JPH0354626B2 - - Google Patents

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JPH0354626B2
JPH0354626B2 JP58213455A JP21345583A JPH0354626B2 JP H0354626 B2 JPH0354626 B2 JP H0354626B2 JP 58213455 A JP58213455 A JP 58213455A JP 21345583 A JP21345583 A JP 21345583A JP H0354626 B2 JPH0354626 B2 JP H0354626B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はUV−吸収剤を0.5重量％以下で含有す
る、ポリカーボーネートプラスチツク製コア層お
よびこのコア層の少なくとも片面に存在する、コ
ア層と一緒に同時押出される、UV−吸収剤少な
くとも３重量％を含むプラスチツク製カバー層か
ら成るプラスチツク板およびその製法に関する。
ポリカーボネートプラスチツクは制限された耐
候性しか持たない。特に該プラスチツクはUV−
線によつて損傷を受ける。プラスチツク内に混入
されるUV−吸収剤はポリカーボネート製プラス
チツク板の内部を保護することができるが、表面
を保護しない。表面保護のために西ドイツ国特許
出願公開第1694273号明細書によればUV−吸収
剤３部およびポリメチルメタクリレートまたはポ
リカーボネート５部から成つていてよい塗料層が
設けられる。
西ドイツ国特許出願公開第2832676号明細書に
よればポリカーボネートプラスチツク板を製造す
る際にUV−吸収剤を含有するポリメチルメタク
リレート層をコエクストルージヨンによつて設け
る。
２つの場合においてポリメタクリレートプラス
チツクがカバー層に使用される、それというのも
該プラスチツクは高い耐候性を有し、かつその表
面はポリカーボネートの表面よりはUV−線によ
つて損なわれないからである。ポリメタクリレー
ト製カバー層の欠点はポリカーボネートに比べて
靱性が小さなことである。ポリカーボネートプラ
スチツク板を応力下に、例えば曲げた状態に置い
た場合凸面側の表面に引張応力が生じ、これがカ
バー層内のクラツク形成に至る場合がある。増加
するクラツク形成は裸眼には初めは光沢性であつ
た表面が徐々につや消し表面になるように見え
る。その上にこのクラツクはポリカーボネートコ
ア層に伝播する傾向があり、その結果被覆された
板はポリカーボネートプラスチツクの高い破壊強
さを維持しない。特にひよう害に対する破壊し易
さが増加する。この欠点は中空異形プレートでは
より顕著に認められる、それというのも曲げた状
態に置いた際に凸面側に特に高い伸長が生じるか
らである。
本発明の目的は、ポリメチルメタクリレート層
に起因する破壊強さの低下を、含有されるUV−
吸収剤による保護を放棄せずに回避することであ
る。
ところで意想外にもカバー層がコエクストルー
ジヨンされるポリカーボネートプラスチツクから
成る場合に前記の欠点が回避され、しかもカバー
層の保護作用が完全に保持されることが判明し
た。コア層およびカバー層に同種類の材料を使用
することにより２つの層は等しい伸長性を持つの
で、応力下にもカバー層内での増大したクラツク
形成は生じない。カバー層がUV−吸収剤を少な
くとも３重量％、有利に少なくとも５重量％含有
する場合にカバー層の表面でポリカーボネートは
UV−線に十分に曝されるが、カバー層の表面に
急激な風化が起きないのは意想外である。UV−
線の吸収は先ずカバー層の内部で始まる。認めら
れる利点はコア層と一緒にコエクストルージヨン
されて形成されるカバー層でのみ得られる。
第１図は本発明による実施形、片面に被覆され
た中実板の切断断面図である。第２図は優れた実
施形である、両面に被覆された押出し中空プレー
トの切断断面図である。
中実板のコア層１は厚さ、例えば２〜10mm、有
利に３〜８mmを有する。通常コア層の外面は互い
に平行かつ平らであるが、波形であつてもよく、
また特に組込まれた状態で１つの軸に対して曲げ
られていてもよい。コア層はドーム形に湾曲され
ていてもよく、または他の仕方で三次元的に成形
されていてもよい。
コア層１は１個以上の中空室２を含有していて
も良く、これらは有利に互いに平行に直線状にコ
ア層の中に延びる。特にウエブ結合二重板または
三重板であり、これらの板ではコア層１が２つの
平らな、平行な壁３，４から成り、壁３，４はウ
エブ５によつて一体に互いに結合されている。中
空室２は場合により更に１つ以上の中間壁によつ
て分割されていてよい。壁３，４およびウエブ５
は通常壁厚0.3〜２mmを有する。中空室を含めて
コア層は例えば厚さ５〜50、有利に６〜10mmであ
る。
コア層の平面の広がりおよび形状は所定の用途
の要求に左右され、かつ技術的な製造条件の範囲
内で任意である。平らに置かれる板は有利に長方
形平面および縁部長さ0.5〜６ｍを有する。より
長い中実板または−ボードは巻き取つてもよい。
コア層１は少なくとも片面に、有利に両面に
UV−吸収剤の含量がより高い点でコア層とは異
なつているカバー層６を有する。カバー層の厚さ
は直角に入射する、280〜380nｍのUV−線を90
％を上回る、有利に99％を上回る割合で（反射さ
れない部分に対して）吸収するのに十分であるべ
きである。そのためには厚さ５〜50μｍで十分で
あるが、100μｍまでの膜厚で施してよい。
カバー層はプラスチツクで常用のUV−吸収剤
を少なくとも３重量％、有利に５〜15重量％含有
する。UV−吸収剤の優れた含量は0.4〜2.5ｇ／
m2であるが、場合により５ｇ／m2まで増加させて
よい。したがつてカバー層内部で必要な吸収が起
るためにはカバー層が薄くなればなるほど吸収剤
の濃度を高く選択する。0.4ｇ／m2を下回るとカ
バー層表面の風化に対する保護はもはや保証され
ない。この保護は平方メートル当り使用される吸
収剤量の全量が高ければ高いだけより有効であ
る。好適なUV−吸収剤は２−ヒドロキシ−４−
ｎ−オクトキシベンジフエノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフエノン、２−（2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフエニル）−ベンゾトリアゾ
ールおよび他の２−ヒドロキシ−ベンゾフエノン
またはベンゾトリアゾールの誘導体、更に２，４
−ジヒドロキシベンゾイルフラン、サリチル酸フ
エニルエステル、レゾルシンジサリチレート、レ
ゾルシンモノ−およびジ−ベンゾエート、ベンジ
ルベンゾエート、スチルベン、β−メチルウムベ
リフエロンおよびそのベンゾエートである。他に
多数のUV−吸収剤が公知であり、かつ市販され
ている。特に加工温度で僅かな揮発性のUV−吸
収剤、すなわちできる限り高い分子量を有するも
のが優れている、UV−吸収剤は選択された濃度
でプラスチツク材料とできる限り均一に混合可能
でなければならない。コア層はUV−吸収剤を全
く含まなくてもよく、またはUV−吸収剤をカバ
ー層内よりも明らかに低い濃度で含む。濃度は
0.5重量％を越えない。
ポリカーボネートプラスチツクは通常芳香族ビ
スフエノールまたはかかるビスフエノールの混合
物から誘導される、特にビスフエノールＡであ
る。高い靱性および光透過性を持つ板に加工する
ことのできる、すべてのポリカーボネートプラス
チツクはコア層の材料としてもカバー層の材料と
しても好適である。
これらの層は必ずではないが、有利にUV−吸
収剤の濃度を除き等しい押出可能なプラスチツク
材料から成る。これらは無色透明であるかまたは
常法で着色、混濁または顔料添加してよいが、本
発明は高い光透過性の材料に大きな重要性を持
つ。
カバー層はコア層と同時にコエクストルージヨ
ンによつて形成される。
そのために自体公知の多層スロツトダイを使用
し、この中に２台の押出機を用いてコア層および
カバー層用の可塑化材料が圧入される。押出しは
温度240〜300℃で行なわれる。
本発明による板は特に屋外でのガラス張り材料
および建材として好適であり、その場合太陽光線
に曝される側にカバー層を持つ。本発明による板
は伸長力が板に作用する場合、例えば中実板また
はウエブ結合二重板を曲げて取り付ける際に有利
に使用される。この取付け方は温室建設で屡々使
用され、かつ過去において重大なひよう害にあつ
てきた。本発明によるかかる被害は回避される。
例 ２台の押出機によつて供給される多層スロツト
ダイを用いてコエクストルージヨンすることによ
り２層のポリカーボネート板が形成される。１台
の押出機ではUV−吸収剤を用いずに押出可能な
熱可塑性ポリカーボネート成形コンパウンドを加
工する。第２の押出機は同種のポリカーボネート
成形コンパウンド90重量％およびUV−吸収剤と
して２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾ
フエノン10重量％から成る混合物を多層ダイに導
く。この混合物流がコア層表面上に厚さ30μｍの
カバー層を形成する。コア層は純粋なポリカーボ
ネート成形コンパウンドから成り、かつ厚さ３mm
である。プラスチツク融液はダイを出た後３本組
カレンダローラでカレンダ仕上げされる。
被覆された板は透過する太陽光の中で均一な影
を投映させ、これには表面欠陥を認めることがで
きない。板の表面からスクリーン上に反射させた
太陽光も同様の像を与える。
このようにして製造された板は曲率半径0.5mm
で弾性的に曲げ、かつ屋外で暴露した。２年の暴
露の後板はクラツクを生じない。比較のために押
出され、カレンダでカレンダ仕上げされた板を押
出しに引続いて表面に塗布した。塗料は押出方向
に対して対向する塗布ローラを用いて均一に塗布
する。塗料溶液は分子量約20000のポリカーボネ
ート18％、前記のUV−吸収剤２％およびジクロ
ルエタン80％から成る。引続き溶剤を乾燥炉中で
100℃まで段階的に上昇する温度で追出す。最終
的な塗膜厚さは30μｍである。
この板の投影像は部分的にピンプル、ミカン肌
様表面構造および不十分な均展およびほこり粒子
の包含の結果による光学的欠点を示す。
前記のようにして弾性的に曲げた板の屋外暴露
で既に１年後に若干のクラツクが、２年後には多
数のクラツクが認められる。クラツク形成はポリ
カーボネート中に残留する溶剤残分および低分子
量の結果と見ることができる。低分子量は高い塗
料濃度を達成するために必要であり、これにより
溶剤の蒸発時のスキン形成および均展性欠陥の結
果による付加的な表面欠陥は回避される。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による１実施形の切断断面図で
あり、かつ第２図は本発明による他の実施形の切
断断面図である。 １……コア層、２……中空室、３，４……壁、
５……ウエブ、６……カバー層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ UV−吸収剤を0.5重量％以下で含有する、ポ
    リカーボネートプラスチツク製コア層およびこの
    コア層の少なくとも片面に存在するコア層と一緒
    に同時押出される、UV−吸収剤少なくとも３重
    量％を含むプラスチツク製カバー層から成るプラ
    スチツク板においてカバー層がポリカーボネート
    から成ることを特徴とする、ポリカーボネートプ
    ラスチツク板。 ２ カバー層の厚さが５〜50μｍである、特許請
    求の範囲第１項記載のプラスチツク板。 ３ コア層が厚さ0.3〜20mmを有する、特許請求
    の範囲第１項または第２項記載のプラスチツク
    板。 ４ コア層が縦方向に貫通する中空室を有する、
    特許請求の範囲第３項記載のプラスチツク板。 ５ コア層およびカバー層を形成するために２台
    の押出機で可塑化した材料が導かれるプラスチツ
    クスロツトダイを用いてポリカーボネートプラス
    チツク製コア層およびこのコア層の少なくとも片
    面に存在する、UV−吸収剤を少なくとも３重量
    ％含有するプラスチツク製カバー層を同時押出す
    ることによりUV−吸収剤を0.5重量％以下で含有
    するポリカーボネートプラスチツク製コア層およ
    びこのコア層の少なくとも片面に存在する、コア
    層と一緒に同時押出される、UV−吸収剤少なく
    とも３重量％を含むプラスチツク製カバー層から
    成るプラスチツク板を製造するための方法におい
    て、カバー層を形成するためのプラスチツクとし
    てポリカーボネートプラスチツクを使用すること
    を特徴とする、ポリカーボネートプラスチツク板
    の製法。
JP58213455A 1982-11-25 1983-11-15 ポリカ−ボネ−トプラスチツク板およびその製法 Granted JPS59101360A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE8233007.7 1982-11-25
DE19828233007U DE8233007U1 (de) 1982-11-25 1982-11-25 Polycarbonat-kunststofftafel

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59101360A JPS59101360A (ja) 1984-06-11
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JP58213455A Granted JPS59101360A (ja) 1982-11-25 1983-11-15 ポリカ−ボネ−トプラスチツク板およびその製法

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EP (1) EP0110221B1 (ja)
JP (1) JPS59101360A (ja)
AT (1) ATE26420T1 (ja)
DE (2) DE8233007U1 (ja)
ES (1) ES527523A0 (ja)
NO (1) NO159909C (ja)

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