JPH0355143Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は磁気記録媒体製造装置に関するもの
である。

（従来の技術） 磁気記録媒体製造装置において、基体に磁性塗
料を塗布し、これを磁場配向処理するとともに、
電子線を照射して硬化する装置は既によく知られ
ている。そしてその場合磁場配向中に電子線を照
射して、磁性塗料を硬化させると、配向性のよい
良好な磁性塗膜が得られることも知られている。

第４図はそのための従来装置を示すもので、１
はフイルムのような基体、２は配向磁石、３は電
子線照射装置である。基体１に塗布された磁性塗
料の中の磁性粒子は、配向磁石２によつて形成さ
れる磁場により配向され、同時に配向磁石２の中
に設置されてある照射窓を通して、電子線照射装
置３からの電子線が照射され、磁性塗料は硬化さ
れる。

しかし実際には電子線照射装置３による電子線
の照射領域には、その照射の邪魔にならないよう
に、配向磁石を除去して空間としておかなければ
ならない。そのため基体１の搬送方向に対する磁
場の強さの分布は、第５図に示すように電子線照
射装置３の設置区域で急激に減少してしまうよう
になる。

これでは磁場配向と電子線照射とを同時に行な
うことができるといつても、電子線を照射してい
るときの磁場は、照射していないときよりも極め
て弱いものとなる。また電子線が照射される直前
の磁界の強さの急激な減少は、磁性粒子の配向に
大きな乱れを生じさせる原因ともなる。

（考案が解決しようとする問題点） この考案は磁気記録媒体の製造にあたり、磁性
塗料への電子線照射と、磁性粒子の磁場配向とが
確実に同時に行なわれるようにすることを目的と
する。

（問題点を解決するための手段） この考案は表面に磁性塗料が塗布された基体の
搬送方向に沿つて、磁場配向用の配向磁石を配置
するとともに、配向磁石の後端側に電子線照射装
置を配置し、電子線照射装置からの電子線の照射
方向を、配向磁石の磁場の内部に向け、かつその
磁場方向に対して交差せしめたことを特徴とす
る。

（実施例） この考案の実施例を第１図によつて説明する。
なお第４図と同じ符号を付した部分は、同一また
は対応する部分を示す。配向磁石２による配向磁
場の方向は、基体１の搬送方向に対して交差する
ようにしてあり、このことは従来構成と特に相違
するものでない。

しかしこの考案にしたがい、配向磁石２の基体
搬送方向に沿う後端側に電子線照射装置３が配置
されてあり、しかもこれからの電子線の照射方向
が、配向磁場の内部に向い、かつその磁場の方向
に対して交差するようにしてある。具体的には電
子線照射装置３を垂直に配置した場合、配向磁石
２を、その磁場方向が傾斜するように配置すれば
よい。

このようにすると、配向磁石２によつて磁場配
向処理される間に、電子線が確実に照射されるよ
うになる。したがつて配向処理と、電子線照射に
よる硬化がほとんど同時に行なわれることとな
る。そのため電子線照射時の磁場は、従来構成の
ものよりも大きく作用するようになるし、電子線
照射の前後における磁場の変動はないので、磁性
粒子の配向乱れは生じない。

第１図の実施例は電子線照射装置３を垂直に設
置した構成であるが、これに代えて第２図に示す
ように、配向磁石２の磁場方向を垂直とし、電子
線照射装置３を傾斜させて、これからの電子線の
照射方向を磁場方向に対して交差させるようにし
てもよい。

更に第３図に示すように、配向磁石２の磁場方
向および電子線照射装置３からの電子線の照射方
向をともに垂直とした場合、電子線を偏向させる
装置、たとえば偏向磁石４を設置し、これによつ
て電子線を配向磁石２の磁場の内部に導入させる
ようにしてもよい。

これによつても電子線照射方向と、磁場方向と
が交差し、磁場配向領域に電子線を照射すること
ができるようになる。なお図に示す偏向磁石４
は、紙面に対して垂直方向に磁場が向かうように
設置されてある。

（実験例） 実験に使用した磁性塗料の配合は次の通りであ
る。

バリウムフエライト 100部 リン酸エステル ７部 塩化ビニル，酢酸ビニル，ビニルアルコール共
重合体 10部 ウレタンアクリレートオリゴマー ９部 トリアリルイソシアヌレート ２部 トリスメルカプトプロピルイソシアヌレート
４部 トルエン 80部 シクロヘキサン 80部 上記成分をボールミルにより50時間混練して磁
性塗料を得た。電子線照射装置による加速電圧は
500KeV、吸収線量は5Mradである。この試験の
結果を示したのが次の表である。

なおこの表において、角形比とは、塗膜の垂直
成分の飽和磁束密度に対する残留磁束密度の比を
示し、Ｐ値とは、塗膜の水平成分の残留磁束密度
に対する垂直成分の残留磁束密度の比を示す。ま
た試料１とは、第１図に示す装置によつて製造さ
れたものを、試料２とは、第３図に示す装置によ
つて製造されたものを、試料３とは、第４図に示
す装置によつて製造されたものを、それぞれ意味
するものでとする。

保磁力(Oe) 角型比 Ｐ値 試料１ 779 0.84 2.9 試料２ 784 0.83 2.9 試料３ 733 0.75 2.5 上記の表から理解されるように、試料１，２
は、いずれも試料３よりも、保磁力、角型比、Ｐ
値のいずれも良好な結果が得られている。

（考案の効果） 以上詳述したようにこの考案によれば、磁場配
向処理と、電子線照射による硬化をほとんど同時
に行なうことができ、したがつて電子線照射時の
磁場は、従来構成のものよりも大きく作用するよ
うになるし、電子線照射の前後における磁場の変
動はないので、磁性粒子の配向乱れを生じさせな
いようになるといつた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の一実施例を示す正面図、第
２図，第３図はともにこの考案の一実施例を示す
正面図、第４図は従来例の正面図、第５図は第４
図の構成の磁場の強さの分布特性図である。 １……基体、２……配向磁石、３……電子線照
射装置。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 表面に磁性塗料が塗布された基体の搬送方向に
   沿つて、磁場配向用の配向磁石を配置するととも
   に、前記配向磁石の後端側に電子線照射装置を配
   置し、前記電子線照射装置からの電子線の照射方
   向を、前記配向磁石の磁場の内部に向け、かつそ
   の磁場方向に対して交差せしめてなる磁気記録媒
   体製造装置。