JPH0354424B2 - - Google Patents

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JPH0354424B2
JPH0354424B2 JP57109643A JP10964382A JPH0354424B2 JP H0354424 B2 JPH0354424 B2 JP H0354424B2 JP 57109643 A JP57109643 A JP 57109643A JP 10964382 A JP10964382 A JP 10964382A JP H0354424 B2 JPH0354424 B2 JP H0354424B2
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    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
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    • GPHYSICS
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は概ね大気圧空気のような通常の環境下
にある対象物に対してX線を照射する装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention generally relates to an apparatus for irradiating an object with X-rays in a normal environment, such as atmospheric air.

本発明による装置は軟X線の照射を受けるべき
対象物を、X線を生ずる真空室のような特殊環境
に出し入れすることが高価につき、時間がかか
り、あるいは不便であるような用途に対して特に
有用である。この形式の装置の典型的な用途とし
ては、高解像リトグラフ用、拡張X線吸収微小構
造(extended X−ray absorption fine
structure−EXAFS)の分光学用およびX線顕微
鏡検査用の、レーザでつくるX線装置を含む。
The device according to the invention is suitable for applications where it is expensive, time consuming, or inconvenient to move objects to be irradiated with soft X-rays into and out of special environments such as vacuum chambers that generate X-rays. Particularly useful. Typical applications for this type of equipment include high-resolution lithography, extended X-ray absorption fine
This includes laser-based X-ray equipment for spectroscopy and X-ray microscopy of structures (EXAFS).

X線は一般に真空中でつくられるが、多くの用
途においては空気中で用ることが望ましい。しか
し、真空と空気との間の圧力差に耐えるに十分厚
くかつ強靱につくられた窓は、特に約5KeV以下
の光子エネルギを有するような軟X線に対しては
不透過性となるため、X線を真空から空気中に取
り出すには問題がある(但し、窓を極めて小さく
し、その厚みを薄くした場合は例外である。)。こ
の問題は大きな面積を照射することが望ましいX
線リトグラフイの場合は特に深刻である。
Although X-rays are generally produced in a vacuum, in many applications it is desirable to use them in air. However, windows made thick and strong enough to withstand the pressure difference between vacuum and air are opaque to soft X-rays, especially those with photon energies below about 5 KeV. Extracting X-rays from a vacuum into air is problematic (unless the window is made very small and thin). To solve this problem, it is desirable to irradiate a large area.
This is particularly serious in the case of line lithography.

本発明はこの問題を克服する簡単で、安価で、
かつ便利な装置を提供する。
The present invention overcomes this problem in a simple, inexpensive and
and provides a convenient device.

米国特許第4058486号には、固体のターゲツト
レーザ光線を集中させることによりX線の強い点
源をつくり出せることが示されている。固形のス
ラブターゲツトに集中されたネオデイウムのレー
ザ光線は25パーセント以上の効率で、1ナノ秒内
に本質的に点源(直径が約100ミクロン)から放
出する数十ジユールのX線に変換された。約45度
の入射角にて、約100ジユールのレーザパルスで
照射された鉄製のターゲツトからつくり出された
X線のパターンは概ね無指向性である。25パーセ
ント以上の変換効率は、スラブから放射され2000
オングストロームアルミニウムを塗布した3000オ
ングストロームのプラスチツク(パラリン−
paraline)を垂直に通過したX線に見合う。この
ようにこの変換効率は下限であつて、スペクトル
の約300電子ボルト以上の部分にのみ対応する。
観察されるX線のほとんどが約0.3から15KeVの
間にあり、10から100KeVに達する少量ではある
が有用な部分を有している。KAP結晶からとつ
た屈折結晶分光結果を濃度計で検査してみると、
その放射線はスペクトル間隔がほとんどの場合約
0.7から1.2KeVの間であるようである。スペクト
ルの細部において異常な鋭さがあるのはその点源
の寸法が小さいためである。X線のこの新規な点
源は約0.1から100KeVの範囲中で調和可能なスペ
クトルを提供する。
U.S. Pat. No. 4,058,486 shows that an intense point source of X-rays can be created by focusing a solid-state target laser beam. A neodyum laser beam focused on a solid slab target was converted into tens of joules of X-rays emitted from an essentially point source (about 100 microns in diameter) within a nanosecond with an efficiency of more than 25 percent. . The pattern of x-rays produced by a steel target irradiated with a laser pulse of about 100 joules at an angle of incidence of about 45 degrees is generally non-directional. Conversion efficiency of more than 25% is radiated from the slab 2000
3000 angstrom plastic coated with angstrom aluminum
corresponds to X-rays passing perpendicularly through the paraline. This conversion efficiency is thus a lower limit, and only corresponds to the portion of the spectrum above about 300 electron volts.
Most of the observed X-rays are between about 0.3 and 15 KeV, with a small but useful fraction reaching 10 to 100 KeV. When the refractive crystal spectroscopy results obtained from the KAP crystal were examined with a densitometer,
The radiation has a spectral spacing of approximately
It appears to be between 0.7 and 1.2 KeV. The unusual sharpness in the spectral details is due to the small size of the point source. This novel point source of X-rays provides a tunable spectrum in the range of about 0.1 to 100 KeV.

本発明による装置は典型的には前述の形式のX
線発生装置を採用している。しかしながら、本装
置はX線を発生させるために、レーザ光線以外の
電子ビームを使用する装置のようなその他の若干
類似の装置も使用することができる。
The apparatus according to the invention is typically of the type described above.
A line generator is used. However, the device may also use other somewhat similar devices, such as devices that use electron beams other than laser beams, to generate the x-rays.

概ね大気圧で空気のような通常の環境におかれ
る対象物に対してX線を照射する本発明による典
型的な装置は、ターゲツトにおいて選定したスペ
クトルと強度のX線を発生させるためにそのター
ゲツトにエネルギを向ける手段と、該ターゲツト
の周りの概ね流体密にされた第1の密閉室と、第
1の密閉室内の圧力を概ね大気圧以下に保持する
ためにその中のガス量を減少させる手段と、前記
第1の密閉室に隣接した概ね流体密にされ、X線
に対して高度に透過性を有するガスを他のガスは
概ね排除した状態で含む第2の密閉室とを含み、
第1の密閉室の一つの壁はX線がその中を通過で
きるようにするに十分な大きさであるが、所要の
圧力でそれを通過して入るのと同じ速さで減圧装
置が該第1の密閉室からガスを排出できるに十分
小さい開口を有しており、ターゲツトは発生した
X線の実質的な部分を前記開口に向いて放出し、
該開口を通過するように十分開口に近接して配置
され、第2の密封室の第1の壁は第1密閉室の壁
の前記開口に隣接して位置決めされたX線に対し
て高度に透過性を有する部分を有し、開口を通つ
たX線が当該透過性部分を通つて第2密閉室にお
ける離れた第2の壁に向けて進むようにし、第2
の密閉室内のガスは少くとも第2の壁の近くにお
いて大気圧にほぼ等しい圧力に維持され、また、
この第2の壁にX線に対して高度に透過性を有す
る部分を設け、これにより、患者などの対象物を
第2密閉室の外側の第2の壁のX線透過性部分に
隣接した位置に置いた状態で、空気等により減衰
されないX線を照射できるようにしている。
A typical apparatus according to the present invention for irradiating x-rays onto an object in a normal environment, such as air, at approximately atmospheric pressure, is capable of applying x-rays to a target in order to generate x-rays of a selected spectrum and intensity at the target. a means for directing energy to the target; a first sealed chamber generally fluid-tight about the target; and reducing the amount of gas therein to maintain the pressure within the first sealed chamber at generally below atmospheric pressure. and a second sealed chamber adjacent to the first sealed chamber that is generally fluid-tight and contains a gas highly transparent to X-rays to the general exclusion of other gases;
One wall of the first sealed chamber is large enough to allow the X-rays to pass through it, but the decompressor can reach them as quickly as they enter through it at the required pressure. an aperture small enough to allow gas to escape from the first sealed chamber, the target directing a substantial portion of the generated x-rays toward the aperture;
positioned sufficiently close to the aperture to pass through the aperture, the first wall of the second sealed chamber being highly sensitive to x-rays positioned adjacent to the aperture in the wall of the first sealed chamber. a transparent portion, such that X-rays passing through the opening proceed through the transparent portion toward a separate second wall in the second sealed chamber;
the gas in the sealed chamber is maintained at a pressure approximately equal to atmospheric pressure at least near the second wall, and
This second wall is provided with a portion that is highly transparent to X-rays, thereby allowing an object such as a patient to be placed adjacent to the X-ray transparent portion of the second wall outside the second sealed chamber. It is designed to be able to irradiate X-rays that are not attenuated by air or the like while the device is placed in the same position.

この装置はまた、第1密閉部に隣接する概ね流
体密にされた中間室を有し、該中間室は一部が前
記開口を備える第1密閉室の壁の一部と共通する
内壁と、該共通壁にほぼ平行で前記共通壁内の開
口及び第2密閉室の第1の壁のX線透過性部分の
間でそれらに整合された開口を備える外壁とを有
し、それによりX線がそれらを通り第2の密閉室
の第2の壁に進めるようにしてあり、更に、中間
室内のガス量を減少させそのガス圧を第1及び第
2密閉室内の圧力の間の値に維持する減圧手段を
有し、前記外壁内の開口は小さく、そのため減圧
手段は少くとも当該開口を通つて入るガスの速度
で中間室内のガスを排除できるようにしてある。
The device also has a generally fluid-tight intermediate chamber adjacent to the first enclosure, the intermediate chamber having an interior wall that partially shares a portion of the wall of the first enclosure with the opening; an outer wall substantially parallel to the common wall and having an opening in the common wall and an opening aligned between and aligned with the X-ray transparent portion of the first wall of the second sealed chamber; through them to the second wall of the second sealed chamber, further reducing the amount of gas in the intermediate chamber and maintaining the gas pressure at a value between the pressures in the first and second sealed chambers. The opening in the outer wall is small so that the pressure reducing means is capable of displacing the gas in the intermediate chamber at least at the velocity of the gas entering through the opening.

この装置はまた、第1及び第2密閉室間に追加
の類似した少なくとも一つの中間室を有し、隣接
する中間室は開口の設けられた共通壁の両側に位
置決めされ、それらの全ての開口は第1密閉室の
壁の開口及び第2密閉室の第1の壁の透過性部分
間でそれらに整合されて位置決めされ、更にこの
装置は各追加の中間室内のガス量を減少してガス
圧を隣接する密閉室内の圧力の中間の値に維持す
る手段を有し、各室の開口は小さく、そのため各
中間室の減圧手段は少くとも当該開口を通つて入
るガスの速度で中間室内のガスを排出できるよう
にしてある。
The device also has at least one additional similar intermediate chamber between the first and second sealed chambers, the adjacent intermediate chambers being positioned on opposite sides of a common wall provided with openings, and wherein all of the openings thereof is positioned between and aligned with the opening in the wall of the first sealed chamber and the permeable portion of the first wall of the second sealed chamber, the apparatus further reducing the amount of gas in each additional intermediate chamber to means for maintaining the pressure at a value intermediate between the pressures in adjacent closed chambers, the opening in each chamber being small so that the means for reducing the pressure in each intermediate chamber will reduce the pressure within the intermediate chamber at least at the velocity of the gas entering through that opening; It is designed to allow gas to escape.

各中間室内の圧力は通常、その両側の室の圧力
値のほぼ中間で対数的に維持される。平行な壁の
間隔はそれらの間のガスの流れを避けるに十分な
程大きくすべきである。典型的には、第1の中間
室の内外(平行)壁間の間隔を約2乃至10ミリ、
次の中間室の平行壁間の間隔を約0.5乃至5ミリ、
更に次の中間室の平行壁間の間隔を約0.1乃至2
ミリとする。開口はそれを通つたX線が約1乃至
10度の頂点角を有する円錐形となるようなサイズ
にする。
The pressure within each intermediate chamber is typically maintained logarithmically at approximately midway between the pressure values of the chambers on either side of it. The spacing between parallel walls should be large enough to avoid gas flow between them. Typically, the spacing between the outer and outer (parallel) walls of the first intermediate chamber is approximately 2 to 10 mm;
The distance between the parallel walls of the next intermediate chamber is approximately 0.5 to 5 mm.
Furthermore, the distance between the parallel walls of the next intermediate chamber is approximately 0.1 to 2.
Let it be millimeter. The aperture allows the X-rays passing through it to
Size it to form a cone with a 10 degree apex angle.

本発明の典型的な実施例においては、第2密閉
室を軽量ガスドリフトチユーブで形成する。該チ
ユーブ内の代表的ガスとしてはほぼ大気圧でのヘ
リウム、水素、炭化水素、好ましくはヘリウムと
する。典型的なトリフトチユーブにおける上記第
1の壁から第2の壁までの距離は約0.5乃至5メ
ートルとされる。ドリフトチユーブ内の前記第1
の壁のX線透過性部分及び第2の壁のX線透過性
部分は典型的には、基本的にベリリウム、または
低原子価(低L)プラスチツク材からなることを
典型とする薄いフオイル(箔)を含む。該フオイ
ルの厚さは典型的には約2から20ミクロンであ
る。
In an exemplary embodiment of the invention, the second sealed chamber is formed by a lightweight gas drift tube. Typical gases within the tube include helium, hydrogen, and hydrocarbons, preferably helium, at about atmospheric pressure. The distance from the first wall to the second wall in a typical trift tube is about 0.5 to 5 meters. the first in the drift tube;
The radiolucent portion of the wall and the radiolucent portion of the second wall typically consist of a thin foil (typically consisting essentially of beryllium or a low valence (low L) plastic material). foil). The thickness of the foil is typically about 2 to 20 microns.

本発明の典型的な実施例においては、第2密閉
室の前記第2の壁のX線透過性部分に開口を設け
るとともに、該第2密閉室に高いX線透過性を有
するガスを供給する手段を設ける。X線透過性部
分の開口は小さくされ、それによりガス供給手段
が、少くとも当該開口を通つて排出されるガスの
速度でX線透過性ガスを第2密閉室に供給し、他
のガスが該第2密閉室に入るのを実質上阻止でき
るようにする。
In a typical embodiment of the present invention, an opening is provided in the X-ray transparent portion of the second wall of the second sealed chamber, and a gas having high X-ray transparency is supplied to the second sealed chamber. Provide means. The opening in the X-ray transparent part is made small so that the gas supply means supplies the X-ray transparent gas to the second sealed chamber at least at the rate of the gas being exhausted through the opening, and the other gas is Entry into the second sealed chamber can be substantially prevented.

前記第2の密閉部へ運ばれるガスは典型的には
ヘリウム、水素、または炭化水素であつて、好ま
しくはヘリウムで、少なくとも前記第2の壁の透
過性部分近くで、約0.9から1大気圧に保持され
る。第2の密閉部の第2の壁の透過性の部分は基
本的にベリリウムまたは低原子価プラスチツク材
からなることを典型とするフオイルを含む。該フ
オイルの厚さは典型的には約2乃至20ミクロンで
ある。
The gas conveyed to the second enclosure is typically helium, hydrogen, or a hydrocarbon, preferably helium, at a pressure of about 0.9 to 1 atmosphere at least near the permeable portion of the second wall. is maintained. The permeable portion of the second wall of the second seal comprises a foil, typically consisting essentially of beryllium or a low valence plastic material. The thickness of the foil is typically about 2 to 20 microns.

前記第2の密閉室中、少なくとも該密閉室の第
2の壁のX線透過性部分近くにおけるガスが概ね
大気圧に保持されているので、その透過性部分に
開口を設けることも出来、かつ前記の第2の密閉
室の内部にあるガスは、前記開口を通過するガス
カーテンか、あるいはX線を受けるべき対象物に
よつて、あるいは前記壁に当接して置かれ、前記
開口を覆うように前記対象物に付属した要素によ
つてその周りの空気から実質的に分離させること
ができる。
Since the gas in the second sealed chamber, at least near the X-ray transparent portion of the second wall of the sealed chamber, is maintained at approximately atmospheric pressure, an opening may be provided in the transparent portion, and The gas inside said second closed chamber is controlled by a gas curtain passing through said opening, or by an object to be subjected to X-rays, or by being placed against said wall and covering said opening. can be substantially separated from the surrounding air by elements attached to said object.

材料のEXAFSデータをとるための本発明によ
る装置は、前記開口を通過するX線を受取りスペ
クトル分解したX線をX線を照射すべき対象物に
隣接したX線透過性部分に向かつて導くよう位置
されたスペクトル拡散手段を前記第2の密閉室に
含み、対象物が記録手段を含むことを典型とす
る。この装置は、また、典型的に、第2の密閉室
の中、あるいは第2の密閉室の外側で、第2の壁
のX線透過性部分と記録手段との間において、材
料のサンプルをX線の光路中に位置させる手段も
含む。
The device according to the invention for taking EXAFS data of a material receives the X-rays passing through the aperture and directs the spectrally resolved X-rays towards an X-ray transparent part adjacent to the object to be irradiated with the X-rays. Typically, the second sealed chamber includes a disposed spectrum spreading means, and the object includes a recording means. The device also typically takes a sample of the material within the second sealed chamber or outside the second sealed chamber between the X-ray transparent portion of the second wall and the recording means. It also includes means for positioning in the optical path of the x-rays.

前記のエネルギを向ける手段は、例えば約1か
ら200ミクロンの直径をもつターゲツト上の点へ
レーザ光線からのエネルギを導く手段を含む。前
記共通壁部分の開口は典型的には直径が約0.2か
ら2ミリであつて、前記開口とターゲツト上の点
との間の距離は約0.2から5センチである。ター
ゲツトで作られるX線は典型的には概ね約0.3乃
至2KeVのエネルギを有する。
The means for directing the energy includes means for directing the energy from the laser beam to a point on the target having a diameter of, for example, about 1 to 200 microns. The aperture in the common wall portion is typically about 0.2 to 2 mm in diameter, and the distance between the aperture and a point on the target is about 0.2 to 5 cm. The x-rays produced by the target typically have an energy of approximately 0.3 to 2 KeV.

さて図面、特に第1図に示すように、概ね大気
圧で空気のような通常の環境下におかれる対象物
12にX線11を照射する本発明に係る装置はタ
ーゲツト15において選定されたスペクトルと強
さをもつX線11を発生させるためにそのターゲ
ツト15へエネルギ14を導くレンズ13のよう
な手段と、ターゲツト15の周りにある実質的に
流体密の第1の密閉室16と、第1の密閉室16
中のガスを矢印17の方向へ排出してその中の圧
力を概ね大気圧以下(典型的には約1トル以下)
に保つ(図示していないが真空ポンプのような)
減圧手段と、第1の密閉室16に隣接し実質的に
流体密とされX線に対し高度の透過性を有するガ
ス24を含む第2の密閉室18とを有している。
第1の密閉室16の壁19はX線11がそこを通
過しうるのに十分な大きさであるが、少なくとも
ガスがそこを通る速さと同じ位に前記減圧手段が
第1の密閉室16からガス21を排出できるのに
十分小さい開口20を有し、ターゲツト15はつ
くられたX線11のかなりの部分を開口20に向
かつて放出し、該開口20を通過させるよう開口
20に十分近接して位置決めされている。第2密
閉室内に設けられた壁35は開口20の近くに位
置決めされてX線11に対して高い透過性を有す
る部分20′(第1図)または36(第3図)を
有し、開口20を通つたX線が同部分20′,3
6を通つて第2密閉室18の反対側の壁22に向
うようにしている。壁22はX線に対して高い透
過性を有する部分25を有し、X線11が該部分
を通つて第2密閉室の外側で同部分25に隣接し
て位置決めされた対象物12に照射されるように
なつている。従つて、対象物に照射されるX線は
空気やその他の好ましくない介在物により減衰さ
れることがほとんどない。
Now, as shown in the drawings, particularly in FIG. means, such as a lens 13, for directing the energy 14 to its target 15 to produce X-rays 11 having an intensity of 1 closed room 16
The gas inside is discharged in the direction of arrow 17 until the pressure inside is approximately below atmospheric pressure (typically below about 1 Torr).
(such as a vacuum pump, not shown)
A second sealed chamber 18 adjoining the first sealed chamber 16 contains a gas 24 which is substantially fluid-tight and highly transparent to X-rays.
The walls 19 of the first sealed chamber 16 are large enough to allow the X-rays 11 to pass therethrough, but the pressure reduction means are at least as fast as the gas passes therethrough. The target 15 has an aperture 20 small enough to allow gas 21 to be evacuated from the aperture 20, and the target 15 is sufficiently close to the aperture 20 to emit a significant portion of the generated X-rays 11 toward and through the aperture 20. and is positioned. A wall 35 provided within the second closed chamber has a portion 20' (FIG. 1) or 36 (FIG. 3) positioned close to the opening 20 and highly transparent to the X-rays 11; The X-rays passing through 20 reach the same parts 20', 3
6 and toward the opposite wall 22 of the second sealed chamber 18. The wall 22 has a portion 25 that is highly transparent to X-rays, through which the X-rays 11 illuminate an object 12 positioned adjacent to the portion 25 outside the second sealed chamber. It is becoming more and more common. Therefore, the X-rays irradiated to the object are hardly attenuated by air or other undesirable inclusions.

例えばX線リトグラフイのように、対象物12
の特定部分のみがX線を受取る場合には、対象物
12のその他の部分に向かつてX線が進行するの
を阻止するために壁22のX線透過性部分25と
対象物12との間にマスク26をおけばよい。
For example, in X-ray lithography, the object 12
If only a specific portion of the object 12 receives the X-rays, a space between the X-ray transparent portion 25 of the wall 22 and the object 12 is provided to prevent the X-rays from traveling toward other portions of the object 12. The mask 26 may be placed on the area.

この装置はまた、第1密閉室16に隣接したほ
ぼ流体密にされた中間室34を有しており、該室
の内壁19の一部は第1密閉室の壁19と共通し
ており、また外壁19′は共通壁19とほぼ平行
で共通壁の開口20及び第2密閉室18の壁35
の透過性部分20′または36の間でそれらに整
合された開口20′を有し、X線11が該開口2
0′を通つて第2密閉室18の壁22に進めるよ
うにしている。中間室34のガスは図示しない減
圧手段により矢印17′で示された方向に排出さ
れてその内部の圧力を第1及び第2密閉室内の圧
力の間の値に保たれる。外壁の開口20′は小さ
く、それにより減圧手段が少なくとも該開口を通
るガスの速度で中間室からガスを排出できるよう
にしてある。
The device also has a substantially fluid-tight intermediate chamber 34 adjacent to the first sealed chamber 16, the inner wall 19 of which has a portion in common with the wall 19 of the first sealed chamber; Further, the outer wall 19' is substantially parallel to the common wall 19, and the opening 20 in the common wall and the wall 35 of the second sealed chamber 18
have apertures 20' aligned between the transparent portions 20' or 36 of the
0' to the wall 22 of the second sealed chamber 18. The gas in the intermediate chamber 34 is discharged in the direction indicated by the arrow 17' by a pressure reducing means (not shown) to maintain the internal pressure at a value between the pressures in the first and second sealed chambers. The opening 20' in the outer wall is small so that the pressure reducing means can evacuate gas from the intermediate chamber at least at the velocity of the gas passing through the opening.

第3図に示す装置では更に追加の上記と類似し
た中間室34′を有しており、両中間室34,3
4′はそれらが共通する壁19′の両側に位置決め
されており、開口20′,20″が第1密閉室16
の壁19の開口20と第2密閉室18の壁35の
X線透過性部分との間で、それらに整合して位置
決めされている。第2の中間室34′は図示しな
い減圧手段によつてその中のガスが矢印17″で
示される方向に排出され、その内部圧力が当該中
間室の両側に隣接した室の内部圧力の中間の圧力
に維持される。開口20′,20″は少なくともそ
こを通つて中間室に入る空気の速度と同じ速度で
減圧手段が各中間室からガスを排出することがで
きる程度十分に小さくされる。
The device shown in FIG.
4' are positioned on both sides of the wall 19' with which they are common, and the openings 20', 20'' are connected to the first sealed chamber 16.
It is positioned between and in alignment with the opening 20 in the wall 19 and the radiolucent portion of the wall 35 of the second sealed chamber 18 . The gas therein is discharged from the second intermediate chamber 34' in the direction indicated by the arrow 17'' by a pressure reducing means (not shown), so that the internal pressure of the second intermediate chamber 34' is between the internal pressures of the chambers adjacent on both sides of the intermediate chamber. The openings 20', 20'' are made sufficiently small to allow the pressure reducing means to evacuate gas from each intermediate chamber at least at the same rate as the air entering the intermediate chamber therethrough.

中間室34,34′内の圧力は、ほぼ平行な壁
19,19′,19″の両側の圧力の間の中間で対
数的に維持される。例えば、第1密閉室16内で
は約1トル(torr)、中間室34においては約10
トル、中間室34′においては約100トルとされ
る。中間室34′の外壁19″と第2密閉室18の
壁35との間のスペース(典型的には約0.1乃至
2ミリメータ)はもちろん大気圧、約760トルと
される。1以上の中間室34,34′が設けられ
る場合、電子ビームを大気に放射するのに使われ
るタイプの異つた排気システムが望ましいであろ
う。
The pressure in the intermediate chamber 34, 34' is maintained logarithmically midway between the pressures on either side of the substantially parallel walls 19, 19', 19''. For example, in the first sealed chamber 16 approximately 1 Torr. (torr), approximately 10 in the intermediate chamber 34
Torr, approximately 100 Torr in the intermediate chamber 34'. The space between the outer wall 19'' of the intermediate chamber 34' and the wall 35 of the second sealed chamber 18 (typically about 0.1 to 2 millimeters) is of course at atmospheric pressure, about 760 Torr. If 34, 34' are provided, a different exhaust system of the type used to radiate the electron beam to the atmosphere may be desirable.

平行な壁19,19′,19″,35間の間隔は
ガスがこれら壁から壁へ流れるのを防ぐのに十分
な程度大きい。典型的には、第1中間室34の内
壁19及び外壁19′間の間隔は約2乃至10ミリ
追加の第1の中間室の壁19′,19″の間の間隔
は約0.5乃至5ミリ、そして更に追加の中間室の
平行壁(または、第3図の壁19″と35との間
の如き間隔)は約0.1乃至2ミリとされる。開口
20,20′,20″(及び透過性部分36)はX
線がそこを通つて約1乃至10゜の頂角Aを有する
円錐形となるような大きさにされる。
The spacing between the parallel walls 19, 19', 19'', 35 is sufficiently large to prevent gas from flowing from these walls. Typically, the inner wall 19 and the outer wall 19 of the first intermediate chamber 34 The distance between the walls 19', 19'' of the additional first intermediate chamber is approximately 0.5 to 5 mm, and the parallel walls of the additional intermediate chamber (or The spacing (such as between walls 19'' and 35) is approximately 0.1 to 2 mm.
It is sized so that the line passes through it to form a cone having an apex angle A of about 1 to 10 degrees.

本発明の幾つかの典型的な実施例においては第
3図に示すように、第2密閉室18は軽量ガスド
リフトチユーブからなる。すなわち、該室には典
型的にはヘリウム、炭化水素若しくは水素、好ま
しくはヘリウムのガスがほぼ大気圧で入つてい
る。典型的な密閉室の壁35から壁22までの距
離は約0.5乃至5メートル、通常は0.5乃至2メー
トルとされる。典型的には、壁35のX線透過性
部分36と壁22のX線透過性部分25とは本質
的にベリリウム若しくは低Zプラスチツクから成
る薄いフオイル材から構成される。フオイル材の
原子番号Zは8より大きくない。フオイル材の厚
みは約2乃至20ミクロンとされる。
In some exemplary embodiments of the invention, as shown in FIG. 3, the second sealed chamber 18 comprises a lightweight gas drift tube. That is, the chamber typically contains a gas of helium, hydrocarbon or hydrogen, preferably helium, at about atmospheric pressure. A typical closed chamber wall 35 to wall 22 distance will be approximately 0.5 to 5 meters, typically 0.5 to 2 meters. Typically, the X-ray transparent portion 36 of wall 35 and the X-ray transparent portion 25 of wall 22 are constructed of thin foil material consisting essentially of beryllium or low Z plastic. The atomic number Z of the foil material is not greater than 8. The thickness of the foil material is approximately 2 to 20 microns.

本発明の幾つかの実施例においては、第1図に
示されるように、第2密閉室18の壁35のX線
透過性部分はその中に開口20′を有しており当
該装置ではX線透過性ガス24を、少なくとも同
ガスが開口20′から出て行く速さで室18に矢
印23の方向で供給し、該室18に他のガスが入
るのを防いでいる。典型的には、少くとも壁22
のX線透過性部分の近くにおける第2密閉室内の
ガスが約0.9乃至1気圧に維持される。
In some embodiments of the invention, as shown in FIG. Radiolucent gas 24 is supplied to chamber 18 in the direction of arrow 23 at least at such a rate that it leaves opening 20', preventing other gases from entering chamber 18. Typically at least a wall 22
The gas in the second sealed chamber near the x-ray transparent portion of the tube is maintained at about 0.9 to 1 atmosphere.

典型的には、第2密閉室18内に導入されるガ
ス24はヘリウム、水素若しくはメタンのような
炭化水素で、少くとも壁22のX線透過性部分2
5の近くで0.9乃至1気圧とされる。好ましくは、
実質的に不活性でX線に対し高い透過性を有する
ものとして知られているヘリウムガスとされる。
Typically, the gas 24 introduced into the second sealed chamber 18 is a hydrocarbon such as helium, hydrogen or methane, and at least the X-ray transparent portion 2 of the wall 22
5 is considered to be 0.9 to 1 atm. Preferably,
Helium gas is known to be substantially inert and highly transparent to X-rays.

壁22のX線透過性部分25は低Zプラスチツ
ク材若しくは本質的にベリリウムからなる薄いフ
オイル材25から形成される。フオイル材25の
厚みは約2乃至20ミクロンとされている。原子番
号Zが約8より大きくない他のプラスチツク材を
用いられる。X線透過性の低い材料を使う場合
は、その厚みを極めて薄くしなければならない。
The X-ray transparent portion 25 of the wall 22 is formed from a low Z plastic material or a thin foil material 25 consisting essentially of beryllium. The thickness of the foil material 25 is approximately 2 to 20 microns. Other plastic materials having an atomic number Z not greater than about 8 may be used. If a material with low X-ray transparency is used, its thickness must be extremely thin.

第2密閉室18内のガス24の圧力はほぼ大気
圧に維持され、このため壁22のX線透過性部分
25はその両側の圧力がほぼ同じになるので非常
に薄くすることができる。第2密閉室18内部の
ガス24を周囲の空気から実質的に分離するため
には、中実の材料よりもガスカーテンだけを用い
ることができ、又は、第1図のマスク26若しく
は第2図のサンプル32を壁22によつて作られ
た薄いフレームに当接して配置することができ
る。隣接するマスクまたはサンプルが使用されな
い場合、対象物12を壁22に当接して配置し、
室18内のガスを周囲の空気から分離できる。
The pressure of the gas 24 in the second closed chamber 18 is maintained at approximately atmospheric pressure, so that the X-ray transparent portion 25 of the wall 22 can be made very thin since the pressure on both sides thereof is approximately the same. To substantially separate the gas 24 inside the second sealed chamber 18 from the surrounding air, a gas curtain alone, rather than a solid material, can be used, or a mask 26 of FIG. 1 or a mask 26 of FIG. sample 32 can be placed against a thin frame created by wall 22. If no adjacent mask or sample is used, placing the object 12 against a wall 22;
The gas within chamber 18 can be separated from the surrounding air.

第2密閉室18内のガス24、少なくとも壁2
2のX線透過性部分25の近くのガス24はほぼ
大気圧に維持される場合、X線透過性部分は開口
を有することができ、第2密閉室18内のガス2
4は開口25に沿つて流されるガスカーテンによ
つて若しくは壁22に当接して配置されて開口2
5をカバーする(第1図及び第3図におけるマス
ク26や第2図のサンプル32のような)対象物
に関係した部品によつて空気から実質的に分離す
ることができる。
Gas 24 in the second closed chamber 18, at least on the wall 2
If the gas 24 near the X-ray transparent portion 25 of the second closed chamber 18 is maintained at approximately atmospheric pressure, the X-ray transparent portion may have an opening and the gas 24 in the second sealed chamber 18
4 is connected to the opening 2 by means of a gas curtain flowing along the opening 25 or placed against the wall 22.
5 (such as the mask 26 in FIGS. 1 and 3 and the sample 32 in FIG. 2) can be substantially separated from the air.

第2図に示すように、材料のEXAFデータを得
るための本発明に係る典型的な装置はまた、対象
物12に隣接した壁22のX線透過性部分25に
向けてスペクトル分析X線11Rを指向させるた
め、第2密閉室18内にモノクロメータ30の如
きスペクトル分散手段を設けることができる。対
象物12は典型的には写真フイルム12のような
記録手段を有している。このような装置はまた点
線31で示したような第2密閉室18の内側若し
くは32で示したようなX線透過性部分25と記
録手段12との間の第2密閉室18の外側のいず
れかの位置でX線11,11Rの光路内に材料の
サンプル31を位置決めするための支持手段(図
示せず)を設けることもできる。位置32の方
が、第2密閉室18内の(31のような)位置よ
りも都合がよい。
As shown in FIG. 2, a typical apparatus according to the present invention for obtaining EXAF data of a material also directs spectrally analytical Spectral dispersion means, such as a monochromator 30, can be provided in the second sealed chamber 18 to direct the spectral dispersion. Object 12 typically includes a recording medium such as photographic film 12. Such a device can also be used either inside the second sealed chamber 18 as indicated by the dotted line 31 or outside the second sealed chamber 18 between the X-ray transparent part 25 and the recording means 12 as indicated by 32. Support means (not shown) may also be provided for positioning the material sample 31 in the optical path of the X-rays 11, 11R at that location. Position 32 is more convenient than a position (such as 31) within the second sealed chamber 18.

典型的には、大体の場合、40未満の原子番号を
有するエレメントとしての材料32のEXAFSス
ペクトルを得るのに適した軟X線11を単一パル
スとして作るように、高エネルギ14を単一パル
スとしてターゲツト15に指向する。
Typically, the high energy 14 is applied in a single pulse to produce a single pulse of soft x-rays 11 suitable for obtaining an EXAFS spectrum of the material 32 as an element with an atomic number less than 40 in most cases. Aim at the target 15 as follows.

第2図に示した如きEXAFS装置はまた、ター
ゲツト15の表面を回転し且つ前進するように動
かし、レーザの高エネルギ14が当るターゲツト
15の円筒形面上の焦点28の軌跡を、螺旋状に
する手段を含むこともできる。その場合、エネル
ギビーム14は軟X線11を作るように一連のパ
ルスとして動いているターゲツト表面の点28に
指向される。
The EXAFS device, as shown in FIG. 2, also rotates and moves the surface of the target 15 in a helical manner, causing the trajectory of the focal point 28 on the cylindrical surface of the target 15 to be impinged by the high energy 14 of the laser. It may also include means for. In that case, the energy beam 14 is directed at a point 28 on the target surface moving in a series of pulses to produce soft x-rays 11.

ターゲツト15からのX線はサンプル32の選
定したスペクトル範囲において連続した放射を行
うことが好ましい。典型的には、ターゲツト15
は選定した材料のEXAFSスペクトル範囲を含み
L線のすぐ上の連続体を有する元素から基本的に
成つている。あるいは、ターゲツト15はサンプ
ル32の選定したEXAFSスペクトル範囲で事実
上連続体を形成するに十分近接した線を有する複
数の元素を含んでいてもよい。そのようなターゲ
ツト15は典型的には隣接する原子番号をもつ成
分の混合物を含む。
Preferably, the X-rays from target 15 are emitted continuously over a selected spectral range of sample 32. Typically, target 15
contains the EXAFS spectral range of the selected material and consists essentially of elements with a continuum just above the L line. Alternatively, target 15 may include multiple elements having lines close enough to form a virtual continuum in the selected EXAFS spectral range of sample 32. Such targets 15 typically include a mixture of components with adjacent atomic numbers.

高エネルギは典型的に、平方センチ当り少なく
とも約1013ワツトの出力密度を有するレーザパル
ス14よりなり、ターゲツト15は典型的には固
体(典型的には金属)面を含むことによつて表面
プラズマが形成され、キロボルトの温度領域まで
上昇する。しかしながら、平方センチ当り約1011
ワツトまで下げた出力密度のものを利用して紫外
線および超軟X線領域に於てある種のEXAFSを
得ることができる。レーザパルス14は直径が約
1から200ミクロンの、ターゲツト15上の焦点
28に衝突するよう集中される。
The high energy typically consists of laser pulses 14 having a power density of at least about 10 13 watts per square centimeter, and the target 15 typically includes a solid (typically metal) surface to generate a surface plasma. is formed and rises to the kilovolt temperature range. However, approximately 10 11 per square centimeter
Some types of EXAFS can be obtained in the ultraviolet and ultra-soft X-ray regions using power densities down to watts. Laser pulse 14 is focused to impinge on a focal point 28 on target 15, approximately 1 to 200 microns in diameter.

材料のEXAFSデータを得るための、第2図に
示す形式の装置についてのさらに典型的で、かつ
好適な詳細は米国特許第4317994号に記載されて
いる。
More typical and preferred details of an apparatus of the type shown in FIG. 2 for obtaining EXAFS data for materials are described in US Pat. No. 4,317,994.

高エネルギをターゲツトに指向させる手段は第
1密閉室16内の窓29を通つたレーザ27から
のレーザビーム14をターゲツト15上の直径約
1乃至200ミクロンの点28に収束させるレンズ
13を有している。典型的には、共通壁19内の
開口20は約0.2乃至2ミリの直径を有し、開口
20とターゲツト15上の点28との間の距離は
約0.2乃至5センチとされる。ターゲツト15で
生じたX線は大体約0.3乃至2KeVのエネルギを持
つ。
The means for directing the high energy to the target includes a lens 13 that focuses the laser beam 14 from a laser 27 through a window 29 in the first sealed chamber 16 to a point 28 on the target 15 about 1 to 200 microns in diameter. ing. Typically, aperture 20 in common wall 19 will have a diameter of about 0.2 to 2 mm, and the distance between aperture 20 and point 28 on target 15 will be about 0.2 to 5 cm. The X-rays generated at target 15 have an energy of approximately 0.3 to 2 KeV.

本明細書の背景技術に関して引用した前記米国
特許に詳細に説明され本発明で使用するX線をつ
くる典型的な方法でレーザからのエネルギをター
ゲツトに向ける。概ね均一な有効強さをもつ低出
力の先駆パルスの放射エネルギを約1から30ナノ
秒の間ターゲツトの表面に集中することにより、
全体に通常の固体密度以下であつて、ブラズマの
周波数がレーザ放射の周波数以下である低密度
(過小密度)部分とプラズマの周波数がレーザ放
射の周波数以上である高密度(過大密度)部分と
よりなる、広がりをもち非制限のコロナプラズマ
を発生させることによつて少なくとも約3パーセ
ントの変換効率が得られ、先駆パルスがターゲツ
トに衝突して約1から30ナノ秒後に、約10-3から
30ナノ秒の間ブラズマに向けて集中され、前記過
小密度部分に放射エネルギが吸収され過大密度部
分に伝導されてそれを加熱するような出力密度と
全体エネルギとを有する高出力の主パルスが放射
されることによつて実質的に通常の固体密度以下
に留つているプラズマと共にX線を発生させ、こ
のように非均衡のイオン化状態から立ち上るスペ
クトル線の形態でX線の実質的な放出を促進す
る。
Energy from a laser is directed onto a target in a typical method for producing the x-rays used in the present invention, which is described in detail in the aforementioned US patents cited in the Background section of this specification. By focusing the radiant energy of a low power precursor pulse of approximately uniform effective intensity onto the target surface for approximately 1 to 30 nanoseconds,
The overall density is less than the normal solid density, with a low density (under density) part where the plasma frequency is less than the laser radiation frequency and a high density (over density) part where the plasma frequency is higher than the laser radiation frequency. Conversion efficiencies of at least about 3 percent can be obtained by generating an expansive, unrestricted coronal plasma with a plasma concentration of about 10 -3 to about 30 nanoseconds after the pioneer pulse impinges on the target.
A main pulse of high power is emitted that is focused towards the plasma for 30 nanoseconds and has a power density and total energy such that radiant energy is absorbed by the under-dense portion and conducted to the over-dense portion to heat it. generates X-rays with the plasma remaining substantially below the normal solid density by do.

ターゲツトは、典型的に高原子番号Z、即ち10
以上の原子番号を有する成分から基本的に構成さ
れる。典型的には、ターゲツトは鉄、カルシウ
ム、クローム、ニツケル、アルミニウム、鉛、タ
ングステン、あるいは金から基本的に構成され
る。
Targets typically have a high atomic number Z, i.e. 10
It is basically composed of components having the above atomic numbers. Typically, targets consist essentially of iron, calcium, chrome, nickel, aluminum, lead, tungsten, or gold.

典型的には、先駆パルスの振幅、持続時間、お
よび形状はX線の強さとスペクトル成分を制御す
るように調整される。先駆パルスは、典型的には
約1から30ナノ秒で約0.01から5ジユール(平方
センチ当り約1010から1012ワツト)であり、ター
ゲツトにその表面から約20から70度の角度で衝突
する。
Typically, the amplitude, duration, and shape of the pioneer pulse are adjusted to control the intensity and spectral content of the x-rays. The precursor pulse is typically about 0.01 to 5 joules (about 10 to 10 12 watts per square centimeter) for about 1 to 30 nanoseconds and impinges on the target at an angle of about 20 to 70 degrees from its surface. .

主パルスは典型的には約1から3ナノ秒間に少
なくとも0.1ジユール、好ましくは10から200ジユ
ールである。
The main pulse is typically at least 0.1 joules, preferably 10 to 200 joules, for about 1 to 3 nanoseconds.

典型的は実施例においては、ターゲツトは基本
的に鉄から構成され、先駆パルスの持続時間は約
8から10ナノ秒である。
In a typical embodiment, the target is composed essentially of iron and the duration of the pioneer pulse is about 8 to 10 nanoseconds.

プラズマの低密度部分の電子密度は典型的には
1立方センチ当り約1016から1021であつて高密度
部分は立方センチ当り約1019から1025である。放
射エネルギは典型的には直径が約1から1000ミク
ロンの、ターゲツト上の点に集中される。プラズ
マの容量は典型的には約10-6から10-3立方センチ
であつて、プラズマの厚さはどの方向にも約
0.001から0.1センチである。
The electron density in the low density part of the plasma is typically about 10 16 to 10 21 per cubic centimeter and in the high density part about 10 19 to 10 25 per cubic centimeter. The radiant energy is concentrated at a point on the target, typically about 1 to 1000 microns in diameter. The volume of the plasma is typically about 10 -6 to 10 -3 cubic centimeters, and the plasma thickness in any direction is about
It is 0.001 to 0.1 cm.

低エネルギの用途に対しては、X線は圧倒的に
スペクトル線の形で放出される。
For low energy applications, X-rays are emitted predominantly in the form of spectral lines.

放射エネルギは約1から100ミクロンの直径の、
ターゲツト上の点に集中され、ほぼ同直径のプラ
ズマを発生させてX線の概ね点源を形成すること
により実質的にX線の誘導放出の利点を与える。
The radiant energy is transmitted to a diameter of approximately 1 to 100 microns.
Generating a plasma that is concentrated at a point on the target and of approximately the same diameter to form a generally point source of x-rays provides the substantial advantage of stimulated emission of x-rays.

本発明のある実施例においては、ターゲツトの
成分とプラズマの温度はかなりの量のX線の誘導
放出をもたらすよう選定される。
In some embodiments of the invention, the composition of the target and the temperature of the plasma are selected to result in stimulated emission of a significant amount of x-rays.

その他の実施例においては、X線は螢光性のタ
ーゲツトに衝突するよう向けられることによつて
その原子から内殻の電子を除去し、ポピユレーシ
ヨン反転を生ぜしめる。
In other embodiments, the x-rays are directed to impinge on a fluorescent target, thereby removing core electrons from the atom and causing population inversion.

放射エネルギをターゲツトに向けポンピングメ
カニズムによりある上下のレーザレベルをつくり
出すことによつてX線の誘導放出を与える典型的
な方法においては、ポンピングメカニズムのみで
は必要なポピユレーシヨン反転は得られないが、
反転を行いそれを連続的に保持するに十分な速度
で下方のレーザレベルを消滅させる消滅メカニズ
ムをポンピングメカニズムに組合せることによつ
て反転が行われる。ポンピングメカニズムは典型
的には電子とイオンとを衝突させるか、あるいは
誘電再結合による励振よりなる。消滅メカニズム
は典型的にはアウガー(Auger)遷移、コスター
ケレニツヒ(Coster−Kronig)遷移、あるいは
衝突よりなる。放射エネルギはレーザからつくる
か、あるいは電子ビームより構成してもよい。ポ
ンピングメカニズムは電子ビームを含んでもよ
い。
In the typical method of providing stimulated emission of x-rays by directing radiant energy to a target and creating certain upper and lower laser levels with a pumping mechanism, the pumping mechanism alone does not provide the necessary population reversal;
Inversion is accomplished by combining the pumping mechanism with a quenching mechanism that annihilates the lower laser level at a rate sufficient to effect and maintain the inversion continuously. Pumping mechanisms typically consist of excitation through electron and ion collisions or dielectric recombination. Extinction mechanisms typically consist of Auger transitions, Coster-Kronig transitions, or collisions. The radiant energy may be generated from a laser or may consist of an electron beam. The pumping mechanism may include an electron beam.

本発明による装置は、X線がつくり出される真
空室のような特殊環境に軟X線を受けるべき対象
物を出し入れするのが高価につき、時間がかか
り、あるいは不便であるような用途に対して特に
有用である。この種の典型的な用途には高解像性
のリトグラフ、拡張X線吸収性微小構造
(EXAFS)の分光学、およびX線顕微鏡検査用
の、レーザよりつくるX線装置を含む。
The device according to the invention is suitable for applications where it is expensive, time consuming, or inconvenient to move objects to be subjected to soft x-rays into and out of special environments such as vacuum chambers where the x-rays are produced. Particularly useful. Typical applications of this type include laser-based x-ray devices for high resolution lithography, extended x-ray absorptive microstructure (EXAFS) spectroscopy, and x-ray microscopy.

X線は通常真空中でつくられるが、多くの用途
ではそれを空気中で照射することが望ましい。特
に約5KeVの光子エネルギを有するような軟X線
に対しては、真空と空気との間の圧力差に耐える
に十分厚くかつ強靭につくられた窓は不伝導性で
あるため、X線を真空から空気中に取り出すには
問題がある。この問題は大きな面積を照射するこ
とが好ましいX線トリグラフイの場合は特に深刻
である。
Although X-rays are usually produced in a vacuum, in many applications it is desirable to apply them in air. Particularly for soft x-rays, such as those with photon energy of approximately 5 KeV, a window made thick and strong enough to withstand the pressure difference between vacuum and air is non-conducting and therefore There are problems with taking it out of the vacuum and into the air. This problem is particularly acute in the case of X-ray trigraphy, where it is preferable to irradiate a large area.

本発明は概ね大気圧にある空気のように通常の
環境におかれている対象物にX線を照射する問題
を克服するための簡単で、安価で、かつ便利な装
置を提供する。
The present invention provides a simple, inexpensive, and convenient apparatus for overcoming the problems of irradiating objects with X-rays in a normal environment, such as air at approximately atmospheric pressure.

本発明による方法はX線リトグラフイのみなら
ず、レーザEXAFSに対しても、かつ特に単パル
スのレーザ発生のX線、あるいは複数パルスの該
X線を用いる高速EXAFS分光学においても有
用、かつ有益である。
The method according to the invention is useful and advantageous not only for X-ray lithography, but also for laser EXAFS, and in particular for high-speed EXAFS spectroscopy using a single pulse of laser-generated X-rays or multiple pulses of said X-rays. It is.

EXAFS分光学の技術は、例えば非晶質(アモ
ルフオス)固体や、生物学的に重要な材料からな
る溶液やガスのように、長い寿命(long−range
order)を欠除するサンプル中の化学構造の研究
に増々重要な手段となつている。これらの研究は
近年において、EXAFSに必要な軟X線の連続
し、かつ強度のスペクトルを提供するシンクロト
ロンが利用できるようになつたお蔭で拍車がかけ
られてきた。しかしながら、シンクロトロンは高
価であり、科学者はその実験を行うためにその場
所へ行かねばならない。他方、レーザによるX線
源は比較的コンパクトで、安価で、かつ操作、保
守が簡単である。さらに、本質的にシンクロトロ
ンによる放射源の能力以上の種々の新規な
EXAFSの実験が行える。短いパルス幅や、低エ
ネルギ(4KeV以下)のX線の強いフラツクス
や、かつ(または)連続体、スペクトル製構造又
は密に詰められたスペクトル線構造を必要とする
これらの実験はレーザによりつくられたX線に理
想的に適している。
EXAFS spectroscopy techniques can be used to analyze long-range materials such as amorphous solids, solutions and gases of biologically important materials.
It has become an increasingly important tool for studying chemical structures in samples lacking order. These studies have been spurred in recent years by the availability of synchrotrons, which provide the continuous and intense spectrum of soft x-rays needed for EXAFS. However, synchrotrons are expensive and require scientists to travel to the location to perform their experiments. On the other hand, laser-based x-ray sources are relatively compact, inexpensive, and easy to operate and maintain. In addition, a variety of novel
EXAFS experiments can be performed. These experiments, which require short pulse widths, intense fluxes of low-energy (below 4 KeV) ideally suited for X-rays.

アルミニウムのEXAFSスペクトルが、レーザ
で発生したX線によりつくり出された1ナノ秒の
パルスをもつ軟X線により測定された。この技術
はEXAFSデータ収集に対してシンクロトロン放
射に対する実用的な代替を提供する。また高遷移
性の化学標本の分子構造の分析にも独得の能力を
提供する。
EXAFS spectra of aluminum were measured using soft x-rays with 1 nanosecond pulses created by laser-generated x-rays. This technique provides a practical alternative to synchrotron radiation for EXAFS data acquisition. It also provides unique capabilities for analyzing the molecular structure of highly transitional chemical samples.

本明細書で示した本発明の形態は現在のところ
好適な実施例を構成するものであるが、その他多
くの実施例も可能である。ここでは、本発明の細
部にわたる可能な均等形態について述べる意図は
ない。また、ここで使用した用語は限定的ではな
く、単に説明目的であつて、本発明の趣旨あるい
は範囲から逸脱することなく種々変更が可能であ
る。
Although the form of the invention presented herein constitutes a presently preferred embodiment, many other embodiments are possible. It is not intended here to describe possible equivalents of the details of the invention. Furthermore, the terminology used herein is not limiting and is merely for descriptive purposes, and various changes can be made without departing from the spirit or scope of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による典型的な装置の概略平面
図、第2図は材料のEXAFSデータを収集するた
めの、本発明の典型的な実施例の概略平面図、第
3図は本発明の他の典型的な実施例の概略図であ
る。 図において、11,11R……X線、12……
対象物、13……レンズ、14……エネルギ、1
5……ターゲツト、16……第1の密閉部、18
……第2の密閉部、20,20′……開口、21
……ガス、22……壁、24……X線透過性ガ
ス、25……X線透過性部分、27……レーザ、
28……焦点、30……モノクロメータ、34,
34′……中間室。
FIG. 1 is a schematic plan view of an exemplary apparatus according to the present invention; FIG. 2 is a schematic plan view of an exemplary embodiment of the present invention for collecting EXAFS data of materials; FIG. FIG. 3 is a schematic diagram of another exemplary embodiment. In the figure, 11, 11R...X-ray, 12...
Object, 13...Lens, 14...Energy, 1
5...Target, 16...First sealed part, 18
...Second sealed part, 20, 20'...Opening, 21
...Gas, 22...Wall, 24...X-ray transparent gas, 25...X-ray transparent portion, 27...Laser,
28... focus, 30... monochromator, 34,
34'...middle room.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 概ね大気圧で空気のような通常の環境におか
れる対象物にX線を照射する装置において、 ターゲツトにエネルギを向け、選定したスペク
トルと強さをもつX線を該ターゲツトにてつくり
出す手段と; ターゲツトの周りにある実質的に流体密にされ
た第1の密閉室と; 第1の密閉室内のガスの量を、従つてその圧力
を減少させて、その中の圧力を実質的に大気圧以
下に保持する減圧手段と; 前記第1の密閉室に隣接し、X線に対して高い
透過性を有するガスを他のガスを排除した状態で
含む実質的に流体密にされた第2の密閉室と;を
有し、 第1の密閉室の1つの壁は、X線を通過させる
に十分大きい開口で、該開口を通つて第1の密閉
室に入るガスの流入量が前記減圧手段が第1の密
閉室から排出するガスの量と多くても同じになる
程度に小さくされている開口を有し、 前記ターゲツトは、前記開口に十分近づけて配
置され、発生したX線の実質的な部分を前記開口
に向け同開口を通すように位置決めされており、 第2の密閉室の第1の壁は、X線に対して高い
透過性を有し第1の密閉室の壁に設けられた前記
開口に隣接して位置決めされたX線透過性部分を
有し、開口を通つたX線が該X線透過性部分を通
り同部分の反対側にある第2の密閉室の第2の壁
に向けて進むことができるようにしてあり、 第2の密閉室内の前記ガスは、少くとも第2の
壁の近くにおいて大気圧にほぼ等しい圧力に維持
されており、 第2の密閉室の第2の壁は、それに向けて進め
られたX線に対して高い透過性を有するX線透過
性部分を有し、それにより、該X線透過性部分に
隣接して第2の密閉室の外側に対象物を位置決め
することにより空気や他の望ましくない介在物に
よつてほとんど阻害されないX線を当該対象物に
照射するようにしたX線を対象物に照射する装
置。 2 一部を、前記開口を有する第1の密閉室の壁
の一部と共通にする内壁と、該内壁とほぼ平行で
前記開口及び前記第1の壁のX線透過性部分の間
でそれらに整合された第2の開口が設けられた外
壁とを有し、X線がこれら開口及びX線透過性部
分を通つて第2密閉室の第2壁に進めるようにし
てある、第1密閉室に隣接した実質的に流体密に
された中間室と;該中間室内のガスの量、従つて
その圧力を減じて当該中間室内の圧力を第1密閉
室の圧力及び第2の密閉室の圧力の間の値に維持
する第2の減圧手段と;を有し、前記外壁の第2
の開口は該開口を通つて中間室に入るガスの量が
第2減圧手段によつて中間室から排出されるガス
の量と多くても同じになる程度小さくされている
特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 第1及び第2の密閉室間に設けられた少なく
とも1つの追加の中間室で、隣接する対の中間室
は開口を備える1つの共通壁の両側に配置され、
共通壁の開口は第1密閉室の壁に設けられた前記
開口及び第2密閉室の第1壁のX線透過性部分間
でそれらに整合されてなる追加の中間室と;各追
加の中間室のガスの量、従つてその圧力を減じ、
当該中間室内の圧力を隣接する室内の圧力の中間
の値に維持する手段と;を有し前記共通壁の開口
は該開口を通つて追加の中間室に入るガス量が当
該中間室から減圧手段が排出するガスの量と多く
ても同じになる程度小さくされている特許請求の
範囲第2項記載の装置。 4 各中間室内の圧力の値が、それに隣接する室
内の圧力の値の中間で対数的に維持される特許請
求の範囲第3項記載の装置。 5 前記中間室の前記共通壁間の間隔をそれらの
間でガスが流れるのを防ぐに十分な程度大きくし
た特許請求の範囲第3項記載の装置。 6 第1の中間室の内壁及び外壁間の間隔を約2
乃至10ミリ、第1の追加の中間室の前記共通壁間
の間隔を0.5乃至5ミリとした特許請求の範囲第
3項記載の装置。 7 更に追加の中間室の前記共通壁間の間隔を
0.1乃至2ミリとした特許請求の範囲第6項に記
載の装置。 8 前記開口を、そこを通つたX線が1乃至10゜
の頂角の円錐形となるようなサイズとした特許請
求の範囲第3項に記載の装置。 9 第2密閉室が軽量ガスドリフトチユーブから
なる特許請求の範囲第1項に記載の装置。 10 第2密閉室内のガスをヘリウム、水素若し
くは炭化水素とした特許請求の範囲第9項に記載
の装置。 11 第2密閉室内のガスをヘリウムとした特許
請求の範囲第9項に記載の装置。 12 第2密閉室内のガス圧を実質的に大気圧と
した特許請求の範囲第9項に記載の装置。 13 第2密閉室の第1の壁から第2の壁までの
距離を約0.5乃至5メートルとした特許請求の範
囲第9項に記載の装置。 14 第2密閉室の第1の壁のX線透過性部分を
薄いフオイル材から形成した特許請求の範囲第9
項に記載の装置。 15 第2密閉室の第2の壁のX線透過性部分も
薄いフオイル材から形成した特許請求の範囲第1
4項に記載の装置。 16 前記フオイル材がベリリウムまたは低Zブ
ラスチツク物質から成る特許請求の範囲第15項
に記載の装置。 17 フオイル材の厚みが約2乃至20ミクロンの
特許請求の範囲第16項記載の装置。 18 第2密閉室の第1の壁のX線透過性部分が
開口と、高いX線透過性のガスを少なくとも第1
の壁の開口を通つて第2密閉室から排出されるガ
スの速さで第2密閉室に供給し、それにより第2
密閉室内に他のガスが入るのを実質的に防止する
ガス供給手段とを有する特許請求の範囲第1項に
記載の装置。 19 第2密閉室に供給されるガスをヘリウム、
水素または炭化水素とした特許請求の範囲第18
項に記載の装置。 20 第2密閉室に供給されるガスをヘリウムと
した特許請求の範囲第18項に記載の装置。 21 第2密閉室内のガス圧が少くとも前記第2
壁のX線透過性部分の近くにおいて約0.9乃至1
気圧に維持された特許請求の範囲第18項に記載
の装置。 22 第2密閉室の第2壁のX線透過性部分が薄
いフオイル材から成る特許請求の範囲第21項に
記載の装置。 23 フオイル材が、ベリリウム若しくは低Zプ
ラスチツク材とした特許請求の範囲第22項に記
載の装置。 24 フオイル材の厚みを2乃至20ミクロンとし
た特許請求の範囲23項に記載の装置。 25 第2密閉室の第2壁のX線透過性部分が開
口を有し、第2密閉室内のガスを、該開口に沿つ
て通るガスカーテンにより若しくは第2壁に当接
され当該開口をカバーするように配置されたX線
を照射される対象物または該対象物に関連した部
材により、周囲の空気から実質的に分離するよう
にした特許請求の範囲第1項に記載の装置。 26 前記開口を通つたX線を受け、スペクトル
分解されたX線を、当該X線の照射される対象物
に隣接した前記第2の壁のX線透過性部分に向け
て指向されるよう位置決めされた第2密閉室内の
スペクトル拡散手段を有し、前記対象物が記録手
段を含む、物質のEXAFSデータを得るようにし
た特許請求の範囲第1項に記載の装置。 27 物質のサンプルをX線の光路に位置決めす
る手段を有する特許請求の範囲第26項に記載の
装置。 28 前記サンプルが第2密閉室内に位置決めさ
れるようにした特許請求の範囲第27項に記載の
装置。 29 前記サンプルが第2密閉室の外側で、前記
第2壁のX線透過性部分と記録手段との間に位置
決めされた特許請求の範囲第27項に記載の装
置。 30 前記エネルギ指向手段がレーザからのエネ
ルギをターゲツトに向ける手段を有している特許
請求の範囲第1項に記載の装置。 31 エネルギ指向手段が、エネルギをターゲツ
ト上の直径約1乃至200ミクロンの直径の点に集
束させる手段を有している特許請求の範囲第1項
に記載の装置。 32 第1密閉室の壁の開口が約0.2乃至2ミリ
の直径を有している特許請求の範囲第1項に記載
の装置。 33 第1密閉室の壁の開口とターゲツト上の前
記点との間の距離が約0.2乃至5センチである特
許請求の範囲第1項に記載の装置。 34 ターゲツトで作られたX線が概ね約0.3乃
至2KeVのエネルギを有している特許請求の範囲
第1項に記載の装置。
[Claims] 1. A device for irradiating an object with X-rays in a normal environment such as air at approximately atmospheric pressure, which directs energy toward the target and applies X-rays having a selected spectrum and intensity to the target. means for creating at the target; a first substantially fluid-tight sealed chamber around the target; and reducing the amount, and thus the pressure, of the gas within the first sealed chamber. depressurization means for maintaining the pressure substantially below atmospheric pressure; a substantially fluid adjacent to the first sealed chamber containing a gas having high transparency to X-rays to the exclusion of other gases; a second hermetically sealed chamber; one wall of the first hermetically sealed chamber having an opening large enough to allow the passage of X-rays through which gas enters the first hermetically sealed chamber; the target is arranged sufficiently close to the opening, and the target is arranged sufficiently close to the opening; a first wall of the second sealed chamber is positioned to direct a substantial portion of the generated x-rays toward and through the aperture; a first wall of the second sealed chamber is highly transparent to the x-rays; an X-ray transparent portion positioned adjacent to the opening in the wall of the sealed chamber, the X-rays passing through the opening passing through the X-ray transparent portion and a second the gas in the second sealed chamber is maintained at a pressure approximately equal to atmospheric pressure at least in the vicinity of the second wall; and the second wall of the second sealed chamber has an X-ray transparent portion that is highly transparent to X-rays directed toward it, thereby providing a second wall adjacent to the X-ray transparent portion. irradiating the object with X-rays that are substantially unhindered by air or other undesirable inclusions by positioning the object outside the second sealed chamber. device to do. 2. An inner wall having a part in common with a part of the wall of the first sealed chamber having the opening, and an X-ray transparent part of the opening and the first wall that is substantially parallel to the inner wall. an outer wall having a second aperture aligned with the outer wall of the first enclosure, the outer wall having a second aperture aligned with the outer wall of the first enclosure, the first enclosure having an outer wall having a second aperture aligned with the outer wall thereof, the first enclosure having an outer wall having a second aperture aligned with the outer wall of the first enclosure, the first enclosure having an outer wall having a second opening aligned with the outer wall of the first enclosure; a substantially fluid-tight intermediate chamber adjacent to the chamber; reducing the amount of gas, and therefore the pressure, in the intermediate chamber so that the pressure in the intermediate chamber is equal to the pressure in the first sealed chamber and the pressure in the second sealed chamber; a second pressure reducing means for maintaining the pressure at a value between;
The opening is so small that the amount of gas entering the intermediate chamber through the opening is at most the same as the amount of gas exhausted from the intermediate chamber by the second pressure reducing means. Apparatus described in section. 3 at least one additional intermediate chamber provided between the first and second closed chambers, the intermediate chambers of adjacent pairs being arranged on opposite sides of one common wall provided with an opening;
an additional intermediate chamber in which the opening in the common wall is aligned between said opening in the wall of the first sealed chamber and the X-ray transparent portion of the first wall of the second sealed chamber; reducing the amount of gas in the chamber and therefore its pressure;
means for maintaining the pressure in said intermediate chamber at a value intermediate between the pressures in adjacent chambers; and said opening in said common wall is configured such that the amount of gas entering the additional intermediate chamber through said opening is depressurized from said intermediate chamber. 3. The device according to claim 2, wherein the amount of gas is at most the same as the amount of gas emitted. 4. Apparatus according to claim 3, wherein the pressure value in each intermediate chamber is maintained logarithmically midway between the pressure values in adjacent chambers. 5. The apparatus of claim 3, wherein the spacing between the common walls of the intermediate chamber is sufficiently large to prevent gas flow therebetween. 6 The distance between the inner and outer walls of the first intermediate chamber is approximately 2
4. Device according to claim 3, characterized in that the distance between the common walls of the first additional intermediate chamber is between 0.5 and 5 mm. 7 Furthermore, the distance between the common walls of the additional intermediate chamber is
The device according to claim 6, having a thickness of 0.1 to 2 mm. 8. The apparatus of claim 3, wherein the aperture is sized such that the x-rays passing therethrough are conical with an apex angle of 1 to 10 degrees. 9. The apparatus of claim 1, wherein the second sealed chamber comprises a lightweight gas drift tube. 10. The device according to claim 9, wherein the gas in the second sealed chamber is helium, hydrogen, or hydrocarbon. 11. The device according to claim 9, wherein the gas in the second sealed chamber is helium. 12. The device according to claim 9, wherein the gas pressure in the second sealed chamber is substantially atmospheric pressure. 13. The apparatus of claim 9, wherein the distance from the first wall to the second wall of the second sealed chamber is approximately 0.5 to 5 meters. 14. Claim 9, wherein the X-ray transparent portion of the first wall of the second sealed chamber is formed from a thin foil material.
The equipment described in section. 15. Claim 1, wherein the X-ray transparent portion of the second wall of the second sealed chamber is also formed from a thin foil material.
The device according to item 4. 16. The apparatus of claim 15, wherein said foil material comprises beryllium or a low Z plastic material. 17. The apparatus of claim 16, wherein the foil material has a thickness of about 2 to 20 microns. 18 The X-ray transparent portion of the first wall of the second sealed chamber has an opening and the highly X-ray transparent gas
supplying the second sealed chamber with the velocity of the gas exhausted from the second sealed chamber through the opening in the wall, thereby
2. A device as claimed in claim 1, further comprising gas supply means for substantially preventing the entry of other gases into the closed chamber. 19 The gas supplied to the second sealed chamber is helium,
Claim 18 regarding hydrogen or hydrocarbon
The equipment described in section. 20. The device according to claim 18, wherein the gas supplied to the second sealed chamber is helium. 21 The gas pressure in the second sealed chamber is at least as high as
Approximately 0.9 to 1 near the radiolucent part of the wall
19. The apparatus of claim 18 maintained at atmospheric pressure. 22. The apparatus of claim 21, wherein the X-ray transparent portion of the second wall of the second sealed chamber is comprised of a thin foil material. 23. The device of claim 22, wherein the foil material is beryllium or a low Z plastic material. 24. The device according to claim 23, wherein the thickness of the foil material is between 2 and 20 microns. 25 The X-ray transparent portion of the second wall of the second sealed chamber has an opening, and the gas in the second sealed chamber is directed by a gas curtain passing along the opening or by contacting the second wall and covering the opening. 2. The apparatus of claim 1, wherein the object to be irradiated with X-rays or a member associated with the object is arranged to be substantially isolated from surrounding air. 26 positioned to receive the X-rays passing through the aperture and direct the spectrally resolved X-rays toward an X-ray transparent portion of the second wall adjacent to the object to be irradiated with the X-rays; 2. Apparatus according to claim 1, comprising spectral spreading means in a second closed chamber for obtaining EXAFS data of a substance, the object comprising recording means. 27. Apparatus according to claim 26, comprising means for positioning a sample of material in the optical path of the X-rays. 28. The apparatus of claim 27, wherein the sample is positioned within a second closed chamber. 29. The apparatus of claim 27, wherein the sample is positioned outside the second sealed chamber, between an X-ray transparent portion of the second wall and a recording means. 30. The apparatus of claim 1, wherein said energy directing means includes means for directing energy from a laser to a target. 31. The apparatus of claim 1, wherein the energy directing means includes means for focusing the energy to a point on the target having a diameter of about 1 to 200 microns. 32. The device of claim 1, wherein the opening in the wall of the first closed chamber has a diameter of about 0.2 to 2 mm. 33. The apparatus of claim 1, wherein the distance between the opening in the wall of the first chamber and said point on the target is about 0.2 to 5 centimeters. 34. The apparatus of claim 1, wherein the x-rays produced by the target have an energy of approximately 0.3 to 2 KeV.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4692934A (en) * 1984-11-08 1987-09-08 Hampshire Instruments X-ray lithography system
JP3480048B2 (en) * 1994-07-26 2003-12-15 株式会社ニコン X-ray generator
TW548524B (en) * 2000-09-04 2003-08-21 Asm Lithography Bv Lithographic projection apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
US6770895B2 (en) * 2002-11-21 2004-08-03 Asml Holding N.V. Method and apparatus for isolating light source gas from main chamber gas in a lithography tool

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