JPH0353962B2 - - Google Patents

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JPH0353962B2
JPH0353962B2 JP59207933A JP20793384A JPH0353962B2 JP H0353962 B2 JPH0353962 B2 JP H0353962B2 JP 59207933 A JP59207933 A JP 59207933A JP 20793384 A JP20793384 A JP 20793384A JP H0353962 B2 JPH0353962 B2 JP H0353962B2
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B3/00Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements
    • B05B3/02Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements
    • B05B3/10Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member
    • B05B3/1007Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member characterised by the rotating member
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/16Evaporating by spraying
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/30Accessories for evaporators ; Constructional details thereof
    • B01D1/305Demister (vapour-liquid separation)
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0042Degasification of liquids modifying the liquid flow
    • B01D19/0047Atomizing, spraying, trickling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M175/00Working-up used lubricants to recover useful products ; Cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B3/00Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements
    • B05B3/001Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements incorporating means for heating or cooling, e.g. the material to be sprayed
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は流体浄化器、特に揮発性汚染物を含ん
でいる流体の浄化器に関する。
流体はしばしば使用中に汚染され、再循環され
る前に浄化されなければならない。例えば、潤滑
油、作動油、トランス油および切削油はよく水、
洗浄剤、その他の揮発性汚染物で汚染され、流体
を再使用する前にそれらを流体から分離しなけれ
ばならない。
流体から揮発性汚染物を分離するために、熱ま
たは真空もしくはその両者を使用する種々の流体
浄化器がこれ迄に設計されてきた。従来の流体浄
化器に伴う一つの問題は、流体自体を損なうこと
なく浄化器への1回通しで充分な浄化を生ずるこ
とである。過度の加熱または過度の真空の如き苛
酷な処理条件を伴う浄過器は1回通しで充分な浄
化を得るが、しばしば浄化される流体に破壊的影
響を与える。例えば、沸騰点の低い成分の逸失、
添加物の除去、もしくは流体の酸化または炭化等
により流体がひどく変質することがある。
より低い温度またはより低い真空度の如き中庸
の処理条件を伴う浄化器は浄化される流体を損な
うことは無くても、1回通しで部分的な浄化しか
得られないことがよくある。充分な浄化を得るに
は流体を何度もポンプで浄化器に通さなければな
らない。この複数回通しの行き方は、被汚染流体
を浄化するのに必要なエネルギと時間を著しく増
加させる。
真空を用いる従来の流体浄化器に伴う問題は汚
染物を充分放出させるために流体の一定容積当り
の表面積を充分に大きくすることである。流体の
表面またはその近くでは流体内部よりも揮発性汚
染物の放出に対する抵抗が少ない。表面積が不充
分であると、部分的な浄化しか得られず、浄化器
に何度も流体を通さないと充分な浄化が得られな
い。
従来の真空浄化器に伴ういま一つの問題は性能
が被汚染流体の粘性によつて大幅に変わることで
ある。これらの浄化器は流体の表面積を増す被汚
染流体の薄膜を形成させるために、通常、流下円
柱の如き手段を用いる。しかし流体の粘性が高い
と、厚い膜が形成される。厚い膜の内部から揮発
性汚染物を放出させるのは時間のかかる工程であ
り、流体を浄化するのに要する時間は長くなる。
本発明の全般的な目的は改良された流体浄化器
を与えることである。具体的な目的は、(1)流体自
身を著しく劣化または変質させることなく浄化器
への1回通しで充分に流体を浄化させる、(2)流体
の一定容積当りの表面積を充分に大きくする、(3)
流体の粘性に拘わらずほぼ一定の性能を与える、
(4)流体を浄化するためのエネルギと時間が最少で
ある、流体浄化器を与えること、を含む。
従つて本発明は被汚染流体から揮発性汚染物の
部分を分離する流体浄化器を含む。この流体浄化
器は、少くとも部分的に排気した空間を画成する
真空室と、該真空室内にある少くとも1個の回転
板と、該回転板の表面上に汚染流体を導く手段
と、を含む。回転板の遠心効果により汚染流体は
板の縁に移動し、微細な液滴の形で外方に噴霧さ
れる。各液滴の寸法はほとんど流体の粘性に無関
係であり各液滴はその容積に対する表面積が非常
に大きい。その結果、揮発性汚染物は蒸気の形で
各液滴から急速かつ完全に放出され、後に浄化さ
れた液滴を残す。蒸発した揮発性汚染物は真空ポ
ンプにより真空室から除去される。本流体浄化器
はさらに浄化された小滴を浄化流体の形に集合さ
せる手段を含む。回転板の縁から集合手段まで液
滴が移動する距離は、揮発性汚染物部分を液滴か
ら分離させる存続時間を生ずるために充分長くと
られる。集合を効果的にするために、液滴が内面
に衝突するように真空室の寸法を便宜上定めるこ
ともできる。
被汚染流体から揮発性汚染物のみならず粒子を
も除去する総合浄化系も本発明の範囲である。本
浄化系は、系内で流体を動かす少くとも1個のポ
ンプと、粒子を除去する前置フイルタと、流体か
ら揮発性汚染物を除去するための回転板を有する
流体浄化器と、を含む。
本発明は前記の目的の各々を達成する。さら
に、本発明は広範囲の流体を浄化する流体浄化器
を与える。本流体浄化器は小形軽量で、しかも大
きな浄化容量を有し、高度の信頼性をもつて作動
する。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施例を説
明する。
第1図に示されるように、流体浄化器10はボ
ンネツト12および溜め13を含む真空室11を
有する。真空室11は排気空間Iを画成する。排
気口14を介して真空室11に連通する真空ポン
プ(第1図に図示されず)は真空を作り維持す
る。
ボンネツト12の中で、油圧モータ20の駆動
軸16に板組立体15が回転自在に取付けられ
る。油圧モータ20は支持材21に取付けられ、
支持材21は溜め13の中で真空室11に取付け
られる。
その代りとして、真空室11の内側または外側
に配置される電動モータまたは気圧モータにより
板組立体15を回転させることもできる。真空室
11の中に配置される油圧モータ20は特に優利
である。回転用真空シールが不用であり、油圧モ
ータ20が高い信頼性と効率を有するからであ
る。
運転に当つては、適当な作動油が供給ポンプ
(第1図には図示されず)により供給口22に送
入され、油圧モータ20を駆動し、従つて板組立
体15を回転させる。その後、作動油は排出口2
3を通つて油圧モータ20から出る。被汚染流体
は入口25からボンネツト12に入り、分流器2
6により回転板組立体15に供給される。一実施
例では、被汚染流体が作動油として働く、すなわ
ち、被汚染流体が供給口22から油圧モータ20
に先ず圧送され、ついで排出口23から出て、入
口25から直接にボンネツト12に供給される。
この実施例では、板組立体15の回転速度は供給
ポンプにより支配され、一定水準の性能を与える
ためにモータ速度は供給流量に見合つている。約
6150rpmの回転速度が良好な結果を生む筈であ
る。
第2図において、板組立体15は駆動軸16に
取付けられた板30に支持された円板29の積重
ねを含む。たとえば、積重ねは単一の板30に支
持される24枚以上もの円板29から成ることもあ
る。円板29および板30は、材料が所期の回転
速度に耐え得る限り、どのような材料からでも作
られることができる。ナイロンおよびアルミニウ
ムは使用される材料の例である。円板29は中心
を合せて順々に重ねられ、その中心を結ぶ線は各
円板29の上面31に垂直であり、各円板29の
上面31は真空室11の壁32と交差する平面を
画成する。円板29は中空スペーサ33により相
互に、また板30から隔置される。板組立体15
は円板29、板30および中空スペーサ33を貫
通するボルト35およびナツト34によりボルト
結合される。分流器26は駆動軸16に整合する
各円板29の中心を通つて延在する。
第3図に示されるように、各回転円板29にお
いて、被汚染流体の流れFの一部Pは分流器26
を通つて円板29の上面31の上に供給される。
分流器26は、たとえば多孔材で形成された棒状
部材から成ることができる。被汚染流体が比較的
細目(たとえば10〜20μ程度)の前置フイルタを
通して過される系においては比較的粗い材料を
分流器26に使用することができる。具体的に
は、30メツシ以上の多孔材が良好な結果を生む筈
である。各回転円板29の遠心力効果により、円
板29の上面31の上に供給された被汚染流体は
円板29の縁に移動し、第1図の如く、極く微細
な液滴36の形で外方に噴霧される。液滴36を
生ずるのに必要なエネルギは低い値、すなわちほ
ぼ、自由回転する板組立体15を回転させるのに
必要な値に保たれる。
一般に各円板29の縁から放出される各液滴3
6の寸法はある論理値を中心に分布する範囲の中
に入る。その理論値は次式で表わされる: d=K/V(Dρ/T)1/2 ただし、d=液滴の理論直径、V=円板の回転
速度、D=円板直径、ρ=流体密度、T=流体表
面張力、そしてK=他の変数をCGS単位で、ま
たVをrpmで表わした時に約4.5に等しい経験常
数。たとえば、密度1g/cm3、表面張力10ダイ
ン/cmの流体を6150rpmで回転する直径20cm
(8in)の円板の表面に導いた時に、円板の縁から
放出される液滴の直径は約5μの理論値を中心に
分布するものと予想される。
上式から明らかなように、回転円板29により
発生する各液滴36の寸法、従つて液滴36の表
面積は、流体によつて数桁も違のある流体粘性に
ほとんど無関係である。むしろ液滴寸法は通常狭
い幅に入る値を有する流体の密度および表面張力
に左右される。よつて広範囲の流体が極く微細な
液滴の形となつて分散し、浄化器10の性能が処
理される流体の粘性により変化することにあつて
も、その性能の範囲は比較的に限定され、比較的
に粘性の高い流体でも高く保たれる。一般に本発
明による流体浄化器10は、望むらくは約40μ以
下、最も望ましくは約2.5〜20μの範囲に入る理論
的液滴直径を画成するように構成され、運用され
る。実際に生ずる液滴の直径はその理論液滴直径
を中心に分布すると予想される。
各円板29に供給される被汚染流体の流量が或
る限界を或える時、液滴の発生は上記の値から外
れる。各円板29に対するこの限界流量は次式で
表わされることが判明した: Qmax=4π2R2Vd=4π2R2K/(2Rρ/T)1/2 ただし、R=円板半径、d=液滴直径(前式によ
り決まる)。一般に望ましい流量はQmaxの10〜
25%に保たれる。
被汚染流体の液滴36が形成されて回転円板2
9から室壁32の方へ放出される時、揮発性汚染
物は液滴36から解放されて排気空間Iに入り、
後に浄化された液滴36′が残される。一般に、
被汚染流体からの揮発性汚染物の解放に対する抵
抗の大部分は流体容積内部で生ずる。しかし回転
円板29により生じた極く微細な液滴36は非常
に大きな表面積/容積比を有する。よつて、液滴
36内の拡散距離は極く小さくて解放の抵抗は最
少限にされる。揮発性汚染物は液滴36から急速
かつ完全に脱出し、液滴36が高度の浄化を達成
するのに極く短かい存続時間しか必要とせず、そ
のために1回通しで流体を浄化することができ
る。たとえば、約60cmの内径を有する真空室11
の中で約6400cm/秒の速度(すなわち6150rpmで
回転する前記提案の20cm(8in)円板の縁におけ
る線速度)にて円板29から放出される5μの液
滴については、約4ミリ秒の存続時間で充分に高
度の浄化が可能である。この短い存続時間が小形
の円板寸法と相まつて、小形で稠密な浄化器1
0、たとえば直径僅かに60cmの浄化器の設計を可
能とする。
汚染物の解放を容易にするために、浄化器10
は高真空度の下で運転されるが、流体の温度は周
囲温度より僅かに高い値に保たれるだけでよい。
たとえば、約55cm(22in)Hgの真空度と約55℃
(130〓)の被汚染流体温度で非常に良好な結果を
得ることが予想される。室の真空計37と温度計
38でそれぞれ真空度および温度を監視する。浄
化器10内の流体の存続時間は短かいから、高真
空度により流体が著しく劣化または変質すること
はない。1回通しの浄化と僅かしか加熱しないこ
ととで、流体浄化に必要なエネルギの量が少なく
なる。
揮発性汚染物が液滴36から放出された後、気
化した汚染物は真空ポンプ(第1図に示されず)
により排気口14から排出される。かさ36bと
網36cとが排気口14を蔽つている。気化した
汚染物、または真空室11内の他の任意の気体が
排気口14から排出される時、網36cは気体か
ら油霧を過する。60メツシユの網で良好な結果
が得られる筈である。
浄化済の液滴36′は板組立体15と室壁32
の間に配置された取外し自在のスリーブ39に衝
突する。取外し自在のスリーブ39は真空室11
の有効内径を減ずるから液滴36,36′の存続
時間を減ずる。徐々に存続時間を長くするために
一連の徐々に直径を大きくした取外し自在スリー
ブを準備することもでき、その場合の最大存続時
間は室壁32により確定される。
浄化済液滴36′は衝突して、浄化済流体に合
体する。液滴36′はその利用し得る運動エネル
ギに比して大きな表面張力を有するから、液滴3
6′は取外し自在スリーブ39に対して砕けて2
次流体エアロゾルを発生することなく、合体す
る。浄化済流体は取外し自在スリーブ39を流れ
落ちて真空室11の下部に集合する。浄化済流体
は還流ポンプ(第1図に図示されず)により排液
口41を通して真空室11から排出される。該ポ
ンプはボンネツト12の底部にある液面スイツチ
42により制御される。液面スイツチ42は還流
ポンプを作動させる高液面指示器43と還流ポン
プを止める低液面指示器44を有する。真空室1
1に液が入つてからの時間は短かい。この短い存
続時間が1回通しの浄化と相まつて、浄化時間を
大幅に減し、容量を増すことになる。
第1図の流体浄化器10は揮発性汚染物のみな
らず粒子を除去する総合流体浄化系に容易に組込
まれることができる。第4図の如く、流体浄化系
は作動油駆動系45と、汚染流体供給系46と、
真空維持系47と、浄化済流体排出系48と、を
流体浄化器10の他に有する。本実施例の流体浄
化器10の油圧モータ20は作動油駆動系45に
より供給される別個の作動油により駆動される。
作動油供給ポンプ49は作動油タンク50と油圧
モータ20の間で作動油を循環させ、作動油は供
給口22から流体浄化器に入り、排出口23から
出る。
被汚染流体は被汚染流体供給系46により温め
られて流体浄化器10に供給される。循環ポンプ
55は被汚染流体タンク56とヒーター60の間
で被汚染流体を循環させ、ヒーター60はタンク
温度計61による監視に従つて周囲温度より少し
だけ高い温度に被汚染流体を維持する。被汚染流
体は流体浄化器10内の真空により、または随意
の供給ポンプ62により、被汚染流体タンクから
流体浄化器10に送られる。途中で、被汚染流体
は玉形弁63と前置粒子フイルタ64を通過し、
フイルタにより被汚染流体中の粒子の大部分が除
去される。前置粒子フイルタ64から被汚染流体
はニードル弁65を通り、流体入口温度計66を
過ぎて、入口25を通つて流体浄化器10の中に
入り、前記の如く揮発性汚染物が被汚染流体から
分離される。
真空維持系47は真空を維持する他に、流体浄
化器10から気化した揮発性汚染物を除去する。
真空ポンプ70は気化した揮発性汚染物を含む流
体浄化器内の気体を排気口14から、気体出口温
度計71を通し、気体流量を監視する気流量オリ
フイス板72を通して引き出す。この気体は浄化
されつつある流体の小滴を含んでいることもある
ので、気体をマフラー75に通して排出する前に
油トラツプ73および集合フイルタ74の中にも
通す。流体浄化器10に近接したい場合などに、
真空を逃すために真空逃し弁76が設けられる。
浄化流体排出系48は流体浄化器10内の液面
スイツチ42により制御される還流ポンプ80を
含む。通電されると、還流ポンプ80は浄化済流
体を流体浄化器10から排液口41を通し排出流
体温度計81を経て、浄化器10への逆流を防ぐ
逆止弁82に送る。逆止弁82から浄化済流体は
後置フイルタ83を通つて浄化済流体タンク84
に圧送される。
本発明の特定実施例が以上に記載されたけれど
も本発明はそれに限定されない。本発明に包含さ
れる代替実施例および変形が、特に上記の教示に
照して当業者により為されることができる。従つ
て前記の特許請求の範囲は請求される本発明の精
神および範囲に含まれる代替実施例、変形または
同等品を包含することを意図される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による流体浄化器の断面斜視
図、第2図は第1図の流体浄化器の板組立体要素
の部分正面図、第3図は第2図の板組立体要素の
円板の1個の中央部分の拡大正面断面図、第4図
は第1図の流体浄化器を組込んだ流体浄化体系の
ブロツク図。 10……流体浄化器、11……真空室、15…
…板組立体、29……円板。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 被汚染流体から揮発性汚染物部分を分離する
    装置において、内部空間を少くとも部分的に真空
    排気されることのできる真空室と、前記被汚染流
    体を理論直径約40μ以下の小滴に分散させるため
    の、前記真空室内に配設される少くとも1個の回
    転板および前記被汚染流体を前記回転板の表面上
    に導入する手段を含む手段と、前記小滴を集合さ
    せるめたに前記回転板から隔置された小滴集合手
    段であつて、前記各小滴が前記回転板の縁と該集
    合手段の間を移動する間に前記揮発性汚染物部分
    が前記被汚染流体から分離するのに充分な小滴存
    続時間を生ずるように前記回転板からの距離をと
    られている集合手段と、を含む分離装置。 2 相互に隔置された円板の積重ねを有して該円
    板の中心が各円板の表面に垂直な直線上にある板
    組立体をさらに含み、前記導入手段が前記被汚染
    流体を各円板の表面上に配分する手段を含むこと
    を特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の分
    離装置。 3 前記配分手段が垂直線上に同軸に配設される
    分流器を含むことを特徴とする、特許請求の範囲
    第2項に記載の分離装置。 4 前記回転板の縁と前記集合手段の距離を変え
    るための手段をさらに有する、特許請求の範囲第
    1項に記載の分離装置。 5 前記浄化済み流体を集収するための前記真空
    室内に配設される手段と、前記浄化済流体を前記
    真空室から排出するために前記集収手段に連通す
    る手段と、分離された汚染物を前記真空室から引
    出すために前記真空室により画成される前記真空
    排気空間に連通する手段と、をさらに有する、特
    許請求の範囲第1項に記載の分離装置。 6 前記板を回転させる手段として分離装置に取
    付けられたモータを含んでいる、特許請求の範囲
    第1項に記載の分離装置。 7 前記モータが前記真空室内に取付けられた油
    圧モータを含んでいる、特許請求の範囲第6項に
    記載の分離装置。 8 前記油圧モータが前記板へ導入される前の前
    記流体の流れにより駆動される、特許請求の範囲
    第7項に記載の分離装置。 9 前記真空室内に回転自在に取付けられた少く
    とも1個の第2の板をさらに含み、被汚染流体の
    流れを前記真空室へ受入れるための取入手段と、
    前記流れの第1および第2の部分をそれぞれ前記
    第1および第2の板の上に配分する手段とを前記
    導入手段が含んでいる、特許請求の範囲第1項記
    載の分離装置。 10 前記第2の板が前記第1の板と平行な隔置
    関係に配設され、前記第1および第2の板の中心
    が各板により画成される平面に垂直な直線上にあ
    り、前記配分手段が該垂直線にそつて同軸上に配
    設される分流器を含んでいる、特許請求の範囲第
    9項に記載の分離装置。 11 前記理論直径が次式で表わされる特許請求
    の範囲第1項の分離装置、 d=K/V(Dρ/T)1/2 ただし、d=液滴の理論直径、V=円板の回転
    速度、D=円板直径、ρ=流体密度、T=流体表
    面張力、そしてK=他の変数をCGS単位で、ま
    たVをrpmで表わした時に約4.5に等しい経験常
    数。 12 被汚染流体から揮発性汚染物部分を分離す
    る方法において、少くとも部分的に真空排気され
    ることのできる空間を与える段階と、該真空空間
    内に配設される板を回転させる段階と、前記被汚
    染流体を前記回転する板の表面上に導入する段階
    と、を含み、前記被汚染流体の理論直径約40μ以
    下の小滴が前記回転板の縁から遠心的に噴霧さ
    れ、前記真空空間内に配設された表面に前記小滴
    を当てて集合させ、前記回転板の縁と前記集合表
    面の間を前記小滴が移動する間に前記揮発性汚染
    物部分を前記被汚染流体から分離させるために前
    記真空空間内の小滴存続時間を生ずるのに充分な
    距離だけ前記回転板の縁を前記集合表面から隔置
    させ、浄化済流体を集収することを特徴とする方
    法。 13 粒子および揮発性汚染物を含有する被汚染
    流体を浄化する体系において、系内で該流体を移
    動させる集合と、前記被汚染流体から該粒子の少
    くとも一部を除去する前置フイルタと、該被汚染
    流体から前記揮発性汚染物部分を分離するために
    前記フイルタの下流に配設される分離手段であつ
    て、内部空間が少なくとも部分的に真空排気され
    て内部に少くとも1個の板が回転自在に取付けら
    れている真空室と、前記板の表面上に前記被汚染
    流体を導入する手段と、前記板を回転させて前記
    被汚染流体を導入する手段と、前記板を回転させ
    て前記被汚染流体の理論直径約40μ以下の小滴を
    前記板の縁から前記真空室の内面に向けて遠心的
    に投げ出して前記板の縁と前記内面の間を前記小
    滴が移動する間に前記揮発性汚染物部分を前記被
    汚染流体から分離させるのに充分な小滴存続時間
    を前記板の縁と前記板縁内面の間の距離が生み出
    すようにされた手段と、前記小滴を集合する手段
    と、浄化済流体を集収する手段と、を含む分離手
    段と、該浄化済流体を前記真空室から排出する手
    段と、該排出手段に流体連通する集合フイルタを
    含み解放された揮発性汚染物を前記真空室から排
    気する排気手段と、を有する浄化体系。 14 前記排出手段が付加的な微粒子を除去する
    ための後置フイルタを含んでいる、特許請求の範
    囲第13項に記載の浄化体系。 15 前記被汚染流体を加熱する手段をさらに含
    んでいる、特許請求の範囲第13項に記載の浄化
    体系。
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