JPH0351786B2 - - Google Patents
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- JPH0351786B2 JPH0351786B2 JP60073084A JP7308485A JPH0351786B2 JP H0351786 B2 JPH0351786 B2 JP H0351786B2 JP 60073084 A JP60073084 A JP 60073084A JP 7308485 A JP7308485 A JP 7308485A JP H0351786 B2 JPH0351786 B2 JP H0351786B2
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- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属薄板上へ溶射被覆層を形成する
方法に関する。
方法に関する。
従来から、金属板へ金属やセラミツクスを溶射
するに際しては、被溶射体である素地表面を清浄
化したのち、グリツトによるブラスト処理を行つ
て粗面化し、溶射物と素地との投錨効果によつて
溶射皮膜の密着性を高め、さらに高い密着性を必
要とする場合には素材を粗面化後予熱して下地処
理を行つている。
するに際しては、被溶射体である素地表面を清浄
化したのち、グリツトによるブラスト処理を行つ
て粗面化し、溶射物と素地との投錨効果によつて
溶射皮膜の密着性を高め、さらに高い密着性を必
要とする場合には素材を粗面化後予熱して下地処
理を行つている。
しかしながら、例えば、被溶射体が１mm厚以下
のアルミや薄鋼板材のような薄板の場合、高密着
性の溶射体を得るための通常の熱処理や粗面化処
理を行なつたのでは、多数の溶射粒子が偏平化し
た層構造である溶射皮膜は、それらの下地処理に
より生じる素材の不規則な歪が加わつて溶射熱に
よる歪の発生が増大し、板の反りのみではなく、
溶射皮膜を健全な状態で保つことも不可能である
という問題が生じる。
のアルミや薄鋼板材のような薄板の場合、高密着
性の溶射体を得るための通常の熱処理や粗面化処
理を行なつたのでは、多数の溶射粒子が偏平化し
た層構造である溶射皮膜は、それらの下地処理に
より生じる素材の不規則な歪が加わつて溶射熱に
よる歪の発生が増大し、板の反りのみではなく、
溶射皮膜を健全な状態で保つことも不可能である
という問題が生じる。
そのため、前処理としての粗面化は素材の歪を
抑制するために被処理薄板をブラスト処理したロ
ールに通す圧下転写により行ない、また溶射も素
材の熱歪を低減し得るような低温度で行う等の対
策が採られている。
抑制するために被処理薄板をブラスト処理したロ
ールに通す圧下転写により行ない、また溶射も素
材の熱歪を低減し得るような低温度で行う等の対
策が採られている。
しかしながら、かかる方法によつて得られた素
材表面に形成された転写粗面はある程度方向性を
持つたものとなる上、低温度での溶射であること
からその製品は、溶射物と素材との密着性が極め
て低く、溶射表面も凹凸が多い等品質が低いもの
であつた。
材表面に形成された転写粗面はある程度方向性を
持つたものとなる上、低温度での溶射であること
からその製品は、溶射物と素材との密着性が極め
て低く、溶射表面も凹凸が多い等品質が低いもの
であつた。
本発明の目的は、かかる従来の金属薄板への溶
射皮膜形成における欠点を解消して、被溶射体自
体の変形を防止するとともに、溶射皮膜の表面状
態がよく、また素地との密着性も径300mmφのロ
ール曲げテストにおいて剥離しない溶射皮膜を得
る方法を提供することにある。
射皮膜形成における欠点を解消して、被溶射体自
体の変形を防止するとともに、溶射皮膜の表面状
態がよく、また素地との密着性も径300mmφのロ
ール曲げテストにおいて剥離しない溶射皮膜を得
る方法を提供することにある。
本発明の金属薄板への溶射方法は、被溶射体で
ある厚み１mm以下の金属薄板をブラスト処理によ
り表面粗度Rz10μｍ以下に粗面化したのち、同粗
面化した薄板の裏面に冷却裏当て材をあてがつて
裏面から冷却しつつ、粗面化した薄板の表面に溶
射処理を施すことを特徴とする。
ある厚み１mm以下の金属薄板をブラスト処理によ
り表面粗度Rz10μｍ以下に粗面化したのち、同粗
面化した薄板の裏面に冷却裏当て材をあてがつて
裏面から冷却しつつ、粗面化した薄板の表面に溶
射処理を施すことを特徴とする。
〔作用〕
薄板の厚みが１mm以下の場合、素材の表面粗度
は、ブラストによつて得られた表面のみを毳立た
せたような状態になるRz10μｍ以下にすることに
よつて素材形状の平坦性を維持でき、かつ充分な
密着性を得ることができる。
は、ブラストによつて得られた表面のみを毳立た
せたような状態になるRz10μｍ以下にすることに
よつて素材形状の平坦性を維持でき、かつ充分な
密着性を得ることができる。
この粗度がRz10μｍを超えるブラスト処理を行
うと薄板そのものの変形が著しく、それによつて
形成する溶射皮膜も均一性を欠くものとなり、ま
た、ブラスト処理以外の方法により薄板の変形を
防ぎ溶射皮膜の均一性をねらつたものでは無方向
性の粗面は得難く溶射皮膜と素材との密着性に欠
ける等きわめて不都合な結果となる。
うと薄板そのものの変形が著しく、それによつて
形成する溶射皮膜も均一性を欠くものとなり、ま
た、ブラスト処理以外の方法により薄板の変形を
防ぎ溶射皮膜の均一性をねらつたものでは無方向
性の粗面は得難く溶射皮膜と素材との密着性に欠
ける等きわめて不都合な結果となる。
このRz10μｍ以下の表面粗度を得るためには普
通鋼板の場合、３Kg／cm2のブラスト圧のもとで、
＃220の研掃材を用いて100〜150mm間隔で処理し
たときにその平坦性を損なうことなく上記の粗度
が得られる。
通鋼板の場合、３Kg／cm2のブラスト圧のもとで、
＃220の研掃材を用いて100〜150mm間隔で処理し
たときにその平坦性を損なうことなく上記の粗度
が得られる。
また、冷却用の裏当て材としては放射性の良い
材質及び構造のものが良い。通常は添付図に示す
ように、溶射ガン１からの溶射材２が当たる金属
薄板３の裏面に、裏当て材４として銅板を当てが
い、これに冷却風５を当てて更に放熱を促進させ
る。
材質及び構造のものが良い。通常は添付図に示す
ように、溶射ガン１からの溶射材２が当たる金属
薄板３の裏面に、裏当て材４として銅板を当てが
い、これに冷却風５を当てて更に放熱を促進させ
る。
さらに、溶射に当たつては一回当りの材料供給
量を減少せしめて、複数回の繰り返し溶射を行な
つて溶射皮膜６を形成するのがよい。
量を減少せしめて、複数回の繰り返し溶射を行な
つて溶射皮膜６を形成するのがよい。
本発明の溶射方法を適用するに当たつては、素
材と溶射材は何等制限を受けるものではなく、溶
射材としては、金属アルミニウム、アルミナ、燐
酸カルシウム等任意の溶射材が適用できる。
材と溶射材は何等制限を受けるものではなく、溶
射材としては、金属アルミニウム、アルミナ、燐
酸カルシウム等任意の溶射材が適用できる。
200×450mmの表面積を有する0.3mm厚の鋼板に
３Kg／cm2のブラスト圧のもとで、＃220の研掃材
を用いてノズルからの距離120mmでブラスト処理
を行い、表面粗度がRz8μｍの粗面化表面を得た。
この粗面化した鋼板を12mm厚の銅板上にテープ貼
りによつて密着固定して、背面から冷却空気を当
てながら、500amp、75v、キヤリアガス流量42
／minの条件下で、粒径が５〜25μｍのAl2O3を
プラズマ溶射した。プラズマガンのトラバース速
度は75ｍ／分で５回パス処理を行つた。
３Kg／cm2のブラスト圧のもとで、＃220の研掃材
を用いてノズルからの距離120mmでブラスト処理
を行い、表面粗度がRz8μｍの粗面化表面を得た。
この粗面化した鋼板を12mm厚の銅板上にテープ貼
りによつて密着固定して、背面から冷却空気を当
てながら、500amp、75v、キヤリアガス流量42
／minの条件下で、粒径が５〜25μｍのAl2O3を
プラズマ溶射した。プラズマガンのトラバース速
度は75ｍ／分で５回パス処理を行つた。
溶射後の鋼板の反り変形はなく、厚み20μｍ
で、表面の粗度がRz15〜20μｍのアルミナ溶射皮
膜を得ることができ、また、溶射皮膜は径300mm
φのロール曲げテストの剥離試験においても剥離
しない接着強度を有するものであつた。
で、表面の粗度がRz15〜20μｍのアルミナ溶射皮
膜を得ることができ、また、溶射皮膜は径300mm
φのロール曲げテストの剥離試験においても剥離
しない接着強度を有するものであつた。
本発明の溶射法によつて薄板の金属板において
も素材そのものの曲がり、歪を極力押さえること
が可能となり、径300mmφのロール曲げテストに
おいて剥離しない密着性を有するとともにその表
面状態においても凹凸の少ない優れた溶射皮膜を
得ることができる。
も素材そのものの曲がり、歪を極力押さえること
が可能となり、径300mmφのロール曲げテストに
おいて剥離しない密着性を有するとともにその表
面状態においても凹凸の少ない優れた溶射皮膜を
得ることができる。
図面は本発明の溶射法の実施態様の一つの説明
図である。 １：溶射ガン、２：溶射材、３：金属薄板、
４：裏当て材、５：冷却風、６：溶射皮膜。
図である。 １：溶射ガン、２：溶射材、３：金属薄板、
４：裏当て材、５：冷却風、６：溶射皮膜。
Claims (1)
- １ 被溶射体である厚み１mm以下の金属薄板をブ
ラスト処理により表面粗度Rz10μｍ以下に粗面化
したのち、同粗面化した薄板の裏面に冷却裏当て
材をあてがつて裏面から冷却しつつ、粗面化した
薄板の表面に溶射処理を施すことを特徴とする金
属薄板への溶射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60073084A JPS61230761A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 金属薄板への溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60073084A JPS61230761A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 金属薄板への溶射方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230761A JPS61230761A (ja) | 1986-10-15 |
| JPH0351786B2 true JPH0351786B2 (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=13508111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60073084A Granted JPS61230761A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 金属薄板への溶射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61230761A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63259062A (ja) * | 1987-04-15 | 1988-10-26 | Eguro Tekkosho:Kk | セラミツクスの溶射被覆方法 |
| JP2569756B2 (ja) * | 1988-09-14 | 1997-01-08 | 日立化成工業株式会社 | セラミック溶射金属箔の製造方法 |
| JP2715471B2 (ja) * | 1988-09-14 | 1998-02-18 | 日立化成工業株式会社 | 金属箔へのセラミックの溶射方法 |
| DE4210900A1 (de) * | 1992-04-02 | 1993-10-14 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung eines haftfesten Verbundes zwischen Kupferschichten und Keramik |
| JP2011017078A (ja) * | 2009-06-10 | 2011-01-27 | Denso Corp | 溶射膜の形成方法 |
-
1985
- 1985-04-05 JP JP60073084A patent/JPS61230761A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61230761A (ja) | 1986-10-15 |
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Legal Events
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