
り、前記パイロツトバルブは第７図に示される回
路を備えた電子シーケンス・タイマーＴに接続さ
れて、それにより制御される。ソレノイドバルブ
AD，BD，CD及びDDに対する持続時間は第８
図に示されている。 第７図に示されるように、24VのDC電力が、
36Vの中央タツプ・トランスＴ１及び整流器Ｄ
１，Ｄ２を介して誘導され、2200Mfdの電解コン
デンサーＣ１によりフイルタ処理（ろ波）されて
いる。 低電圧論理ポテンシヤルが、フイルタ処理され
た24V.D.C.供給源から電力消散470Ω抵抗Ｒ１を
介して、6.2V、0.4Wゼナー（Zener）ダイオード
Ｄ１０へ給電することにより維持される。このゼ
ナーダイオードによる調整により、供給電圧の減
少機能に対して給電ノイズを絶縁する利点が付加
されるが、初期フイルタ処理供給電圧及びソレノ
イド作動電圧が論理ICの作動範囲（15Vまたはそ
れ以下）にある場合は、不必要である。 この低電圧はダイオードＤ３及びＤ４により２
つに分けられ、250MfdのコンデンサーＣ２のチ
ヤージは、集積回路IC２への小漏れ電流を維持
し、短期間の電力欠陥時にサイクル位置の記憶を
保持するために利用できる。これら２つのダイオ
ードはすべての集積回路に対して、同一供給電圧
（Vcc：ほぼ6V）を維持するために利用される。 集積回路555のタイマーIC１は、発振回路に利
用される抵抗Ｒ２，Ｒ３及びコンデンサーＣ３を
正確に選択することにより、10分サイクルに対し
て27.962KHzで発振するようにセツトされる。 555タイマーは、数マイクロ秒〜数時間の調整
自在なサイクルの、通常オン及び通常オフの出力
タイミングに対して、正確な時間遅延または発振
を行なう安定性の高い装置であり、非安定及び単
一安定モードにおいて作動できる。図示の装置に
おいては、非安定モードで作動されており、タイ
マーは自身をトリガーし、且つマルチバイブレー
タとしてフリーラン（free−run）する。外部コ
ンデンサーはＲ２＋Ｒ３を介してチヤージし、Ｒ
３を介し放電する。従つて、デユーテイサイクル
（duty cycle）は、これら２つの抵抗の比により
正確にセツトされ、抵抗は所見比を得るために、
必要により変更され得る。 コンデンサーは1/3Vcc及び2/3Vccの間で、チ
ヤージ及び放電を行なう。チヤージ及び放電時間
及び周波数は、供給電圧から独立している。チヤ
ージ時間は下式から与えられる： t1＝0.693（R2＋R3）C3 そして、放電時間は下式により与えられる： t2＝0.693（R3）C3 従つて、全時間は Ｔ＝t1＋t2＝0.693（R2＋2R3）C3 である。 任意の時間サイクルを選択することができ、
IC１はそれに従つてセツトされる。 発振器の出力は、14ビツト型I.C.2進計算機IC
２の第１ステージを駆動する。 IC２はIC１の出力の周波数を減少させる機能
を有する。これから２つの周波数がもたらされ、
一方はピン７からのものでLN2907のピン１を駆
動し、他方はピン１からのものでIC３のピン１
０を駆動する。 IC３はIC２と同一の、CMOS12ステージ型リ
プル・キヤリー（ripple−carry）２進計算機／
分割器であり、パルス入力整形回路、リセツト・
ライン駆動装置回路、及び12リプル・キヤリー２
進計算機ステージからなつている。緩衝出力はス
テージ１〜１２により、外部から得られる。計算
機はリセツト・インバーター入力ラインを高レベ
ルにすることにより、「全０」状態にリセツトさ
れる。このリセツトはこの適用例では利用されな
い。各計算機ステージは、静的マスタースレー
ブ・フリツプ・フロツプとなつている。計算機は
各入力パルスの負変化に対して一計数進行され
る。この集積回路において、各ビツトは負移行パ
ルス（前のステージの論理１から論理０）により
トリガーされた時、ステージにおいて論理０と論
理１の間を変化する。従つて各ステージは前ステ
ージの周波数の半分において、論理状態を逆転さ
せ、第８図に示されるように、ユニツトのサイク
ル位置に対して12ビツト２進記録を維持する。調
時サイクルの最終部分において、全12ビツトは論
理１の状態にある。発振器の次の負振動により、
全ビツト２が論理０状態に駆動され、次のサイク
ルが開始される。この計算機の最後の４つのビツ
トQ9，Q10，Q11及びQ12は、サイクルを１６の均
一な部分に分割し、常にユニツトがどの部分にあ
るかを確認するのに必要な情報を包含している。 これら４つのビツトは一連の論理ゲートへ送ら
れ、４つの出力のそれぞれが駆動状態にある条件
を満たす、適当な論理状態の組合わせが決定され
る。 この回路は２つのNANDゲートＮ１，Ｎ２と、
２つのANDゲートＡ４，Ａ５を含む。 ANDゲートＡ４の一入力はNANDゲートＮ２
へ接続されるが、他方はQ12へ直接接続される。
第３入力はバルブＡ，Ｂで制御される室のため
に、コンデンサー出力へ接続される。Ａ４の出力
は駆動トランジスター（図示しない）を介して、
ソレノイドバルブADへ接続される。全３つの入
力が１の場合のみ、ソレノイドＡが付勢される。 ANDゲートＡ５の一入力はNANDゲートＮ２
へ接続され、一入力はNANDゲートＮ１へ接続
される。第３入力はバルブＣ，Ｄにより制御され
る室のために、コンデンサー出力へ接続される。
Ａ５の出力は駆動トランジスター（図示しない）
を介して、ソレノイドバルブDDへ接続される。 Q12は駆動トランジスター（図示しない）を介
して、何らゲートを介在させることなくソレノイ
ドバルブBDへ接続される。 それはQ12の出力が１の時に付勢される。
NANDゲートＮ１は駆動トランジスター（図示
しない）を介して、ソレノイドバルブCDへ接続
され、ANDゲートＡ５は同様にソレノイドバル
ブDDへ接続される。 両NANDゲートは３入力型で、全３つの入力
が１の時が、出力０の時である。しかし、Ｎ１の
全３つの入力が同一ステージQ12へ接続されてい
るから、このNANDゲートは単にインバーター
であつて、Q12からの出力が０の時のみ、その出
力トランジスターを介して、ソレノイドCDを駆
動する出力をもたらし、それ以外にはない。 NANDゲートＮ２はそれぞれステージQ9，
Q10，Q11に接続された３入力を有し、従つてす
べてのQ9，Q10，Q11が１でない限り、出力１を
発する。 ソレノイドバルブDDはANDゲートＡ５によ
り、その駆動トランジスタを介して付勢されるよ
うになつており、前記ANDゲートＡ５は３入力
を有し、一つはＮ１から、一つはＮ２から、そし
て一つは静電容量プローブ回路からのものであ
る。従つて、両Ｎ１及びＮ２が出力１を発し、且
つプローブが湿気を検知した時にのみ、Ａ５から
ソレノイドバルブDD駆動トランジスターへ出力
１が送られる。 NANDゲートＮ１はＷ及びＸ時は１、Ｙ及び
Ｚ時は０にある。NANDゲートＮ２はＷ及びＹ
時は１、Ｘ及びＺ時は０にある。ANDゲートＡ
４はＹ時は１、Ｗ，Ｘ及びＺ時は０にあり、
ANDゲートＡ５はＷ時は１、Ｘ，Ｙ及びＺ時は
０にあり、この場合適切なコンデンサープローブ
が、浄化流を必要とする十分な湿気を検知してい
る。 従つて、タイマー及びコンデンサーにより指示
される時間は第８図に示される。ソレノイドバル
ブCDはＷ及びＸ時間中に付勢され、ソレノイド
バルブDDはＷ時間中に付勢される。ソレノイド
バルブBDはＹ及びＺ時間中に、そしてソレノイ
ドバルブADは、Ｙ時間中に付勢される。 これらのゲートの電力出力はソレノイド駆動装
置または駆動トランジスターQ1，Q2，Q3及びQ4
（図示しない）を、電流制限抵抗Ｒ４，Ｒ５，Ｒ
６及びＲ７（図示しない）を介して、オン及びオ
フにスイツチする。これらのトランジスターは第
６図に示されるソレノイドバルブAD，BD，
CD，DDを駆動すると共に、ダイオードＤ５，Ｄ
６，Ｄ７及びＤ８（図示しない）により、誘導フ
ライ−バツク（fly−back）から保護される。 Ｗ＋Ｘ及びＹ＋Ｚの時間はそれぞれ、タンク
及びの乾燥サイクル時間に対応する。 Ｗ及びＹの時間はそれぞれ、タンク及びの
再生ステージに対応し、Ｘ及びＺの時間は；再生
が完了した時の再加圧ステージに対応する。コン
デンサーはバルブＡ，Ｄを作動して、再生流を制
御し、再生が完了した時に室流出流動を停止し、
タイマーがバルブＢ，Ｃを作動している間に再加
圧を行なわせ、流入流体を一方の室から他方へ変
更する。 管路７２は含湿流入ガスを、バルブＡ，Ｂ，
Ｃ，Ｄを含む４成分流入スイツチバルブ７４へ送
る。バルブＣ，Ｂの一つは流入ガス流を２つの流
入管路７５，７６の一方へ送り、管路７５，７６
の一方は常時、流入ガスの各タンク，の頂部
へ導入しており、管路７５，７６の他方はバルブ
Ａ，Ｄにより、再生流出ガスの浄化流を管路８１
及びマフラー８２を介して排出部へ送り、大気中
へ排出される。 各乾燥剤床７１内において、底部にコンデンサ
ー９０，９１が設けられ、前述のようにANDゲ
ートＡ４及びＡ５に接続されている。各タンクの
底部には有孔金属シリンダーからなる乾燥剤支持
体が設けられ、乾燥剤床７１をタンク及び内
に保持している。タンク及びの底部からの流
出管路８３，８４はそれぞれ、対のボールチエツ
クバルブ８５，８６へ通じている。バルブ７４は
ソレノイド作動されるパイロツトバルブを介し
て、電子シーケンスタイマーにより作動される
が、バルブ８５，８６は圧力作動される。流動中
のタンク及びからの流出管路内のボールは、
管路８３，８４内の流動化スイツチ及び始動時に
移動されるが、ボール８５′，８６′の他方は前記
スイツチ時には弁座へ移動して、減圧状態で再生
時の室へ通じる管路８３，８４を閉鎖し、従つて
主流出流を流出管路８７を介して配送する。 各流出管路８３，８４にフイルタスクリーンが
配置されており、これは可動であると共に、焼結
ステンレス網により形成されている。これは床７
１から乾燥剤支持体７７を通過して移送される恐
れのある乾燥剤粒子を保持して、流出口バルブ８
５，８６及び装置の残部が、前述粒子で汚染され
ないようにする作用を有している。 バルブ８５，８６から乾燥流出ガス配送管路８
７が延びており、乾燥流出ガスを乾燥器から供給
されるべき装置へ配送するようになつている。管
路８７には流出圧力計Ｐ５及び感湿計Ｈを設ける
ことができるが、これらは随意的なもので、省略
することができる。 狭通路を有する横断管路８９が、流出管路８
３，８４に対してブリツジ配置されて、バルブ８
５，８６が閉鎖されている場合、それらのバルブ
をバイパスするようになつており、更に浄化流を
管路８３，８４へ送り、非流動状態のタンクへ配
送するようになつている。管路８９はその小径に
より減圧機能を有し、その下流側で圧力は、浄化
バルブＡ，Ｄの一方が開放している時、ほぼ大気
圧まで減じられると共に、使用済タンクの再生の
ためにバルブ８５，８６で流出ガスから取出され
る浄化流量を計量する。浄化排出バルブＡ，Ｄは
電子シーケンス装置からの信号により、管路７
５，７６を介する浄化流を制御するようになつて
おり、前記シーケンス装置は適切なソレノイド作
動されるパイロツトバルブを介して、適切な時期
に前記バルブを開閉するようになつている。別の
制限された管路のソレノイドバルブＥは、再加圧
時に作動されて、乾燥器に対するこの処理をより
速いサイクル時間で行なわせるようになつてい
る。これは乾燥器の寸法及び速度に依り、随意的
なものである。 もし、左タンクが乾燥サイクルで、右タンク
が再生サイクルにあるとすると、バルブ７４Ｂ
及びＤは開放し、７４Ｃ及びＡは閉鎖し、乾燥器
の作動は下記の通りである：例えば７Kg／cm2
（100psig）の圧力、305s.c.f.m.の流量、及び26.7
℃（80〓）で飽和した含湿流入ガスが流入管路７
２を介して流入し、バルブ７４Ｂ（バルブＣは閉
鎖されている）を通過して、第１タンクの頂部
へ流入し、内部の例えばシリカゲルまたは活性化
アルミナからなる乾燥剤床１を下方へ通過し、タ
ンクの底部へ流れ、それから支持体７７及び管路
８３、バルブ８５を通り、乾燥ガス流出管路８７
へ送られる。流出ガスは6.65Kg／cm2（95psig）の
圧力、265s.c.f.m.の流量、−73.3℃（−100〓）の
露点で配送される。ボール８６′は乾燥ガスが管
路８９を介する以外に管路８４へ流入することを
防止する。この乾燥流出ガスの残り、即ち40s.c.
f.m.は管路８９を介して取出され、そこでは圧力
はほぼ大気圧まで減圧されており、それから管路
８４を介して再生サイクルにある第２タンクの
底部へ送られる。浄化流は乾燥剤床７１を上方へ
通過し、頂部から管路７６へ流入し、バルブ４Ｄ
を通り、管路８１及びマフラー８２を通り、そこ
から大気中へ排出される。 このサイクルは、コンデンサー９１により検知
されて再生が完了するまで継続し、その際コンデ
ンサー９１は信号を発し、パイロツトバルブDD
の作動を停止することにより、浄化排出バルブＤ
を閉鎖する。従つて、管路８９はゆつくりタンク
を再加圧する。タンクが乾燥サイクル状態で
の装置の作動は、一定のサイクル時間Ｗ＋Ｘが経
過するまで継続し、その際電子シーケンスタイマ
ーがバルブ７４Ｃ，Ｂを逆転して、逆の室に対し
てサイクルが再度開始される。 各床が乾燥サイクルにある時間Ｗ＋Ｘ（及びＹ
＋Ｚは、使用済床を再生するのに必要な時間Ｗ
（及びＹ）より、時間Ｘ（及びＺ）だけ長い。コン
デンサー９１により検知されて再生時間が経過す
ると、バルブＤ（またはコンデンサー９０により
検知される場合は、バルブＡ）が遮断され、再生
タンクが自動的、且つゆつくりと管路８９を介し
て再加圧される。この再加圧は随意バルブＥを開
放することにより、加速される。 一定のサイクル時間Ｗ＋Ｘが経過すると、電子
シーケンスタイマーがバルブ７４Ｃ，Ｂをスイツ
チ操作して、流入管路７２を介して流入する含湿
流入ガスを管路７６を介して、タンクの頂部へ
配送させ、またチエツクバルブ８６は移動して、
管路８４を開放させ、またチエツクバルブ８５は
移動して、管路８３を閉鎖して、乾燥流出ガスは
タンクの底部から乾燥ガス配送管路８７へ送ら
れ、管路８３は閉鎖され、横断管路８９を介して
バルブ８５をバイパス流動する浄化ガス流を除い
て、逆転される。浄化流は管路８３を介して、再
生サイクルにあるタンクの底部へ送られ、それ
から床を上方へ流動して管路７５へ流入し、バル
ブ７４Ａ、管路８１、及びマフラー８２を通り、
そこから大気中へ排出される。 通常、乾燥サイクルは1.05〜24.5Kg／cm2（15〜
350psig）のオーダーの超大気圧のガスにおいて
行なわれる。横断管路８９のオリフイスと、浄化
排出バルブＡ，Ｄとの組合わせにより、再生サイ
クルは吸着サイクルが行なわれる圧力より、かな
り減圧された状態で行なわれる。 この発明の乾燥装置は、ガスから湿気を吸着す
る任意の型式の吸着剤を利用できる。活性化炭
素、アルミナ、シリカゲル、マグネシア、種種の
金属酸化物、粘土、白土、骨炭、及びモービルビ
ーズ（Mobilbeads）、及び類似の吸湿組成物を乾
燥剤として利用できる。 分子ふるい（Molecular sieves）も、これが
多くの場合に除湿特性を有することから、利用す
ることができる。この種の材料は天然及び合成の
沸石を含み、その孔の径は数オングストロームか
ら、12〜15Åまで、あるいはそれ以上に変化す
る。チヤバサイト（chabasite）及びアナルサイ
ト（analcite）は、利用できる代表的な天然沸石
である。利用できる合成沸石は、米国特許第
2442191号及び2306610号明細書に開示されたもの
を含む。これらすべての材料は乾燥剤として良く
知られており、詳細な説明は文献を参照された
い。 図示し説明した乾燥器はすべて、含湿流入ガス
に対して浄化流が逆方向に流動するような浄化流
再生に適用できる。これは良く知られるように、
乾燥剤床を利用する場合の最も有効な方法であ
る。含湿ガスは乾燥剤床を一方向に通過するか
ら、乾燥剤床の含湿量は次第に減少し、通常は床
の流出側端部では、最少量の湿気が吸着されるこ
とになる。従つて、床の含湿部から乾燥部へ湿気
を移動させ、従つて再生サイクルの必要時間を長
くすることがないように、再生浄化ガスは流出側
端部から導入することが実用的な方法である。浄
化流が流出側端部に導入されると、そこに存在す
る湿気は少量ではあるが、浄化流により除去され
て、床の含湿端部の方向へ運ばれる。従つて、床
は流出側端部から順次再生され、すべての湿気は
流入側端部から放出されるまでに、最少可能距離
だけ床を移送されることになる。 しかしある目的のためには、浄化流を流入流と
同一方向に流動させることが望ましい場合があ
る。この発明においては、乾燥剤の含湿量を通常
可能なより、非常に高いレベルに保持することが
可能であり、それは従来可能であるより正確に計
量された含湿レベル時に、流動を遮断できる検湿
要素の保護作用によるものである。その結果、多
くの場合、床が全体にわたつてほぼ飽和状態にあ
る場合には、浄化流が流入側端部または流出側端
部で流入する場合の間に、ほとんど差はなく、こ
の発明は、当然逆流再生がほとんどの場合に好ま
しくはあるが、両型式（正及び逆流）の作動を企
図している。 図示の乾燥装置はそれぞれ、タンク当り一つの
コンデンサーを利用している。しかし、タンク当
り２つ、３つまたはそれ以上の前述コンデンサー
を利用することも可能である。この場合は、一つ
またはそれ以上のコンデンサーがグループで欠陥
を生じても、装置の作動は保証される。コンデン
サーは乾燥剤床内の異なるレベルに配置されて、
湿気前線が床に順次通過する状態に従動するよう
にすることができる。前述のように、乾燥サイク
ルが継続している間は、湿気前線は流入側端部か
ら床の流出側端部へ向けて移動する。従つて、湿
気前線の通過により、流出側端部に近いコンデン
サーより、流出側から離れたコンデンサーの方が
早く作動される。相互に隔置された２つのコンデ
ンサーは異なる時間に作動され、この事実は異な
る時間に、再生及び再加圧のようなサイクルの異
なるステージを作動するのに利用できる。 従つて、一つのコンデンサーを床の流出側端部
からかなりの距離の点、例えば床の中間位置に配
置して、サイクルの時間Ａにおいて湿気前線を検
知して、再生中の床の加熱要素を遮断させて、例
えば、前記床が乾燥サイクルに入れられる前に、
再生サイクル時に十分に冷却するように、早い時
期に前記加熱要素を遮断するように利用すること
ができる。第２中間コンデンサーが、浄化排出バ
ルブを閉鎖し、再生床を再加圧するのに利用でき
る。床の端部から離れた第３コンデンサーが、サ
イクルのスイツチを作動させ、乾燥サイクルを終
了させるのに利用できる。この場合、タイマーは
不必要であり、再生時間はタイマーではなく、コ
ンデンサーにより決定される。 流入ガス流は場合により、水のような吸着され
るべき物質以外のガス及び液体で汚染されている
ことがあり、この場合は吸着剤に吸着されると、
所期の吸着剤とは異なる状態で誘電率が変化し、
乾燥剤が悪影響を受ける。このような汚染物は水
を吸着する吸着能力を減じ、あるいは水と共吸着
（coadsorb）して、高い誘電率を有する水を置換
することにより、コンデンサーの応答が変動さ
れ、また、より低いまたはより高い誘電率を有す
る汚染物に交換される。これらの応答は、吸着剤
床の所定レベルにおいて、見せかけの含湿量表示
をもたらすことになる。 各床に２つのコンデンサーを配置し、一つを選
択された制御点に、別のものを床の流入側端部か
ら離れた位置に設けることにより、誤応答は補正
される。制御コンデンサーは第２コンデンサーよ
り前に、前述汚染物の影響を受ける。汚染物が無
い場合の、コンデンサー出力に対する床位置の変
化の影響を考慮することにより、前述汚染物のコ
ンデンサー応答に対する影響は、２つのコンデン
サーの出力を連続または間欠的に比較し、第２コ
ンデンサーが制御コンデンサーより高い出力をも
たらした時、汚染状態を指定することにより、検
知される。前述比較により、制御コンデンサーの
位置の吸着能力が汚染物により損われたか、ある
いは誘電率が汚染物により変化したか、そして制
御コンデンサーが誤状態にあるかどうかが、明ら
かになる。 乾燥剤床のコンデンサーは、床の径内で任意の
深さに配置することができるが、流出口からの距
離は、床中の湿気前線と流動速度に影響するガス
速度と温度に依存する。前に議論された他のフア
クターは、流入ガスの含湿量と、コンデンサーが
作動される含湿量及びレベルである。 コンデンサーは非常に低い露点または相対湿度
においても、吸着剤の含湿量により、流出ガス内
に所望の含湿レベルを検知するように配置できる
が、通常は露点が約−34.4℃（−30〓）より高い
範囲の含湿量を検知することができる。乾燥剤床
からの乾燥流出ガスの含湿レベルは、通常は床の
流出側端部において、露点は約−90℃（−130〓）
及びそれ以下にはない。 床内でのコンデンサーの正確な位置は、２つの
フアクター、即ち床を再生するための時間長さ、
及び流出ガスの露点の突破の防止のうちの一つに
より決定される。明らかなようにコンデンサー
は、流入ガス速度、湿度及び温度が最も不利な条
件において、流出ガス露点が過度になる前に、吸
着剤床に高い含湿レベルを検知するように、配置
され調整されなければならない。これは第１図に
示されるように行なわれる。しかしコンデンサー
は、コンデンサーを作動するのに十分に床を飽和
するのに必要な水分量が、与えられた再生サイク
ル時間に脱着され得るように配置されなければな
らない。従つて、再生時間が例えば無加熱要素型
の床において、増大する含水量に不均衡に増大す
る乾燥器においては、コンデンサーは流入口に接
近する方向へ移動され、床は加熱される床より低
い総含湿量で使用されると考えられる。 前述のように、前述フアクターを考慮して、任
意の所定吸着条件においては、乾燥サイクルを決
定する適当な時間に、湿気前線を検知するための
コンデンサーの適切な位置は、経験的に決定で
き、米国特許第3448561号明細書の第１図に示さ
れるように、乾燥装置に対する露点一時間、また
は相対湿度一時間のデータ及びグラフが得られ
る。 乾燥剤に吸着された水量の変化に対する、乾燥
剤の誘電率の変化に関する予備テストが、704.7
cm2（109.25in2）の表面積を有し、且つ1.9cm
（0.75in.）隔置された２枚の金属板からなるテス
ト装置を利用して行なわれた。これら板間の空間
はアルミナまたはシリカゲル乾燥剤の、乾燥また
は飽和サンプルが満たされる。測定された静電容
量の値は下記の通りである。 乾燥 湿気 乾燥／湿気比 アルミナ 94.3pF 591pF 6.3 シリカゲル 97.0pF 331pF 3.4 乾燥剤の静電容量に対する油の影響を決定する
ためのテストも、装置内の乾燥アルミナのサンプ
ルの静電容量を測定し、アルミナを取出し、それ
を過度の油と混合し、アルミナ−油混合物をテス
ト装置へ戻し、再度静電容量を測定することによ
り行なわれた。乾燥アルミナは97.5pFの静電容量
をもたらし、アルミナ−油混合物は102.0pFの静
電容量をもたらし、従つて通常のレベルの油汚染
物の、前述コンデンサーに対する影響は無視でき
るものと考えられる。 発明者の見解における以下の例は、この発明に
よる乾燥装置の作動の好ましい方法を示してい
る。 例 １ 第３図に示される型式の２床型加熱再生可能な
乾燥器であつて、２つの乾燥剤床が1.52ｍ
（60in.）の長さ、31.4cm（12 3/8in.）の径、及び
80.4Kg（177lb）のシリカゲルを有する乾燥器が、
80％の相対湿度、6.44Kg／cm2（92psig）の流入圧
力、及び350scfmの流量、及び37.8℃（100〓）〜
21.1℃（70〓）の空気を乾燥するために利用され
た。空気の表面流速は37.8℃（100〓）で毎分
19.9ｍ（65.1ft）であつた。２％の吸着剤含湿量
に対応する約３％の相対湿度において作動可能な
２つのコンデンサーＸ，Ｙが床に配置され、Ｘは
床の流出側端部から76.2cm（30in.）の位置に、そ
してＹは61cm（24in.）の位置に配置された。下
記の表は、前述条件下でこの装置を利用して、４
乾燥サイクルを行なつた際のデータであり、各場
合に、乾燥サイクルはコンデンサーＹが報報を受
けた時に終了している：
利用された150DHAに対する流入状態はほとん
ど同一である： 高テストに対しては、4.7Kg／cm2（67.5psig）の
圧力で流入量は125.8scfmであり、低テストに対
しては、4.76Kg／cm2（68psig）の圧力で流入量は
124.5scfmである。低ヒステリシス・テストは各
サイクルに浄化流が要求された。高ヒステリシ
ス・テストは総計66の放棄を節約した。 一回の放棄当りの損失ガス量は、利用される浄
化流量の約11秒に等しく、高ヒステリシス運転で
は726秒の浄化流量に等しい処理ガスが節約され
ることになる。201回の半サイクルに対して平均
すると、半サイクル当り約3.6秒の浄化流量に等
しい平均的な節約が得られる。 これにより半サイクル当り、186.4秒間の浄化
流に等しいガス消費が減少される。従つて、高ヒ
ステリシス・テストは放棄を節約できるが、流出
口状態を維持するために低ヒステリシス・テスト
より多量のガスを消費する。 この実施状態は第１図に示されている。 第１図は、コンデンサーを床の流出側端部から
76.2cm（30in）の一連のＸ点と、床の流出側端部
から61cm（24in）の一連のＹ点に配置して検知し
て、床の静電容量の関数として決定された吸着剤
床の含湿量を、ガスが乾燥される時間に対してプ
ロツトした、37.8℃（100〓）〜21.1℃（70〓）
の温度で80％の相対湿度を有する含湿ガスを乾燥
する場合の一連の曲線を示している。 これらの曲線は、空気の管路圧が6.44Kg／cm2
（92psig）、表面流動速度が19.9mpm（65.1fpm）、
1.52ｍ（60in）の長さと、31.4cm（123／8in）の
径を有する床６０に、乾燥剤としてシリカゲル
80.4Kg（177lb）を利用した例１におけるのと同
様な装置に対するものである。しかしデータは、
任意の吸着条件で任意の乾燥剤を利用して得られ
る典型的なものである。 この発明の方法の原理は、湿気前線の傾斜Ｓの
変化が流出口へ到達する前にそれを検知し、サイ
クルを停止させることで、即ち第１図において、
曲線に対しては約2.4時間のサイクル時間前、
曲線に対しては約3.3時間のサイクル時間前、
曲線に対しては約4.5時間のサイクル時間前、
曲線に対しては約6.3時間のサイクル時間前と
なる。第１図の曲線は、これが、吸着剤床の点Ｘ
及びＹにおける含湿量が２％を越えない間にサイ
クルを終了することにより得られることを示して
いる。この含湿量は通常のコンデンサーにより検
知可能な量である。 コンデンサーが第１図に示されるように、各乾
燥サイクルにおいて点ＸとＹに置かれると、コン
デンサーが作動された時の吸着剤床の含湿量を曲
線が示している。すべての場合に、曲線，，
及びにおいて、コンデンサーＸは点Ａ，Ｃ，
Ｅ及びＧにおいて作動され、コンデンサーＹは点
Ｂ，Ｄ，Ｆ及びＨにおいて作動され、すべて傾斜
S2，S3，S4の変化前であり、湿気前線が床から離
れることが防止されている。 第３図の乾燥器は一対の乾燥剤タンク１，２か
ら成る。これらのタンクは垂直に配置されてい
る。各タンクはシリカゲルのような乾燥剤床
（層）１０を含む。タンク１，２には更に、乾燥
剤をタンクに充填及び排出するための乾燥剤充填
及び排出ベント９，９が設けられている。 管路３，４は２つのタンクを連結して、除去さ
れるべき湿気を有する流入ガスを管路６から導入
し、また管路７，８は乾燥器を通過後、湿気を除
去された乾燥流出ガスを、チエツクバルブＧ，Ｈ
を介して流出管路５へ配送するようになつてい
る。一度に一方だけが開放される流入スイツチバ
ルブＡ，Ｂは流入ガス流を、各タンクの頂部へ流
入ガスを導入する流入管路３，４の一方へ向け
る。 各タンクの底部には焼結ステンレススチール製
メツシユからなる乾燥剤スクリーン支持体１１が
設けられて、タンク１，２内に乾燥剤床１０を保
持している。タンク１，２の底部からの流出管路
７，８はそれぞれ流出管路５へ通じている。 管路１２は管路７，８を連結し、且つ再生用浄
化流を一方向に制御するためのチエツクバルブ
Ｅ，Ｆを設けられている。管路１２はバルブ及
びオリフイス１４を介して、管路１３により流出
管路５へ連結されている。 チエツクバルブＧ，Ｈにより、管路７，８内に
おいて流出管路５に向かう一方向のみの流動が可
能となり、またチエツクバルブＥ，Ｆにより、流
出管路５からオリフイス１４及びバルブを介し
て管路１２へ反対方向において一方向流動が可能
になり、更に管路７，８の他方を介して反対方向
にタンク１，２の底部へ流動されて、乾燥剤１０
を浄化及び再生するようになつている。 バルブは再生中にある流動を受けていない床
への、配送浄化流量を制御するために利用され
る。管路１３には浄化流圧力計Ｐが設けられてい
る。 各タンクの内部で支持体１１の上方の位置に、
一対の感湿コンデンサー２０，２１のそれぞれが
配置されて、コンデンサーの静電容量の関数とし
て、乾燥剤の含湿量を測定（決定）するようにな
つており、ここで吸着剤は誘電体となつている。 管路１５が管路３，４にプリツジ配置されると
共に、排出バルブＣ，Ｄが設けられて，タンク
１，２から排出管路１６への流量を制御するよう
になつている。タンク１，２の吸着剤床１０の再
生時、一度にバルブＣ，Ｄの一方のみが開放され
る。 コンデンサー２０，２１はプレート型のもの
で、含湿レベルに対応する静電容量に応答するよ
うにセツトされた検知器（図示しない）に接続さ
れて、湿気前線が床から離れないようにしてい
る。例えば、流出ガスに許容され得る最大大気露
天が−62℃（−80〓）の場合、検知器は−40℃
（−40〓）〜−17.8℃（０〓）の露点に対応する
静電容量に応答するように調整される。図示の検
知器は、LM2907N周波数−電圧変換型のもので
あるが、他の任意の型式の検知器を利用すること
ができる。 各床１０の流入側端部に配置されると共に、ほ
ぼ床の全長に延びるように、列をなす長い加熱要
素２２が配置されており、この場合は10本の加熱
要素が配置されている。これらの加熱要素は床を
通して均一の間隔で配置されている。しかし、そ
の熱容量により、それより多いか少ない数の加熱
要素を設けることができる。加熱要素の流入側端
部には電気接続部２３が設けられ、タンク１，２
の壁を通して延びて電気装置に接続されて、床が
再生サイクルにある時に加熱要素のスイツチが入
れられ、また乾燥剤の有効再生に十分な所定時間
の終了時にスイツチが切られるようにされてお
り、前記所定時間はコンデンサー２０，２１を活
性化するのに要する時間に依り、乾燥サイクルの
時間より少なく、あるいは等しくされる。 ここで、タンク１が乾燥サイクルにあり、タン
ク２が再生サイクルにあり、且つバルブＡ，Ｄが
開放され、バルブＢ，Ｃが閉鎖された状態にある
場合、乾燥器の作動は下記の通りである： 1.75〜24.5Kg／cm2（25〜350psig）の管路圧力で
管路６を介して流入する含湿ガスは、バルブＡ，
Ｂにより管路３からタンク１へ配送され、床１０
を介して下方へ流動して、コンデンサー２０を通
過して流出口へ送られ、管路７を介してバルブＧ
を通り、流出管路５へ送られる。バルブＥ及びＨ
はそれぞれ、管路１２及び８内の流動を防止す
る。浄化バルブに制御された流出流の一部は管
路１３を通り、且つオリフイス１４を通過し、そ
こで開放排出バルブＤによりほぼ大気圧に圧力が
減じられ、次いでチエツクバルブＦ（バルブＥは
管路１３の流動を防止している）を介して管路１
２を流れ、再生サイクル状態にある第２タンク２
の底部へ流入し、床１０を通して上方へ流入口の
方へ流れ、バルブＤを介して管路１５を流れ、浄
化排出管路１６を介して大気中へ排出される。 再生中のタンク２の列をなす加熱要素２２が付
勢され、乾燥床が浄化流を受けながら、乾燥剤が
完全に再生されるのに必要な時間、ベーキングさ
れる。この時間は乾燥サイクルの時間よりかなり
少なく、もちろん一定のサイクル時間により決定
されるのではなく、床中の湿気レベルにより決定
されるものである。その結果、加熱要素２２は、
乾燥剤の完全な再生に必要な時間だけ付勢される
ように調時され、この時間が経過した場合に、加
熱要素とタイマーが自動的に遮断されるようにな
つている。浄化ガスの流動は、乾燥剤床を室温ま
で冷却するのに十分な時間だけ継続されるように
なつており、前記温度は吸着がより効果的に行な
われる温度であり、また前記流動も浄化排出バル
ブＤを閉鎖することにより自動的に遮断されるよ
うになつており、使用済床が再加圧されて、次の
サイクルの準備が終わつたことになる。通常、床
が加熱要素により100〜250℃の温度に加熱される
場合は、完全な再生のためには、30分から２時間
で十分である。しかし、利用される乾燥剤に依
り、他の温度及び時間を利用することができるこ
とは明らかであろう。 コンデンサー２０がタンク１の床１０の所定含
湿量を検知した時は、タイマーが付勢され、バル
ブＡ，Ｂ，Ｃが切り替えられて、バルブＡは閉鎖
され、バルブＢは開放されて、流入ガスが管路４
へ転向されて、乾燥サイクル状態の第２タンク２
の頂部へ配送されると共に、排出バルブＣが開放
される。そこで浄化流は管路１３、オリフイス１
４及び管路１２、バルブＥを介して、再生サイク
ル状態にされるタンク１の底部へ流動する。バル
ブＡが切り替えられた時、床１０の加熱要素２２
のスイツチが入れられて、乾燥剤を活性化するた
めに床が加熱される。このサイクルは、コンデン
サー２１がタンク２内に所定の吸着剤含湿レベル
を検知するまで継続され、それからバルブＡ，
Ｂ，Ｃ，Ｄが再度切り替えられて、サイクルが繰
返される。 第４図の乾燥器においては、使用済乾燥剤の再
生にあたつて熱は利用されず、またコンデンサー
５０，５１が、脱着時の脱着水蒸気フロントの進
行を検知するために利用されている。 乾燥器は２つのタンク３１，３２から成り、含
湿流入ガスをバルブＡ，Ｂを介して管路３６から
配送する適当な管路接続部３３，３４と、各タン
クから管路３７，３８、チエツクバルブＧ，Ｈを
介して流出管路３５へ配送する接続部と、乾燥剤
充填及び排出ポート４７，４８が設けられてい
る。乾燥剤４０は各タンク内のスクリーン支持体
４９上に支持されている。 横断管路４２が流出管路３７，３８にブリツジ
配置されると共に、流出管路３５へ延びる管路４
３の各側部に、２つのチエツクバルブＥ，Ｆを備
えている。管路４３には減圧オリフイス４４が設
けられ、それを越えた圧力は、浄化排出バルブＣ
またはＤが開放されている時、ほぼ大気圧となつ
ており、また管路４３を通る流量を計量する浄化
調整バルブＩが配置されている。前記バルブＩは
使用済タンクの再生のために、流出ガスから取出
された浄化流量を制御しており、浄化流量表示器
Ｐから読み取られる。 別の管路４５が管路３３と３４の間に延びると
共に、それぞれ浄化排出バルブＣ，Ｄが設けら
れ、開放された時は排出管路４６を介して、浄化
流体は大気中へ排出される。 各タンクの床の長さのほぼ1/3下方の位置に、
一対のコンデンサー５０，５１が設けられ、これ
は第３図におけるのと同様に、吸着剤床の含湿レ
ベルを静電容量により検知し、床の含湿レベルが
所定の低値に達して再生が完了すると、その含湿
レベルに応答するようになつており、その際、バ
ルブＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ及び両加圧バルブＩの作動が
制御される。 タンク３１が乾燥サイクルにあり、またタンク
３２が再生サイクルにあり、バルブＡ，Ｄが開放
し、バルブＢ，Ｃが閉鎖されている場合、乾燥器
の作動は以下のように行なわれる： 例えば７Kg／cm2（100psig）の圧力で、305s.c.f.
m.の流量で、26.7℃（80〓）で飽和された含湿流
入ガスが流入管路３６を介して管路３３へ流入
し、バルブＡを通り、第１タンクの頂部へ流入
し、それから例えばアルミナの乾燥剤床４０を介
して流出口へ流れ、それからフイルター４９を介
して管路３７（チエツク弁Ｅが管路４２への流入
を防止している）、そしてチエツクバルブＧを介
して乾燥ガス流出管路３５へ流動する。流出ガス
は6.35Kg／cm2（95psig）の圧力及び265s.c.f.m.の
流量で配送され、露点は−73.3℃（−100〓）で
ある。チエツクバルブＨは乾燥ガスが管路３８へ
流入することを防止する。乾燥流出ガスの残り、
この例では40s.c.f.m.が流出口において、管路３
５の端部から管路４３を介して取出され、バルブ
Ｉ及びオリフイス４４を通過させられて、圧力が
ほぼ大気圧に減圧され、それから管路４２を介し
てチエツクバルブＦを通過して、再生サイクル状
態にある第２タンク３２の底部へ送られる。浄化
流は乾燥剤床４０を通り、管路３４へ流出し、そ
れから浄化排出バルブＤを通過し、そこから管路
４６を介して大気中へ排出される。 このサイクルは、乾燥剤４０から脱着された湿
潤蒸気の湿気前線が床３２を通過して上方へ進行
し、コンデンサー５１を通過する間、継続され
る。湿気前線が通過して、コンデンサーの下方の
床から水分が脱着されたことが表示されると、信
号が発せられ、バルブＤが閉鎖され、タンク３２
が再加圧されて浄化流動が停止される。 各床が、含湿流出ガスが床から流出する前に、
乾燥サイクル状態におかれる時間は、通常使用済
床の再生に必要な時間より長いから、流入バルブ
Ａ，Ｂは、完全な再生及び再生乾燥剤の再加圧に
十分な一定時間後に作動されるように調時され
る。この時間が経過すると、バルブＡ，Ｂは自動
的に切り替えられて、流入ガス流は再生された床
へ転向される。 コンデンサー５１がタンク３２内の所定の含湿
レベルを検知して、脱着の完了を表示すると、バ
ルブＤが閉鎖されて、床３２が再加圧される。タ
ンク３１において吸着のための一定時間が経過す
ると、タイマーによりバルブＡが閉鎖され、バル
ブＢが開放されて、流入口３６を介して流入する
含湿流入ガスは、管路３４を介してタンク３２へ
送られ、また乾燥流出ガスはタンク３２から管路
３８を介して、乾燥ガス配送管路３５へ送られ
る。そして、横断管路４２内の浄化ガス流動は逆
転されて、浄化流は管路４３内をバルブＩ、オリ
フイス４４を介して管路４２へ流動し、バルブＥ
を通過して管路３７を介して、再生サイクルにあ
るタンク３１へ流入し、床４０を介して管路３３
へ流動し、管路４５を介してバルブＣを通り管路
４６へ送られ、大気中へ排出される。このサイク
ルは、コンデンサー５０により決定されて、床３
１の再生が完了するまで継続され、それからコン
デンサーが浄化排出バルブＣを閉鎖し、タンク３
１が再加圧される。乾燥サイクルにあるタンク３
２における作動は、タイマーがバルブＡ，Ｂを逆
転するまで継続し、それからサイクルが再度開始
される。 通常、乾燥サイクルは超大気圧、即ち1.05〜
24.5Kg／cm2（15〜350psig）のオーダーの圧力の
ガスに対して実施される。横断管路４３のオリフ
イス４４と、浄化排出バルブＣ，Ｄとの組合わせ
により、再生サイクルは、吸着サイクルが行なわ
れる圧力よりかなり低圧において行なわれる。 この装置には安全装置が含まれ、所定の
NEMA半サイクルの時間を計数する無効化タイ
マーを設けることにより、床の分解時及び再生に
失敗した場合に損害を生じること防止するように
なつている。もし、脱着された湿潤蒸気に対する
湿気前線が、浄化用NEMA半サイクルに可能な
最大時間内にコンデンサーに到達しない場合は、
バルブＣ，Ｄがとにかく閉鎖されて、再加圧が行
なわれて、警報が発せられる。いずれの場合にも
NEMA半サイクルの終了時には、バルブＡが閉
鎖され、バルブＢ，Ｃが開放されて、バルブＥ，
Ｆ，Ｇ及びＨは、流動されていない再加圧再生床
を流動状態にして、流入ガスを下方へ流動させる
と共に、流動状態の床を減圧し、再生を開始する
ように操作される。 この作動により、最大浄化流が、一定の、そし
て通常は過度の回数のサイクルで行なわれるので
はなく、必要な時間だけ要求されるだけであるか
ら、無加熱要素型乾燥器の始動時の浄化ガスの消
費量を最少にできる、特別の利点がもたらされ
る。 無加熱要素型乾燥器に対する別の制御装置に
は、複雑な制御回路が含まれる。床の吸着半サイ
クル時に湿気前線が通過するようにされた各床の
領域に設けられたコンデンサーが、前記前線がコ
ンデンサー領域を通過する吸着半サイクル中の時
期を決定するために利用される。コンデンサーの
位置を適切に選択することにより、湿気前線がコ
ンデンサー位置を通過する時期が、吸着半サイク
ル時の湿気前線の移動速度の関数、及び湿気が吸
着される速度の関数になる。そして湿気前線がコ
ンデンサー位置を通過する時期が、床が再生半サ
イクルに入るまで蓄積される。この時期は電圧と
して蓄積され、またはデジタル情報に変換され
る。床が再生半サイクルに入ると、蓄積された前
記時期は、前記床の再生を行なうのに必要な浄化
流動の時間を計算するのに利用される。 前述の制御形態を備えた乾燥器が、サイクル変
更段階に入ると、制御装置は、前記床の完全な再
生のために継続すべき浄化流の流動時間を決定す
るために、前の半サイクル時に蓄積された、前記
前線が通過するのに必要な経過時間を利用する。
もし必要な浄化時間が、可能な最大浄化時間を超
過した場合は、最大浄化流が配送されて、警報が
鳴らされる。正常な作動状態においては、再生完
了後は排出バルブは閉鎖され、再生された室内は
再加圧が許容される。新しい床において湿気前線
がコンデンサーを通過して移動する時間が、再生
半サイクルに入つた時に前記床を再生するのに必
要な浄化流動時間を計算するために、引続き利用
するために蓄積される。図示のNEMA半サイク
ルの終了時、バルブが作動されて、流入ガスが再
生床を流動させられ、浄化ガスが使用済床を流動
され、再生床が減圧され、浄化が開始される。 この装置により、乾燥器の始動時に要求される
最大浄化サイクルの数が最少にできる。 第５図に示される乾燥器はこの装置を利用して
いる。 乾燥器は２つのタンク６１，６２からなり、各
タンクへ含湿流入ガスを送り、且つ乾燥流出ガス
を各タンクから配送する適当な管路接続部と、乾
燥剤充填及び排出ポート６３，６４が設けられて
いる。乾燥剤６０は各タンクのスクリーン支持体
６５上に支持されている。流入管路６６からの含
湿流入ガスの流動はバルブＡ，Ｂにより制御さ
れ、流入ガスは管路６７又は管路６８へ、そして
タンク６１，６２へ向けられる。 乾燥流出ガスはタンクから管路６９または７０
の一方を介して流出するようになつており、前記
両管路６９，７０は共に乾燥ガス流出口７４へ接
続されている。各管路にはチエツクバルブＧ，Ｈ
が設けられている。横断管路７１が流出管路６
９，７０にブリツジ配置されると共に、流出管路
７４へ延びる平行管路７２の各側に、２つのチエ
ツクバルブＥ，Ｆが設けられている。管路７２に
は減圧オリフイス７３が設けられ、それを越えた
位置では圧力は、浄化排出バルブＣまたはＤが開
放している時は、ほぼ大気圧以下まで減圧される
ようになつており、また管路７２を通る流量を計
量する浄化調整バルブＩが設けられている。これ
により、使用済タンクの再生のために流出ガスか
ら取出される浄化流量が制御されると共に、浄化
流量表示器Ｐにより読取られる。 管路７５は管路６７，６８間に延び、且つそれ
ぞれ管路７６を介して大気中へ排出される浄化流
量を制御する浄化排出バルブＣ，Ｄが設けられて
いる。 各タンクのほぼ中央位置に一対のコンデンサー
８０，８１が設けられ、これは床６０が所定の含
湿レベルになつた時に信号を発し、且つタイマー
を制御するようになつており、前記タイマーはバ
ルブＡ，Ｂ及び浄化排出バルブＣ，Ｄ及び再加圧
バルブＩを制御するようになつている。 もしタンク６１が乾燥サイクルで、タンク６２
が再生サイクルにあり、バルブＡ，Ｄが開放し、
Ｂ，Ｃが閉鎖されている場合は、乾燥器の作動は
下記の通りである：例えば1.75Kg／cm2（25psig）
の圧力で、305s.c.f.m.の流量の含湿流入ガスが流
入口６６を介して管路６７へ送られ、バルブＡを
通過して第１タンク６１へ流入し、その内部の乾
燥剤例えばシリカゲル床６０を通り、コンデンサ
ー８０を通過して流出口へ送られ、管路６９を介
してチエツクバルブＧを通り、乾燥ガス配送管路
７４へ送られる。流出ガスは、1.4Kg／cm2
（20psig）の圧力及び267s.c.f.m.の流量で配送さ
れる。チエツクバルブＨは乾燥ガスが管路７０へ
流入することを防止する。乾燥流出ガスの残り、
即ち、この例において38s.c.f.m.の流量のガスは
管路７２を介して流出口から取出されて、バルブ
Ｉ及びオリフイス７３を通過させられて、その圧
力は、排出バルブが開放していることからほぼ大
気圧まで減圧され、それから管路７０，７１を介
してバルブＦを通り、再生サイクルにある第２タ
ンク６２へ送られる。浄化流は乾燥剤床６０を通
り、管路６８，７５へ流出し、更に浄化排出バル
ブＤを介して管路７６へ流動して、大気中へ排出
される。 タイマーにより制御された所定時間後、浄化バ
ルブＤは閉鎖される。それから、再加圧が完了す
ると、タイマーがバルブＡ，Ｂを切り替えて、タ
ンク６２を流動状態にし、タンク６１を再生状態
にする。 吸着サイクルは、コンデンサー８０がタンク６
１の吸着剤に所定の含湿レベルを検知するまで継
続される。コンデンサー８０により吸着剤床６０
に所定含湿レベルが検知されると、信号が発せら
れ、このレベルに到達するのに要する時間が、電
子記憶装置に蓄積される。タンク６２が再生状態
にある間、浄化流動は記憶装置に蓄積された時間
が経過するまで継続され、それからバルブＤを閉
鎖することにより排出が停止されて、タンク６２
が再加圧される。タイマーが再付勢され、タンク
６２の床が再加圧される時、バルブＤは閉鎖さ
れ、浄化流動は遮断される。それから、タンク６
１は、そのための一定時間が経過するまで吸着を
継続し、それからタイマーがバルブＡを閉鎖し、
流動をタンク６１からタンク６２へ管路６８を介
してスイツチし、それからバルブＣを開放して、
乾燥流出ガスを乾燥ガス配送管路６６からタンク
６２へ送る。そして横断管路７２内の浄化ガス流
は逆転され、浄化流は管路７２を介してバルブＩ
を通り、管路７１を介しバルブＥを通り、再生サ
イクルにあるタンク６１へ送られ、床を通り管路
６７を介して、管路７５を介して開放浄化排出バ
ルブＣ及び管路７６を介して、大気中へ排出され
る。このサイクルは前述と同様に継続され、その
後バルブが逆転されて、サイクルが再度開始され
る。 通常、乾燥サイクルは大気圧またはそれより高
い、1.05〜24.5Kg／cm2（15〜350p.s.i.g）のオーダ
ーの圧力のガスで行なわれる。横断管路７２のオ
リフイス７３と排出バルブＣ，Ｄにより、再生サ
イクルは吸着サイクルが行なわれる圧力よりかな
り減圧された、ほぼ大気圧状態で行なわれる。 使用済床の再生が、再生サイクル用の時間内に
行なわれるために、それに割当てられる時間は、
乾燥剤の体積及び吸着が行なわれる圧力に依り、
浄化流の流量と共に調整される。無加熱要素型乾
燥器は平衡状態で作動し、平衡状態は乾燥器がそ
の使用中に受けるあらゆる条件下で、維持されな
ければならない。 コンデンサーの利用は、発振器及び２進計算機
を含むデジタル集積回路を備える、電子シーケン
ス・タイマーを利用するガス分留装置における特
別の適用例である。コンデンサーは複数のソレノ
イドバルブのための駆動装置に作動的に連結され
ており、前記ソレノイドバルブは許容された位置
の間を移動でき、且つ吸着及び再生時の床を通る
ガス流動を閉鎖し、更に一部タイマーにより規定
され、且つ、一部吸着剤の含湿量により規定され
るサイクル時間に従つて、吸着ガス分留装置を通
るガス流量を制御するようになつている。 電子シーケンス・タイマーは通常の市販の電子
素子からなり、これら素子はこの発明の一部を構
成するものではないが、組合わされた後述の回路
において、ガス分留装置の作動に必要な一定時間
を規定することができる。 電子装置の心臓部は、選択された時間に電子イ
ンパルスを発信する発振器である。タイマーは効
果上、自己励起電子回路であり、その出力電圧は
時間の周期関数である。発振器は所望の時間を選
択できるように、パルス間に時間遅延をもたらす
ことができなければならず、タイマーまたは発振
器によりもたらされる短時間パルスが基本ブロツ
クであり、長い時間は２進計算機に集められる。 理論的には、タイマーは選択時間にパルスを発
信する。これらパルスは２進デジタル計算機へ送
られ、この計算機はこれらのパルスを計数し、且
つ複数のステージまたはビツトからなり、多数の
時間間隔においてパルス数に情報を蓄積するよう
になつている。論理モジユールに配置された複数
の論理ゲートが計算機の出力状態を判断するのに
利用され、所望の時間間隔に対応するある選択さ
れた出力組合わせに応答し、且つそれに従つてソ
レノイド駆動装置を作動し、それにより各段階に
対して選択された時間間隔が達成される。 一型式のタイマー発振器は、自身をトリガーで
き、且つマルチバイブレータとしてフリーラン
（free−run）する回路を利用する。外部コンデン
サーは一組の抵抗を介して充電され、別の組を介
して放電される。従つて、調時間隔はこれら２組
の抵抗の値を変えることにより、所望の範囲内で
変化させることができ、これは単に必要な抵抗値
の抵抗を選択することにより容易に行なえる。こ
の型式の発振器の例は555である。利用できる別
の型式のものとしては、フリツプ−フロツプ・マ
ルチバイブレータ、正帰還を備えた静電容量遅延
オプ−アンプ（op−amp）、及び静電容量接続
NORゲートがある。 ２進デジタル計算機は調時発振器からのパルス
を受信し、それを計数する。計算機は、決定され
る必要のある調時間隔に必要な、所望数のユニツ
トを含むことができる。図示の装置において、14
ステージまたはビツト型２進計算機が利用されて
おり、それはこれが容易に入手でき、且つ満足で
きる型式のものだからである。図示の計算機にお
いて、各計数ステージは静止マスタースレーブ・
フリツプ−フロツプであり、計算機は各入力パル
スの負遷移に対して１計数進行される。しかし、
他の型式のものも利用できる。 この２進計算機は一連のステージを有し、それ
ぞれ一つの入力と一つの出力を有している。各ス
テージの出力（oo）は次のステージの入力へ接続
される。各ステージの論理出力は、その入力が論
理１から論理０へ変化する時、逆転する。従つ
て、任意のステージの完全サイクルには、前のス
テージの２つのサイクルが必要である。この結
果、この14ステージ型２進計算機において214（ま
たは16，384：１）の周波数減少が生じる。この
減少により、27.3Hz発振器により10分サイクルが
駆動される。一般的に、発振器はより高い周波数
において、より正確なものである。 ステージはQ1−Q14とされる。この計算機の
Q14、即ち最終（または最遅）ステージは、全サ
イクルを２つの半部に分割する。最初の半部にお
いては、論理０にあり、２番目の半部において
は、論理１にある。同様に、Q13はサイクルを４
つに分割し、Q12は８つに、そしてQ11は16に分
割する。これら最後の４ステージの出力をモニタ
リングすることにより、タイマーがサイクルの16
の均一分割またはシーケンスのいずれにあるかが
決定できる。AND，NAND，OR及びNORゲー
トの選定配置により、これら４つの出力が解釈さ
れ、適切な出力トランジスターが駆動され、ソレ
ノイドバルブが作動される。２進計算機（外部に
接続されていない）の最初の10ステージは、周波
数減少の機能のみを有する。しかし、これらはよ
り正確な適用例に必要な場合は、より高度のサイ
クル位置の分析のために利用される。 論理モジユールは多数の論理ゲートを含み、こ
れは組合わされて、各バルブ機能に対して規定さ
れた時間間隔中に、ソレノイド駆動装置を作動す
る出力をもたらすように選択配置される。AND，
NAND，OR及びNORゲートの機能は良く知ら
れており、且つこれらゲートの特別の配置は、も
ちろん選択された時間、及び利用される調時発振
器及び２進計算装置に依存するから、所定回路に
利用できる特別の配置は、当業者にとつては明ら
かなことであろう。図示の配置は可能な組合わせ
のうちの例示的なものである。 回路を少し変更することにより、より高い精度
と、必要な場合に反復性が与えられる。これには
発振器の除去と、電力供給トランスの２次巻きへ
の未フイルタ接続による２進計算機の駆動が含ま
れる。これは本質的には発振器の代りに、電線周
波数を利用している。電線周波数は長時間にわた
つて非常に正確であるが、この周波数を調整でき
ないという欠点を有している。この問題は「ｎ計
算機による分割」を備えることにより、ある程度
緩和される。これは、各ｎ入力パルスに対して一
つの出力パルスをもたらすようにされた集積回路
であり、ここでｎは３〜９の任意の整数にするこ
とができる。正しいｎ及び正しい２進計算機ステ
ージ数を選択することにより、種々の組合わせが
得られ、広範囲のサイクル持続時間を選択でき
る。 第６〜８図の乾燥器は前述のような電子タイマ
ーを利用すると共に、一対の乾燥剤タンクと
からなつている。これらのタンクは垂直に配置さ
れている。各タンクは、シリカゲルまたは活性化
アルミナのような乾燥剤床７１を含む。タンク
，には乾燥剤の充填、排出のために、乾燥剤
充填及び排出ポート７８，７９が設けられてい
る。 それぞれ２つのタンクを頂部と底部で連結する
のにあたり、ただ２つの管路が必要となるだけで
あり、これにより除去される湿気を含む流入ガス
が導入され、また乾燥器を通過して湿気を除去さ
れた乾燥流出ガスが配送されるようになつてお
り、流入ガス及び流出ガスを各タンクへ、及び各
タンクから流動させるべく、流れをスイツチする
ためにバルブＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄが必要である。 ４つのバルブＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄがソレノイドで作
動されるパイロツトバルブAD，BD，CD及び
DDにより空気圧で作動されるようになつてお
り、前記パイロツトバルブは第７図に示される回
路を備えた電子シーケンス・タイマーＴに接続さ
れて、それにより制御される。ソレノイドバルブ
AD，BD，CD及びDDに対する持続時間は第８
図に示されている。 第７図に示されるように、24VのDC電力が、
36Vの中央タツプ・トランスＴ１及び整流器Ｄ
１，Ｄ２を介して誘導され、2200Mfdの電解コン
デンサーＣ１によりフイルタ処理（ろ波）されて
いる。 低電圧論理ポテンシヤルが、フイルタ処理され
た24V.D.C.供給源から電力消散470Ω抵抗Ｒ１を
介して、6.2V、0.4Wゼナー（Zener）ダイオード
Ｄ１０へ給電することにより維持される。このゼ
ナーダイオードによる調整により、供給電圧の減
少機能に対して給電ノイズを絶縁する利点が付加
されるが、初期フイルタ処理供給電圧及びソレノ
イド作動電圧が論理ICの作動範囲（15Vまたはそ
れ以下）にある場合は、不必要である。 この低電圧はダイオードＤ３及びＤ４により２
つに分けられ、250MfdのコンデンサーＣ２のチ
ヤージは、集積回路IC２への小漏れ電流を維持
し、短期間の電力欠陥時にサイクル位置の記憶を
保持するために利用できる。これら２つのダイオ
ードはすべての集積回路に対して、同一供給電圧
（Vcc：ほぼ6V）を維持するために利用される。 集積回路555のタイマーIC１は、発振回路に利
用される抵抗Ｒ２，Ｒ３及びコンデンサーＣ３を
正確に選択することにより、10分サイクルに対し
て27.962KHzで発振するようにセツトされる。 555タイマーは、数マイクロ秒〜数時間の調整
自在なサイクルの、通常オン及び通常オフの出力
タイミングに対して、正確な時間遅延または発振
を行なう安定性の高い装置であり、非安定及び単
一安定モードにおいて作動できる。図示の装置に
おいては、非安定モードで作動されており、タイ
マーは自身をトリガーし、且つマルチバイブレー
タとしてフリーラン（free−run）する。外部コ
ンデンサーはＲ２＋Ｒ３を介してチヤージし、Ｒ
３を介し放電する。従つて、デユーテイサイクル
（duty cycle）は、これら２つの抵抗の比により
正確にセツトされ、抵抗は所見比を得るために、
必要により変更され得る。 コンデンサーは1/3Vcc及び2/3Vccの間で、チ
ヤージ及び放電を行なう。チヤージ及び放電時間
及び周波数は、供給電圧から独立している。チヤ
ージ時間は下式から与えられる： t1＝0.693（R2＋R3）C3 そして、放電時間は下式により与えられる： t2＝0.693（R3）C3 従つて、全時間は Ｔ＝t1＋t2＝0.693（R2＋2R3）C3 である。 任意の時間サイクルを選択することができ、
IC１はそれに従つてセツトされる。 発振器の出力は、14ビツト型I.C.2進計算機IC
２の第１ステージを駆動する。 IC２はIC１の出力の周波数を減少させる機能
を有する。これから２つの周波数がもたらされ、
一方はピン７からのものでLN2907のピン１を駆
動し、他方はピン１からのものでIC３のピン１
０を駆動する。 IC３はIC２と同一の、CMOS12ステージ型リ
プル・キヤリー（ripple−carry）２進計算機／
分割器であり、パルス入力整形回路、リセツト・
ライン駆動装置回路、及び12リプル・キヤリー２
進計算機ステージからなつている。緩衝出力はス
テージ１〜１２により、外部から得られる。計算
機はリセツト・インバーター入力ラインを高レベ
ルにすることにより、「全０」状態にリセツトさ
れる。このリセツトはこの適用例では利用されな
い。各計算機ステージは、静的マスタースレー
ブ・フリツプ・フロツプとなつている。計算機は
各入力パルスの負変化に対して一計数進行され
る。この集積回路において、各ビツトは負移行パ
ルス（前のステージの論理１から論理０）により
トリガーされた時、ステージにおいて論理０と論
理１の間を変化する。従つて各ステージは前ステ
ージの周波数の半分において、論理状態を逆転さ
せ、第８図に示されるように、ユニツトのサイク
ル位置に対して12ビツト２進記録を維持する。調
時サイクルの最終部分において、全12ビツトは論
理１の状態にある。発振器の次の負振動により、
全ビツト２が論理０状態に駆動され、次のサイク
ルが開始される。この計算機の最後の４つのビツ
トQ9，Q10，Q11及びQ12は、サイクルを１６の均
一な部分に分割し、常にユニツトがどの部分にあ
るかを確認するのに必要な情報を包含している。 これら４つのビツトは一連の論理ゲートへ送ら
れ、４つの出力のそれぞれが駆動状態にある条件
を満たす、適当な論理状態の組合わせが決定され
る。 この回路は２つのNANDゲートＮ１，Ｎ２と、
２つのANDゲートＡ４，Ａ５を含む。 ANDゲートＡ４の一入力はNANDゲートＮ２
へ接続されるが、他方はQ12へ直接接続される。
第３入力はバルブＡ，Ｂで制御される室のため
に、コンデンサー出力へ接続される。Ａ４の出力
は駆動トランジスター（図示しない）を介して、
ソレノイドバルブADへ接続される。全３つの入
力が１の場合のみ、ソレノイドＡが付勢される。 ANDゲートＡ５の一入力はNANDゲートＮ２
へ接続され、一入力はNANDゲートＮ１へ接続
される。第３入力はバルブＣ，Ｄにより制御され
る室のために、コンデンサー出力へ接続される。
Ａ５の出力は駆動トランジスター（図示しない）
を介して、ソレノイドバルブDDへ接続される。 Q12は駆動トランジスター（図示しない）を介
して、何らゲートを介在させることなくソレノイ
ドバルブBDへ接続される。 それはQ12の出力が１の時に付勢される。
NANDゲートＮ１は駆動トランジスター（図示
しない）を介して、ソレノイドバルブCDへ接続
され、ANDゲートＡ５は同様にソレノイドバル
ブDDへ接続される。 両NANDゲートは３入力型で、全３つの入力
が１の時が、出力０の時である。しかし、Ｎ１の
全３つの入力が同一ステージQ12へ接続されてい
るから、このNANDゲートは単にインバーター
であつて、Q12からの出力が０の時のみ、その出
力トランジスターを介して、ソレノイドCDを駆
動する出力をもたらし、それ以外にはない。 NANDゲートＮ２はそれぞれステージQ9，
Q10，Q11に接続された３入力を有し、従つてす
べてのQ9，Q10，Q11が１でない限り、出力１を
発する。 ソレノイドバルブDDはANDゲートＡ５によ
り、その駆動トランジスタを介して付勢されるよ
うになつており、前記ANDゲートＡ５は３入力
を有し、一つはＮ１から、一つはＮ２から、そし
て一つは静電容量プローブ回路からのものであ
る。従つて、両Ｎ１及びＮ２が出力１を発し、且
つプローブが湿気を検知した時にのみ、Ａ５から
ソレノイドバルブDD駆動トランジスターへ出力
１が送られる。 NANDゲートＮ１はＷ及びＸ時は１、Ｙ及び
Ｚ時は０にある。NANDゲートＮ２はＷ及びＹ
時は１、Ｘ及びＺ時は０にある。ANDゲートＡ
４はＹ時は１、Ｗ，Ｘ及びＺ時は０にあり、
ANDゲートＡ５はＷ時は１、Ｘ，Ｙ及びＺ時は
０にあり、この場合適切なコンデンサープローブ
が、浄化流を必要とする十分な湿気を検知してい
る。 従つて、タイマー及びコンデンサーにより指示
される時間は第８図に示される。ソレノイドバル
ブCDはＷ及びＸ時間中に付勢され、ソレノイド
バルブDDはＷ時間中に付勢される。ソレノイド
バルブBDはＹ及びＺ時間中に、そしてソレノイ
ドバルブADは、Ｙ時間中に付勢される。 これらのゲートの電力出力はソレノイド駆動装
置または駆動トランジスターQ1，Q2，Q3及びQ4
（図示しない）を、電流制限抵抗Ｒ４，Ｒ５，Ｒ
６及びＲ７（図示しない）を介して、オン及びオ
フにスイツチする。これらのトランジスターは第
６図に示されるソレノイドバルブAD，BD，
CD，DDを駆動すると共に、ダイオードＤ５，Ｄ
６，Ｄ７及びＤ８（図示しない）により、誘導フ
ライ−バツク（fly−back）から保護される。 Ｗ＋Ｘ及びＹ＋Ｚの時間はそれぞれ、タンク
及びの乾燥サイクル時間に対応する。 Ｗ及びＹの時間はそれぞれ、タンク及びの
再生ステージに対応し、Ｘ及びＺの時間は；再生
が完了した時の再加圧ステージに対応する。コン
デンサーはバルブＡ，Ｄを作動して、再生流を制
御し、再生が完了した時に室流出流動を停止し、
タイマーがバルブＢ，Ｃを作動している間に再加
圧を行なわせ、流入流体を一方の室から他方へ変
更する。 管路７２は含湿流入ガスを、バルブＡ，Ｂ，
Ｃ，Ｄを含む４成分流入スイツチバルブ７４へ送
る。バルブＣ，Ｂの一つは流入ガス流を２つの流
入管路７５，７６の一方へ送り、管路７５，７６
の一方は常時、流入ガスの各タンク，の頂部
へ導入しており、管路７５，７６の他方はバルブ
Ａ，Ｄにより、再生流出ガスの浄化流を管路８１
及びマフラー８２を介して排出部へ送り、大気中
へ排出される。 各乾燥剤床７１内において、底部にコンデンサ
ー９０，９１が設けられ、前述のようにANDゲ
ートＡ４及びＡ５に接続されている。各タンクの
底部には有孔金属シリンダーからなる乾燥剤支持
体が設けられ、乾燥剤床７１をタンク及び内
に保持している。タンク及びの底部からの流
出管路８３，８４はそれぞれ、対のボールチエツ
クバルブ８５，８６へ通じている。バルブ７４は
ソレノイド作動されるパイロツトバルブを介し
て、電子シーケンスタイマーにより作動される
が、バルブ８５，８６は圧力作動される。流動中
のタンク及びからの流出管路内のボールは、
管路８３，８４内の流動化スイツチ及び始動時に
移動されるが、ボール８５′，８６′の他方は前記
スイツチ時には弁座へ移動して、減圧状態で再生
時の室へ通じる管路８３，８４を閉鎖し、従つて
主流出流を流出管路８７を介して配送する。 各流出管路８３，８４にフイルタスクリーンが
配置されており、これは可動であると共に、焼結
ステンレス網により形成されている。これは床７
１から乾燥剤支持体７７を通過して移送される恐
れのある乾燥剤粒子を保持して、流出口バルブ８
５，８６及び装置の残部が、前述粒子で汚染され
ないようにする作用を有している。 バルブ８５，８６から乾燥流出ガス配送管路８
７が延びており、乾燥流出ガスを乾燥器から供給
されるべき装置へ配送するようになつている。管
路８７には流出圧力計Ｐ５及び感湿計Ｈを設ける
ことができるが、これらは随意的なもので、省略
することができる。 狭通路を有する横断管路８９が、流出管路８
３，８４に対してブリツジ配置されて、バルブ８
５，８６が閉鎖されている場合、それらのバルブ
をバイパスするようになつており、更に浄化流を
管路８３，８４へ送り、非流動状態のタンクへ配
送するようになつている。管路８９はその小径に
より減圧機能を有し、その下流側で圧力は、浄化
バルブＡ，Ｄの一方が開放している時、ほぼ大気
圧まで減じられると共に、使用済タンクの再生の
ためにバルブ８５，８６で流出ガスから取出され
る浄化流量を計量する。浄化排出バルブＡ，Ｄは
電子シーケンス装置からの信号により、管路７
５，７６を介する浄化流を制御するようになつて
おり、前記シーケンス装置は適切なソレノイド作
動されるパイロツトバルブを介して、適切な時期
に前記バルブを開閉するようになつている。別の
制限された管路のソレノイドバルブＥは、再加圧
時に作動されて、乾燥器に対するこの処理をより
速いサイクル時間で行なわせるようになつてい
る。これは乾燥器の寸法及び速度に依り、随意的
なものである。 もし、左タンクが乾燥サイクルで、右タンク
が再生サイクルにあるとすると、バルブ７４Ｂ
及びＤは開放し、７４Ｃ及びＡは閉鎖し、乾燥器
の作動は下記の通りである：例えば７Kg／cm2
（100psig）の圧力、305s.c.f.m.の流量、及び26.7
℃（80〓）で飽和した含湿流入ガスが流入管路７
２を介して流入し、バルブ７４Ｂ（バルブＣは閉
鎖されている）を通過して、第１タンクの頂部
へ流入し、内部の例えばシリカゲルまたは活性化
アルミナからなる乾燥剤床１を下方へ通過し、タ
ンクの底部へ流れ、それから支持体７７及び管路
８３、バルブ８５を通り、乾燥ガス流出管路８７
へ送られる。流出ガスは6.65Kg／cm2（95psig）の
圧力、265s.c.f.m.の流量、−73.3℃（−100〓）の
露点で配送される。ボール８６′は乾燥ガスが管
路８９を介する以外に管路８４へ流入することを
防止する。この乾燥流出ガスの残り、即ち40s.c.
f.m.は管路８９を介して取出され、そこでは圧力
はほぼ大気圧まで減圧されており、それから管路
８４を介して再生サイクルにある第２タンクの
底部へ送られる。浄化流は乾燥剤床７１を上方へ
通過し、頂部から管路７６へ流入し、バルブ４Ｄ
を通り、管路８１及びマフラー８２を通り、そこ
から大気中へ排出される。 このサイクルは、コンデンサー９１により検知
されて再生が完了するまで継続し、その際コンデ
ンサー９１は信号を発し、パイロツトバルブDD
の作動を停止することにより、浄化排出バルブＤ
を閉鎖する。従つて、管路８９はゆつくりタンク
を再加圧する。タンクが乾燥サイクル状態で
の装置の作動は、一定のサイクル時間Ｗ＋Ｘが経
過するまで継続し、その際電子シーケンスタイマ
ーがバルブ７４Ｃ，Ｂを逆転して、逆の室に対し
てサイクルが再度開始される。 各床が乾燥サイクルにある時間Ｗ＋Ｘ（及びＹ
＋Ｚは、使用済床を再生するのに必要な時間Ｗ
（及びＹ）より、時間Ｘ（及びＺ）だけ長い。コン
デンサー９１により検知されて再生時間が経過す
ると、バルブＤ（またはコンデンサー９０により
検知される場合は、バルブＡ）が遮断され、再生
タンクが自動的、且つゆつくりと管路８９を介し
て再加圧される。この再加圧は随意バルブＥを開
放することにより、加速される。 一定のサイクル時間Ｗ＋Ｘが経過すると、電子
シーケンスタイマーがバルブ７４Ｃ，Ｂをスイツ
チ操作して、流入管路７２を介して流入する含湿
流入ガスを管路７６を介して、タンクの頂部へ
配送させ、またチエツクバルブ８６は移動して、
管路８４を開放させ、またチエツクバルブ８５は
移動して、管路８３を閉鎖して、乾燥流出ガスは
タンクの底部から乾燥ガス配送管路８７へ送ら
れ、管路８３は閉鎖され、横断管路８９を介して
バルブ８５をバイパス流動する浄化ガス流を除い
て、逆転される。浄化流は管路８３を介して、再
生サイクルにあるタンクの底部へ送られ、それ
から床を上方へ流動して管路７５へ流入し、バル
ブ７４Ａ、管路８１、及びマフラー８２を通り、
そこから大気中へ排出される。 通常、乾燥サイクルは1.05〜24.5Kg／cm2（15〜
350psig）のオーダーの超大気圧のガスにおいて
行なわれる。横断管路８９のオリフイスと、浄化
排出バルブＡ，Ｄとの組合わせにより、再生サイ
クルは吸着サイクルが行なわれる圧力より、かな
り減圧された状態で行なわれる。 この発明の乾燥装置は、ガスから湿気を吸着す
る任意の型式の吸着剤を利用できる。活性化炭
素、アルミナ、シリカゲル、マグネシア、種種の
金属酸化物、粘土、白土、骨炭、及びモービルビ
ーズ（Mobilbeads）、及び類似の吸湿組成物を乾
燥剤として利用できる。 分子ふるい（Molecular sieves）も、これが
多くの場合に除湿特性を有することから、利用す
ることができる。この種の材料は天然及び合成の
沸石を含み、その孔の径は数オングストロームか
ら、12〜15Åまで、あるいはそれ以上に変化す
る。チヤバサイト（chabasite）及びアナルサイ
ト（analcite）は、利用できる代表的な天然沸石
である。利用できる合成沸石は、米国特許第
2442191号及び2306610号明細書に開示されたもの
を含む。これらすべての材料は乾燥剤として良く
知られており、詳細な説明は文献を参照された
い。 図示し説明した乾燥器はすべて、含湿流入ガス
に対して浄化流が逆方向に流動するような浄化流
再生に適用できる。これは良く知られるように、
乾燥剤床を利用する場合の最も有効な方法であ
る。含湿ガスは乾燥剤床を一方向に通過するか
ら、乾燥剤床の含湿量は次第に減少し、通常は床
の流出側端部では、最少量の湿気が吸着されるこ
とになる。従つて、床の含湿部から乾燥部へ湿気
を移動させ、従つて再生サイクルの必要時間を長
くすることがないように、再生浄化ガスは流出側
端部から導入することが実用的な方法である。浄
化流が流出側端部に導入されると、そこに存在す
る湿気は少量ではあるが、浄化流により除去され
て、床の含湿端部の方向へ運ばれる。従つて、床
は流出側端部から順次再生され、すべての湿気は
流入側端部から放出されるまでに、最少可能距離
だけ床を移送されることになる。 しかしある目的のためには、浄化流を流入流と
同一方向に流動させることが望ましい場合があ
る。この発明においては、乾燥剤の含湿量を通常
可能なより、非常に高いレベルに保持することが
可能であり、それは従来可能であるより正確に計
量された含湿レベル時に、流動を遮断できる検湿
要素の保護作用によるものである。その結果、多
くの場合、床が全体にわたつてほぼ飽和状態にあ
る場合には、浄化流が流入側端部または流出側端
部で流入する場合の間に、ほとんど差はなく、こ
の発明は、当然逆流再生がほとんどの場合に好ま
しくはあるが、両型式（正及び逆流）の作動を企
図している。 図示の乾燥装置はそれぞれ、タンク当り一つの
コンデンサーを利用している。しかし、タンク当
り２つ、３つまたはそれ以上の前述コンデンサー
を利用することも可能である。この場合は、一つ
またはそれ以上のコンデンサーがグループで欠陥
を生じても、装置の作動は保証される。コンデン
サーは乾燥剤床内の異なるレベルに配置されて、
湿気前線が床に順次通過する状態に従動するよう
にすることができる。前述のように、乾燥サイク
ルが継続している間は、湿気前線は流入側端部か
ら床の流出側端部へ向けて移動する。従つて、湿
気前線の通過により、流出側端部に近いコンデン
サーより、流出側から離れたコンデンサーの方が
早く作動される。相互に隔置された２つのコンデ
ンサーは異なる時間に作動され、この事実は異な
る時間に、再生及び再加圧のようなサイクルの異
なるステージを作動するのに利用できる。 従つて、一つのコンデンサーを床の流出側端部
からかなりの距離の点、例えば床の中間位置に配
置して、サイクルの時間Ａにおいて湿気前線を検
知して、再生中の床の加熱要素を遮断させて、例
えば、前記床が乾燥サイクルに入れられる前に、
再生サイクル時に十分に冷却するように、早い時
期に前記加熱要素を遮断するように利用すること
ができる。第２中間コンデンサーが、浄化排出バ
ルブを閉鎖し、再生床を再加圧するのに利用でき
る。床の端部から離れた第３コンデンサーが、サ
イクルのスイツチを作動させ、乾燥サイクルを終
了させるのに利用できる。この場合、タイマーは
不必要であり、再生時間はタイマーではなく、コ
ンデンサーにより決定される。 流入ガス流は場合により、水のような吸着され
るべき物質以外のガス及び液体で汚染されている
ことがあり、この場合は吸着剤に吸着されると、
所期の吸着剤とは異なる状態で誘電率が変化し、
乾燥剤が悪影響を受ける。このような汚染物は水
を吸着する吸着能力を減じ、あるいは水と共吸着
（coadsorb）して、高い誘電率を有する水を置換
することにより、コンデンサーの応答が変動さ
れ、また、より低いまたはより高い誘電率を有す
る汚染物に交換される。これらの応答は、吸着剤
床の所定レベルにおいて、見せかけの含湿量表示
をもたらすことになる。 各床に２つのコンデンサーを配置し、一つを選
択された制御点に、別のものを床の流入側端部か
ら離れた位置に設けることにより、誤応答は補正
される。制御コンデンサーは第２コンデンサーよ
り前に、前述汚染物の影響を受ける。汚染物が無
い場合の、コンデンサー出力に対する床位置の変
化の影響を考慮することにより、前述汚染物のコ
ンデンサー応答に対する影響は、２つのコンデン
サーの出力を連続または間欠的に比較し、第２コ
ンデンサーが制御コンデンサーより高い出力をも
たらした時、汚染状態を指定することにより、検
知される。前述比較により、制御コンデンサーの
位置の吸着能力が汚染物により損われたか、ある
いは誘電率が汚染物により変化したか、そして制
御コンデンサーが誤状態にあるかどうかが、明ら
かになる。 乾燥剤床のコンデンサーは、床の径内で任意の
深さに配置することができるが、流出口からの距
離は、床中の湿気前線と流動速度に影響するガス
速度と温度に依存する。前に議論された他のフア
クターは、流入ガスの含湿量と、コンデンサーが
作動される含湿量及びレベルである。 コンデンサーは非常に低い露点または相対湿度
においても、吸着剤の含湿量により、流出ガス内
に所望の含湿レベルを検知するように配置できる
が、通常は露点が約−34.4℃（−30〓）より高い
範囲の含湿量を検知することができる。乾燥剤床
からの乾燥流出ガスの含湿レベルは、通常は床の
流出側端部において、露点は約−90℃（−130〓）
及びそれ以下にはない。 床内でのコンデンサーの正確な位置は、２つの
フアクター、即ち床を再生するための時間長さ、
及び流出ガスの露点の突破の防止のうちの一つに
より決定される。明らかなようにコンデンサー
は、流入ガス速度、湿度及び温度が最も不利な条
件において、流出ガス露点が過度になる前に、吸
着剤床に高い含湿レベルを検知するように、配置
され調整されなければならない。これは第１図に
示されるように行なわれる。しかしコンデンサー
は、コンデンサーを作動するのに十分に床を飽和
するのに必要な水分量が、与えられた再生サイク
ル時間に脱着され得るように配置されなければな
らない。従つて、再生時間が例えば無加熱要素型
の床において、増大する含水量に不均衡に増大す
る乾燥器においては、コンデンサーは流入口に接
近する方向へ移動され、床は加熱される床より低
い総含湿量で使用されると考えられる。 前述のように、前述フアクターを考慮して、任
意の所定吸着条件においては、乾燥サイクルを決
定する適当な時間に、湿気前線を検知するための
コンデンサーの適切な位置は、経験的に決定で
き、米国特許第3448561号明細書の第１図に示さ
れるように、乾燥装置に対する露点一時間、また
は相対湿度一時間のデータ及びグラフが得られ
る。 乾燥剤に吸着された水量の変化に対する、乾燥
剤の誘電率の変化に関する予備テストが、704.7
cm2（109.25in2）の表面積を有し、且つ1.9cm
（0.75in.）隔置された２枚の金属板からなるテス
ト装置を利用して行なわれた。これら板間の空間
はアルミナまたはシリカゲル乾燥剤の、乾燥また
は飽和サンプルが満たされる。測定された静電容
量の値は下記の通りである。 乾燥 湿気 乾燥／湿気比 アルミナ 94.3pF 591pF 6.3 シリカゲル 97.0pF 331pF 3.4 乾燥剤の静電容量に対する油の影響を決定する
ためのテストも、装置内の乾燥アルミナのサンプ
ルの静電容量を測定し、アルミナを取出し、それ
を過度の油と混合し、アルミナ−油混合物をテス
ト装置へ戻し、再度静電容量を測定することによ
り行なわれた。乾燥アルミナは97.5pFの静電容量
をもたらし、アルミナ−油混合物は102.0pFの静
電容量をもたらし、従つて通常のレベルの油汚染
物の、前述コンデンサーに対する影響は無視でき
るものと考えられる。 発明者の見解における以下の例は、この発明に
よる乾燥装置の作動の好ましい方法を示してい
る。 例 １ 第３図に示される型式の２床型加熱再生可能な
乾燥器であつて、２つの乾燥剤床が1.52ｍ
（60in.）の長さ、31.4cm（12 3/8in.）の径、及び
80.4Kg（177lb）のシリカゲルを有する乾燥器が、
80％の相対湿度、6.44Kg／cm2（92psig）の流入圧
力、及び350scfmの流量、及び37.8℃（100〓）〜
21.1℃（70〓）の空気を乾燥するために利用され
た。空気の表面流速は37.8℃（100〓）で毎分
19.9ｍ（65.1ft）であつた。２％の吸着剤含湿量
に対応する約３％の相対湿度において作動可能な
２つのコンデンサーＸ，Ｙが床に配置され、Ｘは
床の流出側端部から76.2cm（30in.）の位置に、そ
してＹは61cm（24in.）の位置に配置された。下
記の表は、前述条件下でこの装置を利用して、４
乾燥サイクルを行なつた際のデータであり、各場
合に、乾燥サイクルはコンデンサーＹが報報を受
けた時に終了している：
【表】
これらのデータから明らかなように、コンデン
サーＸ，Ｙはそれぞれ、流出ガスが安全な含湿レ
ベルにある時に、乾燥サイクルを終了させる時に
警報を発している。また異なるサイクル時間から
明らかなように、コンデンサーはサイクル時間の
長さを、流入空気の含湿量レベルの変動に適合さ
せることができ、従つて再生回数を実質的に減じ
て乾燥剤の寿命を保持している。適切な含湿量レ
ベルの流出ガスを配送するためには、37.8℃
（100〓）で突破することを防止するため、サイク
ル時間を2.4時間より少なく、例えば2.2時間にセ
ツトされなければならず、それはその状態を越え
て運転されると、流出ガスの含湿量レベルが要求
値を越える可能性があるからである。サイクル時
間は、空気が21.1℃（70〓）でそれにより含湿量
の少ない空気が導入される場合は、6.2時間まで
延ばすことができる。明らかなように、流入ガス
の含湿量が更に減少すれば、それに従つてサイク
ル時間も延ばされる。もし流量または流入温度が
減少されれば更に長い時間が可能なる。 例 ２ 第４図に示される２床型無加熱要素乾燥器であ
つて、乾燥剤床が1.35ｍ（53in.）の長さ、20.3cm
（8in.）の径、床あたり38.6Kg（85lb）のアルミナ
を含有している乾燥器が、50％の相対湿度、21.1
℃（70〓）、及び流入圧力が4.76Kg／cm2（68psig）
の空気を乾燥するために利用された。流量は
125scfmで、毎分17.7ｍ（58ft）の表面速度に等
しい。表２に示すように15.2cm（6in.）の距離に
隔置されて、21／２〜16％の吸着水を検知する８
つのコンデンサーＡ〜Ｈが床内に配置された。こ
れらのコンデンサーは各位置における吸着剤アル
ミナの含湿量を測定することにより、床の流入側
から流出側までの濃度勾配を検知するために利用
される。
サーＸ，Ｙはそれぞれ、流出ガスが安全な含湿レ
ベルにある時に、乾燥サイクルを終了させる時に
警報を発している。また異なるサイクル時間から
明らかなように、コンデンサーはサイクル時間の
長さを、流入空気の含湿量レベルの変動に適合さ
せることができ、従つて再生回数を実質的に減じ
て乾燥剤の寿命を保持している。適切な含湿量レ
ベルの流出ガスを配送するためには、37.8℃
（100〓）で突破することを防止するため、サイク
ル時間を2.4時間より少なく、例えば2.2時間にセ
ツトされなければならず、それはその状態を越え
て運転されると、流出ガスの含湿量レベルが要求
値を越える可能性があるからである。サイクル時
間は、空気が21.1℃（70〓）でそれにより含湿量
の少ない空気が導入される場合は、6.2時間まで
延ばすことができる。明らかなように、流入ガス
の含湿量が更に減少すれば、それに従つてサイク
ル時間も延ばされる。もし流量または流入温度が
減少されれば更に長い時間が可能なる。 例 ２ 第４図に示される２床型無加熱要素乾燥器であ
つて、乾燥剤床が1.35ｍ（53in.）の長さ、20.3cm
（8in.）の径、床あたり38.6Kg（85lb）のアルミナ
を含有している乾燥器が、50％の相対湿度、21.1
℃（70〓）、及び流入圧力が4.76Kg／cm2（68psig）
の空気を乾燥するために利用された。流量は
125scfmで、毎分17.7ｍ（58ft）の表面速度に等
しい。表２に示すように15.2cm（6in.）の距離に
隔置されて、21／２〜16％の吸着水を検知する８
つのコンデンサーＡ〜Ｈが床内に配置された。こ
れらのコンデンサーは各位置における吸着剤アル
ミナの含湿量を測定することにより、床の流入側
から流出側までの濃度勾配を検知するために利用
される。
【表】
吸着剤床の含湿量が第２図に示すように、時間
に対してグラフが描かれた。上方の線は床の流動
状態にある半サイクルの終了時の、前記床の吸着
湿気プロフイルに対応している。下方の線は再生
半サイクルの終了時の、床の吸着湿気プロフイル
に対応している。床の流出側端部1.36ｍ
（53.5in.）における吸着水量は、流出空気と平衡
状態であることを仮定して計算される。従つて、
サイクル時間は適切な含湿量レベルの流出ガスを
配送するための要求に従つて、任意の点で終了さ
せることができる。 この発明を主として乾燥剤による乾燥器及びガ
スの乾燥に関して説明してきたが、この装置は吸
着剤を適切に選択することにより、ガス混合物か
ら一種またはそれ以上のガス成分を分離するため
にも利用できる。その場合、吸着成分は熱の適
用、更に随意的に減圧することにより、再生時に
吸着剤から除去される。従つて、この方法は、石
油炭化水素流及び同一成分を含有する他のガス混
合物から水素を分離すること、窒素から酸素を分
離すること、飽和炭化水素からオレフインを分離
すること等に利用できる。これらの目的に利用で
きる吸着剤は明らかであろう。 多くの場合、空気から湿気が除去するのに有用
な吸着剤、例えば活性化炭素、グラスウール、吸
着綿、金属酸化物、及び粘土、例えばアタプルジ
ヤイト（attapulgite）及びベントナイト、白土、
骨炭、及び天然及び合成沸石は、一種またはそれ
以上のガス成分をその混合物から吸着する場合に
も利用できる。沸石は、窒素、水素及びオレフイ
ン、例えばエチレンまたはプロピレンを、プロパ
ン及び高パラフイン炭化水素、またはブテンまた
は高オレフイン混合物から除去する場合に、特に
有効である。沸石の選択性は材料の孔寸法に依
る。入手できる沸石の選択吸着性が文献に示され
ているから、特別の材料に対する材料の選択は簡
単であり、またこの発明の一部をなすものでもな
い。 場合により、一回の通過で複数の材料を分離す
るために吸着剤を利用することができる。例えば
活性化アルミナは、モービルビーズ
（Mobilbeads）が水蒸気だけしか吸着しないのに
対して、水蒸気と二酸化炭素を吸着できる。 この目的のために利用される装置は、第３〜８
図に示され説明されたものと同一であり、分離さ
れる成分の割合、作動圧力及び温度、及び吸着剤
の体積に従つて適切に修正される。 しかし、この方法はガスの乾燥における特別に
適用例であり、この発明の好ましい実施例である
ことは明らかであろう。
に対してグラフが描かれた。上方の線は床の流動
状態にある半サイクルの終了時の、前記床の吸着
湿気プロフイルに対応している。下方の線は再生
半サイクルの終了時の、床の吸着湿気プロフイル
に対応している。床の流出側端部1.36ｍ
（53.5in.）における吸着水量は、流出空気と平衡
状態であることを仮定して計算される。従つて、
サイクル時間は適切な含湿量レベルの流出ガスを
配送するための要求に従つて、任意の点で終了さ
せることができる。 この発明を主として乾燥剤による乾燥器及びガ
スの乾燥に関して説明してきたが、この装置は吸
着剤を適切に選択することにより、ガス混合物か
ら一種またはそれ以上のガス成分を分離するため
にも利用できる。その場合、吸着成分は熱の適
用、更に随意的に減圧することにより、再生時に
吸着剤から除去される。従つて、この方法は、石
油炭化水素流及び同一成分を含有する他のガス混
合物から水素を分離すること、窒素から酸素を分
離すること、飽和炭化水素からオレフインを分離
すること等に利用できる。これらの目的に利用で
きる吸着剤は明らかであろう。 多くの場合、空気から湿気が除去するのに有用
な吸着剤、例えば活性化炭素、グラスウール、吸
着綿、金属酸化物、及び粘土、例えばアタプルジ
ヤイト（attapulgite）及びベントナイト、白土、
骨炭、及び天然及び合成沸石は、一種またはそれ
以上のガス成分をその混合物から吸着する場合に
も利用できる。沸石は、窒素、水素及びオレフイ
ン、例えばエチレンまたはプロピレンを、プロパ
ン及び高パラフイン炭化水素、またはブテンまた
は高オレフイン混合物から除去する場合に、特に
有効である。沸石の選択性は材料の孔寸法に依
る。入手できる沸石の選択吸着性が文献に示され
ているから、特別の材料に対する材料の選択は簡
単であり、またこの発明の一部をなすものでもな
い。 場合により、一回の通過で複数の材料を分離す
るために吸着剤を利用することができる。例えば
活性化アルミナは、モービルビーズ
（Mobilbeads）が水蒸気だけしか吸着しないのに
対して、水蒸気と二酸化炭素を吸着できる。 この目的のために利用される装置は、第３〜８
図に示され説明されたものと同一であり、分離さ
れる成分の割合、作動圧力及び温度、及び吸着剤
の体積に従つて適切に修正される。 しかし、この方法はガスの乾燥における特別に
適用例であり、この発明の好ましい実施例である
ことは明らかであろう。
第１図はガス乾燥時間に対する吸着剤床の含湿
量を示すグラフ、第２図は例２において、時間に
対する静電容量の関数として決定された吸着剤床
の含湿量のグラフ、第３図はこの発明の２床型加
熱再生乾燥剤による乾燥器の概略図、第４図はこ
の発明の２床型無加熱要素乾燥剤による乾燥器の
概略図、第５図はこの発明の別の型式の２床型無
加熱要素乾燥剤による乾燥器の概略図、第６図は
この発明の電子タイマーで制御される２床型加熱
再生乾燥剤による乾燥器の概略図、第７図は乾燥
器の電子シーケンス・タイマーの詳細回路図、第
８図は第７図のタイマー回路の時間シーケンスを
示すタイミング図である。 １，２……容器、３，４，６……流入ガス配送
管路、５，７，８……流出ガス配送管路、２０，
２１……コンデンサー。
量を示すグラフ、第２図は例２において、時間に
対する静電容量の関数として決定された吸着剤床
の含湿量のグラフ、第３図はこの発明の２床型加
熱再生乾燥剤による乾燥器の概略図、第４図はこ
の発明の２床型無加熱要素乾燥剤による乾燥器の
概略図、第５図はこの発明の別の型式の２床型無
加熱要素乾燥剤による乾燥器の概略図、第６図は
この発明の電子タイマーで制御される２床型加熱
再生乾燥剤による乾燥器の概略図、第７図は乾燥
器の電子シーケンス・タイマーの詳細回路図、第
８図は第７図のタイマー回路の時間シーケンスを
示すタイミング図である。 １，２……容器、３，４，６……流入ガス配送
管路、５，７，８……流出ガス配送管路、２０，
２１……コンデンサー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１ガスと第２ガスとの混合物の第１ガス濃
度を、限界最大濃度以下に減少させる方法であつ
て、前記混合物を前記第１ガスに対して優先的に
親和力を有する吸着剤床に対して、その一端から
他端へ接触状態で流動させ、前記床に第１ガスを
吸着させると共に、前記最大値より低い濃度を有
する流出ガスを形成し、且つ吸着の継続中に前記
床内に、前記一端から他端へ向けて次第に減少す
る第１ガス濃度勾配を形成すると共に、吸着剤の
吸着能力の減少につれて、第２ガス内の第１ガス
の濃度上昇により、前記床内にその一端から他端
へ次第に前進する濃度前線を画定させ、前記床内
の前記第１ガス前線の進行を、コンデンサーの静
電容量の関数として、前記吸着剤の第１ガス含有
量の変化を決定することにより検知するにあた
り、前記吸着剤は誘電体とし、且つ前記コンデン
サーは前記床の端部から十分に離れた位置に配置
して、限界最大第１ガス濃度を有する流出ガスが
前記床から流出することを防止して、前記流出ガ
スが前記床から流出する前に、そして前記第２ガ
ス中の前記第１ガス濃度が前記限界最大濃度を越
える前に、前記ガス混合物を前記床に接触した状
態で流動させることを停止させるようにすると共
に、前記床から前記第１ガスを脱着させる脱着サ
イクルの脱着時間を濃度前線を検知するコンデン
サーの出力信号に基づき制御するようにした方
法。 ２ 前記第１ガスが水蒸気である、特許請求の範
囲第１項に記載の方法。 ３ 前記第１ガス濃度の低い浄化ガス流を、前記
床に接触した状態で流動させることにより、前記
床から第１ガスを脱着させ、吸着及び脱着サイク
ルを順次繰返すようにした、特許請求の範囲第１
項に記載の方法。 ４ 前記第１ガスを脱着するのに十分な高温状態
で、前記床から第１ガスを脱着するようにした、
特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ５ 吸着が行なわれる圧力により低圧において、
前記床から第１ガスを脱着するようにした、特許
請求の範囲第１項に記載の方法。 ６ 大気圧より低圧で前記床から第１ガスを脱着
するようにした、特許請求の範囲第１項に記載の
方法。 ７ 前記濃度前線が前記床を所定距離前進した時
に、前記ガス混合物を前記床と接触した状態で流
動させることを自動的に停止するようにした、特
許請求の範囲第１項に記載の方法。 ８ ２つの吸着剤床を利用すると共に、その一方
は第１ガス吸着サイクルに、そして他方を第１床
からの流出流からなる浄化流により、第１ガスを
脱着するサイクルにあるようにした、特許請求の
範囲第１項に記載の方法。 ９ 脱着サイクルにある前記床が室温浄化流を受
けるようにした、特許請求の範囲第８項に記載の
方法。 １０ 脱着サイクルにある前記床が、前記第１ガ
スの脱着を助けるのに十分な昇温状態の浄化流を
受けるようにした、特許請求の範囲第８項に記載
の方法。 １１ 脱着サイクルにある前記床が、吸着サイク
ルにおけるより低圧の浄化流を受けるようにし
た、特許請求の範囲第９又は１０項に記載の方
法。 １２ 第１ガスと第２ガスとの混合物の第１ガス
濃度を、限界最大濃度以下に減少させる方法であ
つて、前記混合物を前記第１ガスに対して優先的
に親和力を有する吸着剤床に対して、その一端か
ら他端へ接触状態で流動させ、前記床に第１ガス
を吸着すると共に、吸着の継続中に、前記床内に
その一端から他端へ次第に減少する、第１ガス濃
度勾配を有する流出ガスを形成し、前記第２ガス
中の第１ガス濃度の増大により、吸着剤の吸着能
力の減少と共に、前記床内にその一端から他端へ
次第に進行する濃度勾配を画定し、前記床内の前
記勾配の前進を、前記床の第１ガス含有量の変
化、従つて吸着剤を誘電体としたコンデンサーの
静電容量の変化の関数として検知し、限界最大第
１ガス含有量の流出ガスが前記床から流出する前
に、前記ガス混合物を前記床に接触した状態で流
動させることを停止させるようにすると共に、前
記床から前記第１ガスを脱着させる脱着サイクル
の脱着時間を濃度勾配を検知するコンデンサーの
出力信号に基づき制御するようにした方法。 １３ 前記第１ガスが水蒸気である、特許請求の
範囲第１２項に記載の方法。 １４ 第１ガスと第２ガスとの混合物の第１ガス
濃度を、限界最大濃度以下に減少させる装置であ
つて、容器、前記容器内に設けられて、前記第１
ガスに対して優先的に親和力を有する吸着剤床の
ための室、前記床の流入側端部に流入ガスを配送
する官路、前記床の流出側端部から流出ガスを配
送する官路、選定された表面積を有する２つの導
体を備えたコンデンサーであつて、前記導体は誘
電体として吸着剤を収容する空間を画定すべく、
相互に十分な距離で隔置されており、前記吸着剤
の第１ガス含有量の変化を誘電率の関数として検
知して、静電容量が変化されるようにしたコンデ
ンサー、選定された第１ガス含有量を表示する選
定された静電容量に到達または越えた時、前記静
電容量の変化に応答して信号を発する装置、前記
信号に応じて前記流入ガスの流動を遮断する装
置、及び前記第１ガスを脱着させる脱着サイクル
の脱着時間を濃度前線を検知するコンデンサーの
出力信号に基づき制御する装置、を備えた装置。 １５ 前記コンデンサーが前記床の中央部分で、
前記床の流出側端部から、前記床の長さの1/50〜
２／３の位置に配置されている、特許請求の範囲第
１４項に記載の装置。 １６ 一対の容器が配置され、各容器がその内部
に吸着剤床のための室を備えると共に、流入ガス
を配送し、且つ流出ガスを配送する官路を備えて
いる、特許請求の範囲第１４項に記載の装置。 １７ 前記床から吸着第１ガスを脱着すべく、流
出ガスの一部を前記一方の容器から他方の容器へ
転向させる装置を備える、特許請求の範囲第１６
項に記載の装置。 １８ 前記床に吸着された第１ガスの脱着を助け
るのに十分な高温状態まで、前記容器内の吸着剤
床を加熱する装置を備える、特許請求の範囲第１
４項に記載の装置。 １９ 脱着時に、吸着時の圧力より低く減圧させ
る装置を備える、特許請求の範囲第１４項に記載
の装置。 ２０ 前記容器が加熱要素を備えていない、特許
請求の範囲第１４項に記載の装置。 ２１ 再生サイクル時に前記コンデンサーにより
作動されて、吸着剤の再生の完了後に吸着剤床を
遮断して、再生サイクルを停止させる装置を備え
る、特許請求の範囲第１４項に記載の装置。 ２２ 吸着されるガスの限界最大濃度を越える流
出ガスが、前記床から流出する前に、サイクルを
終了させることができるように、前記床の流出端
から十分な距離の位置に、前記床の第１ガス含有
量を検知する複数のコンデンサーを配置した、特
許請求の範囲第１４項に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57041609A JPS58163419A (ja) | 1982-03-16 | 1982-03-16 | サイクルを自動制御する吸着分留方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57041609A JPS58163419A (ja) | 1982-03-16 | 1982-03-16 | サイクルを自動制御する吸着分留方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58163419A JPS58163419A (ja) | 1983-09-28 |
| JPH0351449B2 true JPH0351449B2 (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=12613091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57041609A Granted JPS58163419A (ja) | 1982-03-16 | 1982-03-16 | サイクルを自動制御する吸着分留方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58163419A (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1551732A (en) * | 1975-05-30 | 1979-08-30 | Boc Ltd | Gas separation |
| US4127395A (en) * | 1976-10-18 | 1978-11-28 | Pall Corporation | Adsorbent fractionator with fail-safe automatic cycle control and process |
| JPS56128450A (en) * | 1980-03-13 | 1981-10-07 | Kyoto Denshi Kogyo Kk | Measuring method for concentration of moisture in sample gas |
| JPS56128451A (en) * | 1980-03-13 | 1981-10-07 | Kyoto Denshi Kogyo Kk | Measuring method for concentration of water in sample gas |
-
1982
- 1982-03-16 JP JP57041609A patent/JPS58163419A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58163419A (ja) | 1983-09-28 |
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